JPS63251981A - 磁気ヘツドスライダとその製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドスライダとその製造方法Info
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- JPS63251981A JPS63251981A JP8648787A JP8648787A JPS63251981A JP S63251981 A JPS63251981 A JP S63251981A JP 8648787 A JP8648787 A JP 8648787A JP 8648787 A JP8648787 A JP 8648787A JP S63251981 A JPS63251981 A JP S63251981A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 claims description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000005339 levitation Methods 0.000 claims description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 16
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 abstract description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 3
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 3
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 241001494479 Pecora Species 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001941 electron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLOAVXSYZAJECW-UHFFFAOYSA-N methane;molecular fluorine Chemical compound C.FF QLOAVXSYZAJECW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドスラ
イダとその製造方法であって、該磁気ヘッドスライダに
おける媒体対向面の少なくともスライドレール面に、弗
素プラズマ、または弗素ラジカル中での弗素化処理によ
り表面部に弗素化された層を有する低表面エネルギーで
、かつ撥水、撥油性の異物付着阻止用カーボン膜を設け
た構成とすることにより、回転する磁気ディスク媒体上
で浮上中の該スライダの少なくともスライドレール面へ
の、該媒体側からの潤滑剤や塵埃の付着を軽減してヘッ
ドクラッシュを防止し、安定な浮上状態を長期にわたり
維持し得るようにしたものである。
イダとその製造方法であって、該磁気ヘッドスライダに
おける媒体対向面の少なくともスライドレール面に、弗
素プラズマ、または弗素ラジカル中での弗素化処理によ
り表面部に弗素化された層を有する低表面エネルギーで
、かつ撥水、撥油性の異物付着阻止用カーボン膜を設け
た構成とすることにより、回転する磁気ディスク媒体上
で浮上中の該スライダの少なくともスライドレール面へ
の、該媒体側からの潤滑剤や塵埃の付着を軽減してヘッ
ドクラッシュを防止し、安定な浮上状態を長期にわたり
維持し得るようにしたものである。
本発明は磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドスラ
イダとその製造方法に係り、特に磁気ヘッドスライダに
おける媒体対向面の少なくともスライドレール面に、磁
気ディスク側からの潤滑材や塵埃の付着を狙止し、ヘッ
ドクラッシュを防止する磁気ヘッドスライダの構成及び
その製造方法に関するものである。
イダとその製造方法に係り、特に磁気ヘッドスライダに
おける媒体対向面の少なくともスライドレール面に、磁
気ディスク側からの潤滑材や塵埃の付着を狙止し、ヘッ
ドクラッシュを防止する磁気ヘッドスライダの構成及び
その製造方法に関するものである。
コンピュータシステムの大容量ファイル装置として用い
られる磁気ディスク装置では、近来、情報量の増大によ
り大容量化、高密度記録化の強力な推進が要求されてい
る。このような高密度記録化には磁気ディスク媒体に対
する磁気ヘッドスライダの低浮上化が不可欠であるが、
このヘッド浮上量の低減に伴って回転する磁気ディスク
媒体と浮上する磁気ヘッドスライダとが接触する確率が
増加する。
られる磁気ディスク装置では、近来、情報量の増大によ
り大容量化、高密度記録化の強力な推進が要求されてい
る。このような高密度記録化には磁気ディスク媒体に対
する磁気ヘッドスライダの低浮上化が不可欠であるが、
このヘッド浮上量の低減に伴って回転する磁気ディスク
媒体と浮上する磁気ヘッドスライダとが接触する確率が
増加する。
また該磁気ヘッドスライダの媒体対向面に媒体側からの
潤滑材や環境雰囲気からの塵埃の付着に起因して浮上状
態が不安定になり、ヘッドクラッシュを引き起こし易く
なり、媒体及びヘッドの双方を損傷させるといった傾向
がある。このため、磁気ヘッドスライダの媒体面への潤
滑材や塵埃の付着を阻止して、その浮上安定性とへソド
クラソシュに対する安全性を高めた磁気へラドスライダ
が必要とされている。
潤滑材や環境雰囲気からの塵埃の付着に起因して浮上状
態が不安定になり、ヘッドクラッシュを引き起こし易く
なり、媒体及びヘッドの双方を損傷させるといった傾向
がある。このため、磁気ヘッドスライダの媒体面への潤
滑材や塵埃の付着を阻止して、その浮上安定性とへソド
クラソシュに対する安全性を高めた磁気へラドスライダ
が必要とされている。
従来の磁気ヘッドスライダは第3図に示すようにNi−
Znフェライト、Mn−Znフェライトなどの磁性体、
或いは^II 203−Tic 5BaTi03及びC
aTiO3などの非磁性体等からなるスライダ用基板を
研削加工により、媒体対向面(理解し易くするために上
向きで示している)の空気流入端側から流出部側に向か
って、該空気流入端に傾斜面3と浮上力発生面を有する
一対のスライドレール2が形成され、このようなスライ
ダ本体1におけるスライドレール2の空気流出側の後端
面に記録再生用の磁気トランスデユーサ(図示を省略)
が設けられた構成からなり、通常タイプとして一般的に
広く用いられている。
Znフェライト、Mn−Znフェライトなどの磁性体、
或いは^II 203−Tic 5BaTi03及びC
aTiO3などの非磁性体等からなるスライダ用基板を
研削加工により、媒体対向面(理解し易くするために上
向きで示している)の空気流入端側から流出部側に向か
って、該空気流入端に傾斜面3と浮上力発生面を有する
一対のスライドレール2が形成され、このようなスライ
ダ本体1におけるスライドレール2の空気流出側の後端
面に記録再生用の磁気トランスデユーサ(図示を省略)
が設けられた構成からなり、通常タイプとして一般的に
広く用いられている。
ところでこのような磁気へラドスライダを用いる磁気デ
ィスク装置では、磁気ディスク媒体面に磁気ヘッドスラ
イダの接触による損傷を避けるためと、滑り性を確保す
るために通常潤滑剤を塗布する等の特別な表面処理が施
されている。
ィスク装置では、磁気ディスク媒体面に磁気ヘッドスラ
イダの接触による損傷を避けるためと、滑り性を確保す
るために通常潤滑剤を塗布する等の特別な表面処理が施
されている。
ところがこのような磁気ディスク媒体を回転させ、該媒
体面上に磁気ヘッドスライダを浮上させて記録再生を行
っていくうちに、媒体面からの潤滑剤や、該潤滑剤と周
囲雰囲気からの微小な塵埃との混合物が前記浮上中の磁
気ヘッドスライダの媒体対向面に付着する現象がある。
体面上に磁気ヘッドスライダを浮上させて記録再生を行
っていくうちに、媒体面からの潤滑剤や、該潤滑剤と周
囲雰囲気からの微小な塵埃との混合物が前記浮上中の磁
気ヘッドスライダの媒体対向面に付着する現象がある。
特に前記した磁性体、非磁性体からなるスライダの媒体
対向面には潤滑剤や微小な塵埃が付着し易く、この付着
現象がスライドレール2面で顕著になると当該スライダ
の低浮上状態が不安定とな′−J す、場合によってはヘッドクラッシュを発生させて、媒
体面は勿論のこと、スライダ側の記録再生用磁気トラン
スデユーサなどの双方をも損傷させてしまうという問題
があった。
対向面には潤滑剤や微小な塵埃が付着し易く、この付着
現象がスライドレール2面で顕著になると当該スライダ
の低浮上状態が不安定とな′−J す、場合によってはヘッドクラッシュを発生させて、媒
体面は勿論のこと、スライダ側の記録再生用磁気トラン
スデユーサなどの双方をも損傷させてしまうという問題
があった。
従って、かかる磁気ディスク装置を長期間にわたり動作
させる上での信頼性が著しく低下する欠点があった。
させる上での信頼性が著しく低下する欠点があった。
本発明は上記した従来の問題点に鑑み、スライダの媒体
対向面、特にスライドレール面を表面エネルギーの小さ
い撥水性及び撥油性な面にして、潤滑剤及び塵埃等の付
着を阻止し、ヘッドクラッシュの発生を防止した新規な
磁気へラドスライダの構成とその製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。
対向面、特にスライドレール面を表面エネルギーの小さ
い撥水性及び撥油性な面にして、潤滑剤及び塵埃等の付
着を阻止し、ヘッドクラッシュの発生を防止した新規な
磁気へラドスライダの構成とその製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。
本発明は上記目的を達成するため、磁気ヘッドスライダ
における媒体対向面の少なくとも浮上力発生用のスライ
ドレール面に、その表面エネルギーが低く異物付着を阻
止する、弗素化された層を表面に有するカーボン膜を被
覆した構成とする。
における媒体対向面の少なくとも浮上力発生用のスライ
ドレール面に、その表面エネルギーが低く異物付着を阻
止する、弗素化された層を表面に有するカーボン膜を被
覆した構成とする。
また本発明の磁気ヘッドスライダは、スライダ用基板を
研削加工工程によりスライダ形状に形成した媒体対向面
の少なくとも浮上力発生用のスライドレール面に、スパ
ッタリング法、若しくは化学気相堆積法によりカーボン
膜を被着形成した後、表面エネルギーを低下させるため
に、このカーボン膜を弗素プラズマ、または弗素ラジカ
ル中で弗素化処理することにより、異物付着阻止用のカ
ーボン膜をスライドレール上に被覆したスライダ構成が
得られる。
研削加工工程によりスライダ形状に形成した媒体対向面
の少なくとも浮上力発生用のスライドレール面に、スパ
ッタリング法、若しくは化学気相堆積法によりカーボン
膜を被着形成した後、表面エネルギーを低下させるため
に、このカーボン膜を弗素プラズマ、または弗素ラジカ
ル中で弗素化処理することにより、異物付着阻止用のカ
ーボン膜をスライドレール上に被覆したスライダ構成が
得られる。
本発明の磁気ヘッドスライダは、媒体対向面の少なくと
も浮上力発生用のスライドレール面に、表面エネルギー
の小さい、弗素化処理を施した異物付着阻止用のカーボ
ン膜が被覆されているため、これら異物付着阻止用のカ
ーボン膜面が撥水、撥油性で、異物の付着力が著しく小
さくなる。
も浮上力発生用のスライドレール面に、表面エネルギー
の小さい、弗素化処理を施した異物付着阻止用のカーボ
ン膜が被覆されているため、これら異物付着阻止用のカ
ーボン膜面が撥水、撥油性で、異物の付着力が著しく小
さくなる。
この結果、潤滑剤や塵埃の付着が阻止され、磁気へラド
スライダの浮上安定性とヘッドクラッシュの発生が防止
される。
スライダの浮上安定性とヘッドクラッシュの発生が防止
される。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第1図は本発明に係る磁気ヘッドスライダの一実施例を
示す斜視図であり、構成を理解し易くするために媒体対
向面を上向きにして示している。
示す斜視図であり、構成を理解し易くするために媒体対
向面を上向きにして示している。
なお、第3図と同等部分には同一符号を付している。
図において、本実施例は基本となるスライダ本体1の構
成は従来の構成と同様であるが、第1図の実施例が第3
図の従来例と異なる点は、スライダ本体1における媒体
対向面の少なくとも浮上力発生用のスライドレール2面
に、弗素化処理により弗素化された層を表面部に有する
表面エネルギーの小さい異物付着阻止用のカーボン膜2
1を例えば250人の膜厚に被覆した構成とする。
成は従来の構成と同様であるが、第1図の実施例が第3
図の従来例と異なる点は、スライダ本体1における媒体
対向面の少なくとも浮上力発生用のスライドレール2面
に、弗素化処理により弗素化された層を表面部に有する
表面エネルギーの小さい異物付着阻止用のカーボン膜2
1を例えば250人の膜厚に被覆した構成とする。
かくすれば、上記異物付着阻止用のカーボン膜21は、
表面エネルギーが低り、撥水、撥油性となっており、異
物付着力が表面エネルギーの大きさに依存して小さいこ
とから、潤滑剤や塵埃の付着が著しく阻止され、該潤滑
剤や塵埃の付着に起因するヘッドクラッシュの発生を防
止することが可能となる。
表面エネルギーが低り、撥水、撥油性となっており、異
物付着力が表面エネルギーの大きさに依存して小さいこ
とから、潤滑剤や塵埃の付着が著しく阻止され、該潤滑
剤や塵埃の付着に起因するヘッドクラッシュの発生を防
止することが可能となる。
次に前記スライダ本体1における媒体対向面の少なくと
も浮上力発生用のスライドレール2面に、弗素化された
層を表面部に有する異物付着阻止用のカーボン膜21を
被着形成する方法を説明する。
も浮上力発生用のスライドレール2面に、弗素化された
層を表面部に有する異物付着阻止用のカーボン膜21を
被着形成する方法を説明する。
先ずA I!203 ・TiC等からなるスライダ用
基板を研削加工工程によりスライダ形状に形成した後、
そのスライダ本体1の媒体対向面の少なくとも浮上力発
生用のスライドレール2面に、即ち、本実施例では浮上
力発生用のスライドレール2面を含む媒体対向面に、ス
パッタリング法、または化学気相堆積法(CVD法)に
より硬質で耐摩耗性を有するカーボン膜を例えば100
〜250人の膜厚に被着形成する。
基板を研削加工工程によりスライダ形状に形成した後、
そのスライダ本体1の媒体対向面の少なくとも浮上力発
生用のスライドレール2面に、即ち、本実施例では浮上
力発生用のスライドレール2面を含む媒体対向面に、ス
パッタリング法、または化学気相堆積法(CVD法)に
より硬質で耐摩耗性を有するカーボン膜を例えば100
〜250人の膜厚に被着形成する。
次に前記カーボン膜が被着されたスライダ本体1を、例
えば第2図に示すような円筒型プラズマエツチング装置
の反応チャンバ31内に配置したメツシュ状エッチトン
ネル32部内に配設し、該反応チャンバ31内を0.0
ITorr程度の真空度に排気した後、その反応チャン
バ31内にフレオン(CF4)ガスを例えば0.3〜0
.5Torrのガス圧となるように導入する。
えば第2図に示すような円筒型プラズマエツチング装置
の反応チャンバ31内に配置したメツシュ状エッチトン
ネル32部内に配設し、該反応チャンバ31内を0.0
ITorr程度の真空度に排気した後、その反応チャン
バ31内にフレオン(CF4)ガスを例えば0.3〜0
.5Torrのガス圧となるように導入する。
しかる後、前記反応チャンバ31の外周に付設した高周
波コイル33に高周波電源34より例えば250Wの電
力を給電して該チャンバ31内にプラズマ放電を発生さ
せる。
波コイル33に高周波電源34より例えば250Wの電
力を給電して該チャンバ31内にプラズマ放電を発生さ
せる。
この際、前記スライダ本体1はメツシュ状エッチトンネ
ル32部内に生じるCF、プラズマ、或いは活性化され
た弗素ラジカル雰囲気35中に曝されるが、その媒体対
向面に被着されたカーボン膜を所定時間曝気した状態で
弗素化処理を施すことにより、エツチング反応がなされ
ない状態で、表面エネルギーの小さい弗素化された層を
表面部に有する異物付着阻止用のカーボン膜21を形成
することかでき、潤滑剤や塵埃の付着を著しく低減した
磁気ヘッドスライダを得ることが可能となる。
ル32部内に生じるCF、プラズマ、或いは活性化され
た弗素ラジカル雰囲気35中に曝されるが、その媒体対
向面に被着されたカーボン膜を所定時間曝気した状態で
弗素化処理を施すことにより、エツチング反応がなされ
ない状態で、表面エネルギーの小さい弗素化された層を
表面部に有する異物付着阻止用のカーボン膜21を形成
することかでき、潤滑剤や塵埃の付着を著しく低減した
磁気ヘッドスライダを得ることが可能となる。
因に、スライダ材料の異なる各ヘッドスライダのスライ
ドレールにカーボン膜が、膜厚と弗素化処理条件とを種
々に組み合わせて形成された本実施例の各レール面の水
濡れ性と、従来タイプのスライダ材料の異なる各ヘッド
スライダのレール面の水濡れ性とを比較検討した結果を
別表に示す。
ドレールにカーボン膜が、膜厚と弗素化処理条件とを種
々に組み合わせて形成された本実施例の各レール面の水
濡れ性と、従来タイプのスライダ材料の異なる各ヘッド
スライダのレール面の水濡れ性とを比較検討した結果を
別表に示す。
この別表により明らかなように本発明の実施例によるヘ
ッドスライダのレール面の水濡れ性は、従来のヘッドス
ライダのレール面の水濡れ性、例えば80〜116 e
rg/cm”に比べて33〜50erg/cm2と顕著
に低減され、潤滑剤や塵埃の付着し難い表面が得られて
いることが判明できるし、また実用面でも確認できた。
ッドスライダのレール面の水濡れ性は、従来のヘッドス
ライダのレール面の水濡れ性、例えば80〜116 e
rg/cm”に比べて33〜50erg/cm2と顕著
に低減され、潤滑剤や塵埃の付着し難い表面が得られて
いることが判明できるし、また実用面でも確認できた。
弗素化処理を施さないカーボン膜面に対する水濡れ性に
ついては、従来のヘッドスライダにおけるスライドレー
ル面の水濡れ性と殆ど差異がないことからこの比較検討
例より省いている。
ついては、従来のヘッドスライダにおけるスライドレー
ル面の水濡れ性と殆ど差異がないことからこの比較検討
例より省いている。
さらに前記弗素化処理後のスライドレールにおけるカー
ボン膜の表面部が弗素化されていることは、オージェ電
子分光法(AES)分析やx′4iA電子分光法(X
P S)分析により確認済みであり、またA j! z
oi ・TiC等からなるスライダ用基板の表面に、
前記CF、プラズマ処理を直接施しても、その表面エネ
ルギーの変化が極めて少ないことからも、弗素のカーボ
ン膜への結合が表面エネルギーの低下に極めて有効であ
ることは明白である。
ボン膜の表面部が弗素化されていることは、オージェ電
子分光法(AES)分析やx′4iA電子分光法(X
P S)分析により確認済みであり、またA j! z
oi ・TiC等からなるスライダ用基板の表面に、
前記CF、プラズマ処理を直接施しても、その表面エネ
ルギーの変化が極めて少ないことからも、弗素のカーボ
ン膜への結合が表面エネルギーの低下に極めて有効であ
ることは明白である。
なお、以上の実施例では異物付着阻止用のカーボン膜を
磁気ヘッドスライダのスライドレール面を含む媒体対向
面に設けた場合の例について説明したが、本発明はこの
例に限定されるものではなく、例えばスライドレール面
にのみ異物付着阻止用のカーボン膜を設けるようにして
もよく、同様の効果が得られる。
磁気ヘッドスライダのスライドレール面を含む媒体対向
面に設けた場合の例について説明したが、本発明はこの
例に限定されるものではなく、例えばスライドレール面
にのみ異物付着阻止用のカーボン膜を設けるようにして
もよく、同様の効果が得られる。
また前記カーボン膜の膜厚も250〜500人の例につ
いて説明したが、これ以下の例えば100人程度の膜厚
にしても有効である。さらに磁気ヘッドスライダのスラ
イドレール面、或いは該スライドレール面を含む媒体対
向面に設けたカーボン膜の弗素化処理には、実施例で説
明したCF、プラズマ中の曝気処理法に限らず、例えば
NF3ガス、BF3ガス、或いは5iFaガスなどのプ
ラズマ放電にて励起された弗素ラジカルの曝気により処
理するようにしてもよ(、同様の効果が得られる。
いて説明したが、これ以下の例えば100人程度の膜厚
にしても有効である。さらに磁気ヘッドスライダのスラ
イドレール面、或いは該スライドレール面を含む媒体対
向面に設けたカーボン膜の弗素化処理には、実施例で説
明したCF、プラズマ中の曝気処理法に限らず、例えば
NF3ガス、BF3ガス、或いは5iFaガスなどのプ
ラズマ放電にて励起された弗素ラジカルの曝気により処
理するようにしてもよ(、同様の効果が得られる。
更に本実施例では正圧浮上型の磁気ヘッドスライダを対
象とした例について説明したが、負圧浮上型の磁気ヘッ
ド、スライダにも適用可能なことはいうまでもない。
象とした例について説明したが、負圧浮上型の磁気ヘッ
ド、スライダにも適用可能なことはいうまでもない。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る磁気ヘッ
ドスライダ及びその製造方法によれば、スライドレール
面、或いは該スライドレール面を含む媒体対向面の表面
エネルギーが低下し、撥水、撥油性であるため、回転す
る磁気ディスク媒体上で浮上中の該スライドレール面、
或いは該スライドレール面を含む媒体対向面への潤滑剤
や塵埃の付着が著しく軽減される。
ドスライダ及びその製造方法によれば、スライドレール
面、或いは該スライドレール面を含む媒体対向面の表面
エネルギーが低下し、撥水、撥油性であるため、回転す
る磁気ディスク媒体上で浮上中の該スライドレール面、
或いは該スライドレール面を含む媒体対向面への潤滑剤
や塵埃の付着が著しく軽減される。
その結果、ヘッドクラッシュが防止され、安定な浮上状
態を長期にわたり維持することが可能となる優れた効果
を奏する。
態を長期にわたり維持することが可能となる優れた効果
を奏する。
また、前記スライドレール面が優れた耐摩耗性を有する
ことから、コンタクトスタートストップ(C3S)方式
の磁気ヘッドスライダとして適用した際に耐久性が向上
する等、実用上の効果は大きい。
ことから、コンタクトスタートストップ(C3S)方式
の磁気ヘッドスライダとして適用した際に耐久性が向上
する等、実用上の効果は大きい。
第1図は本発明に係る磁気へラドスライダの一実施例を
示す斜視図、 第2図は本発明に係る磁気ヘッドスライダの製造方法に
用いる円筒型プラズマエツチ ング装置の一実施例を示す要部断面図、第3図は従来の
磁気へラドスライダを説明するための斜視図である。 第1図及び第2図において、 lはスライダ本体、2はスライドレール、3は傾斜面、
21は弗素化カーボン膜、31は反応チャンバ、32は
メツシュ状エッチトンネル、33は高周波コイル、34
は高周別 表 、亭完瞬へ表を戦へッpスライグ1泉TH羊lの第1図 ↑回置・ス Δミ2≦aJ(^唾ζ3L方しL+=mい)ス、1勤と
Mffxgンj(1第2図
示す斜視図、 第2図は本発明に係る磁気ヘッドスライダの製造方法に
用いる円筒型プラズマエツチ ング装置の一実施例を示す要部断面図、第3図は従来の
磁気へラドスライダを説明するための斜視図である。 第1図及び第2図において、 lはスライダ本体、2はスライドレール、3は傾斜面、
21は弗素化カーボン膜、31は反応チャンバ、32は
メツシュ状エッチトンネル、33は高周波コイル、34
は高周別 表 、亭完瞬へ表を戦へッpスライグ1泉TH羊lの第1図 ↑回置・ス Δミ2≦aJ(^唾ζ3L方しL+=mい)ス、1勤と
Mffxgンj(1第2図
Claims (2)
- (1)媒体対向面の気流流通方向に浮上力発生用のスラ
イドレール(2)を備えたスライダ構成において、 上記媒体対向面の少なくともスライドレール(2)面に
、表面に弗素化された層を有する異物付着阻止用のカー
ボン膜(21)を設けたことを特徴とする磁気ヘッドス
ライダ。 - (2)スライダ加工工程により基板に浮上力発生用のス
ライドレール(2)を有する媒体対向面を形成した後、
該媒体対向面の少なくともスライドレール(2)面に、
スパッタリング法、若しくは化学気相堆積法によりカー
ボン膜を形成し、さらに該カーボン膜を弗素プラズマ、
または弗素ラジカル中で弗素化処理を行うことにより、
表面部に弗素化された層を有する異物付着阻止用のカー
ボン膜(21)をスライドレール上に形成することを特
徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8648787A JPS63251981A (ja) | 1987-04-07 | 1987-04-07 | 磁気ヘツドスライダとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8648787A JPS63251981A (ja) | 1987-04-07 | 1987-04-07 | 磁気ヘツドスライダとその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63251981A true JPS63251981A (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=13888340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8648787A Pending JPS63251981A (ja) | 1987-04-07 | 1987-04-07 | 磁気ヘツドスライダとその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63251981A (ja) |
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-
1987
- 1987-04-07 JP JP8648787A patent/JPS63251981A/ja active Pending
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