JPS63304428A - 光ディスク装置 - Google Patents
光ディスク装置Info
- Publication number
- JPS63304428A JPS63304428A JP62140289A JP14028987A JPS63304428A JP S63304428 A JPS63304428 A JP S63304428A JP 62140289 A JP62140289 A JP 62140289A JP 14028987 A JP14028987 A JP 14028987A JP S63304428 A JPS63304428 A JP S63304428A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザ光線の照射によりて、その光学的性質
を可逆的に変化する感光性記録材料を用いた光ディスク
装置に関するものである。
を可逆的に変化する感光性記録材料を用いた光ディスク
装置に関するものである。
従来の技術
情報の訂正、書侠え可能な光ディスクとして、アクリル
等の高分子相BFjのディスク基板の上に、感光性材料
を薄膜の形で形成し、この光ディスクの上にレーザ照射
することにより加熱し、急冷と徐冷により光学的特性す
なわち、反射率や透過率を変化させて記録、消去を行う
ものが一般に用いられている。
等の高分子相BFjのディスク基板の上に、感光性材料
を薄膜の形で形成し、この光ディスクの上にレーザ照射
することにより加熱し、急冷と徐冷により光学的特性す
なわち、反射率や透過率を変化させて記録、消去を行う
ものが一般に用いられている。
上記特性を示す記録材料としては、例えばカル゛コゲン
化合物、あるいはテルルにゲルマニウム。
化合物、あるいはテルルにゲルマニウム。
アンチモン等を添加物とした金属化合物が用いられ、こ
れらを便って記録は反射率の低い一般にアモルファスと
いわれる状態とし、消去は加熱、保冷により反射率の、
高い結晶状態とすることで、九学情廠を実時間で記録、
消去することができる。
れらを便って記録は反射率の低い一般にアモルファスと
いわれる状態とし、消去は加熱、保冷により反射率の、
高い結晶状態とすることで、九学情廠を実時間で記録、
消去することができる。
従来用いられている光ディスク装置は、先ず長円光に代
入される消去ビームを連成的に照射して、記録ビットの
存在するトラックf−僚?て結晶化させ、アモルファス
状態の記かビットを消去し、欠いで信号に応じて変調さ
れた円形光に代表される記録ビームを照射して、記録膜
を溶融・急冷させて新たな記録ビットを生せしめること
により記録し、いわゆる同時消録を達成している。再生
時においては、前述の記録ビームのパワーを減じて、ト
ラック上を連続的に照射し、反射率差を検知する。ここ
で従来、再生時のC7N比(キャリア/ノイズ比)を上
げるために、記録・再生用のレーザをビーム径が小さく
なるように絞り込み、記録時に再生時と同じビーム径で
使用しているが、半導体レーザの製造バラツキ、レーザ
の長期発振による劣化等の対策のため必要となる記録可
能パワー領域(パワーマージン)を広くとれなく、実用
上大きな問題を有していた。
入される消去ビームを連成的に照射して、記録ビットの
存在するトラックf−僚?て結晶化させ、アモルファス
状態の記かビットを消去し、欠いで信号に応じて変調さ
れた円形光に代表される記録ビームを照射して、記録膜
を溶融・急冷させて新たな記録ビットを生せしめること
により記録し、いわゆる同時消録を達成している。再生
時においては、前述の記録ビームのパワーを減じて、ト
ラック上を連続的に照射し、反射率差を検知する。ここ
で従来、再生時のC7N比(キャリア/ノイズ比)を上
げるために、記録・再生用のレーザをビーム径が小さく
なるように絞り込み、記録時に再生時と同じビーム径で
使用しているが、半導体レーザの製造バラツキ、レーザ
の長期発振による劣化等の対策のため必要となる記録可
能パワー領域(パワーマージン)を広くとれなく、実用
上大きな問題を有していた。
発明が解決しようとする問題点
従来の光ディスク装置では、記録時に絞り込まれた光ビ
ームをディスクに照射するため、記録パワーの増加に対
して生成される記録ビットの大きさ、すなわち溶融され
る大きさの増加が著しく、消去ビームによる消去幅を上
まわってしまい、いわゆる消し残りを生ぜしめ、消去率
が悪くなる。
ームをディスクに照射するため、記録パワーの増加に対
して生成される記録ビットの大きさ、すなわち溶融され
る大きさの増加が著しく、消去ビームによる消去幅を上
まわってしまい、いわゆる消し残りを生ぜしめ、消去率
が悪くなる。
そこで、消去パワーを大きくして、消去唱を拡げる必要
があるが、消去パワーが大きいと、くりかえし使用した
場合、消去による過大な熱負荷のために光ディスクを劣
化させる欠点がある。
があるが、消去パワーが大きいと、くりかえし使用した
場合、消去による過大な熱負荷のために光ディスクを劣
化させる欠点がある。
本発明はかかる点に鑑み、光ディスクを劣化させずに記
録バク−マージンの広い装置を提供することを目的とす
る。
録バク−マージンの広い装置を提供することを目的とす
る。
問題点を解決するだめの手段
記録時に記録・再生用レーザより出射された記録ビーム
径を再生時と比較して大きくする。
径を再生時と比較して大きくする。
作 用
記録時の記録ビットの大きさ、すなわち溶融幅は記録ビ
ームのトラック方向のパワー線密度(レーザパワー/ビ
ーム半値幅)にほぼ比例し、ビーム半値幅(ビーム径を
ビーム半値幅で定義する)金大きくすると、単位レーザ
パフ−1例えば1mWあたりのパワー線密度の増加は、
小さい場合に比較して小さくなるので、消去パワーを過
剰に増加させることなく、消し残りを生ぜしめない。し
かるに、再生時には、記録トラック上の記録ビットの反
射率差を検知するのであるから、C/N比を上げるため
に、光ビームを、佼る。
ームのトラック方向のパワー線密度(レーザパワー/ビ
ーム半値幅)にほぼ比例し、ビーム半値幅(ビーム径を
ビーム半値幅で定義する)金大きくすると、単位レーザ
パフ−1例えば1mWあたりのパワー線密度の増加は、
小さい場合に比較して小さくなるので、消去パワーを過
剰に増加させることなく、消し残りを生ぜしめない。し
かるに、再生時には、記録トラック上の記録ビットの反
射率差を検知するのであるから、C/N比を上げるため
に、光ビームを、佼る。
実施例
以下、本発明の一実施例を図面を用いて詳細に説明する
。記録媒体としては、前述のように記録前後に光学定数
の変化するもの、すなわち加熱急冷により反射率の低い
アモルファス状態とし、加熱徐冷により反射率の高い結
晶状態を生む、例えばカルコゲン化合物、あるいはテル
ル、ゲルマニウム、アンチモン等を用いた金属酸化物を
用いる。
。記録媒体としては、前述のように記録前後に光学定数
の変化するもの、すなわち加熱急冷により反射率の低い
アモルファス状態とし、加熱徐冷により反射率の高い結
晶状態を生む、例えばカルコゲン化合物、あるいはテル
ル、ゲルマニウム、アンチモン等を用いた金属酸化物を
用いる。
これらの記録媒体の結晶−アモルファスの相変態は、材
料の組成によって微妙に異るが、本発明の方法とは直接
関係なく、本発明を左右するものではない。
料の組成によって微妙に異るが、本発明の方法とは直接
関係なく、本発明を左右するものではない。
第1図は本発明の光ディスク装置の部分構成図であり、
記録・消去時には、消去用半導体レーザ1より出射され
た光ビームは、消去用コリメータレンズ2を通り、コリ
メートされ、消去用プリズム3をへて長円形に成型され
た鏝、扁光ビームスプリッタ4.2波長板5、対物レン
ズ6により集光せられ、光ディスクγ上に消去ビームス
ポットを作る。
記録・消去時には、消去用半導体レーザ1より出射され
た光ビームは、消去用コリメータレンズ2を通り、コリ
メートされ、消去用プリズム3をへて長円形に成型され
た鏝、扁光ビームスプリッタ4.2波長板5、対物レン
ズ6により集光せられ、光ディスクγ上に消去ビームス
ポットを作る。
一方、記録・再生用半導体レーザ8より出射された光ビ
ームは、記録・再生用コリメータレンズ9、ビームスプ
リッタ10.11をへて以降消去ビームと同一経路をへ
て光ディスク7、J:に照則される。
ームは、記録・再生用コリメータレンズ9、ビームスプ
リッタ10.11をへて以降消去ビームと同一経路をへ
て光ディスク7、J:に照則される。
光ディスク7より反射された光は、ナイフェツジ12、
検出レンズ13を通り検出器14でズレを検出し、記録
・再生用コリメータレンズ9をaの位置に駆動させてフ
ォーカスさせるが、記録時には、コリメータレンズ9の
位置をaの位置から、光軸上にΔZだけ変位させてbの
位置にして光ディスク7上のスポットをデフォーカスさ
せる。再生時には、記録・再生用の半導体レーザのパワ
ー全滅じて、コリメータレンズ9を位置aとし、光ディ
スクT上のスポットfフォーカスさせて絞り、検出器1
5により反射率信号を挽みとる。
検出レンズ13を通り検出器14でズレを検出し、記録
・再生用コリメータレンズ9をaの位置に駆動させてフ
ォーカスさせるが、記録時には、コリメータレンズ9の
位置をaの位置から、光軸上にΔZだけ変位させてbの
位置にして光ディスク7上のスポットをデフォーカスさ
せる。再生時には、記録・再生用の半導体レーザのパワ
ー全滅じて、コリメータレンズ9を位置aとし、光ディ
スクT上のスポットfフォーカスさせて絞り、検出器1
5により反射率信号を挽みとる。
、、AfJ21凶Aは、本実鬼世]による記録・消去時
の凭ディスク上でのビーム形成を示した図で、記録トラ
ック16上に形成されたアモルファス記録ビット17を
長円形の消去ビーム18を連続的に照射することが、前
記記録ビット17を消去し、続いて信号により゛変調さ
れた記録ビーム19により、記録トラック16を溶融・
急冷し、新たにアモルファス記録ビット19を形成させ
る。第2図Bに示した再生時には、フォーカスさせて、
絞りこんだ再生ビーム2oにより、記録トラック上の記
録ビット19と非記録部との反射率差を検知し、再生す
る。この時、再生ビームとしては、ビーム径が小なる方
がよく、φ0.8μm程度が可能である。
の凭ディスク上でのビーム形成を示した図で、記録トラ
ック16上に形成されたアモルファス記録ビット17を
長円形の消去ビーム18を連続的に照射することが、前
記記録ビット17を消去し、続いて信号により゛変調さ
れた記録ビーム19により、記録トラック16を溶融・
急冷し、新たにアモルファス記録ビット19を形成させ
る。第2図Bに示した再生時には、フォーカスさせて、
絞りこんだ再生ビーム2oにより、記録トラック上の記
録ビット19と非記録部との反射率差を検知し、再生す
る。この時、再生ビームとしては、ビーム径が小なる方
がよく、φ0.8μm程度が可能である。
第3図は本発明の詳細な説明する図で、線速度約3 m
/ secで回転するトラック上に、周波数的2MH
zで記録した場合の記録ビット径を、記録ビーム半値幅
φ0.8μm〜φ2.0μmをパラメータとし、記録パ
ワーに対して示したものである。十分な再生信号を得る
のに必要な記録ビット径は、0.5μm〜1.0μmで
あるが、記録ビーム径が大なる程、記録開始パワーは増
加するが、前述の再生に十分な記録ビット径範囲に関し
て、パワー変動に対するビット径変励は小さくなり、動
作パワー領域を拡大させることができる。蜂4表A、E
は、記録1・消去を1万回くりかえした時のC/N比が
50dB以上、消去率が40dB以上の使用可能パワー
領域をOで、使用不能パワー領域をXで、記録ビーム径
φO,aμm〜φ2.0μm に対して示したもので、
φ1.0〜φ1.5μmの範囲が使用すれば、大きな感
度低下をきたすことなく、確実に使用可能パワー領域を
拡げることができる。
/ secで回転するトラック上に、周波数的2MH
zで記録した場合の記録ビット径を、記録ビーム半値幅
φ0.8μm〜φ2.0μmをパラメータとし、記録パ
ワーに対して示したものである。十分な再生信号を得る
のに必要な記録ビット径は、0.5μm〜1.0μmで
あるが、記録ビーム径が大なる程、記録開始パワーは増
加するが、前述の再生に十分な記録ビット径範囲に関し
て、パワー変動に対するビット径変励は小さくなり、動
作パワー領域を拡大させることができる。蜂4表A、E
は、記録1・消去を1万回くりかえした時のC/N比が
50dB以上、消去率が40dB以上の使用可能パワー
領域をOで、使用不能パワー領域をXで、記録ビーム径
φO,aμm〜φ2.0μm に対して示したもので、
φ1.0〜φ1.5μmの範囲が使用すれば、大きな感
度低下をきたすことなく、確実に使用可能パワー領域を
拡げることができる。
(ふ°人 ) /1(−s )$<Aノ
記録ビーム径 φ0.8μm
消去パワー(mW)
記録ビーム径 φ1.0μm
消去パワー(mW)
令 (0)
記録ビーム径 φ1.25μm
消去パワー(mW)
記録ビーム径 φ1.5μm
消去パワー(mW)
−t、t (Eン
記録ビーム径 φ2.0μm
消去パワー(mW)
発明の効果
以上水したように、本発明によれば、記録時には記録・
再生用ビームを拡げ、再生時には、前記ビームを絞るこ
とにより、広いパワー領域が消し残りがなく、くりかえ
し使用回数を増大させうる光ディスク装置を提供しうる
。
再生用ビームを拡げ、再生時には、前記ビームを絞るこ
とにより、広いパワー領域が消し残りがなく、くりかえ
し使用回数を増大させうる光ディスク装置を提供しうる
。
第1図は本発明の一実施例の光ディスク装置を示す構成
図、第2図Aは記録・消去時のビーム配置図、第2図B
は再生時のビーム配置図、第3図は記録時の記録特性図
である。 1・・・・・・消去用半導体レーザ、6・・・・・・対
物レンズ、7・・・・・・光ディスク、8・・・・・・
記録・再生用半導体レーザ、9・・・−・・記録・再生
用コリメータレンズ、17.20・・・−・・アモルフ
ァス記録ピット、18・・・・・・消去ビーム、19・
・・・・・記録ビーム、21・・・・再生ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 (A) (B) □う身ズク凹舅云万」
図、第2図Aは記録・消去時のビーム配置図、第2図B
は再生時のビーム配置図、第3図は記録時の記録特性図
である。 1・・・・・・消去用半導体レーザ、6・・・・・・対
物レンズ、7・・・・・・光ディスク、8・・・・・・
記録・再生用半導体レーザ、9・・・−・・記録・再生
用コリメータレンズ、17.20・・・−・・アモルフ
ァス記録ピット、18・・・・・・消去ビーム、19・
・・・・・記録ビーム、21・・・・再生ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 (A) (B) □う身ズク凹舅云万」
Claims (2)
- (1)光照射状態により光学的性質が変化する物質を記
録材料とした光ディスクに形成された情報記録ピットを
第1の光ビームを照射して消去し、次いで第2の光ビー
ムを照射して記録した後、前記第2の光ビームを照射し
て再生するにあたり、記録時における前記第2の光ビー
ム径を再生時におけるビーム径より大として、記録・再
生することを特徴とする光ディスク装置。 - (2)記録・再生用コリメータレンズを光軸方向に移動
させ、記録時にはデフォーカスし、再生時にはフォーカ
スさせることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
光ディスク装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62140289A JPS63304428A (ja) | 1987-06-04 | 1987-06-04 | 光ディスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62140289A JPS63304428A (ja) | 1987-06-04 | 1987-06-04 | 光ディスク装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63304428A true JPS63304428A (ja) | 1988-12-12 |
Family
ID=15265324
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62140289A Pending JPS63304428A (ja) | 1987-06-04 | 1987-06-04 | 光ディスク装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63304428A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02302932A (ja) * | 1989-05-16 | 1990-12-14 | Fuji Electric Co Ltd | 光記録再生方式 |
JPH05151574A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-06-18 | Nec Corp | 光学的情報記録消去方式 |
JPH0652549A (ja) * | 1992-07-29 | 1994-02-25 | Sanyo Electric Co Ltd | 光学式再生装置 |
US7173888B2 (en) | 2002-06-10 | 2007-02-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Recording apparatus for and method of improving overwrite characteristics |
-
1987
- 1987-06-04 JP JP62140289A patent/JPS63304428A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02302932A (ja) * | 1989-05-16 | 1990-12-14 | Fuji Electric Co Ltd | 光記録再生方式 |
JPH05151574A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-06-18 | Nec Corp | 光学的情報記録消去方式 |
JPH0652549A (ja) * | 1992-07-29 | 1994-02-25 | Sanyo Electric Co Ltd | 光学式再生装置 |
US7173888B2 (en) | 2002-06-10 | 2007-02-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Recording apparatus for and method of improving overwrite characteristics |
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