JPS6329069A - クライオポンプ - Google Patents
クライオポンプInfo
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- JPS6329069A JPS6329069A JP16974086A JP16974086A JPS6329069A JP S6329069 A JPS6329069 A JP S6329069A JP 16974086 A JP16974086 A JP 16974086A JP 16974086 A JP16974086 A JP 16974086A JP S6329069 A JPS6329069 A JP S6329069A
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- panels
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
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- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
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Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はクライオポンプに係り、特に排気速度の可変に
好適な多ライオポンプに関するものである。
好適な多ライオポンプに関するものである。
従来の装置は、特開昭60−204981号に記載のよ
うに、第2段クライオパネル全体の温度を調整し、吸着
排気能力の制御を行なっていた。
うに、第2段クライオパネル全体の温度を調整し、吸着
排気能力の制御を行なっていた。
上記従来技術は、排気能力制御の容易性の点について配
慮されておらず、排気能力を低下させることはできても
細かな排気能力の調整はできなかった。すなわち、第6
図に示すように、第2段クライオパネルを加温すると第
2段クライオパネルの温度が29に〜34にの5に程度
の温度変化で、例えば半導体製造装置のプロセスに用い
られるA「等の排気能力が100チ〜10%に急激に変
化するため、′iE2段グライオボンブをIK前後の温
度で正確に制御することが難しり、シたがって細かな排
気能力の調整は非常(こ困難であった。
慮されておらず、排気能力を低下させることはできても
細かな排気能力の調整はできなかった。すなわち、第6
図に示すように、第2段クライオパネルを加温すると第
2段クライオパネルの温度が29に〜34にの5に程度
の温度変化で、例えば半導体製造装置のプロセスに用い
られるA「等の排気能力が100チ〜10%に急激に変
化するため、′iE2段グライオボンブをIK前後の温
度で正確に制御することが難しり、シたがって細かな排
気能力の調整は非常(こ困難であった。
また、第2グライオパ不ルの温度が上昇すると、パネル
表面に凝縮捕捉していたAr、N2の凝縮平衡条件が破
壊され、Ar、N2が放出される。この場合、第2グラ
イオバ不ル全面が、はぼ同一温度で推移するため、放出
されたAr、N2のガスは再凝縮されず(例えば、30
にでのN2の飽和蒸気圧力は約I X 10−’ To
rrであり、クライオポンプの操作圧力I X 10−
8〜10−9Torr では凝縮しない。)、これら
のガスは、第2段グライオパネルの内側に取り付けられ
たHe、N2等の更に飽和蒸気圧力の高いガスを吸着捕
捉するための吸着剤に吸着され、このため、吸着剤が本
来排気すべきHe、N2等の排気能力が低下してしまう
という問題があった。
表面に凝縮捕捉していたAr、N2の凝縮平衡条件が破
壊され、Ar、N2が放出される。この場合、第2グラ
イオバ不ル全面が、はぼ同一温度で推移するため、放出
されたAr、N2のガスは再凝縮されず(例えば、30
にでのN2の飽和蒸気圧力は約I X 10−’ To
rrであり、クライオポンプの操作圧力I X 10−
8〜10−9Torr では凝縮しない。)、これら
のガスは、第2段グライオパネルの内側に取り付けられ
たHe、N2等の更に飽和蒸気圧力の高いガスを吸着捕
捉するための吸着剤に吸着され、このため、吸着剤が本
来排気すべきHe、N2等の排気能力が低下してしまう
という問題があった。
さらに、吸着剤で吸着されずに残存するN2ガスは、例
えば半導体製造装置のスパッタ装置におけるプロセスに
対して悪影響を与えるという問題があった。
えば半導体製造装置のスパッタ装置におけるプロセスに
対して悪影響を与えるという問題があった。
本発明の目的は、排気能力の調整を容易にするとともに
、Ar、N2等による悪影響をなくすことのできるタラ
イオボンプを提供することにある。
、Ar、N2等による悪影響をなくすことのできるタラ
イオボンプを提供することにある。
上記目的は、真空雰囲気内で液体水素の温度以下に冷却
されるパネルを有するタライオポンプにおいて、パネル
を複数に分割し、分割されて隣合うパネル同士を熱的に
しゃ断するとともに、それぞれのパネルを任意に加温可
能な加温手段を設けることにより達成される。
されるパネルを有するタライオポンプにおいて、パネル
を複数に分割し、分割されて隣合うパネル同士を熱的に
しゃ断するとともに、それぞれのパネルを任意に加温可
能な加温手段を設けることにより達成される。
液体水素の温度以下に冷却され複数1こ分割されたパネ
ルのそれぞれを、Ar、 N2の凝縮平衡条件を破壊す
る温度奢こ任意に加温保持することにより、加温された
部分のパネルにはAr、N2が吸着されず、他の部分の
パネルは冷却されてAr、N2を吸着する。これにより
Ar、 N2の吸着量が減少して排気能力を可変でき、
加温されたパネルから放出されたAr、N2は他の冷却
されたパネル部分で吸着されHetH2を吸着するため
の吸着剤の吸着能力を低下させることがない。
ルのそれぞれを、Ar、 N2の凝縮平衡条件を破壊す
る温度奢こ任意に加温保持することにより、加温された
部分のパネルにはAr、N2が吸着されず、他の部分の
パネルは冷却されてAr、N2を吸着する。これにより
Ar、 N2の吸着量が減少して排気能力を可変でき、
加温されたパネルから放出されたAr、N2は他の冷却
されたパネル部分で吸着されHetH2を吸着するため
の吸着剤の吸着能力を低下させることがない。
以下、本発明の一実施例を第1図および′!J2図によ
り説明する。
り説明する。
冷凍機1は、100K以下1こ冷却可能な第1コールド
ステージ2と、20K(液体水素温度)以下に冷却可能
な第2コールドステージ3とを有している。
ステージ2と、20K(液体水素温度)以下に冷却可能
な第2コールドステージ3とを有している。
第2コールドステージ3には第2パネル6が取り付けら
れ、第1図に示すよう昏こ、スリット13によって例え
ば6等分され第2パネル6aないし6bに分けられる。
れ、第1図に示すよう昏こ、スリット13によって例え
ば6等分され第2パネル6aないし6bに分けられる。
第1コールドステージ2には、第2パネル6を囲むよう
に形成された第1パネル5が取り付けである。さらに、
第1パネル5を囲むように形成された真空層4が、冷凍
!1に取り付けである。
に形成された第1パネル5が取り付けである。さらに、
第1パネル5を囲むように形成された真空層4が、冷凍
!1に取り付けである。
第2パネル6の図示上部には、第1パネル5によって支
持したバックル7が設けである。真空層4は、図示上部
にフランジを有し、図示しない被排気室に取り付けられ
る。
持したバックル7が設けである。真空層4は、図示上部
にフランジを有し、図示しない被排気室に取り付けられ
る。
第2パネル6a〜6fの内側には、それぞれ加温手段で
あるヒータ8a〜8fが取り付けてあり、真空層4に取
り付けた例えばハーメチックシール10等の接続具を介
して、リード線9およびUによって制御装置t12に接
続しである。
あるヒータ8a〜8fが取り付けてあり、真空層4に取
り付けた例えばハーメチックシール10等の接続具を介
して、リード線9およびUによって制御装置t12に接
続しである。
上記構成により、第1コールドステージ2に連結された
第1パネル5およびバッフル7は、100に以下に冷却
され、水分および炭酸ガスを吸着凝縮し、主にパフフル
7によって取り除き、バッフル7を通り抜けた水分およ
び炭酸ガスを第1パネル5で取り除く。
第1パネル5およびバッフル7は、100に以下に冷却
され、水分および炭酸ガスを吸着凝縮し、主にパフフル
7によって取り除き、バッフル7を通り抜けた水分およ
び炭酸ガスを第1パネル5で取り除く。
第2コールドステージ3に連結された第2パネル6は2
0に以下に冷却され、主に第2パネル6の外面でAr
HN 2 * 02を吸S凝縮し、吸着できないHe、
N2を第2パネルの内側に取り付けられた図示しない吸
着剤で吸着除去し、図示しない被排気室および真空層4
内を高真空1こする。
0に以下に冷却され、主に第2パネル6の外面でAr
HN 2 * 02を吸S凝縮し、吸着できないHe、
N2を第2パネルの内側に取り付けられた図示しない吸
着剤で吸着除去し、図示しない被排気室および真空層4
内を高真空1こする。
このとき、第2パネル6aないし6fに取り付けたヒー
タ8aないし8fを制御装置11によフて任意に選定し
て、Ar、 N2.02の凝縮平衡条件を破壊する温度
に加温する。例えば、ヒータ8a。
タ8aないし8fを制御装置11によフて任意に選定し
て、Ar、 N2.02の凝縮平衡条件を破壊する温度
に加温する。例えば、ヒータ8a。
8Cおよび8Cを加熱すれば、第2パネル6a。
6cおよび6eからArl N2+ o2が放出され、
第2パネル6a、6cおよび6CにはAr、 N210
2が吸着されず、Ar、 N2.02を吸着する面は第
2パネル6b、6dおよび6fになり、吸着可能な面積
はこの場合t/2c ’tc IJ、Ar l N21
02 ’k 吸’It排気する能力も1/2に低下する
ので、全体の排気能力も低下する。
第2パネル6a、6cおよび6CにはAr、 N210
2が吸着されず、Ar、 N2.02を吸着する面は第
2パネル6b、6dおよび6fになり、吸着可能な面積
はこの場合t/2c ’tc IJ、Ar l N21
02 ’k 吸’It排気する能力も1/2に低下する
ので、全体の排気能力も低下する。
このように、加温可能な第2パネル6aないし6fのう
ちの数を変えることにより、Ar、 N2+02の排気
能力を任意に可変できる。また、どの第2パネルを加温
するかは制御装置W12によって決定される。
ちの数を変えることにより、Ar、 N2+02の排気
能力を任意に可変できる。また、どの第2パネルを加温
するかは制御装置W12によって決定される。
また、例えば、上記記載の加温された第2パネル6a、
6cおよび6eから放出されたArl N2102は、
冷却された第2パネル6b、6dおよび6e fに吸着されるので、1子およびN2を吸着させる吸着
剤に第2パネル6a、6bおよび6eから放出されたA
r、 N2.02が吸着してHeおよびN2の吸着を妨
げることがない。
6cおよび6eから放出されたArl N2102は、
冷却された第2パネル6b、6dおよび6e fに吸着されるので、1子およびN2を吸着させる吸着
剤に第2パネル6a、6bおよび6eから放出されたA
r、 N2.02が吸着してHeおよびN2の吸着を妨
げることがない。
以上本−実施例によれば、分割した第2パネルに取り付
けたヒータを制御装置によってそれぞれ任意に加温制御
できるので、第2パネルの吸着面積な分割した範囲で任
意に調整でき、排気能力な任意に調整できるという効果
がある。
けたヒータを制御装置によってそれぞれ任意に加温制御
できるので、第2パネルの吸着面積な分割した範囲で任
意に調整でき、排気能力な任意に調整できるという効果
がある。
また、加温された第2パネルから放出されたAr。
N2,02が、加温されていない第2パネルによって吸
着され、He、N2の吸着のための吸着材に吸着されて
He、Hzの吸着能力な低下させることがない。
着され、He、N2の吸着のための吸着材に吸着されて
He、Hzの吸着能力な低下させることがない。
次に、本発明の第2の実施例を第3図により説明する。
第3図において、第1図と同符号は同一部材を示し、本
図が第1図と異なるところは、第2パネル6をスリット
13によりて分割する際に、等分割ではな(例えば、第
2パネル6の1/2の面積とした第2パネル6gと、残
りの面積を1/2にした面積の第2パネル8hと、残り
の面積を1/2にした面積の第2パネル81および8j
とに分割した第2パネル6にした点にあり、この場合は
、第2パネル6h、6iおよび6jにヒータsh。
図が第1図と異なるところは、第2パネル6をスリット
13によりて分割する際に、等分割ではな(例えば、第
2パネル6の1/2の面積とした第2パネル6gと、残
りの面積を1/2にした面積の第2パネル8hと、残り
の面積を1/2にした面積の第2パネル81および8j
とに分割した第2パネル6にした点にあり、この場合は
、第2パネル6h、6iおよび6jにヒータsh。
81および8jを設けている◎
これにより、第2パネル6の吸着面積は、例えば第2パ
ネル6h、6it 6jを加温すればl/2になり、
第2パネル6h、6jを加温すれば5/8になり、第2
パネル6hを加温すれば3/4Iこなり、第2パネル6
1を加温すれば7/8にな1ハこのように、段々分割面
積を小さくして行曵ことにより、等分割にするよりも分
割数を少なくして細かな排気能力の制御ができる。
ネル6h、6it 6jを加温すればl/2になり、
第2パネル6h、6jを加温すれば5/8になり、第2
パネル6hを加温すれば3/4Iこなり、第2パネル6
1を加温すれば7/8にな1ハこのように、段々分割面
積を小さくして行曵ことにより、等分割にするよりも分
割数を少なくして細かな排気能力の制御ができる。
次に、本発明の第3の実施例を第4図から第6図により
説明する。
説明する。
第4図および第5図において、第1図および第2因と同
一符号は同一部材を示し、本図が第1図および第2図と
異なる点は、第2パネル6の加温手段をヒータ8の代わ
りに、第1パネル5の温度を第2パネル6に伝える機構
を設けた点1こある。
一符号は同一部材を示し、本図が第1図および第2図と
異なる点は、第2パネル6の加温手段をヒータ8の代わ
りに、第1パネル5の温度を第2パネル6に伝える機構
を設けた点1こある。
この場合は、′!J1パネル5と第2パネル6との間に
設けられ!J1パネル5に取り付けられた軸受17と、
第1パネル5の図示下部に取り付けた軸受18とによっ
て、軸16を第1パネル5の図示下部に貫通させて支持
し、軸16の図示上部にアーム15を取り付け、アーム
15の両端に接触板14を取り付けて、隣合う例えば第
2パネル6bおよび6cと、6dおよび6eと、6fお
よび6aと隙間を設けて対応する位置に接触板14を配
置する。軸16の図示下部に対向する真空層40面に貫
通穴を設け、貫通穴部で真空層4の外側に座19を介し
て回転装匠加を取り付け、第6図に示すようfこ軸16
の図示下部の凹部に回転装置加の回転軸を隙間を持たせ
て挿入する。回転装置はリード線11 aにより制御装
置1t12に接続しである。
設けられ!J1パネル5に取り付けられた軸受17と、
第1パネル5の図示下部に取り付けた軸受18とによっ
て、軸16を第1パネル5の図示下部に貫通させて支持
し、軸16の図示上部にアーム15を取り付け、アーム
15の両端に接触板14を取り付けて、隣合う例えば第
2パネル6bおよび6cと、6dおよび6eと、6fお
よび6aと隙間を設けて対応する位置に接触板14を配
置する。軸16の図示下部に対向する真空層40面に貫
通穴を設け、貫通穴部で真空層4の外側に座19を介し
て回転装匠加を取り付け、第6図に示すようfこ軸16
の図示下部の凹部に回転装置加の回転軸を隙間を持たせ
て挿入する。回転装置はリード線11 aにより制御装
置1t12に接続しである。
上記のように構成することによって、制御装置稔により
回転装置美例えばパルスモータを回転させる。これによ
り、回転装置加の軸と軸16とがはまり合っている部分
の回転方向の隙間がなくなり、回転装置(9)の軸と軸
16とが接触し、軸16が回転して、アーム15が回わ
され接触板の一方が第2パネル例えば6bに接触し、第
1パネル5の温度に冷却された接触板により第2パネル
6bが加温される。
回転装置美例えばパルスモータを回転させる。これによ
り、回転装置加の軸と軸16とがはまり合っている部分
の回転方向の隙間がなくなり、回転装置(9)の軸と軸
16とが接触し、軸16が回転して、アーム15が回わ
され接触板の一方が第2パネル例えば6bに接触し、第
1パネル5の温度に冷却された接触板により第2パネル
6bが加温される。
以上、本実3の実施例によれば、第2パネル6aないし
6fを制御装置12によって選択して加温できるので、
前記一実施例同様に排気能力の可変を行なうことができ
るという効果がある。
6fを制御装置12によって選択して加温できるので、
前記一実施例同様に排気能力の可変を行なうことができ
るという効果がある。
なお、本実施例では、第2パネルを加温する手段に、ヒ
ータまたは第1パネルの温度を利用したが、例えば、第
2パネル6を第2コールドステージ3に取り付けている
ボルトを加温して膨張させ、第2パネル6と第2コール
ドステージ3との面圧を少なくして、熱の伝わりを悪(
し第2パネルの6aないし6fのいずれかの第2パネル
が冷却されないようにして、排気能力を可変することも
できる。
ータまたは第1パネルの温度を利用したが、例えば、第
2パネル6を第2コールドステージ3に取り付けている
ボルトを加温して膨張させ、第2パネル6と第2コール
ドステージ3との面圧を少なくして、熱の伝わりを悪(
し第2パネルの6aないし6fのいずれかの第2パネル
が冷却されないようにして、排気能力を可変することも
できる。
また、本実施例では、第2パネルを直接に冷凍機の第2
コールドステージで冷却する一体式のクライオポンプに
て記載しているが、冷凍機とパネルとを離して構成され
るセパレート式のクライオポンプでも良い。
コールドステージで冷却する一体式のクライオポンプに
て記載しているが、冷凍機とパネルとを離して構成され
るセパレート式のクライオポンプでも良い。
以上本発明によれば、クライオポンプの排気能力の調整
を容易にするとともに、Ar、N2によろ悪影響をな(
すことができるという効果がある。
を容易にするとともに、Ar、N2によろ悪影響をな(
すことができるという効果がある。
第1図は本発明の一実施例であるクライオポンプを示す
平面図、第2図は第1図の側断面図、第3図は本発明の
第2の実施例であるクライオポンプを示す平面図、第4
図は本発明の第3の実施例であるクライオポンプを示す
側断面図、第5図は第4図の平面図、N6図は第4図を
A−Aから見た側面図、fJ7図は従来のクライオポン
プの排気特性を示すグラフである。 6.6aないし6j・・・・・・第2パネル、8,8a
ないし8fおよび8hないし8j・・・・・・ヒータ、
セ・・・・・・制御装置、14・・・・・・接触板、1
5・・・・・・アーム、16第1図 才3図 第4図 ”t5図 ″)r6図
平面図、第2図は第1図の側断面図、第3図は本発明の
第2の実施例であるクライオポンプを示す平面図、第4
図は本発明の第3の実施例であるクライオポンプを示す
側断面図、第5図は第4図の平面図、N6図は第4図を
A−Aから見た側面図、fJ7図は従来のクライオポン
プの排気特性を示すグラフである。 6.6aないし6j・・・・・・第2パネル、8,8a
ないし8fおよび8hないし8j・・・・・・ヒータ、
セ・・・・・・制御装置、14・・・・・・接触板、1
5・・・・・・アーム、16第1図 才3図 第4図 ”t5図 ″)r6図
Claims (1)
- 1、真空雰囲気内で液体水素の温度以下に冷却されるパ
ネルを有するクライオポンプにおいて、該パネルを複数
に分割し、隣合う前記分割したパネル同士を熱的にしゃ
断するとともに、前記分割したパネルにそれぞれを任意
に加温可能な加温手段を設けたことを特徴とするクライ
オポンプ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16974086A JPS6329069A (ja) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | クライオポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16974086A JPS6329069A (ja) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | クライオポンプ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6329069A true JPS6329069A (ja) | 1988-02-06 |
Family
ID=15891966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16974086A Pending JPS6329069A (ja) | 1986-07-21 | 1986-07-21 | クライオポンプ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6329069A (ja) |
-
1986
- 1986-07-21 JP JP16974086A patent/JPS6329069A/ja active Pending
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