JPS63306864A - ロッド伏またはブロック伏工作物から円板を分離するための切断工具を研削する方法および分離法 - Google Patents
ロッド伏またはブロック伏工作物から円板を分離するための切断工具を研削する方法および分離法Info
- Publication number
- JPS63306864A JPS63306864A JP63104397A JP10439788A JPS63306864A JP S63306864 A JPS63306864 A JP S63306864A JP 63104397 A JP63104397 A JP 63104397A JP 10439788 A JP10439788 A JP 10439788A JP S63306864 A JPS63306864 A JP S63306864A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cutting
- sawing
- solid material
- cutting edge
- grinding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/04—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by tools other than rotary type, e.g. reciprocating tools
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/02—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills
- B28D5/022—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels
- B28D5/028—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels with a ring blade having an inside cutting edge
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23D—PLANING; SLOTTING; SHEARING; BROACHING; SAWING; FILING; SCRAPING; LIKE OPERATIONS FOR WORKING METAL BY REMOVING MATERIAL, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23D63/00—Dressing the tools of sawing machines or sawing devices for use in cutting any kind of material, e.g. in the manufacture of sawing tools
- B23D63/08—Sharpening the cutting edges of saw teeth
- B23D63/12—Sharpening the cutting edges of saw teeth by grinding
- B23D63/14—Sharpening circular saw blades
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B53/00—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Sawing (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、殊に半導体材料からなるロッド状またはブロ
ック状工作物から円板を分離するために、結合された切
削粒子を有し刃先に設けられた切削被膜を有する切断工
具を、固体物質中に入れて短時間鋸引きすることによっ
て研削する方法、ならびに分離法に関する。
ック状工作物から円板を分離するために、結合された切
削粒子を有し刃先に設けられた切削被膜を有する切断工
具を、固体物質中に入れて短時間鋸引きすることによっ
て研削する方法、ならびに分離法に関する。
従来の技術
典型的に0.1〜1 ratt+の厚さを有する円板を
、殊にシリコン、ゲルマニウムもしくは砒化ガリウムの
ような半導体材料またはガリウム−ガドリニウム−ガー
ネット、ルビーもしくは石英ガラスのような酸化物材料
からなる口・ノド状またはブロック状工作物から分離す
るためには、内孔を有する丸鋸を使用するのが有利であ
る。この丸鋸の場合に使用される鋸刃は、その中心に円
形の孔を有し、結合された切削粒子を有する切削被膜を
備えたこの孔の内側縁部は、切断過程の際に材料の搬出
を生ぜしめる。多(の場合、この刃先は、例えば鋸刃の
内側リムを包囲する、流線形の横断面を有するニッケル
層と、この二・2ケル層中に結合されたダイヤモンド粒
子とからなる。
、殊にシリコン、ゲルマニウムもしくは砒化ガリウムの
ような半導体材料またはガリウム−ガドリニウム−ガー
ネット、ルビーもしくは石英ガラスのような酸化物材料
からなる口・ノド状またはブロック状工作物から分離す
るためには、内孔を有する丸鋸を使用するのが有利であ
る。この丸鋸の場合に使用される鋸刃は、その中心に円
形の孔を有し、結合された切削粒子を有する切削被膜を
備えたこの孔の内側縁部は、切断過程の際に材料の搬出
を生ぜしめる。多(の場合、この刃先は、例えば鋸刃の
内側リムを包囲する、流線形の横断面を有するニッケル
層と、この二・2ケル層中に結合されたダイヤモンド粒
子とからなる。
結合された粒子を有するこの種の切削被膜は、円形の鋸
刃を有する外側切断鋸または帯鋸の場合にも使用される
が、しかしこれらの鋸は、少なくとも半導体分野におい
ては内孔を有する丸鋸と比較できる程度に重要なもので
はなかった。これら全ての鋸型の場合、刃先は、鋸引き
過程の経過中に磨耗し、これにより最終的に、目標切断
線はもはや保持することができなくなる。特に高い幾何
学的精度が重要となるような半導体円板を内孔を有する
丸鋸で鋸引きする場合には、例えば得られた形状寸法は
一連の切断が経過するうちに明らかに変化することが観
察される。
刃を有する外側切断鋸または帯鋸の場合にも使用される
が、しかしこれらの鋸は、少なくとも半導体分野におい
ては内孔を有する丸鋸と比較できる程度に重要なもので
はなかった。これら全ての鋸型の場合、刃先は、鋸引き
過程の経過中に磨耗し、これにより最終的に、目標切断
線はもはや保持することができなくなる。特に高い幾何
学的精度が重要となるような半導体円板を内孔を有する
丸鋸で鋸引きする場合には、例えば得られた形状寸法は
一連の切断が経過するうちに明らかに変化することが観
察される。
従って、西ドイツ国特許出願公告第2359096号明
細書には、円板のある程度の曲げ許容差を越える場合に
鋸刃を、露出して存在するダイヤモンド粒子が突出して
いる硬質材料中に入れて短時間鋸引きすることによって
後研削することが提案されている。それによれば、一般
に少なくとも若干の鋸引き過程に関して切断結果が改善
される。しかしながら、経験によれば、鋸刃の可使時間
が増大するにつれて、必要とされる研削間隔はますます
短(なり、その後最終的には、何回研削してももはや何
らの改善も示されない。この場合には、鋸刃は交換しな
ければならず、このことは、−面で材料費と関連してい
るが、取付けおよび取外しのための停止時間とも関連し
ている。すなわち、得られた円板の幾何学的品質に対す
る厳しい要求が課せられる場合には、このことにより不
可避的にそれに伴う欠点を有する鋸刃の可使時間の減少
をまねく。
細書には、円板のある程度の曲げ許容差を越える場合に
鋸刃を、露出して存在するダイヤモンド粒子が突出して
いる硬質材料中に入れて短時間鋸引きすることによって
後研削することが提案されている。それによれば、一般
に少なくとも若干の鋸引き過程に関して切断結果が改善
される。しかしながら、経験によれば、鋸刃の可使時間
が増大するにつれて、必要とされる研削間隔はますます
短(なり、その後最終的には、何回研削してももはや何
らの改善も示されない。この場合には、鋸刃は交換しな
ければならず、このことは、−面で材料費と関連してい
るが、取付けおよび取外しのための停止時間とも関連し
ている。すなわち、得られた円板の幾何学的品質に対す
る厳しい要求が課せられる場合には、このことにより不
可避的にそれに伴う欠点を有する鋸刃の可使時間の減少
をまねく。
発明が解決しようとする課題
本発明の課題は、可使時間を増大させ、切断精度を向上
させ、かつこの場合殊に半導体円板の幾何学的品質に対
する厳しい要件をも充足させることができる、切断工具
を切削する方法ならびに分離方法を記載することであっ
た。
させ、かつこの場合殊に半導体円板の幾何学的品質に対
する厳しい要件をも充足させることができる、切断工具
を切削する方法ならびに分離方法を記載することであっ
た。
課題を解決するための手段
この課題は、短時間鋸引きする場合に刃先と固体物質と
の間の鋸引き過程に相当する相対運動に対して付加的に
、この運動に対して横に振動する、刃先と固体物質との
間の相対運動を実施することを特徴とする方法によって
解決される。
の間の鋸引き過程に相当する相対運動に対して付加的に
、この運動に対して横に振動する、刃先と固体物質との
間の相対運動を実施することを特徴とする方法によって
解決される。
固体物質としては、例えば多くの場合に酸化アルミニウ
ム粉末または炭化珪素粉末をセラミックまたはプラスチ
ックを基礎とする担体材料中に結合されている研摩材と
して含有する所謂“砥石”にも使用されているように、
研削技術において常用の材料がこれに該当する。
ム粉末または炭化珪素粉末をセラミックまたはプラスチ
ックを基礎とする担体材料中に結合されている研摩材と
して含有する所謂“砥石”にも使用されているように、
研削技術において常用の材料がこれに該当する。
本発明方法の場合、刃先と、工作物との間の元来の鋸引
き過程で進行する相対運動に相当する、刃先と固体物質
との間の相対運動が、少なくともこの場合に保持される
送り速度で実施されることは好ましい。勿論、鋸引きす
べき材料および切断工具に著しく依存する、常用の送り
速度は、例えばシリコンからなる半導体円板を内孔を有
する丸鋸で鋸引きする場合には典型的に約lO〜100
am/winの範囲内にある。
き過程で進行する相対運動に相当する、刃先と固体物質
との間の相対運動が、少なくともこの場合に保持される
送り速度で実施されることは好ましい。勿論、鋸引きす
べき材料および切断工具に著しく依存する、常用の送り
速度は、例えばシリコンからなる半導体円板を内孔を有
する丸鋸で鋸引きする場合には典型的に約lO〜100
am/winの範囲内にある。
この鋸引き過程は、切削被膜の最大幅の個所が固体物質
内に存在することが保証されているような切断深さにま
で置かれるのが有利である。多くの場合、切削被膜をそ
の全厚に亙り固体物質中に侵入させることは、不必要で
あるが、この場合このような処理方法は、勿論排除され
るものではない。例えば、鋸刃が典型的にニッケル層中
に結合されたダイヤモンド粒子からなる流線形の横断面
を有する多くの場合に約2mmの高さの切削被膜を備え
ている、半導体円板を分離するためにしばしば使用され
る内孔を有する鋸の際には、切削被膜の全厚の50〜1
00%、すなわち1〜2II11.特に1.3〜1.8
馬■の切断深さが有利であることが立証された。
内に存在することが保証されているような切断深さにま
で置かれるのが有利である。多くの場合、切削被膜をそ
の全厚に亙り固体物質中に侵入させることは、不必要で
あるが、この場合このような処理方法は、勿論排除され
るものではない。例えば、鋸刃が典型的にニッケル層中
に結合されたダイヤモンド粒子からなる流線形の横断面
を有する多くの場合に約2mmの高さの切削被膜を備え
ている、半導体円板を分離するためにしばしば使用され
る内孔を有する鋸の際には、切削被膜の全厚の50〜1
00%、すなわち1〜2II11.特に1.3〜1.8
馬■の切断深さが有利であることが立証された。
本発明によれば、刃先と、固体物質との間の元来の鋸引
き過程に相当する相対運動が所定の切断深さに達した場
合、この運動に対して横に振動する、刃先と、固体物質
との間の相対運動が実施され、しかも有利には、回転鋸
刃が固定されている場合に固体物質が運動するように実
施される。実際には、原則的に固体物質は、鋸刃が完全
に1回転する間に押圧するかまたは引張ることによって
切削被膜の一方の側面に向かって移動させ、かつ次に鋸
刃が完全に1回転する際に、もう一方の側面に向かって
移動させることで十分である。
き過程に相当する相対運動が所定の切断深さに達した場
合、この運動に対して横に振動する、刃先と、固体物質
との間の相対運動が実施され、しかも有利には、回転鋸
刃が固定されている場合に固体物質が運動するように実
施される。実際には、原則的に固体物質は、鋸刃が完全
に1回転する間に押圧するかまたは引張ることによって
切削被膜の一方の側面に向かって移動させ、かつ次に鋸
刃が完全に1回転する際に、もう一方の側面に向かって
移動させることで十分である。
しかし、鋸刃、ひいては刃先が数回、有利に少なくとも
5回回転する間に固体物質の数回の振動が完全に実施さ
れる場合には、より良好な結果が得られる。
5回回転する間に固体物質の数回の振動が完全に実施さ
れる場合には、より良好な結果が得られる。
有利には、横に振動する相対運動は、この場合に固体物
質が鋸刃の側面の方向に移動する最大速度が少なくとも
刃先の回転速度に相当するように実施される。このよう
な回転速度は、例えば約10c■の直径を有するシリコ
ンロッドを内孔を有する丸鋸で鋸引きするために常用の
約18cg+の内孔直径の場合には、10〜30m/秒
の範囲内にある。しかし、この値は、勿論そのつどの鋸
刃寸法および工作物寸法に依存して広範な範囲内で変動
することができる。
質が鋸刃の側面の方向に移動する最大速度が少なくとも
刃先の回転速度に相当するように実施される。このよう
な回転速度は、例えば約10c■の直径を有するシリコ
ンロッドを内孔を有する丸鋸で鋸引きするために常用の
約18cg+の内孔直径の場合には、10〜30m/秒
の範囲内にある。しかし、この値は、勿論そのつどの鋸
刃寸法および工作物寸法に依存して広範な範囲内で変動
することができる。
振動する相対運動のもう1つの方法は、固体物質と一緒
の前後運動の代わりに半径方向に鋸刃の中心点に方向を
定めた回転軸を中心とする旋回運動を実施することにあ
る。この変法は、刃先が片側だけ負荷されることを阻止
するという利点を有する。
の前後運動の代わりに半径方向に鋸刃の中心点に方向を
定めた回転軸を中心とする旋回運動を実施することにあ
る。この変法は、刃先が片側だけ負荷されることを阻止
するという利点を有する。
多(の場合、振動の際に固体物質の振れは、回転鋸刃な
いしは回転する切削被膜に対して相対的に約0.1〜l
mmであることで十分である。
いしは回転する切削被膜に対して相対的に約0.1〜l
mmであることで十分である。
本発明による研削法の場合、異なる相対運動に相当する
2つの部分過程は、一般に順次に実施されるけれども、
これらの過程を同時に進行させることも原則的に排除さ
れていない。この場合には、鋸刃を研削するために、鋸
刃は、振動する固体物質中に入れられ鋸引きされる。
2つの部分過程は、一般に順次に実施されるけれども、
これらの過程を同時に進行させることも原則的に排除さ
れていない。この場合には、鋸刃を研削するために、鋸
刃は、振動する固体物質中に入れられ鋸引きされる。
次に、本発明方法を、切削被膜と、固体物質との間の相
対運動が略示されている第1a図および第1b図につき
詳説する。第1a図および第1b図において、互いに相
応する個々の部分は、同じ参照番号を有する。
対運動が略示されている第1a図および第1b図につき
詳説する。第1a図および第1b図において、互いに相
応する個々の部分は、同じ参照番号を有する。
第1a図によれば、例えば内孔を有する丸鋸の鋸刃1は
、その内側縁部2で、例えば流線形の横断面を有する、
例えばニッケル/ダイヤモンド被覆の切削被膜3によっ
て包囲されている。刃先4には、鋸引き過程に相当する
相対運動(矢印方向)の場合に固体物質5、例えばセラ
ミック材料中に埋設されたコランダム粒子からなる、は
ぼ指の太さの円筒体が接近される。この場合には、切断
深さSが切削被膜の高さXの約273になるまで固体物
質中に入れて鋸引きする。
、その内側縁部2で、例えば流線形の横断面を有する、
例えばニッケル/ダイヤモンド被覆の切削被膜3によっ
て包囲されている。刃先4には、鋸引き過程に相当する
相対運動(矢印方向)の場合に固体物質5、例えばセラ
ミック材料中に埋設されたコランダム粒子からなる、は
ぼ指の太さの円筒体が接近される。この場合には、切断
深さSが切削被膜の高さXの約273になるまで固体物
質中に入れて鋸引きする。
ところで、第1b図によれば、硬質材料5の鋸引き過程
の方向に対して横の振動(矢印方向)は、元来の位置(
第1a図参照)からの振れ6で実施される。この場合に
は、切削被膜の両側面7も固体物質5と接触し、この固
体物質中には、最終的に破線によって示された凹所8が
切り込まれる。
の方向に対して横の振動(矢印方向)は、元来の位置(
第1a図参照)からの振れ6で実施される。この場合に
は、切削被膜の両側面7も固体物質5と接触し、この固
体物質中には、最終的に破線によって示された凹所8が
切り込まれる。
また、原則的に必要な相対運動を固定した固体物質5の
場合に鋸刃1を運動させることによって生ぜしめること
も排除されてはいないが、この場合この変法は、極めて
多大な費用を必要とする。
場合に鋸刃1を運動させることによって生ぜしめること
も排除されてはいないが、この場合この変法は、極めて
多大な費用を必要とする。
本明細書中に記載された方法は、例えば多くの外側切断
鋸または帯鋸の場合のように刃先が結合された切削粒子
を有する切削被膜によって形成されている切断工具を研
削するのに適している。特に有利には、本発明方法は、
しばしば殊に一般に所謂“反り(bow)”または“狂
い(warp)”として特徴づけられている円板の曲り
に関して特に高い幾何学的精度が要求されるような半導
体材料または酸化物材料、例えばシリコン、ゲルマニウ
ム、砒化ガリウムまたはガリウム−ガドリニウム−ガー
ネットからなるロッドまたはブロックからの約O01〜
10mmの厚さを有する円板を正確に分離する場合に使
用される。
鋸または帯鋸の場合のように刃先が結合された切削粒子
を有する切削被膜によって形成されている切断工具を研
削するのに適している。特に有利には、本発明方法は、
しばしば殊に一般に所謂“反り(bow)”または“狂
い(warp)”として特徴づけられている円板の曲り
に関して特に高い幾何学的精度が要求されるような半導
体材料または酸化物材料、例えばシリコン、ゲルマニウ
ム、砒化ガリウムまたはガリウム−ガドリニウム−ガー
ネットからなるロッドまたはブロックからの約O01〜
10mmの厚さを有する円板を正確に分離する場合に使
用される。
この場合、本来の鋸引き過程は、常法で、例えばシリコ
ンロッドから円板を1枚ずつ分離しかつ取出すか、また
はロッドを互いに結合した多数の円板に分割し、引続き
この結合体を分離することにより実施することができ、
この場合この後者の方法は、多刃の内孔を有する丸鋸の
場合にも当てはまる。
ンロッドから円板を1枚ずつ分離しかつ取出すか、また
はロッドを互いに結合した多数の円板に分割し、引続き
この結合体を分離することにより実施することができ、
この場合この後者の方法は、多刃の内孔を有する丸鋸の
場合にも当てはまる。
鋸引きする際に刃先が不均一な応力を受けることから生
じる、例えば切断の間に測定プローブを用いて鋸刃それ
自体で確認することができるかまたは引続き得られた円
板の形状寸法を測定することによって確認することがで
きる望ましい理想的な切断線からの鋸刃のずれが、予め
確定された一定の許容値を越える場合には、直ぐ次の切
断前に回転鋸刃の刃先は、先に詳説した方法で研削され
る。
じる、例えば切断の間に測定プローブを用いて鋸刃それ
自体で確認することができるかまたは引続き得られた円
板の形状寸法を測定することによって確認することがで
きる望ましい理想的な切断線からの鋸刃のずれが、予め
確定された一定の許容値を越える場合には、直ぐ次の切
断前に回転鋸刃の刃先は、先に詳説した方法で研削され
る。
もう1つの方法は、研削過程を特定の切断回数、一般に
10〜100回の後にそのつど周期的に行なうことにあ
る。この処理方法は、殊に十分に自動化された鋸引き法
の場合に推奨される。
10〜100回の後にそのつど周期的に行なうことにあ
る。この処理方法は、殊に十分に自動化された鋸引き法
の場合に推奨される。
また、研削過程それ自体も、例えば可動の支持装置中に
存在する固体物質をステップモータを用いて研削位置に
もたらしかつ鋸引き運動および振動運動を実施すること
により自動的に進行させることができる。例えば、鋸引
き運動は手によって行なわれるが、振動運動は電動操作
により行なわれるように固体物質のための振動可能な支
持装置を有する手動装置を使用することも考えられると
思われる。
存在する固体物質をステップモータを用いて研削位置に
もたらしかつ鋸引き運動および振動運動を実施すること
により自動的に進行させることができる。例えば、鋸引
き運動は手によって行なわれるが、振動運動は電動操作
により行なわれるように固体物質のための振動可能な支
持装置を有する手動装置を使用することも考えられると
思われる。
一般に、運搬可能な装置を使用することは、何れの鋸引
き装置にも固有の研削装置を備えさせる必要がないとい
う利点を有する。
き装置にも固有の研削装置を備えさせる必要がないとい
う利点を有する。
本発明による研削法は、特に有利には、元来の鋸引き過
程の間に切断経過を、回転鋸刃の片方または両方の側面
上に鋸引き間隙に入る前に付加的に少なくとも一時的に
流体を施与することによって制御されるような内孔を有
する鋸で鋸引きする方法と関連して使用される。この方
法は、西ドイツ国特許出願第P3640645.7号明
細書(出願口:1986年11月28日)に詳説されて
いる。
程の間に切断経過を、回転鋸刃の片方または両方の側面
上に鋸引き間隙に入る前に付加的に少なくとも一時的に
流体を施与することによって制御されるような内孔を有
する鋸で鋸引きする方法と関連して使用される。この方
法は、西ドイツ国特許出願第P3640645.7号明
細書(出願口:1986年11月28日)に詳説されて
いる。
殊に、本発明方法が前記の鋸引き法と関連して使用され
る場合には、本発明によって明らかに延長された鋸刃の
可使時間は、改善された切断精度、ひいては得られた円
板のより高い幾何学的品質と結び付いて達成することが
できる。
る場合には、本発明によって明らかに延長された鋸刃の
可使時間は、改善された切断精度、ひいては得られた円
板のより高い幾何学的品質と結び付いて達成することが
できる。
実施例
本発明を次の比較例および実施例につき更に詳説する:
比較例ユ
これまでの内孔を有する丸鋸中で通常の鋸引き条件下に
単結晶のシリコンロッド(直径約10cm)を厚さ約6
50μ論の円板に鋸引きした。鋸刃は、約55cmの外
径および約18cIIIの内孔直径を有していた。内側
縁部は、ダイヤモン粒子が方゛向を定めないで結合され
ている高さ約2ml11のニッケル被覆を備え、かつ約
18mmの速度で回転した。工作物の送りは、約6 c
ta1分の速度に調節されていた。鋸引き過程の間、理
想的な切断線からの鋸刃のずれをマイクロセンサを用い
て監視した。得られる円板の幾何学的精度を推論するこ
とのできる前記のずれが所定の切断経過に対して±10
μ■の値を越えた場合には、直ぐ次の鋸引き過程前に鋸
刃を、セラミック結合炭化珪素粉末からなる円筒体(直
径約2 cm)中で約7秒間鋸引きすることにより後研
削した。
単結晶のシリコンロッド(直径約10cm)を厚さ約6
50μ論の円板に鋸引きした。鋸刃は、約55cmの外
径および約18cIIIの内孔直径を有していた。内側
縁部は、ダイヤモン粒子が方゛向を定めないで結合され
ている高さ約2ml11のニッケル被覆を備え、かつ約
18mmの速度で回転した。工作物の送りは、約6 c
ta1分の速度に調節されていた。鋸引き過程の間、理
想的な切断線からの鋸刃のずれをマイクロセンサを用い
て監視した。得られる円板の幾何学的精度を推論するこ
とのできる前記のずれが所定の切断経過に対して±10
μ■の値を越えた場合には、直ぐ次の鋸引き過程前に鋸
刃を、セラミック結合炭化珪素粉末からなる円筒体(直
径約2 cm)中で約7秒間鋸引きすることにより後研
削した。
平均してそれぞれ8回目の鋸引き過程後には、鋸刃を後
研削しなければならなかった。
研削しなければならなかった。
(この間隔は、開始時には20回までであったが、次第
に短縮され、その後に鋸刃の可使時間の終了時にはそれ
ぞれの鋸引き過程の後に後研削しなければならなかった
)。約700回の切断後に、鋸刃は、何回もの研削にも
拘わらずもはや所定の許容限界内に保持することはでき
ず、したがって交換しなければならなかった。
に短縮され、その後に鋸刃の可使時間の終了時にはそれ
ぞれの鋸引き過程の後に後研削しなければならなかった
)。約700回の切断後に、鋸刃は、何回もの研削にも
拘わらずもはや所定の許容限界内に保持することはでき
ず、したがって交換しなければならなかった。
支胤■ユ
比較例に相応する鋸引で、新しい鋸刃を用いて全く同じ
方法で同一規格のシリコンロッドを鋸引きした。
方法で同一規格のシリコンロッドを鋸引きした。
しかし、後研削する場合には、セラミック結合炭化珪素
粉末からなる研削円筒体を、研削装置を用いてステップ
モータにより、そのつど約6 am1分の速度で刃先に
向かって、この刃先が約1 、5 amの深さで該円筒
体中に切り込むまで移動させた。その後に、第2のステ
ップモータを用いて円筒体を第1の運動に対して横に、
該円筒体が制止位置からや(±0.5■振れかつ20+
/秒の最大速度でそのつど鋸刃に向かって移動するよう
に振動させた。この振動をそれぞれ約1秒間維持した。
粉末からなる研削円筒体を、研削装置を用いてステップ
モータにより、そのつど約6 am1分の速度で刃先に
向かって、この刃先が約1 、5 amの深さで該円筒
体中に切り込むまで移動させた。その後に、第2のステ
ップモータを用いて円筒体を第1の運動に対して横に、
該円筒体が制止位置からや(±0.5■振れかつ20+
/秒の最大速度でそのつど鋸刃に向かって移動するよう
に振動させた。この振動をそれぞれ約1秒間維持した。
この研削法の場合には、平均40回切断するごとに後研
削しなければならなかった。3000回切断した後に初
めて、もはや鋸刃を所定の許容限界内に保持することが
できなくなり、したがって鋸刃を交換しなければならな
かっho
削しなければならなかった。3000回切断した後に初
めて、もはや鋸刃を所定の許容限界内に保持することが
できなくなり、したがって鋸刃を交換しなければならな
かっho
第1a図および第1b図は、それぞれ切削被膜と、固体
物質との間の相対運動を示す略図である。 l・・・鋸刃、2・・・内側縁部、3・・・切削被膜、
4・・・刃先、5・・・固体物質、6・・・振れ、7・
・・側面、8・・・凹所、S・・・切断深さ、X・・・
切削被膜の高さ
物質との間の相対運動を示す略図である。 l・・・鋸刃、2・・・内側縁部、3・・・切削被膜、
4・・・刃先、5・・・固体物質、6・・・振れ、7・
・・側面、8・・・凹所、S・・・切断深さ、X・・・
切削被膜の高さ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)特に半導体からなるロッド状またはブロック状工作
物から円板を分離するために、結合された切削粒子を有
し刃先に設けられた切削被服を有する切断工具を、固体
物質中に入れて短時間鋸引きすることによって研削する
方法において、短時間鋸引きする場合に、刃先と固体物
質との間の鋸引き過程に相当する相対運動に対して付加
的に、この運動に対して横に振動する、刃先と固体物質
との間の相対運動を実施することを特徴とする、ロッド
状またはブロック状工作物から円板を分離するための切
断工具を研削する方法。 2)刃先と固体物質との間の鋸引き過程に相当する相対
運動を少なくとも元来の鋸引き過程 の際に保持される送り速度で実施する、請求項1記載の
方法。 3、横に振動する相対運動を少なくとも刃先の回転速度
に相当する最大速度で実施する、請求項1または2記載
の方法。 4、横に振動する相対運動を刃先が少なくとも5回回転
する間に実施する、請求項1から3までのいずれか1項
に記載の方法。 5、横に振動する相対運動の場合に固体物質の振れが0
.1〜1mmである、請求項1から4までのいずれか1
項に記載の方法。 6、刃先と固体物質との間の鋸引き過程に相当する相対
運動を少なくとも切削被膜の最大幅の個所が固体物質内
に存在するような切断深さにまで実施する、請求項1か
ら5までのいずれか1項に記載の方法。 7、必要に応じて直ぐ次の切断前に鋸刃を固体物質中に
入れて短時間鋸引きすることによって研削することによ
り、ロッド状工作物から薄い円板を内孔を有する丸鋸を
用いて分離する方法において、短時間の鋸引きを、結合
された切削粒子を有し刃先に設けられた切削被膜を有す
る、ロッド状またはブロック状工作物から円板を分離す
るための切断工具を固体物質中に入れて短時間鋸引きす
ることによって研削する方法により実施することを特徴
とする分離法。 8、元来の鋸引き過程の間に回転する鋸刃の片方または
両方の側面上に鋸引き間隙中に入る前に付加的に少なく
とも一時的に液体を施与する、請求項7記載の方法。 9、短時間の鋸引きを周期的に元来の鋸引き過程の一定
回数の後に行なう、請求項7または8記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19873718947 DE3718947A1 (de) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | Verfahren zum schaerfen von trennwerkzeugen fuer das abtrennen von scheiben von stab- oder blockfoermigen werkstuecken und trennverfahren |
DE3718947.6 | 1987-06-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63306864A true JPS63306864A (ja) | 1988-12-14 |
Family
ID=6329171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63104397A Pending JPS63306864A (ja) | 1987-06-05 | 1988-04-28 | ロッド伏またはブロック伏工作物から円板を分離するための切断工具を研削する方法および分離法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4811722A (ja) |
EP (1) | EP0293941B1 (ja) |
JP (1) | JPS63306864A (ja) |
KR (1) | KR890000216A (ja) |
DE (2) | DE3718947A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2502144B2 (ja) * | 1989-03-20 | 1996-05-29 | 日本碍子株式会社 | ハニカム・ダイス成形用放電加工電極の製造方法及びハニカム・ダイスの製造方法 |
DE3941038A1 (de) * | 1989-12-12 | 1991-06-13 | Wacker Chemitronic | Vorrichtung zum nachschaerfen der schneidkante von trennwerkzeugen beim abtrennen von scheiben von stab- oder blockfoermigen werkstuecken, insbesondere aus halbleitermaterial, ihre verwendung und saegeverfahren |
GB9103883D0 (en) * | 1991-02-25 | 1991-04-10 | Black & Decker Inc | Saw blades and method of making same |
SG139508A1 (en) * | 2001-09-10 | 2008-02-29 | Micron Technology Inc | Wafer dicing device and method |
SG102639A1 (en) * | 2001-10-08 | 2004-03-26 | Micron Technology Inc | Apparatus and method for packing circuits |
SG142115A1 (en) * | 2002-06-14 | 2008-05-28 | Micron Technology Inc | Wafer level packaging |
SG119185A1 (en) | 2003-05-06 | 2006-02-28 | Micron Technology Inc | Method for packaging circuits and packaged circuits |
JP7080552B2 (ja) * | 2017-12-28 | 2022-06-06 | 株式会社ディスコ | 切削ブレードのドレッシング方法 |
JP7033485B2 (ja) * | 2018-04-17 | 2022-03-10 | 株式会社ディスコ | 切削ブレードの整形方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2359096A1 (de) * | 1973-11-27 | 1975-06-05 | Siemens Ag | Verfahren zum saegen von halbleiterscheiben geringer durchbiegung |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1931891A1 (de) * | 1969-06-24 | 1971-01-14 | Pahlitzsch Dr Ing Gotthold | Saegeverfahren mit ueberlagerter Oszillationsbewegung zum Saegen von Hartstoffen |
US4501258A (en) * | 1982-10-04 | 1985-02-26 | Texas Instruments Incorporated | Kerf loss reduction in internal diameter sawing |
DE3640645A1 (de) * | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Wacker Chemitronic | Verfahren zum zersaegen von kristallstaeben oder -bloecken vermittels innenlochsaege in duenne scheiben |
-
1987
- 1987-06-05 DE DE19873718947 patent/DE3718947A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-04-28 JP JP63104397A patent/JPS63306864A/ja active Pending
- 1988-05-05 US US07/190,496 patent/US4811722A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-06-01 KR KR1019880006565A patent/KR890000216A/ko not_active Application Discontinuation
- 1988-06-06 EP EP88109002A patent/EP0293941B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-06-06 DE DE8888109002T patent/DE3862893D1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2359096A1 (de) * | 1973-11-27 | 1975-06-05 | Siemens Ag | Verfahren zum saegen von halbleiterscheiben geringer durchbiegung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3718947A1 (de) | 1988-12-15 |
EP0293941A1 (de) | 1988-12-07 |
EP0293941B1 (de) | 1991-05-22 |
KR890000216A (ko) | 1989-03-13 |
DE3862893D1 (de) | 1991-06-27 |
US4811722A (en) | 1989-03-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5934973A (en) | Semiconductor wafer dicing saw | |
US4663890A (en) | Method for machining workpieces of brittle hard material into wafers | |
US4054010A (en) | Apparatus for grinding edges of planar workpieces | |
JPH0516070A (ja) | ダイヤモンド研削砥石と、これのツルーイング法と、ツルーイング装置と、研削仕上げされた磁気ヘツド | |
JP2005118989A (ja) | チタンおよびチタン合金製の機械部品の自動研磨方法 | |
JPS63306864A (ja) | ロッド伏またはブロック伏工作物から円板を分離するための切断工具を研削する方法および分離法 | |
US6537139B2 (en) | Apparatus and method for ELID grinding a large-diameter workpiece to produce a mirror surface finish | |
JP2005246510A (ja) | 金属材料の高平滑研削方法及び金属材料高平滑研削装置 | |
US5144938A (en) | Method and device for resharpening saws especially used for making semiconductor wafers | |
US3424566A (en) | Method of dressing grinding wheels | |
CN109414800B (zh) | 切削装置 | |
US4228578A (en) | Method for off-orientation point rotation sawing of crystalline rod material | |
US9498865B2 (en) | System and methods for rough grinding | |
JPH1170471A (ja) | ガラス面取り方法およびその装置 | |
Struth et al. | Wafer slicing by internal diameter sawing | |
JPH11207731A (ja) | 狭幅切断及び狭幅溝加工方法 | |
JP2534951B2 (ja) | cBNホイ―ル用ツル―イング材 | |
JP2011079112A (ja) | 切断ブレードのドレッシング方法およびドレッシング装置 | |
JPH068140A (ja) | 砥石の円弧形状成形方法 | |
JP2004243432A (ja) | 切削加工方法、切削加工装置および金型製作方法 | |
JPS61146460A (ja) | 平面研削方法 | |
Dobrescu et al. | Improving the slicing process characteristic parameters | |
Parrish | Methods and equipment for sawing quartz crystals | |
JPS59179308A (ja) | 高精度切断機 | |
JP2019130655A (ja) | 砥石工具の製造方法及び面取り加工装置 |