JPS63246626A - 赤外線検出器デバイスおよび赤外線を検出するための方法 - Google Patents
赤外線検出器デバイスおよび赤外線を検出するための方法Info
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- JPS63246626A JPS63246626A JP63005006A JP500688A JPS63246626A JP S63246626 A JPS63246626 A JP S63246626A JP 63005006 A JP63005006 A JP 63005006A JP 500688 A JP500688 A JP 500688A JP S63246626 A JPS63246626 A JP S63246626A
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- quantum
- energy
- quantum wells
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F30/00—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors
- H10F30/20—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors
- H10F30/21—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/10—Semiconductor bodies
- H10F77/14—Shape of semiconductor bodies; Shapes, relative sizes or dispositions of semiconductor regions within semiconductor bodies
- H10F77/146—Superlattices; Multiple quantum well structures
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発尻■分■
本発明は放射線検出デバイス、より具体的には、赤外線
に応答する放射線検出デバイスに関する。
に応答する放射線検出デバイスに関する。
発凱■青景
高速放射線検出デバイスはさまざまな分野、例えば、光
通信、イメージ センシング、及び測定及び計器などに
おいて使用される。これらデバイスは粒子放射、あるい
は以下のように電磁放射に対して応答する。特に高速で
変動する信号、例えば、パルスの継続期間が数１０ピコ
秒の桁であるパルス トレインを追跡できる波長選択デ
バイスは重要である。
通信、イメージ センシング、及び測定及び計器などに
おいて使用される。これらデバイスは粒子放射、あるい
は以下のように電磁放射に対して応答する。特に高速で
変動する信号、例えば、パルスの継続期間が数１０ピコ
秒の桁であるパルス トレインを追跡できる波長選択デ
バイスは重要である。
赤外線の場合は、高速検出器デバイスが特に、例えば、
衛星通信、地形マツピング、及び赤外視野（ｉｎｆｒａ
ｒｅｄ ｖｉｅｗｉｎｇ）等に有効である。これら分野
において現在使用されているデバイスは殆んどが液体窒
素にて冷却された水銀カドニウム テルル化物（ｍｅｒ
ｃｕｒｙ ｃａｄｍｉｕ＋ｗ ｔｅｌｌｕｒｉｄｅ）に
基づく。
衛星通信、地形マツピング、及び赤外視野（ｉｎｆｒａ
ｒｅｄ ｖｉｅｗｉｎｇ）等に有効である。これら分野
において現在使用されているデバイスは殆んどが液体窒
素にて冷却された水銀カドニウム テルル化物（ｍｅｒ
ｃｕｒｙ ｃａｄｍｉｕ＋ｗ ｔｅｌｌｕｒｉｄｅ）に
基づく。
しかし、この物質は製造が困難で、また長期安定性の点
で問題がある。ドープされたシリコンも赤外線応答デバ
イスとしての可能性をもつが、さらに低温に冷却するこ
とが必要となる。また、シリコンをベースとするデバイ
スの応答は高速用途に対しては不十分である。
で問題がある。ドープされたシリコンも赤外線応答デバ
イスとしての可能性をもつが、さらに低温に冷却するこ
とが必要となる。また、シリコンをベースとするデバイ
スの応答は高速用途に対しては不十分である。
化合物半導体材料内での光電子効果から予期できる実験
的デバイスが提案されている。この目的にはＩＩ−Ｖｌ
族及びｍ−ｖ族材料が特に適する。例えば、アブ−イド
フィジクス し −ズ（Ａｐｐｌ １ｅｄＰｈｙｓｉ
ｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ）、Ｖｏｌ、４５ （１９８４）
、ページ６４９−６５１・に掲載のり、Ｄ、ターン（Ｄ
、Ｄ、Ｃｏｏｎ）らによる論文［量子井戸を使用するＩ
Ｒ検出の新モード（Ｎｅｓｖ Ｍｏｄｅ ｏｆ ＩＲＤ
ｅｔｅｃｔｉｏｎＵｓｉｎｇ Ｑｕａｎｔｕｍ Ｈｅ１
ｌｓ）］は電界を掛けられた手厚体内の局所化不純物レ
ベル内の電荷ディプリーション（ｃｈａｒｇｅ−ｄｅｐ
ｌｅｔｉｏｎ）に基づく赤外線検出を開示する。電荷デ
ィプリーションは単−ＡＩＸＧ ａ １− ｘ Ａ ３
／ Ｇ ａ Ａ Ｓ ／ Ａ １ ｙ Ｇ ａ ＋
−ｙ Ａ Ｓ非対称量子井戸からの光放出の形式をとる
。
的デバイスが提案されている。この目的にはＩＩ−Ｖｌ
族及びｍ−ｖ族材料が特に適する。例えば、アブ−イド
フィジクス し −ズ（Ａｐｐｌ １ｅｄＰｈｙｓｉ
ｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ）、Ｖｏｌ、４５ （１９８４）
、ページ６４９−６５１・に掲載のり、Ｄ、ターン（Ｄ
、Ｄ、Ｃｏｏｎ）らによる論文［量子井戸を使用するＩ
Ｒ検出の新モード（Ｎｅｓｖ Ｍｏｄｅ ｏｆ ＩＲＤ
ｅｔｅｃｔｉｏｎＵｓｉｎｇ Ｑｕａｎｔｕｍ Ｈｅ１
ｌｓ）］は電界を掛けられた手厚体内の局所化不純物レ
ベル内の電荷ディプリーション（ｃｈａｒｇｅ−ｄｅｐ
ｌｅｔｉｏｎ）に基づく赤外線検出を開示する。電荷デ
ィプリーションは単−ＡＩＸＧ ａ １− ｘ Ａ ３
／ Ｇ ａ Ａ Ｓ ／ Ａ １ ｙ Ｇ ａ ＋
−ｙ Ａ Ｓ非対称量子井戸からの光放出の形式をとる
。
複数のＧａＡｓ／ＧａＡｌＡｓ量子井戸の使用がジャー
ル オブ バキューム サイエンスｎｃｅ ａ？１１
ｉ、Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）、Ｖｏｌ、Ｂｌ （１９
８３）、ページ３７６−３８７に掲載のＪ、Ｓ、スミス
（Ｊ、Ｓ、Ｓｍ１ｔｈ）らの論文［多重量子井戸からの
電子放出を使用する新券外検出器（Ａ Ｎｅｗ Ｉｎｆ
ｒａｒｅｄＤｅｔｅｃｔｏｒ Ｕｓｉｎｇ Ｅｌｅｃｔ
ｒｏｎ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｆｒｏｍ Ｍｕｌｔｉｐｌ
ｅＱｕａｎｔｕｍ Ｗｅｌｌｓ）］において開示されて
いる。ここでは、電子が自由キャリヤの吸収による励起
時に量子井戸から排出され、これにより電流の流れが発
生する。
ル オブ バキューム サイエンスｎｃｅ ａ？１１
ｉ、Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）、Ｖｏｌ、Ｂｌ （１９
８３）、ページ３７６−３８７に掲載のＪ、Ｓ、スミス
（Ｊ、Ｓ、Ｓｍ１ｔｈ）らの論文［多重量子井戸からの
電子放出を使用する新券外検出器（Ａ Ｎｅｗ Ｉｎｆ
ｒａｒｅｄＤｅｔｅｃｔｏｒ Ｕｓｉｎｇ Ｅｌｅｃｔ
ｒｏｎ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｆｒｏｍ Ｍｕｌｔｉｐｌ
ｅＱｕａｎｔｕｍ Ｗｅｌｌｓ）］において開示されて
いる。ここでは、電子が自由キャリヤの吸収による励起
時に量子井戸から排出され、これにより電流の流れが発
生する。
複数のＧａＡｓ／Ｇａ、ＡＩ、、Ａｓ量子井戸から成る
超格子はまたり、エサキ（Ｌ、Ｅｓａｋｉ）らによる論
文［新光検出器（Ｎｅｗ Ｐｈｏｔｏｃｏｎｄｕｃｔｏ
ｒ）］、］上旦Ｘ孟ｌ三立土−デニスＬ旦二２土プユ±
２（ＩＢＭ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒ
ｅ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ） 、Ｖ ｏ ｌ 。
超格子はまたり、エサキ（Ｌ、Ｅｓａｋｉ）らによる論
文［新光検出器（Ｎｅｗ Ｐｈｏｔｏｃｏｎｄｕｃｔｏ
ｒ）］、］上旦Ｘ孟ｌ三立土−デニスＬ旦二２土プユ±
２（ＩＢＭ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒ
ｅ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ） 、Ｖ ｏ ｌ 。
２０（１９７７）、ページ２４５６−２４５７において
も開示されている。ここに開示の構造においては、量子
井戸の最も低いサブバンド内の電子は本質的に不動であ
り、一方、第２のサブバンド内の電子は大きな易動度を
もつ。
も開示されている。ここに開示の構造においては、量子
井戸の最も低いサブバンド内の電子は本質的に不動であ
り、一方、第２のサブバンド内の電子は大きな易動度を
もつ。
発凱■嶽！
本発明においては、少なくとも２つのバンド状態をもつ
ドープされた量子井戸を含む半導体へテロ構造超格子に
よって赤外線検出デバイスが形成される。超格子上に当
る赤外線はバンド間吸収を引き起し、これは電子を基底
状、態から励起状態に励起する。光にて励起された電子
が井戸から抜は出て（ｔｕｎｎｅｌ ｏｕｔ） 、結果
として電流を生成することから光信号が得られる。
ドープされた量子井戸を含む半導体へテロ構造超格子に
よって赤外線検出デバイスが形成される。超格子上に当
る赤外線はバンド間吸収を引き起し、これは電子を基底
状、態から励起状態に励起する。光にて励起された電子
が井戸から抜は出て（ｔｕｎｎｅｌ ｏｕｔ） 、結果
として電流を生成することから光信号が得られる。
好ましい実施態様においては及びデバイスの感度を上げ
るために、量子井戸の電位バリアーの組成プロフィルが
闇電流を構成する電子の抜は出しくｔｕｎｎ’ｅｌｉｎ
ｇ）が光電流と比較して抑止されるように選択される。
るために、量子井戸の電位バリアーの組成プロフィルが
闇電流を構成する電子の抜は出しくｔｕｎｎ’ｅｌｉｎ
ｇ）が光電流と比較して抑止されるように選択される。
さらに、高デバイス応答性を達成するために、好ましい
デバイス動作において、高いバイアス電圧が使用され、
結果として量子井戸アバランシェ効果によって説明され
るような光電流の急激な増加が達成される。
デバイス動作において、高いバイアス電圧が使用され、
結果として量子井戸アバランシェ効果によって説明され
るような光電流の急激な増加が達成される。
裏庭■公設所
１、基本的特徴
第１図及び第２図は半絶縁基板１、コンタクト層２、半
導体超格子３、コンタクト層４、電圧源５、及び電圧ａ
！５と直列にコンタクト層２と４に接続された電流測定
計器６を示す。
導体超格子３、コンタクト層４、電圧源５、及び電圧ａ
！５と直列にコンタクト層２と４に接続された電流測定
計器６を示す。
第１図において、超格子の照射は、実験デバイスの評価
に便利なように基板のポリッシュされた面を介する角度
で入射されるように示される。より一般的には、照射は
、例えば、第２図に示されるように超格子平面に垂直な
光−電気場成分をもつ任意の方向に選択でき、この目的
には回折格子が使用される。また、第１図及び第２図の
デバイスのメサ構造から明白なように、本発明のデバイ
スはイメージ処理用途に適するようアレイを形成するよ
うに製造することもできる。
に便利なように基板のポリッシュされた面を介する角度
で入射されるように示される。より一般的には、照射は
、例えば、第２図に示されるように超格子平面に垂直な
光−電気場成分をもつ任意の方向に選択でき、この目的
には回折格子が使用される。また、第１図及び第２図の
デバイスのメサ構造から明白なように、本発明のデバイ
スはイメージ処理用途に適するようアレイを形成するよ
うに製造することもできる。
本発明による光検出器のある好ましい特定の実施態様の
機能は第３図及び第４図に示されるエネルギー バンド
図からより平易に説明できる。ここで、量子井戸は２つ
の閉じ込め状態（ｃｏｎｆ １ｎｅｄｓ ｔａ ｔｅ）
をもつように示される。基底状態バンド幅を超えるバイ
アス電圧の存在下においては、この基底状態を通じての
抜は出しくｔｕｎｎｅｌｉｎｇ）は低減され、この構造
は低温（ｌｏｗ−ｆｉｅｌｄ）領域（第３図の左側）及
び高温（ｈｉｇｈ−ｆｉｅｌｄ）領域（第３図の右側）
に分割される。ここで、電子は順次共振トンネリング（
ｓｅｑｕｅｎｔｉａｌ ｒｅｓｏｎａｎｔ ｔｕｎｎｅ
ｌｉｎｇ）を介して一方の井戸の局所基底状態Ｅ１から
隣の井戸の局所励起状態Ｅ２に流れる。共振トンネリン
グ及び関連する効果に関する調査に関しては、ＩＥＥＥ
ジャーナル オプ クラオンタム エレクトロニクス（
ＩＥＥＥ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕａｎｔｕｍ Ｅ
ｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ）、Ｖｏｌ、ＱＥ−２２（１９８
６） 、ページ１８５３−１８６９に掲載のＦ、キャパ
ソ（Ｆ、Ｃａｐａｓｓｏ）らの論文［二重障壁を通じて
の共振トンネリング、超格子内における垂直量子輸送現
象、及びこれらのデバイス アプリケーション（Ｒｅｓ
ｏｎａｎｔ ＴｕｎｎｅｌｉｎｇＴｈｒｏｕｇｈ Ｄｏ
ｕｂｌｅ Ｂａｒｒｉｅｒｓ％、 Ｐｅｒｐｅｎｄｉｃ
ｕｌａｒ ＱｕａｎｔｕｍＴｒａｎｓｐｏｒｔ Ｐｈｅ
ｎｏｍｅｎａ ｉｎ ５ｕｐｅｒｌａｔｔｉｃｅｓ、
ａｎｄ ＴｈｅｉｒＤｅｖｉｃｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉ
ｏｎｓ）］を参照すること。
機能は第３図及び第４図に示されるエネルギー バンド
図からより平易に説明できる。ここで、量子井戸は２つ
の閉じ込め状態（ｃｏｎｆ １ｎｅｄｓ ｔａ ｔｅ）
をもつように示される。基底状態バンド幅を超えるバイ
アス電圧の存在下においては、この基底状態を通じての
抜は出しくｔｕｎｎｅｌｉｎｇ）は低減され、この構造
は低温（ｌｏｗ−ｆｉｅｌｄ）領域（第３図の左側）及
び高温（ｈｉｇｈ−ｆｉｅｌｄ）領域（第３図の右側）
に分割される。ここで、電子は順次共振トンネリング（
ｓｅｑｕｅｎｔｉａｌ ｒｅｓｏｎａｎｔ ｔｕｎｎｅ
ｌｉｎｇ）を介して一方の井戸の局所基底状態Ｅ１から
隣の井戸の局所励起状態Ｅ２に流れる。共振トンネリン
グ及び関連する効果に関する調査に関しては、ＩＥＥＥ
ジャーナル オプ クラオンタム エレクトロニクス（
ＩＥＥＥ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕａｎｔｕｍ Ｅ
ｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ）、Ｖｏｌ、ＱＥ−２２（１９８
６） 、ページ１８５３−１８６９に掲載のＦ、キャパ
ソ（Ｆ、Ｃａｐａｓｓｏ）らの論文［二重障壁を通じて
の共振トンネリング、超格子内における垂直量子輸送現
象、及びこれらのデバイス アプリケーション（Ｒｅｓ
ｏｎａｎｔ ＴｕｎｎｅｌｉｎｇＴｈｒｏｕｇｈ Ｄｏ
ｕｂｌｅ Ｂａｒｒｉｅｒｓ％、 Ｐｅｒｐｅｎｄｉｃ
ｕｌａｒ ＱｕａｎｔｕｍＴｒａｎｓｐｏｒｔ Ｐｈｅ
ｎｏｍｅｎａ ｉｎ ５ｕｐｅｒｌａｔｔｉｃｅｓ、
ａｎｄ ＴｈｅｉｒＤｅｖｉｃｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉ
ｏｎｓ）］を参照すること。
電子はＥｌの緩和状態に戻り、第３図の矢印によって示
されるように、次の井戸にトンネリングを介して抜ける
。バイアス電圧がさらに増加すると、高フィールド領域
が１度に１井戸ずつ広がり、これによってΔＥ＝（Ｅｌ
−Ｅ２−Δシ１−Δν２）の周期をもつ周期的な負のコ
ンダクタンス ピークが形成される。ここで、Δν１及
びΔν２はそれぞれＥｌ及びＥ２の幅である。
されるように、次の井戸にトンネリングを介して抜ける
。バイアス電圧がさらに増加すると、高フィールド領域
が１度に１井戸ずつ広がり、これによってΔＥ＝（Ｅｌ
−Ｅ２−Δシ１−Δν２）の周期をもつ周期的な負のコ
ンダクタンス ピークが形成される。ここで、Δν１及
びΔν２はそれぞれＥｌ及びＥ２の幅である。
照射下でのデバイス動作を図解する第４図に示されるよ
うに、サブバンド間遷移（Ｅ２−Ｅｌ）と共振にある赤
外線が電子をドープ基底状態Ｅ１から励起状態Ｅ２に励
起する。電子はこの状態から障壁の薄い上部を通ってこ
の井戸の外に抜は出る。この光によって生成された熱い
電子は次に平均自由行程だけ進み、光電流を生成した後
に、井戸の１つによって再び捕えられる。
うに、サブバンド間遷移（Ｅ２−Ｅｌ）と共振にある赤
外線が電子をドープ基底状態Ｅ１から励起状態Ｅ２に励
起する。電子はこの状態から障壁の薄い上部を通ってこ
の井戸の外に抜は出る。この光によって生成された熱い
電子は次に平均自由行程だけ進み、光電流を生成した後
に、井戸の１つによって再び捕えられる。
より一般的には、デバイス動作が共振トンネリングを伴
うか否かに関係なく、本発明によるデバイスは少なくと
も２つの閉じ込め状態をもつ少なくとも１つのドープさ
れた量子井戸から成るヘテロ構造半導体超格子を含むこ
とを特徴とする。ここで、この２つの状態のうちのエネ
ルギーが高い方の状態は超格子にバイアス電場が加えら
れたとき電子を量子井戸からトンネリングにて抜は出さ
せるのに十分に高く上げられる。超格子の構造、特に井
戸及び障壁の厚さに依存して、このバイアス場は第３図
及び第４図に示されるように量子井戸間に本質的に等し
い段を形成し、これにより本質的に線形の量子井戸プロ
ファイルを形成する。
うか否かに関係なく、本発明によるデバイスは少なくと
も２つの閉じ込め状態をもつ少なくとも１つのドープさ
れた量子井戸から成るヘテロ構造半導体超格子を含むこ
とを特徴とする。ここで、この２つの状態のうちのエネ
ルギーが高い方の状態は超格子にバイアス電場が加えら
れたとき電子を量子井戸からトンネリングにて抜は出さ
せるのに十分に高く上げられる。超格子の構造、特に井
戸及び障壁の厚さに依存して、このバイアス場は第３図
及び第４図に示されるように量子井戸間に本質的に等し
い段を形成し、これにより本質的に線形の量子井戸プロ
ファイルを形成する。
ただし、これ以外のプロファイル、例えば、放物線状プ
ロファイルあるいは放物線状プロファイルと線形プロフ
ァイルの重複を使用することもできる。（これら非線形
プロファイルは、例えば、超格子内の障壁層を闇電流を
最小化するために十分に厚く選択したとき得られる。） 本発明によるデバイスの周波数選択性はサブバンド間遷
移エネルギーＥ２−Ｅｌに依存する。ここで、このエネ
ルギーは超格子材料及び井戸の厚さの選択に大きく依存
する。周知の化合物半導体材料からの選択から約２マイ
クロメートルから最高１００マイクロメートルあるいは
それ以上の波長に対応する周波数に応答する検出器が得
られる。
ロファイルあるいは放物線状プロファイルと線形プロフ
ァイルの重複を使用することもできる。（これら非線形
プロファイルは、例えば、超格子内の障壁層を闇電流を
最小化するために十分に厚く選択したとき得られる。） 本発明によるデバイスの周波数選択性はサブバンド間遷
移エネルギーＥ２−Ｅｌに依存する。ここで、このエネ
ルギーは超格子材料及び井戸の厚さの選択に大きく依存
する。周知の化合物半導体材料からの選択から約２マイ
クロメートルから最高１００マイクロメートルあるいは
それ以上の波長に対応する周波数に応答する検出器が得
られる。
例えば、ガリウム ヒ化物（ｇａｌｌｉｕｍ ａｒｓｅ
ｎｉｄｅ）とガリウム アルミニウム ヒ化物（ｇａｌ
ｌｉｕｍａｌｕｍｉｎｕｍ ａｒｓｅｎｉｄｅ）の交互
の層から成る超格子の場合は、選択された周波数は組成
式角たりに含まれるアルミニウムの量に正比例する。他
の適当な材料の組合せとしては、インジウム リン化物
（ｉｎｄｉｕｍ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）とインジウム
ガリウム ヒ化リン化物（ｉｎｄｉｕｍ ｇａｌｌｉｕ
ｍ ａｒｓｅｎｉｄｅ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、及びガ
リウム アンチモン化物（ｇａｌｌｉｕｍ ａｎｔｉｍ
ｏｎｉｄｅ）とアルミニウム ガリウム アンチモン化
物（ａｌｕｍｉｎｕｍ ｇａｌｌｉｕｍ ａｎｔｉｍｏ
ｎｉｄｅ）が含まれる。■−■族化合物半導体材料の使
用を排除するものではないが、デバイスの製造の点から
みた場合、■−■族材料の方が好ましい。
ｎｉｄｅ）とガリウム アルミニウム ヒ化物（ｇａｌ
ｌｉｕｍａｌｕｍｉｎｕｍ ａｒｓｅｎｉｄｅ）の交互
の層から成る超格子の場合は、選択された周波数は組成
式角たりに含まれるアルミニウムの量に正比例する。他
の適当な材料の組合せとしては、インジウム リン化物
（ｉｎｄｉｕｍ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）とインジウム
ガリウム ヒ化リン化物（ｉｎｄｉｕｍ ｇａｌｌｉｕ
ｍ ａｒｓｅｎｉｄｅ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、及びガ
リウム アンチモン化物（ｇａｌｌｉｕｍ ａｎｔｉｍ
ｏｎｉｄｅ）とアルミニウム ガリウム アンチモン化
物（ａｌｕｍｉｎｕｍ ｇａｌｌｉｕｍ ａｎｔｉｍｏ
ｎｉｄｅ）が含まれる。■−■族化合物半導体材料の使
用を排除するものではないが、デバイスの製造の点から
みた場合、■−■族材料の方が好ましい。
化合物半導体材料において、高い電子易動度を利用でき
ることから量子井戸のＮ−タイプ ドーピングが好まし
い。ドーピングはケイ素あるいはスズを使用し、１０１
１１から１０１０１９ｅ１’の濃度にて行う。高い吸収
のためにはこのレベルの高いドーパンＨａ度が要求され
る。別の方法として障壁を変調ドーピングとしてドープ
することもできる。
ることから量子井戸のＮ−タイプ ドーピングが好まし
い。ドーピングはケイ素あるいはスズを使用し、１０１
１１から１０１０１９ｅ１’の濃度にて行う。高い吸収
のためにはこのレベルの高いドーパンＨａ度が要求され
る。別の方法として障壁を変調ドーピングとしてドープ
することもできる。
さらに、高吸収のために、超格子内の量子井戸の数は好
ましくは対象となる放射の全て（あるいは少なくとも大
部分）の吸収を保証するために十分に大きく選択される
。
ましくは対象となる放射の全て（あるいは少なくとも大
部分）の吸収を保証するために十分に大きく選択される
。
デバイスの製造は典型的には、例えば、分子線エピタキ
シー（ＭＢＥ）あるいは気相成長法（ＭＯＣＶ Ｄ）に
て実現されるような高度に制御された基板上への超格子
の製造を含む。Ｊ、Ｄ、カディ（Ｊ、Ｄ、Ｃｈａｄｉ）
ら編集・の １７■゛′ にる ７、′８
の［（ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ
１７ｔｈＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｆｅｒ
ｅｎｃｅ ｏｎ ｔｈｅ ＰｈｙｓｉｃｓＩＯ＋Ｓｅｍ
１ｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ） 、スズリンガー バーラッ
グ（Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ） ％ １９８５
年、ページ１５１５−１５２４に掲載のＡ、チａ −（
Ａ、Ｃｈｏ）による論文［Ｉ［［−Ｖ族化合物半導体材
料及びデバイスにおける最近の進展（Ｒｅｃｅｎｔ Ｄ
ｅｖｅｌｏｐａ＋ｅｎｔｓ ｉｎ ｍ−ＶＣｏｍｐｏｕ
ｎｄ Ｓｅｍ１ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｔｅｒｉ
ａｌｓ ａｎｄ Ｄｅｖｉｃｅｓ）］に示されるよ
うに、ＭＢＥ及びＭＯＣＶＤ製造技術は、化合物半導体
デバイス製造の分野を含むさまざまな分野において周知
である。これに関してはさらに、サイエンス（Ｓｃｉｅ
ｎｃｅ） 、Ｖ ｏ ｌ 、 ２２６、ページ６２３−
６２９に掲載のＲ，Ｄ、ジューピアス（Ｒ，Ｄ、Ｄｕｐ
ｕｉｓ）の論文［Ｉ［［−Ｖ族半導体の気相成長（Ｍｅ
ｔａｌｏｒｇａｎｉｃ （：ｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐ
ｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｏｆ ＩＩＩ−Ｖ Ｓｅ
ｍ１ｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ） ］を参照すること。
シー（ＭＢＥ）あるいは気相成長法（ＭＯＣＶ Ｄ）に
て実現されるような高度に制御された基板上への超格子
の製造を含む。Ｊ、Ｄ、カディ（Ｊ、Ｄ、Ｃｈａｄｉ）
ら編集・の １７■゛′ にる ７、′８
の［（ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ
１７ｔｈＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｆｅｒ
ｅｎｃｅ ｏｎ ｔｈｅ ＰｈｙｓｉｃｓＩＯ＋Ｓｅｍ
１ｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ） 、スズリンガー バーラッ
グ（Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ） ％ １９８５
年、ページ１５１５−１５２４に掲載のＡ、チａ −（
Ａ、Ｃｈｏ）による論文［Ｉ［［−Ｖ族化合物半導体材
料及びデバイスにおける最近の進展（Ｒｅｃｅｎｔ Ｄ
ｅｖｅｌｏｐａ＋ｅｎｔｓ ｉｎ ｍ−ＶＣｏｍｐｏｕ
ｎｄ Ｓｅｍ１ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｔｅｒｉ
ａｌｓ ａｎｄ Ｄｅｖｉｃｅｓ）］に示されるよ
うに、ＭＢＥ及びＭＯＣＶＤ製造技術は、化合物半導体
デバイス製造の分野を含むさまざまな分野において周知
である。これに関してはさらに、サイエンス（Ｓｃｉｅ
ｎｃｅ） 、Ｖ ｏ ｌ 、 ２２６、ページ６２３−
６２９に掲載のＲ，Ｄ、ジューピアス（Ｒ，Ｄ、Ｄｕｐ
ｕｉｓ）の論文［Ｉ［［−Ｖ族半導体の気相成長（Ｍｅ
ｔａｌｏｒｇａｎｉｃ （：ｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐ
ｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｏｆ ＩＩＩ−Ｖ Ｓｅ
ｍ１ｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ） ］を参照すること。
本発明によるデバイスの長所には、狭い共振、低い背景
ノイズ、高い量子効率、及び強い光電流が含まれる。以
下の例は本発明によるある特定のデバイスを製造するの
に使用できる諸元及び材料組成を示す。また、デバイス
の長所を示す目的としての性能特性も与えられる。全て
の測定値は公称あるいは概算値である。
ノイズ、高い量子効率、及び強い光電流が含まれる。以
下の例は本発明によるある特定のデバイスを製造するの
に使用できる諸元及び材料組成を示す。また、デバイス
の長所を示す目的としての性能特性も与えられる。全て
の測定値は公称あるいは概算値である。
■
ガリウム ヒ化物基板上にｎ＋＝４Ｘ１０”／ｃｍ”に
ドープされたＧａＡｓの１−マイクロメートル層がコン
タクト層として堆積された。このコンタクト層の上に６
．５ナノメートルＧａＡｓ （ｎ” １．４ Ｘ １
０ ”７ｃｍ３にドープ）と９．８ナノメートルのＡ
Ｉ ００２４Ｇ ａ Ｏ，Ｔ＆Ａ Ｓの交互する層から
成る５〇−周期超格子が堆積された。この超格子上に０
．５マイクロメートルのＧａＡｓＪｉＪが堆積され、”
＝４ＸＩ Ｏ”／ｃｒｎ″にドープされた。（コレら厚
さ及び組成は井戸内に１０マイクロメートルに近いエネ
ルギー空間をもつちょうど２つの状態を生成するように
選択された。） フーリエ変換干渉計吸収測定が共振エネルギー及び発振
器強度を決定する目的で超格子がブルースター角（この
場合７３度）を取る位置にて遂行された。吸収ピークは
９２０ｃ＋ｒ’であり、発振器強度は約ｆ ＝ ０．６
であることが確認された。
ドープされたＧａＡｓの１−マイクロメートル層がコン
タクト層として堆積された。このコンタクト層の上に６
．５ナノメートルＧａＡｓ （ｎ” １．４ Ｘ １
０ ”７ｃｍ３にドープ）と９．８ナノメートルのＡ
Ｉ ００２４Ｇ ａ Ｏ，Ｔ＆Ａ Ｓの交互する層から
成る５〇−周期超格子が堆積された。この超格子上に０
．５マイクロメートルのＧａＡｓＪｉＪが堆積され、”
＝４ＸＩ Ｏ”／ｃｒｎ″にドープされた。（コレら厚
さ及び組成は井戸内に１０マイクロメートルに近いエネ
ルギー空間をもつちょうど２つの状態を生成するように
選択された。） フーリエ変換干渉計吸収測定が共振エネルギー及び発振
器強度を決定する目的で超格子がブルースター角（この
場合７３度）を取る位置にて遂行された。吸収ピークは
９２０ｃ＋ｒ’であり、発振器強度は約ｆ ＝ ０．６
であることが確認された。
赤外線光導電率を測定する目的で、５０マイクロメート
ル直径のメサをエツチングし、そして上側及び下側ｎ＋
ＧａＡｓ層にオーミック コンタクトを作ることによっ
て検出器が形成された。低温闇電流は２．５ｍＡ （Ｔ
＝１５度Ｋから８０度Ｋ）であり、２．６■の動作バイ
アス電圧の所での差抵抗（ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ
ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ ）は１７５オームであった。
ル直径のメサをエツチングし、そして上側及び下側ｎ＋
ＧａＡｓ層にオーミック コンタクトを作ることによっ
て検出器が形成された。低温闇電流は２．５ｍＡ （Ｔ
＝１５度Ｋから８０度Ｋ）であり、２．６■の動作バイ
アス電圧の所での差抵抗（ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ
ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ ）は１７５オームであった。
赤外光を４５度の角度にて検出器に背面照射し、結果と
して超格子に対して垂直の大きな売場が得られるように
、基板に４５度のポリッシュされた角度が与えられた。
して超格子に対して垂直の大きな売場が得られるように
、基板に４５度のポリッシュされた角度が与えられた。
９２９ｃｍ−’ （１０，８マイクロメートル）から１
０８８（Ｊ−’ （９，２マイクロメートル）の範囲で
調節が可能なＣＯ２レーザーを使用して１０マイクロメ
ートル放射が得られた。このＣＯ２レーザーが基準検出
器に対して正規化され、また活性デバイス領域上に１０
マイクロワツト以下のパワー レベルが当るように大き
く減衰された。この光電流信号が１０オーム負荷抵抗体
を使用して測定され、結果としてＴ＝１５度Ｋから８０
度にの温度において独立であることが発見された。光電
流の強い共振特性は測定された吸収スペクトルと良く一
致した。さらに、予測されたごとく、この光信号は光遷
移双極モーメントが超格子と垂直に整合し高度に偏波さ
れていることが確認された。検出器の応答速度がチェッ
クされ、ＣＯ２レーザーのチョッパー ホイールの最大
速度に制約される１０マイクロ秒以下であることが発見
された。
０８８（Ｊ−’ （９，２マイクロメートル）の範囲で
調節が可能なＣＯ２レーザーを使用して１０マイクロメ
ートル放射が得られた。このＣＯ２レーザーが基準検出
器に対して正規化され、また活性デバイス領域上に１０
マイクロワツト以下のパワー レベルが当るように大き
く減衰された。この光電流信号が１０オーム負荷抵抗体
を使用して測定され、結果としてＴ＝１５度Ｋから８０
度にの温度において独立であることが発見された。光電
流の強い共振特性は測定された吸収スペクトルと良く一
致した。さらに、予測されたごとく、この光信号は光遷
移双極モーメントが超格子と垂直に整合し高度に偏波さ
れていることが確認された。検出器の応答速度がチェッ
クされ、ＣＯ２レーザーのチョッパー ホイールの最大
速度に制約される１０マイクロ秒以下であることが発見
された。
１０．８マイクロメートル放射を使用して実験的に得ら
れたデバイス応答性が第５図にバイアス電圧の関数とし
て示される。デバイス温度は８０度にとされた。２．６
■の動作バイアス電圧において、デバイス応答性は０．
５２Ａ／Ｗであり、バンド幅応答Δλ／λは約ｌθパー
セントであり、Δλ＝９７ｃｍ−’、推定速度約４５ピ
コ秒、そして超格子を通じての熱い電子の平均自由行程
は約Ｌ＝２５０．０であった。
れたデバイス応答性が第５図にバイアス電圧の関数とし
て示される。デバイス温度は８０度にとされた。２．６
■の動作バイアス電圧において、デバイス応答性は０．
５２Ａ／Ｗであり、バンド幅応答Δλ／λは約ｌθパー
セントであり、Δλ＝９７ｃｍ−’、推定速度約４５ピ
コ秒、そして超格子を通じての熱い電子の平均自由行程
は約Ｌ＝２５０．０であった。
正味光吸収を増加し、また平均自由行程を延すことによ
って総量子効率が大きく向上されることが予期できる。
って総量子効率が大きく向上されることが予期できる。
闇電流はガリウム アルミニウムヒ化物障壁の厚さに反
比例し、またこの障壁の形状によっても影響される。
比例し、またこの障壁の形状によっても影響される。
２、付加的特徴
高いバイアス電圧の所の闇電流の抑止を実現するために
、上の例に説明されるのと類似するデバイスがより厚く
高い障壁をもつように製造された。
、上の例に説明されるのと類似するデバイスがより厚く
高い障壁をもつように製造された。
このデバイスは７．０ナノメートルＧａＡｓ井戸（ｎ
＝ １．４ Ｘ １０ ”／ｃｒｒｒ３にドープ）と１
４．０ナノメートルＡＩ。、５ｂＧａｏ、ｂａＡＳアン
ドープ障壁の５０周期から構成された。それぞれ０．５
マイクロメートル及び１マイクロメートル、並びにｎ＋
＝３Ｘ１０”／ａｍ’のドーパント濃度をもつ上側及び
下側ガリウム ヒ化物コンタクト層が使用された。
＝ １．４ Ｘ １０ ”／ｃｒｒｒ３にドープ）と１
４．０ナノメートルＡＩ。、５ｂＧａｏ、ｂａＡＳアン
ドープ障壁の５０周期から構成された。それぞれ０．５
マイクロメートル及び１マイクロメートル、並びにｎ＋
＝３Ｘ１０”／ａｍ’のドーパント濃度をもつ上側及び
下側ガリウム ヒ化物コンタクト層が使用された。
１５度にの温度及び１０．３マイクロメートルの波長に
対して測定された光検出器の応答性が第６図にグラフ的
に示される。
対して測定された光検出器の応答性が第６図にグラフ的
に示される。
上の例のデバイスと対比して、ここではバイアス電圧を
さらに増加させ、これによって光励起トンネリングの確
率をさらに増加させることができる。より具体的には、
９Ｖのバイアス電圧においては、応答性は約１．９Ａ／
Ｗであり、熱い電子の平均自由行程は１マイクロメート
ル以上であった。
さらに増加させ、これによって光励起トンネリングの確
率をさらに増加させることができる。より具体的には、
９Ｖのバイアス電圧においては、応答性は約１．９Ａ／
Ｗであり、熱い電子の平均自由行程は１マイクロメート
ル以上であった。
最適化された高さ及び幅の結果としてのこの向上された
応答性は概むね期待通りとみなすことができるが、・７
６０ナノメートルＧａＡｓ量子井戸、ｎ ＝ １．４
Ｘ １０ ”／ｃｍ’にドープ、と１４．０ナノメート
ルＡ １ ｏ、 ３６Ｇ ａ ０．１１４Ａ Ｓアンド
ープ障壁の５０周期から成るこの同じデバイスにさらに
高いバイアス電圧が加えられたとき、全く期待されなか
った応答性の増加が観察された。１０．３マイクロメー
トルの波長にて行なわれた測定値が第７図に示されるが
、これは９■を超えたバイアス電圧での応答性の劇的な
増加をくっきりと示す。
応答性は概むね期待通りとみなすことができるが、・７
６０ナノメートルＧａＡｓ量子井戸、ｎ ＝ １．４
Ｘ １０ ”／ｃｍ’にドープ、と１４．０ナノメート
ルＡ １ ｏ、 ３６Ｇ ａ ０．１１４Ａ Ｓアンド
ープ障壁の５０周期から成るこの同じデバイスにさらに
高いバイアス電圧が加えられたとき、全く期待されなか
った応答性の増加が観察された。１０．３マイクロメー
トルの波長にて行なわれた測定値が第７図に示されるが
、これは９■を超えたバイアス電圧での応答性の劇的な
増加をくっきりと示す。
この高いバイアス電圧の所でのこの期待以上の高い応答
性を説明するために、量子井戸から出た電子の光電子＝
ｉアバランシェ イオン化（Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏ
ｎ−ｉｎｉｔｉａｔｅｄ ａｖａｌａｎｃｈｅ １ｏｎ
ｉｚａｔｉｏｎ）としての利得機構が提案される。この
プロセスが第８図にグラフ的に示される。ここで、波ベ
クトルＸ（超格子成長方向）及びエネルギーＥｋ（障壁
の伝導帯端から測定）をもつ光生成電子が基底状ＳＥｔ
にバウンド電子（ｂｏｕｎｄ ｅｌｅｃｔｒｏｎ）を含
む隣の量子井戸に当る。クーロン電位を介して相互作用
した後に、入射電子はエネルギーと運動を失ない、新た
な値に′及びＥ’にとなり、バウンド電子は、例えば、
第１の励起状ｊＱＥ２に上げられる。この励起された電
子は、抜は出る（ｔｕｎｎｅｏｕ ｔ）ことが可能であ
り、従って、利得を生成する。
性を説明するために、量子井戸から出た電子の光電子＝
ｉアバランシェ イオン化（Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏ
ｎ−ｉｎｉｔｉａｔｅｄ ａｖａｌａｎｃｈｅ １ｏｎ
ｉｚａｔｉｏｎ）としての利得機構が提案される。この
プロセスが第８図にグラフ的に示される。ここで、波ベ
クトルＸ（超格子成長方向）及びエネルギーＥｋ（障壁
の伝導帯端から測定）をもつ光生成電子が基底状ＳＥｔ
にバウンド電子（ｂｏｕｎｄ ｅｌｅｃｔｒｏｎ）を含
む隣の量子井戸に当る。クーロン電位を介して相互作用
した後に、入射電子はエネルギーと運動を失ない、新た
な値に′及びＥ’にとなり、バウンド電子は、例えば、
第１の励起状ｊＱＥ２に上げられる。この励起された電
子は、抜は出る（ｔｕｎｎｅｏｕ ｔ）ことが可能であ
り、従って、利得を生成する。
超格子量子井戸内でのこのプロセスの順次反復が第９図
によって示される（βはイオン化速度を示す）。
によって示される（βはイオン化速度を示す）。
本発明のこの好ましい実施態様におけるアバランシェ利
得は加えられたバイアス場が超格子の周期当たりＥ２−
Ｅｌより大きな電圧降下を生成するように十分強くされ
たとき実現される。アバランシェ プロセスの数学的モ
デルから決定されるごとく、イオン化係数βは第１０図
に示されるように入射された電子のエネルギーに依存す
る。この曲線のピークは（Ｅ２−Ｅｌ）の１．２５倍の
所あるいはこの付近にある。従って、βを最大化するた
めには、バイアス場が超格子の周期当たりこのおおよそ
の好ましい電圧降下を生成するように選択される。
得は加えられたバイアス場が超格子の周期当たりＥ２−
Ｅｌより大きな電圧降下を生成するように十分強くされ
たとき実現される。アバランシェ プロセスの数学的モ
デルから決定されるごとく、イオン化係数βは第１０図
に示されるように入射された電子のエネルギーに依存す
る。この曲線のピークは（Ｅ２−Ｅｌ）の１．２５倍の
所あるいはこの付近にある。従って、βを最大化するた
めには、バイアス場が超格子の周期当たりこのおおよそ
の好ましい電圧降下を生成するように選択される。
超格子内のアバランシヱ効果との関連において、このタ
イプの効果がＦ、キャパソ（Ｆ、Ｃａｐｐａｓｏ）らに
よるヱフ蓋ヒ±上−二７４ジ？７． Ｌ１２− ：Ｘ
（ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ）
、Ｖｏｌ、４８ （１９８６） 、ページ１２９４−１
２９６に発表の論文［量子井戸超格子内での新アバラン
シェ増幅現象：バンドエソジ不連続を横断してのインパ
クト イオン化の証拠（Ｎｅｗ Ａｖａｌａｎｃｈｅ
Ｍｕｌｔｉｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｐｈｅｎｏｍｅｎｏｎ
ｉ７１Ｑｕａｎｔｕｍ Ｗｅｌｌ ５ｕｐｅｒｌａｔ
ｔｉｃｅｓ：Ｅｖｉｄｅｎｃｅ ｏｆ Ｉｍｐａｃｔｌ
ｏｎｉｚａｔｉｏｎ Ａｃｒｏｓｓ ｔｈｅ Ｂａｎｄ
−ｅｄｇｅ Ｄｉｓｃｏｎｔｉｎｕｉｔｙ）］において
説明されている。この論文において説明のバンドギャッ
プを横断してのイオン化に対して、本発明による方法は
赤外エネルギーの所での別のサブバンド間効果を提案す
る。
イプの効果がＦ、キャパソ（Ｆ、Ｃａｐｐａｓｏ）らに
よるヱフ蓋ヒ±上−二７４ジ？７． Ｌ１２− ：Ｘ
（ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ）
、Ｖｏｌ、４８ （１９８６） 、ページ１２９４−１
２９６に発表の論文［量子井戸超格子内での新アバラン
シェ増幅現象：バンドエソジ不連続を横断してのインパ
クト イオン化の証拠（Ｎｅｗ Ａｖａｌａｎｃｈｅ
Ｍｕｌｔｉｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｐｈｅｎｏｍｅｎｏｎ
ｉ７１Ｑｕａｎｔｕｍ Ｗｅｌｌ ５ｕｐｅｒｌａｔ
ｔｉｃｅｓ：Ｅｖｉｄｅｎｃｅ ｏｆ Ｉｍｐａｃｔｌ
ｏｎｉｚａｔｉｏｎ Ａｃｒｏｓｓ ｔｈｅ Ｂａｎｄ
−ｅｄｇｅ Ｄｉｓｃｏｎｔｉｎｕｉｔｙ）］において
説明されている。この論文において説明のバンドギャッ
プを横断してのイオン化に対して、本発明による方法は
赤外エネルギーの所での別のサブバンド間効果を提案す
る。
さらに本発明の光検出器の闇電流を最小にするために、
ｆｉ＋＝３Ｘ１０”／（Ｊ３にドープされたガリウム
ヒ化物コンタクト層間に挟まれた７、５ナノメートルＧ
ａ Ａ ｓ （ｎ ＝ １０ ”７ｃｍ”にドープ）
、３．９ナノメートルＡ Ｉ Ｏ，３３Ｇ ａ ｏ、
６？Ａ Ｓ ％１、８ナノメートル アンドープＧａＡ
ｓ、及び１５．４ナノメートル アンドープＡ １０．
３１Ｇ ａ Ｏ，６？Ａｓの５０周期から成る超格子構
造が分子線エピタキシーによって製造された。この構造
のバンド図が第１１図及び第１２図に示される。この構
造においては、個々の周期は厚い井戸（Ｗｌ）、薄い井
戸（Ｗ２）、厚い障壁（Ｂｌ）、及び薄い障壁（Ｂ２）
から成る。結合されてない井戸（ｕｎｃｏｕｐｌｅｄｗ
ｅｌｌ）に対しては、Ｗｌ内に２つの状態（Ｅ１＝４４
ｍｅＶ、Ｅ２＝１７０ｍｅＶ）が存在し、そしてＷ２内
には１つの状態（Ｅｌ’ ＝ １７４ ｍｅＶ）のみが
存在する。これらエネルギーは超格子が電気的にバイア
スされたとき、レベルＥ２の所の光電子の共振トンネリ
ングがＷ２内のこの状態にエネルギーを与え、結果とし
てＢ２と等しくなるように選択される。この結果として
の光電流電子の導伝の容易さは、井戸Ｗ２がＥｌと等し
くされな４いときの闇電流電子の抑止と対比をなすもの
である。
ｆｉ＋＝３Ｘ１０”／（Ｊ３にドープされたガリウム
ヒ化物コンタクト層間に挟まれた７、５ナノメートルＧ
ａ Ａ ｓ （ｎ ＝ １０ ”７ｃｍ”にドープ）
、３．９ナノメートルＡ Ｉ Ｏ，３３Ｇ ａ ｏ、
６？Ａ Ｓ ％１、８ナノメートル アンドープＧａＡ
ｓ、及び１５．４ナノメートル アンドープＡ １０．
３１Ｇ ａ Ｏ，６？Ａｓの５０周期から成る超格子構
造が分子線エピタキシーによって製造された。この構造
のバンド図が第１１図及び第１２図に示される。この構
造においては、個々の周期は厚い井戸（Ｗｌ）、薄い井
戸（Ｗ２）、厚い障壁（Ｂｌ）、及び薄い障壁（Ｂ２）
から成る。結合されてない井戸（ｕｎｃｏｕｐｌｅｄｗ
ｅｌｌ）に対しては、Ｗｌ内に２つの状態（Ｅ１＝４４
ｍｅＶ、Ｅ２＝１７０ｍｅＶ）が存在し、そしてＷ２内
には１つの状態（Ｅｌ’ ＝ １７４ ｍｅＶ）のみが
存在する。これらエネルギーは超格子が電気的にバイア
スされたとき、レベルＥ２の所の光電子の共振トンネリ
ングがＷ２内のこの状態にエネルギーを与え、結果とし
てＢ２と等しくなるように選択される。この結果として
の光電流電子の導伝の容易さは、井戸Ｗ２がＥｌと等し
くされな４いときの闇電流電子の抑止と対比をなすもの
である。
上に説明の本発明による二重障壁超格子光検出器の場合
は、闇電流は通常の方形トンネリング障壁（ｓｑｕａｒ
ｅ ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ ｂａｒｒｉｅｒｓ）を使用し
て達成される闇電流の１％以下であり、応答性は本質的
に同一であった。従って、この新たな構造は特に高感度
検出器に適する。
は、闇電流は通常の方形トンネリング障壁（ｓｑｕａｒ
ｅ ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ ｂａｒｒｉｅｒｓ）を使用し
て達成される闇電流の１％以下であり、応答性は本質的
に同一であった。従って、この新たな構造は特に高感度
検出器に適する。
闇電流の抑止には傾斜障壁プロファイルの効果的である
。これは闇電流エネルギー レベルの所に光電流エネル
ギー レベルの所の厚さより大きな障壁厚さを与える。
。これは闇電流エネルギー レベルの所に光電流エネル
ギー レベルの所の厚さより大きな障壁厚さを与える。
このアプローチに関しては、第１３から第１６図を参照
すること。
すること。
第１図は本発明による赤外線検出器の構造をさらに電圧
源及び電流測定デバイスを含む最も単純な構成で略拡大
図にて示し； 第２図は第１図の構造にかわるものとして回折格子を含
む構造を示し： 第３図は本発明によるデバイスに対応するバイアス場の
存在下でのエネルギー バンド図であり；第４図は本発
明によるデバイスに対応するバイアス場の存在下及び赤
外線照射下でのエネルギーバンド図であり； 第５図は本発明のデバイスに対して実験的に決定された
バイアス電圧と光検出器応答性との間の関数関係をグラ
フ的に表わし； 第６図は第５図のデバイスと対比して量子井戸障壁の幅
及び高さが最適化された本発明の第２のデバイスに対し
て実験的に決定されたバイアス電圧と光検出器応答性、
及びバイアス電圧と闇電流の間の関数関係をグラフ的に
示し； 第７図は第６図のデバイスに非常に類似する本発明の第
３のデバイスに対して実験的に決定されたバイアス電圧
と光検出器応答性との間の関数関係を示すが、ここでは
測定が第６図のバイアス電圧をかなり超える範囲まで行
なわれており；第８図及び第９図は光電流の促進が高い
バイアス電圧でのアバランシェ効果に起因するとの解釈
を図解するエネルギー バンド図であり；第１０図は量
子井戸に当る電子のエネルギーとイオン化係数との間の
関数関係をグラフ的に示し；第１１図は本発明によるデ
バイスのバイアス場が存在せず、闇電流が減少するよう
にエネルギー プロファイルが選択された場合に対応す
るエネルギー バンド図を示し： 第１２図は第１１図の図に対応するがバイアス場が存在
する場合のエネルギー バンド図を示し：そして 第１３図から第１６図はバイアス場不在で闇電流を低減
させるための別の方法を代表する量子井戸エネルギー
プロファイルの図である。 出 願 人 ： アメリカン テレフォン アンドテ
レグラフ カムバニー 応答性Ｒ（Ａ／Ｗ） 、１闇電流１ｏ
（Ａ） ＦＩＧ、 １０
源及び電流測定デバイスを含む最も単純な構成で略拡大
図にて示し； 第２図は第１図の構造にかわるものとして回折格子を含
む構造を示し： 第３図は本発明によるデバイスに対応するバイアス場の
存在下でのエネルギー バンド図であり；第４図は本発
明によるデバイスに対応するバイアス場の存在下及び赤
外線照射下でのエネルギーバンド図であり； 第５図は本発明のデバイスに対して実験的に決定された
バイアス電圧と光検出器応答性との間の関数関係をグラ
フ的に表わし； 第６図は第５図のデバイスと対比して量子井戸障壁の幅
及び高さが最適化された本発明の第２のデバイスに対し
て実験的に決定されたバイアス電圧と光検出器応答性、
及びバイアス電圧と闇電流の間の関数関係をグラフ的に
示し； 第７図は第６図のデバイスに非常に類似する本発明の第
３のデバイスに対して実験的に決定されたバイアス電圧
と光検出器応答性との間の関数関係を示すが、ここでは
測定が第６図のバイアス電圧をかなり超える範囲まで行
なわれており；第８図及び第９図は光電流の促進が高い
バイアス電圧でのアバランシェ効果に起因するとの解釈
を図解するエネルギー バンド図であり；第１０図は量
子井戸に当る電子のエネルギーとイオン化係数との間の
関数関係をグラフ的に示し；第１１図は本発明によるデ
バイスのバイアス場が存在せず、闇電流が減少するよう
にエネルギー プロファイルが選択された場合に対応す
るエネルギー バンド図を示し： 第１２図は第１１図の図に対応するがバイアス場が存在
する場合のエネルギー バンド図を示し：そして 第１３図から第１６図はバイアス場不在で闇電流を低減
させるための別の方法を代表する量子井戸エネルギー
プロファイルの図である。 出 願 人 ： アメリカン テレフォン アンドテ
レグラフ カムバニー 応答性Ｒ（Ａ／Ｗ） 、１闇電流１ｏ
（Ａ） ＦＩＧ、 １０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、赤外線検出器を含むデバイスにおいて、該デバイス
が複数の量子井戸を形成する半導体層を含む基板に支持
されたヘテロ構造超格子、及び該超格子を電気的にバイ
アスし、該超格子上に当る放射線に応答して電気信号を
検出するためのコンタクト手段を含み、 該デバイスが少なくとも該量子井戸の少なくとも１つが
少なくとも２つの閉じ込め状態をもつことを特徴とする
デバイス。 ２、請求項１に記載のデバイスにおいて、該量子井戸が
２つの閉じ込め状態をもつことを特徴とするデバイス。 ３、請求項１に記載のデバイスにおいて、バイアス場の
存在において、該量子井戸の少なくとも１部分が本質的
に線形シーケンスのエネルギーを形成することを特徴と
するデバイス。 ４、請求項１に記載のデバイスにおいて、バイアス場の
存在において、該量子井戸の少なくとも一部が放物線状
成分をもつエネルギーシーケンスを形成することを特徴
とするデバイス。 ５、請求項１に記載のデバイスにおいて、第１の量子井
戸の第１の状態のエネルギーレベルが該第１の量子井戸
に隣接する第２の量子井戸内の第２の状態のエネルギー
レベルに実質的に等しいことを特徴とするデバイス。 ６、請求項１に記載のデバイスにおいて、該半導体層が
化合物半導体層であることを特徴とするデバイス。 ７、請求項１に記載のデバイスにおいて、該量子井戸が
闇電流に対して光電流の共振トンネリングを優位とする
ように選択された組成プロフィルの電位バリアーをもつ
ことを特徴とするデバイス。 ８、請求項７に記載のデバイスにおいて、該バリアーが
傾斜した組成プロファイルをもつことを特徴とするデバ
イス。 ９、請求項７に記載のデバイスにおいて、ペアの量子井
戸がエネルギーレベルが一致すると光電流電子に対して
共振トンネリングが許され、エネルギーレベルが一致し
ないときは闇電流電子に対して共振トンネリングが抑止
されるようなペアであることを特徴とするデバイス。 １０、赤外線を検出するための方法において、該方法が
該放射線を複数の量子井戸を形成する半導体層を含む基
板に支持された超格子上に当てるステップ、及び 該超格子に流れる電流を検出するステップを含み、 該方法が該量子井戸の少なくとも１つが少なくとも２つ
の閉じ込め状態をもち、該超格子が該少なくとも１つの
量子井戸間の電圧が２つの該閉じ込め状態間のエネルギ
ー差より大きくなるように電気的にバイアスされること
を特徴とする方法。 １１、請求項１０に記載の方法において、該電圧が該エ
ネルギー差の１．２５倍であるか概むねこれに等しいこ
とを特徴とする方法。
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|---|---|
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| ES (1) | ES2076156T3 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02116175A (ja) * | 1988-10-26 | 1990-04-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体受光素子 |
| JPH02121370A (ja) * | 1988-10-29 | 1990-05-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光検出器 |
| JPH0418765A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-22 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 半導体受光素子 |
| JPH0418766A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-22 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 半導体受光素子 |
| JPH04125976A (ja) * | 1990-09-18 | 1992-04-27 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 半導体受光素子 |
| US6437414B1 (en) | 1999-07-30 | 2002-08-20 | Fujitsu Limited | Optical semiconductor device and method for fabricating the same |
| US6445000B1 (en) | 1999-07-30 | 2002-09-03 | Fujitsu Limited | Photodetecting device |
| JP2011077474A (ja) * | 2009-10-02 | 2011-04-14 | Kyocera Corp | 光電変換素子および光電変換方法 |
| WO2013172078A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学素子及び光検出器 |
| WO2020170703A1 (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-27 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 撮像装置およびその駆動方法 |
Families Citing this family (57)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6201242B1 (en) | 1987-08-05 | 2001-03-13 | Lockheed Martin Corporation | Bandgap radiation detector |
| US5023685A (en) * | 1988-06-06 | 1991-06-11 | Bethea Clyde G | Quantum-well radiation-interactive device, and methods of radiation detection and modulation |
| US5185647A (en) * | 1988-12-12 | 1993-02-09 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Long wavelength infrared detector |
| JPH081949B2 (ja) * | 1989-05-30 | 1996-01-10 | 三菱電機株式会社 | 赤外線撮像装置及びその製造方法 |
| US5036371A (en) * | 1989-09-27 | 1991-07-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Multiple quantum well device |
| US5079601A (en) * | 1989-12-20 | 1992-01-07 | International Business Machines Corporation | Optoelectronic devices based on intraband transitions in combinations of type i and type ii tunnel junctions |
| US5191784A (en) * | 1989-12-28 | 1993-03-09 | Siemens Corporate Research, Inc. | Opto-electronic gas sensor |
| US5012301A (en) * | 1990-02-22 | 1991-04-30 | Northern Telecom Limited | Three terminal semiconductor device |
| US5013918A (en) * | 1990-04-02 | 1991-05-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Multicolor infrared photodetector |
| JP2941349B2 (ja) * | 1990-04-06 | 1999-08-25 | 株式会社日立製作所 | 超格子ａｐｄ |
| US5031013A (en) * | 1990-08-13 | 1991-07-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Infrared hot-electron transistor |
| AU9030791A (en) * | 1990-10-31 | 1992-05-26 | Martin Marietta Corporation | Miniband transport quantum well infrared detector |
| US5965899A (en) * | 1990-10-31 | 1999-10-12 | Lockheed Martin Corp. | Miniband transport quantum well detector |
| US5563423A (en) * | 1991-08-15 | 1996-10-08 | Hughes Aircraft Company | Dark current-free multiquantum well superlattice infrared detector |
| US5239186A (en) * | 1991-08-26 | 1993-08-24 | Trw Inc. | Composite quantum well infrared detector |
| US5300789A (en) * | 1991-12-24 | 1994-04-05 | At&T Bell Laboratories | Article comprising means for modulating the optical transparency of a semiconductor body, and method of operating the article |
| US5198659A (en) * | 1992-03-23 | 1993-03-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Wide-range multicolor IR detector |
| US5223704A (en) * | 1992-03-31 | 1993-06-29 | At&T Bell Laboratories | Planar buried quantum well photodetector |
| US6320200B1 (en) | 1992-06-01 | 2001-11-20 | Yale University | Sub-nanoscale electronic devices and processes |
| US5475341A (en) * | 1992-06-01 | 1995-12-12 | Yale University | Sub-nanoscale electronic systems and devices |
| JPH06214169A (ja) * | 1992-06-08 | 1994-08-05 | Texas Instr Inc <Ti> | 制御可能な光学的周期的表面フィルタ |
| US5311009A (en) * | 1992-07-31 | 1994-05-10 | At&T Bell Laboratories | Quantum well device for producing localized electron states for detectors and modulators |
| US5313073A (en) * | 1992-08-06 | 1994-05-17 | University Of Southern California | Light detector using intersub-valence band transitions with strained barriers |
| US5627672A (en) * | 1993-02-26 | 1997-05-06 | Texas Instruments Incorporated | Controllable optical periodic surface filters as a Q-switch in a resonant cavity |
| GB9304211D0 (en) * | 1993-03-02 | 1993-04-21 | Univ Manchester | A quantom well device |
| KR960004594B1 (ko) * | 1993-03-17 | 1996-04-09 | 엘지전자주식회사 | 적외선 광 검출기 |
| US5304805A (en) * | 1993-03-26 | 1994-04-19 | Massachusetts Institute Of Technology | Optical-heterodyne receiver for environmental monitoring |
| US5347142A (en) * | 1993-06-25 | 1994-09-13 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Modes of infrared hot electron transistor operation in infrared detection |
| US5554882A (en) * | 1993-11-05 | 1996-09-10 | The Boeing Company | Integrated trigger injector for avalanche semiconductor switch devices |
| US5539206A (en) * | 1995-04-20 | 1996-07-23 | Loral Vought Systems Corporation | Enhanced quantum well infrared photodetector |
| US5567955A (en) * | 1995-05-04 | 1996-10-22 | National Research Council Of Canada | Method for infrared thermal imaging using integrated gasa quantum well mid-infrared detector and near-infrared light emitter and SI charge coupled device |
| US6211529B1 (en) * | 1996-08-27 | 2001-04-03 | California Institute Of Technology | Infrared radiation-detecting device |
| US6054718A (en) * | 1998-03-31 | 2000-04-25 | Lockheed Martin Corporation | Quantum well infrared photocathode having negative electron affinity surface |
| WO2001047031A2 (en) * | 1999-12-13 | 2001-06-28 | Swales Aerospace | Graded band gap multiple quantum well solar cell |
| US6576490B2 (en) | 2001-05-09 | 2003-06-10 | National Research Council Of Canada | Method for micro-fabricating a pixelless infrared imaging device |
| US7442629B2 (en) | 2004-09-24 | 2008-10-28 | President & Fellows Of Harvard College | Femtosecond laser-induced formation of submicrometer spikes on a semiconductor substrate |
| US7057256B2 (en) | 2001-05-25 | 2006-06-06 | President & Fellows Of Harvard College | Silicon-based visible and near-infrared optoelectric devices |
| CA2447828C (en) * | 2003-10-15 | 2012-07-03 | National Research Council Of Canada | Wavelength conversion device with avalanche multiplier |
| US7180066B2 (en) * | 2004-11-24 | 2007-02-20 | Chang-Hua Qiu | Infrared detector composed of group III-V nitrides |
| KR100785738B1 (ko) | 2006-06-19 | 2007-12-18 | 한국과학기술원 | 볼로미터 |
| US8659664B2 (en) | 2007-03-23 | 2014-02-25 | Flir Systems, Inc. | Thermography camera configured for leak detection |
| US8653461B1 (en) | 2007-03-23 | 2014-02-18 | Flir Systems, Inc. | Thermography camera tuned to detect absorption of infrared radiation in a selected spectral bandwidth |
| DE102008006987A1 (de) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Strahlungsempfänger und Verfahren zur Herstellung eines Strahlungsempfängers |
| FR2936602B1 (fr) * | 2008-09-30 | 2010-10-01 | Thales Sa | Detecteur terahertz a puits quantiques |
| US8476598B1 (en) * | 2009-08-31 | 2013-07-02 | Sionyx, Inc. | Electromagnetic radiation imaging devices and associated methods |
| US9911781B2 (en) | 2009-09-17 | 2018-03-06 | Sionyx, Llc | Photosensitive imaging devices and associated methods |
| US9673243B2 (en) | 2009-09-17 | 2017-06-06 | Sionyx, Llc | Photosensitive imaging devices and associated methods |
| US8692198B2 (en) | 2010-04-21 | 2014-04-08 | Sionyx, Inc. | Photosensitive imaging devices and associated methods |
| CN103081128B (zh) | 2010-06-18 | 2016-11-02 | 西奥尼克斯公司 | 高速光敏设备及相关方法 |
| US9496308B2 (en) | 2011-06-09 | 2016-11-15 | Sionyx, Llc | Process module for increasing the response of backside illuminated photosensitive imagers and associated methods |
| WO2013010127A2 (en) | 2011-07-13 | 2013-01-17 | Sionyx, Inc. | Biometric imaging devices and associated methods |
| KR101920712B1 (ko) * | 2011-08-26 | 2018-11-22 | 삼성전자주식회사 | 튜너블 배리어를 구비한 그래핀 스위칭 소자 |
| US9064764B2 (en) | 2012-03-22 | 2015-06-23 | Sionyx, Inc. | Pixel isolation elements, devices, and associated methods |
| JP6466346B2 (ja) | 2013-02-15 | 2019-02-06 | サイオニクス、エルエルシー | アンチブルーミング特性を有するハイダイナミックレンジｃｍｏｓ画像センサおよび関連づけられた方法 |
| US9939251B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-04-10 | Sionyx, Llc | Three dimensional imaging utilizing stacked imager devices and associated methods |
| US9209345B2 (en) | 2013-06-29 | 2015-12-08 | Sionyx, Inc. | Shallow trench textured regions and associated methods |
| EP3039723B1 (en) * | 2013-08-27 | 2024-07-03 | Georgia State University Research Foundation, Inc. | Tunable hot-carrier photodetector |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4348686A (en) * | 1980-07-28 | 1982-09-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Microwave-infrared detector with semiconductor superlattice region |
| GB2106314A (en) * | 1981-09-18 | 1983-04-07 | Philips Electronic Associated | Infra-red radiation imaging devices |
| US4525731A (en) * | 1982-12-30 | 1985-06-25 | International Business Machines Corporation | Semiconductor conversion of optical-to-electrical energy |
| US4607272A (en) * | 1983-10-06 | 1986-08-19 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Electro-optical SLS devices for operating at new wavelength ranges |
| US4620214A (en) * | 1983-12-02 | 1986-10-28 | California Institute Of Technology | Multiple quantum-well infrared detector |
| US4581621A (en) * | 1984-07-02 | 1986-04-08 | Texas Instruments Incorporated | Quantum device output switch |
| US4679061A (en) * | 1985-06-14 | 1987-07-07 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Superlattice photoconductor |
-
1987
- 1987-09-15 US US07/097,567 patent/US4894526A/en not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-01-07 EP EP88300096A patent/EP0275150B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-07 ES ES88300096T patent/ES2076156T3/es not_active Expired - Lifetime
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- 1988-01-15 KR KR1019880000235A patent/KR960008181B1/ko not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| APPLIED PHYSICS LETTERS=1986 * |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02116175A (ja) * | 1988-10-26 | 1990-04-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体受光素子 |
| JPH02121370A (ja) * | 1988-10-29 | 1990-05-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光検出器 |
| JPH0418765A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-22 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 半導体受光素子 |
| JPH0418766A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-22 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 半導体受光素子 |
| JPH04125976A (ja) * | 1990-09-18 | 1992-04-27 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 半導体受光素子 |
| US6437414B1 (en) | 1999-07-30 | 2002-08-20 | Fujitsu Limited | Optical semiconductor device and method for fabricating the same |
| US6445000B1 (en) | 1999-07-30 | 2002-09-03 | Fujitsu Limited | Photodetecting device |
| JP2011077474A (ja) * | 2009-10-02 | 2011-04-14 | Kyocera Corp | 光電変換素子および光電変換方法 |
| WO2013172078A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学素子及び光検出器 |
| WO2013172161A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学素子及び光検出器 |
| US8853809B2 (en) | 2012-05-16 | 2014-10-07 | Hamamatsu Photonics K.K. | Optical element and photodetector |
| CN104303097A (zh) * | 2012-05-16 | 2015-01-21 | 浜松光子学株式会社 | 光学元件和光检测器 |
| JPWO2013172161A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2016-01-12 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学素子及び光検出器 |
| WO2020170703A1 (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-27 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 撮像装置およびその駆動方法 |
| JPWO2020170703A1 (ja) * | 2019-02-20 | 2021-12-23 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 撮像装置およびその駆動方法 |
| US11910625B2 (en) | 2019-02-20 | 2024-02-20 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Imaging device and method for driving imaging device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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