JPS63260059A - 密着型イメ−ジセンサのモジユ−ル構造 - Google Patents
密着型イメ−ジセンサのモジユ−ル構造Info
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- JPS63260059A JPS63260059A JP62093774A JP9377487A JPS63260059A JP S63260059 A JPS63260059 A JP S63260059A JP 62093774 A JP62093774 A JP 62093774A JP 9377487 A JP9377487 A JP 9377487A JP S63260059 A JPS63260059 A JP S63260059A
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 30
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 25
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 24
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 24
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 abstract description 3
- 101100518972 Caenorhabditis elegans pat-6 gene Proteins 0.000 abstract 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 24
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、密着型イメージセンサのモジュール構成に関
する。
する。
[従来の技術]
従来、リニアイメージセンサ、ラインセンサと言われる
イメージセンサ素子の構成は、ガラス(例えば、石英ガ
ラス、ホウケイ酸ガラス)のベース基板に、それも片面
のみに受光素子等が形成されている。
イメージセンサ素子の構成は、ガラス(例えば、石英ガ
ラス、ホウケイ酸ガラス)のベース基板に、それも片面
のみに受光素子等が形成されている。
この受光素子に光が入り、イメージセンサとして作動す
るのであるが、光の入り方としては、ひとつに、ガラス
を通して入る方法と、もうひとつには、ガラスを通さな
い方法が考えられ、実施されている。
るのであるが、光の入り方としては、ひとつに、ガラス
を通して入る方法と、もうひとつには、ガラスを通さな
い方法が考えられ、実施されている。
ガラスを通さないで、受光素子に光が入る方法はトップ
方式と呼ばれ、その断面構造を第2図に示す、又、ガラ
スを通して、受光素子に光が入る方法はボトム方式と呼
ばれ、その断面構造を7753図に示す。
方式と呼ばれ、その断面構造を第2図に示す、又、ガラ
スを通して、受光素子に光が入る方法はボトム方式と呼
ばれ、その断面構造を7753図に示す。
これらの従来技術について、さらに詳細に述べる。トッ
プ方式(第2図)の方法では、先ずプリント配線板lに
、電子部品2をハンダ3にて接合して、センサチップ4
を駆動、信号処理を行う回路ブロックAを形成する。こ
の回路ブロックAの上に、センサチップ4をダイアタッ
チ剤5にて、正確にプリント配線板1の所望の位置に接
着する。
プ方式(第2図)の方法では、先ずプリント配線板lに
、電子部品2をハンダ3にて接合して、センサチップ4
を駆動、信号処理を行う回路ブロックAを形成する。こ
の回路ブロックAの上に、センサチップ4をダイアタッ
チ剤5にて、正確にプリント配線板1の所望の位置に接
着する。
このセンサチップのボンディングエリア6と、プリント
配線板1のボンディングエリア7をボンディングワイヤ
8にて、周知のボンダー等で、結線し、電気的接続を行
う。
配線板1のボンディングエリア7をボンディングワイヤ
8にて、周知のボンダー等で、結線し、電気的接続を行
う。
接続を終ったあと、センサチップ4の表面の受光素子等
の素子9と、ボンディングワイヤ8を外部環境から守る
ためにモールド剤10で被う、モールド剤lOは当初液
状であるので、充てんするとき流れ出さない様モールド
枠11を接着剤12でプリント配線板1に貼っておく、
モールド剤lOは、充てん後加熱、UV等の方法にて、
液状から固状へと変えていく、ただし、モールド剤lO
は、透明であることが必要である。
の素子9と、ボンディングワイヤ8を外部環境から守る
ためにモールド剤10で被う、モールド剤lOは当初液
状であるので、充てんするとき流れ出さない様モールド
枠11を接着剤12でプリント配線板1に貼っておく、
モールド剤lOは、充てん後加熱、UV等の方法にて、
液状から固状へと変えていく、ただし、モールド剤lO
は、透明であることが必要である。
ボトム方式(第3図)の方法では、先ず、ガラス基板2
1、(これは、ガラス板の表面に電気配線がほどこされ
ている基板である。)にセンサチップ4を光学的ダイア
タッチ剤22で接合する。
1、(これは、ガラス板の表面に電気配線がほどこされ
ている基板である。)にセンサチップ4を光学的ダイア
タッチ剤22で接合する。
その後ボンディングワイヤ8にてガラス基板21とボン
ダーで接合する。そしてモールド枠及びコネクタ枠を兼
ねる、ゴム材枠23を接着剤12で接合する。
ダーで接合する。そしてモールド枠及びコネクタ枠を兼
ねる、ゴム材枠23を接着剤12で接合する。
モールド枠であるゴム材枠23のモールド充てん溝にモ
ールド剤10を充てんして硬化させ、コネクタ24でセ
ンサチップ4を駆動、信号処理を行う回路ブロックAを
、電気的に接合して、センサモジュールとして構成して
いる。
ールド剤10を充てんして硬化させ、コネクタ24でセ
ンサチップ4を駆動、信号処理を行う回路ブロックAを
、電気的に接合して、センサモジュールとして構成して
いる。
[発明が解決しようとする問題点〕
しかし、従来構造のセンサモジュール構成では、いくつ
かの問題点がある。
かの問題点がある。
トップ方式でいうと、ひとつには、光(hu)が第2図
に示す方向から入ってくるので、特にモールド剤10の
表面形状、(センサチップの上面)がオプティカル的に
フラットでないと、受光素子9の表面にきれいな像を結
像しない、又、モールド剤lOの光透過圧が低いため、
センサ9の感度が落ちる。又、表面、界面反射をも含め
ると、直接入る光量に比べると約80%に落ちてしまう
。
に示す方向から入ってくるので、特にモールド剤10の
表面形状、(センサチップの上面)がオプティカル的に
フラットでないと、受光素子9の表面にきれいな像を結
像しない、又、モールド剤lOの光透過圧が低いため、
センサ9の感度が落ちる。又、表面、界面反射をも含め
ると、直接入る光量に比べると約80%に落ちてしまう
。
又、実装スペースにおいても、モールド枠等貼り合せる
必要から大きなスペースを取ってしまう。
必要から大きなスペースを取ってしまう。
ボトム方式においては、ひとつには、コネクタの、問題
があり常にコネクタを圧接しておかなければ回路ブロッ
クAとガラス基板21との電気的接続がとれないため、
センサーユニットとして組みあげる場合、常に圧接構造
に配慮する必要がある。
があり常にコネクタを圧接しておかなければ回路ブロッ
クAとガラス基板21との電気的接続がとれないため、
センサーユニットとして組みあげる場合、常に圧接構造
に配慮する必要がある。
又、光の入射においても、ガラス基板21側から入るの
で、ガラス基板21の表面、ガラス基板21とダイアタ
ッチ剤22の界面、センサチップ4とダイアタッチ剤の
界面の各々における界面。
で、ガラス基板21の表面、ガラス基板21とダイアタ
ッチ剤22の界面、センサチップ4とダイアタッチ剤の
界面の各々における界面。
表面反射による光の減衰、及び、センサチップ4、ダイ
アタッチ22及びガラス基板の各々の光透過率による光
の減衰1等により、センサ9の光量不足による感度低下
がある。
アタッチ22及びガラス基板の各々の光透過率による光
の減衰1等により、センサ9の光量不足による感度低下
がある。
これらの光量減衰があるため、センサーのスピードを落
してユーザーニーズに対応しなければならなかった。
してユーザーニーズに対応しなければならなかった。
さらに、実装スペースにおいても、ガラス基板モールド
枠1回路ブロックと王者を一体にしなければならないた
め、多くのスペースをとるほか。
枠1回路ブロックと王者を一体にしなければならないた
め、多くのスペースをとるほか。
センサ素子9の直上に回路基板が来るので、回路からの
ノイズ対策を充分とらなければならず多くの問題を残し
ている。
ノイズ対策を充分とらなければならず多くの問題を残し
ている。
[問題点を解決するための手段]
したがって従来の問題点を解決するために、密着型イメ
ージセンナのモジュール構造において、センサチップを
駆動及びセンサチップからの信号の処理を行う回路基板
の側面に、センサチップを接合して、センサチップを回
路基板に実装したことを特徴とする密着型イメージセン
サのモジュール構造。
ージセンナのモジュール構造において、センサチップを
駆動及びセンサチップからの信号の処理を行う回路基板
の側面に、センサチップを接合して、センサチップを回
路基板に実装したことを特徴とする密着型イメージセン
サのモジュール構造。
[実箆例]
第1図に本発明の密着波イメージセンサのモジュールの
構造の断面図を示す。
構造の断面図を示す。
先ず、プリント配線板l(本発明においては、FR−4
のガラエボ基板を使用)にセンサを駆動する又、センサ
からの信号を処理するための回路を形成する電子部品群
2をハンダ3等フ接合するこの回路ブロックAのプリン
ト基板lの側面に。
のガラエボ基板を使用)にセンサを駆動する又、センサ
からの信号を処理するための回路を形成する電子部品群
2をハンダ3等フ接合するこの回路ブロックAのプリン
ト基板lの側面に。
センサチップ4を、接着剤31で接合する、接合が終了
したら、周知のワイヤポレダとボンディングワイヤ8に
より、センサチップのボンディングパット6と、プリン
ト配線板1の配線のポンディングパット7とを、[熱的
に接合する。その後モールド剤10を施して、センサモ
ジュールを構成する。
したら、周知のワイヤポレダとボンディングワイヤ8に
より、センサチップのボンディングパット6と、プリン
ト配線板1の配線のポンディングパット7とを、[熱的
に接合する。その後モールド剤10を施して、センサモ
ジュールを構成する。
さらに詳細に図を用いて説明する。$4図から第9図に
至るまでは、本発明(第1図)を完成させるまでの工程
である。
至るまでは、本発明(第1図)を完成させるまでの工程
である。
まず、第4図に示すごとく、ガラス繊維等を含んで剛性
をもたせ、及び、熱膨張率をできるだけ小さくした基材
に電気配線を施こして、プリント配線板1を形成する6
本発明においては、一般に言われているガラエボを用い
、FR−4及びG −10を使用した。しかし、このプ
リント配線板に使用するものは、ほかにも、形成する方
法は問わず、目的に合うものを得ることができる0例え
ばインジェクション基板、メタル基板、セラミック基板
等である0本発明においては、入手の手軽さや加工、コ
ストの面から、ガラエボを選んだ。
をもたせ、及び、熱膨張率をできるだけ小さくした基材
に電気配線を施こして、プリント配線板1を形成する6
本発明においては、一般に言われているガラエボを用い
、FR−4及びG −10を使用した。しかし、このプ
リント配線板に使用するものは、ほかにも、形成する方
法は問わず、目的に合うものを得ることができる0例え
ばインジェクション基板、メタル基板、セラミック基板
等である0本発明においては、入手の手軽さや加工、コ
ストの面から、ガラエボを選んだ。
次に、j!85図に示すごとく、センサを駆動する及び
、センサを入れる信号、センサからの信号を処理する回
路を形成するための、能動部品、受動部品2を、ハンダ
3で接合する0本発明においてはハンダを用いたが、電
気的な接合ができれば、導電性の接着剤を用いる方法や
、導電性に方向性のある異方導電膜を用いる方法等もあ
る。
、センサを入れる信号、センサからの信号を処理する回
路を形成するための、能動部品、受動部品2を、ハンダ
3で接合する0本発明においてはハンダを用いたが、電
気的な接合ができれば、導電性の接着剤を用いる方法や
、導電性に方向性のある異方導電膜を用いる方法等もあ
る。
その後、第6図に示すごとく、粘着剤42が塗布しであ
るフィルム41を貼り合わせる。貼り合せる場合は、ゴ
ムローラを用いると、プリント基板lとの界面に気泡が
入らず、都合の良い貼り合せができる0本発明において
は、粘着剤42に便利な、紫外線を照射すると、粘着力
が極端に低下するものを用い、センサモジュール形成後
、剥しやすくした。又、フィルム41には、比較的耐熱
性の良い、ポリエステルフィルムを用いた。このフィル
ムは、ポリエステルフィルムに限定させることなく、加
工プロセスにおいて、耐熱性させ満足できるものであれ
ば、粘着剤42との兼ね合いで何でも良く、PETの他
にも、po、pvcでも確認をして良好な結果を得てい
る。
るフィルム41を貼り合わせる。貼り合せる場合は、ゴ
ムローラを用いると、プリント基板lとの界面に気泡が
入らず、都合の良い貼り合せができる0本発明において
は、粘着剤42に便利な、紫外線を照射すると、粘着力
が極端に低下するものを用い、センサモジュール形成後
、剥しやすくした。又、フィルム41には、比較的耐熱
性の良い、ポリエステルフィルムを用いた。このフィル
ムは、ポリエステルフィルムに限定させることなく、加
工プロセスにおいて、耐熱性させ満足できるものであれ
ば、粘着剤42との兼ね合いで何でも良く、PETの他
にも、po、pvcでも確認をして良好な結果を得てい
る。
次に第7図に示すごとく、センサチップ4を粘着剤41
の上へ、プリント基板1の一辺を基準にして、貼る合せ
る、センサチップ4と、プリント基板1との間に、接着
剤31を入れて固定する。
の上へ、プリント基板1の一辺を基準にして、貼る合せ
る、センサチップ4と、プリント基板1との間に、接着
剤31を入れて固定する。
この接着剤には、弾性体がよく、ゴム状のものが良い、
又、センサチップ4とプリント基板lの熱膨張率が大き
く異なるので、熱ストレスを充分緩和できる様に、接着
剤31の弾性率と伸び強さ及び接着厚みの関係を考慮す
る必要がある0例えば、弾性率が大きいと、プリント基
板1側の歪がセンサチップに大きく影響するので、接着
厚みを比較的大きくとる0本発明においては、低温でも
弾性を失なわない、シリコン系の樹脂を用いた。加熱付
加反応型のシリコン樹脂を本発明では用いストレスの緩
和、特に、低温−60°C位までの熱反応緩和において
、大きな効果をあげた。
又、センサチップ4とプリント基板lの熱膨張率が大き
く異なるので、熱ストレスを充分緩和できる様に、接着
剤31の弾性率と伸び強さ及び接着厚みの関係を考慮す
る必要がある0例えば、弾性率が大きいと、プリント基
板1側の歪がセンサチップに大きく影響するので、接着
厚みを比較的大きくとる0本発明においては、低温でも
弾性を失なわない、シリコン系の樹脂を用いた。加熱付
加反応型のシリコン樹脂を本発明では用いストレスの緩
和、特に、低温−60°C位までの熱反応緩和において
、大きな効果をあげた。
その後、周知のボレダーで、センサチップ41のボンデ
ィングパット6とプリント配線板1側のボンディングパ
ット7と9とを、ワイヤ8で電気的接続を行なう0本発
明では、ポンディング条件及びセンサチップ実装に用い
ている材料(例えば。
ィングパット6とプリント配線板1側のボンディングパ
ット7と9とを、ワイヤ8で電気的接続を行なう0本発
明では、ポンディング条件及びセンサチップ実装に用い
ている材料(例えば。
粘着剤42付のフィルム41等)の耐熱性等の制約から
、アルミ線によるポンディングを行った。
、アルミ線によるポンディングを行った。
アルミ線は、Al−3i(1%)のφ35を用いた。
次に第9図に示すごとく、モールド10を施すこのモー
ルドには、第9図に示す、断面形状からも判る様に、チ
クソトロピック性の高い液状のモールド剤を使用する必
要がある、しかも応力緩和作用のあるものが必要で、低
温領域においても充分応力緩和するものでなければなら
ない0本発明においては、Sl系、エポキシ系、ウレタ
ン系等。
ルドには、第9図に示す、断面形状からも判る様に、チ
クソトロピック性の高い液状のモールド剤を使用する必
要がある、しかも応力緩和作用のあるものが必要で、低
温領域においても充分応力緩和するものでなければなら
ない0本発明においては、Sl系、エポキシ系、ウレタ
ン系等。
種々検討した結果、接着力は、比較的弱いが、特に温度
における広範囲に応力緩和できるSt系モールド剤が良
いことが判った。この結果をもとに本発明におけるサン
プルには、信越化学(株)製のKJR−9050を使用
し、非常に良好な結果を得た。ただし、この9050は
、チクソトロピック性が高いのでモールド時に気泡を巻
き込んでもその気泡が外に出て来ないで、そのまま固化
してしまう、この状態では、長期の信頼性に大きな問題
点を残してしまう、特に湯中(60°C−90%R)1
85℃−85%RH等)における動作試験では、致命的
である。センサチップ4の能動面上に気泡が存在する場
合は、まさに致命的である。この問題を解決するため、
加熱等種々の実験の結果、真空下において、2〜3分説
泡することにより、良好な結果を得ることができた。
における広範囲に応力緩和できるSt系モールド剤が良
いことが判った。この結果をもとに本発明におけるサン
プルには、信越化学(株)製のKJR−9050を使用
し、非常に良好な結果を得た。ただし、この9050は
、チクソトロピック性が高いのでモールド時に気泡を巻
き込んでもその気泡が外に出て来ないで、そのまま固化
してしまう、この状態では、長期の信頼性に大きな問題
点を残してしまう、特に湯中(60°C−90%R)1
85℃−85%RH等)における動作試験では、致命的
である。センサチップ4の能動面上に気泡が存在する場
合は、まさに致命的である。この問題を解決するため、
加熱等種々の実験の結果、真空下において、2〜3分説
泡することにより、良好な結果を得ることができた。
最後に、粘着剤42の付いたフィルム41を。
粘着剤42とともに剥がすことにより、ff11図に示
す本発明のものが完成する。
す本発明のものが完成する。
本発明においては、この粘着剤42に紫外線を照射する
ことにより、粘着力を下げて、剥すしやすい様にできる
ものを適用した。具体的には、日東電工製のニレツブホ
ルダー(商品名)を用いた、中でもUE−8が良く、良
好な結果を得た。その後ニレツブホルダーの改良タイプ
も検討し、さらに良好な結果を得た。このときの最適な
紫外線照射条件は約300mJ/cniである。しかし
、200 m J / Cn1以上あれば、良好な結果
が得られることが本発明における実験で判った。
ことにより、粘着力を下げて、剥すしやすい様にできる
ものを適用した。具体的には、日東電工製のニレツブホ
ルダー(商品名)を用いた、中でもUE−8が良く、良
好な結果を得た。その後ニレツブホルダーの改良タイプ
も検討し、さらに良好な結果を得た。このときの最適な
紫外線照射条件は約300mJ/cniである。しかし
、200 m J / Cn1以上あれば、良好な結果
が得られることが本発明における実験で判った。
[yA明の効果]
本発明においては、トップ方式と比較すると、トップ方
式では、光(hu)が、t52図に示す方向から入って
来るので、特にモールド剤10の表面形状(センサチッ
プの上面)がオプティルフラットでないと、受光素子9
の表面にきれいな像を結像しない、モールド剤10の光
透過率が低いため、又モールド作業中に気泡、異物の混
入のため。
式では、光(hu)が、t52図に示す方向から入って
来るので、特にモールド剤10の表面形状(センサチッ
プの上面)がオプティルフラットでないと、受光素子9
の表面にきれいな像を結像しない、モールド剤10の光
透過率が低いため、又モールド作業中に気泡、異物の混
入のため。
センサ9の感度が落ちてしまう、さらにモールド剤の表
面、界面反射等を含めると、直接入る光量に比べ約80
%に落る。第10図に、トップタイプに用いたモールド
剤の透過率示す、第10図より、耐光性試験を行うと、
透過率が下ることが判る。又、センサの分光感度特性(
第11図)より600nmの波長でのモールド剤の透過
率は約87%(0,1mm厚)であり、厚さ等も考える
と。
面、界面反射等を含めると、直接入る光量に比べ約80
%に落る。第10図に、トップタイプに用いたモールド
剤の透過率示す、第10図より、耐光性試験を行うと、
透過率が下ることが判る。又、センサの分光感度特性(
第11図)より600nmの波長でのモールド剤の透過
率は約87%(0,1mm厚)であり、厚さ等も考える
と。
入光量は、センサに到達する頃は、80%程度に落ちて
しまうことが予想される。さらに、光がモールド剤に入
るとき、その空気層との界面にて、界面反射が105前
後(これは、モールド剤の屈折率に関係する数値である
。)あり、有効光量は、0.9XO,8=0.72
となり7割程度に落ちてしまうことになる。
しまうことが予想される。さらに、光がモールド剤に入
るとき、その空気層との界面にて、界面反射が105前
後(これは、モールド剤の屈折率に関係する数値である
。)あり、有効光量は、0.9XO,8=0.72
となり7割程度に落ちてしまうことになる。
これに比べ、本発明の方式においては、モールド剤等の
障害がなく、直接センサチップのガラス4を通しての入
光となるので、チップガラス4の透過率と、チップガラ
ス4と空気層の界面反射だけの関係で決まる。チップガ
ラス4の透過率は300nm以上の波長領域では、その
透過率は98%以上であり、チップがラス4の屈折率は
約1゜47であるので界面反射は、約lO%である。従
って有効光量は、0.98xO,9=0.9 で9割
弱ですむことになり光量的にトップ方式と比べ0.97
0.72=1.25倍、となり25%も有利となる。
障害がなく、直接センサチップのガラス4を通しての入
光となるので、チップガラス4の透過率と、チップガラ
ス4と空気層の界面反射だけの関係で決まる。チップガ
ラス4の透過率は300nm以上の波長領域では、その
透過率は98%以上であり、チップがラス4の屈折率は
約1゜47であるので界面反射は、約lO%である。従
って有効光量は、0.98xO,9=0.9 で9割
弱ですむことになり光量的にトップ方式と比べ0.97
0.72=1.25倍、となり25%も有利となる。
その他にもトップ方式は、モールド剤の表面がオプティ
カルフラットにしないといけない等の不利な点があり1
本発明の効果は、はかりしれないものがある。
カルフラットにしないといけない等の不利な点があり1
本発明の効果は、はかりしれないものがある。
ボトム方式と比較すると、ボトム方式においてはコネク
タの問題があり、常にコネクタ24を圧接しておかなけ
れば回路ブロックAと、ガラス基板21との電気的接続
がとれないため、センサユニットとして組み上げる場合
、常に圧接構造に配慮する必要があった。
タの問題があり、常にコネクタ24を圧接しておかなけ
れば回路ブロックAと、ガラス基板21との電気的接続
がとれないため、センサユニットとして組み上げる場合
、常に圧接構造に配慮する必要があった。
これに対して、本発明においては、センサチップ4と、
回路基板1を直接周知のワイヤボンドで結線しているの
で、圧接構造を常に配慮してユニット設計を行なう必要
もなく、設計メリットが大きい、又、ボンディング点と
コネクタ部の接点2ケ所を持っているボトム方式に比べ
、ボンディング点のみの本発明は信頼性もはるかに優れ
ている。
回路基板1を直接周知のワイヤボンドで結線しているの
で、圧接構造を常に配慮してユニット設計を行なう必要
もなく、設計メリットが大きい、又、ボンディング点と
コネクタ部の接点2ケ所を持っているボトム方式に比べ
、ボンディング点のみの本発明は信頼性もはるかに優れ
ている。
光の入射においては、ボトム方式では、ガラス基板21
側から入るのでガラス基板の表面、ガラス基板21の透
過率、ガラス基板21とダイアタッチ22との界面、ダ
イアタッチ22の透過率、ダイアタッチ22とセンサチ
ップガラス4の界面、センサチップガラス4の透過率に
より光の減衰がある。この減衰量は、0.9(ガラス基
板21の界面反射)xo、99 (ガラス基板21の透
過率)xo、9B (ガラス基板21とダイアタッチ2
2の界面反射)Xo、85 (ダイアタッチ22の透過
率(耐光後の値))xo、98 (ダイアタッチ22と
センサチップガラスとの界面反射)xo。
側から入るのでガラス基板の表面、ガラス基板21の透
過率、ガラス基板21とダイアタッチ22との界面、ダ
イアタッチ22の透過率、ダイアタッチ22とセンサチ
ップガラス4の界面、センサチップガラス4の透過率に
より光の減衰がある。この減衰量は、0.9(ガラス基
板21の界面反射)xo、99 (ガラス基板21の透
過率)xo、9B (ガラス基板21とダイアタッチ2
2の界面反射)Xo、85 (ダイアタッチ22の透過
率(耐光後の値))xo、98 (ダイアタッチ22と
センサチップガラスとの界面反射)xo。
99(センサチップガラスの透過率)=0.72であり
、本発明の構造の0.9(センサチップガラスの界面反
射と透過率の0.9XO,99=0゜89である。)と
比べると大きな差がある。ボトム方式に比べると1本発
明は、0.970.72=1.25となり25%も光量
で有利となる。
、本発明の構造の0.9(センサチップガラスの界面反
射と透過率の0.9XO,99=0゜89である。)と
比べると大きな差がある。ボトム方式に比べると1本発
明は、0.970.72=1.25となり25%も光量
で有利となる。
さらに入射光路において、本発明は有機材を通していな
いので、透過率の経時変化がきわめて少ないので、安定
したセンサ特性を維持することがでさる。p!S10図
に、謝光試験を行ったものの試験前後の0.1mm厚の
有機材の透過率の特性を示しである。この樹脂を本発明
のモールド剤、ダイアタッチ剤として適用した。
いので、透過率の経時変化がきわめて少ないので、安定
したセンサ特性を維持することがでさる。p!S10図
に、謝光試験を行ったものの試験前後の0.1mm厚の
有機材の透過率の特性を示しである。この樹脂を本発明
のモールド剤、ダイアタッチ剤として適用した。
そのほかにも、ガラス基板を使用していないため、軽量
化、省スペース等、その効果ははかりしれないものがあ
る。
化、省スペース等、その効果ははかりしれないものがあ
る。
第1図は、本発明における密着型イメージセンサモジュ
ールの断面の概略を示す図。 第2図は、トップ方式における密着型イメージセンサモ
ジュールの断面の概略を示す図。 第3図は、ボトム方式における密着をイメージセンサモ
ジュールの断面の概略を示す図。 第4〜9図は1本発明における密着型イメージセンサモ
ジュール作製する手順を示す図。 第1O図は、本発明に使用したモールド剤10及びダイ
アタッチ22の代表的光透過率の波長特性を示す図。 第11図は1本発明に使用したセンサの相対分光感度特
性を示す図。 l・・プリント基板 2・・・電子部品 3・・・ハンダ 4・・・センサチップ(センサチップガラス)5・ダイ
アタッチ剤 6・・・ボンディングエリア(チップ側)(バット) 7・9.ボンディングエリア(プリント基板側)(バッ
ト) 811.ボンディングワイヤ 9・・、受光素子等の素子 10 、モールド剤 11・・・モールド枠 12、、、接着剤 21、、、ガラス基板 22・・・光学的ダイアタッチ剤 23、、、ゴム材枠 24・1.コネクタ A ・・・回路ブロック 31、・、接着材 41、、、フィルム 42、、、粘着剤 以 上 v 第1図 第Z図 第≠図 第ξ図 41第2図 第1θ図 戚 −& (nm) 分り爲A碕・IL 第1/図
ールの断面の概略を示す図。 第2図は、トップ方式における密着型イメージセンサモ
ジュールの断面の概略を示す図。 第3図は、ボトム方式における密着をイメージセンサモ
ジュールの断面の概略を示す図。 第4〜9図は1本発明における密着型イメージセンサモ
ジュール作製する手順を示す図。 第1O図は、本発明に使用したモールド剤10及びダイ
アタッチ22の代表的光透過率の波長特性を示す図。 第11図は1本発明に使用したセンサの相対分光感度特
性を示す図。 l・・プリント基板 2・・・電子部品 3・・・ハンダ 4・・・センサチップ(センサチップガラス)5・ダイ
アタッチ剤 6・・・ボンディングエリア(チップ側)(バット) 7・9.ボンディングエリア(プリント基板側)(バッ
ト) 811.ボンディングワイヤ 9・・、受光素子等の素子 10 、モールド剤 11・・・モールド枠 12、、、接着剤 21、、、ガラス基板 22・・・光学的ダイアタッチ剤 23、、、ゴム材枠 24・1.コネクタ A ・・・回路ブロック 31、・、接着材 41、、、フィルム 42、、、粘着剤 以 上 v 第1図 第Z図 第≠図 第ξ図 41第2図 第1θ図 戚 −& (nm) 分り爲A碕・IL 第1/図
Claims (1)
- 密着型イメージセンサのモジュール構造において、セ
ンサチップを駆動及び、センサチップからの信号の処理
を行う回路基板の側面に、センサチップを接合して、セ
ンサチップを回路基板に実装したことを特徴とする密着
型イメージセンサのモジュール構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62093774A JPS63260059A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 密着型イメ−ジセンサのモジユ−ル構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62093774A JPS63260059A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 密着型イメ−ジセンサのモジユ−ル構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63260059A true JPS63260059A (ja) | 1988-10-27 |
Family
ID=14091768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62093774A Pending JPS63260059A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 密着型イメ−ジセンサのモジユ−ル構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63260059A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5701033A (en) * | 1995-03-20 | 1997-12-23 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device |
CN105355621A (zh) * | 2015-11-26 | 2016-02-24 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 一种堆叠式图像传感器 |
-
1987
- 1987-04-16 JP JP62093774A patent/JPS63260059A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5701033A (en) * | 1995-03-20 | 1997-12-23 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device |
CN105355621A (zh) * | 2015-11-26 | 2016-02-24 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 一种堆叠式图像传感器 |
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