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JPS632142B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS632142B2
JPS632142B2 JP57000737A JP73782A JPS632142B2 JP S632142 B2 JPS632142 B2 JP S632142B2 JP 57000737 A JP57000737 A JP 57000737A JP 73782 A JP73782 A JP 73782A JP S632142 B2 JPS632142 B2 JP S632142B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
spindle chuck
side carrier
supply side
fork
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP57000737A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS58118125A (en
Inventor
Michio Hashimoto
Fumio Sakitani
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tatsumo KK
Original Assignee
Tatsumo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tatsumo KK filed Critical Tatsumo KK
Priority to JP57000737A priority Critical patent/JPS58118125A/en
Publication of JPS58118125A publication Critical patent/JPS58118125A/en
Publication of JPS632142B2 publication Critical patent/JPS632142B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基板(半導体ウエハー、ガラスなど)
の搬送装置に係り、特に回転処理装置(レジスト
塗布機、スクラバー、現像機、表面検査機など)
に必要な基板の位置決めと基板の搬送を、ごみの
発生や回転処理後の基板周縁部の衝撃なしに正確
に行われるようになすことを目的とする。
[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to a substrate (semiconductor wafer, glass, etc.)
Concerning conveyance equipment, especially rotational processing equipment (resist coating machines, scrubbers, developing machines, surface inspection machines, etc.)
The purpose of the present invention is to accurately position the substrate and transport the substrate, which are necessary for processing, without generating dust or impacting the peripheral edge of the substrate after rotation processing.

従来、基板搬送機構としてはエアー搬送か、O
リング搬送が採用されている。
Conventionally, the substrate transport mechanism has been air transport or O
Ring transport is used.

エアー搬送は第1図aに示す如く、基板1の接
触している搬送板2に通孔3を設けると共に裏板
5を設けて空気通路4ができる構成となし、その
空気通路4に加圧空気を送風することにより空気
通路4を通つた空気が通孔3から斜めに噴射する
ことにより基板を搬送するようになすものである
が、このエアー搬送を使用して基板を搬送する
と、搬送開始時は基板の搬送速度は遅いが、次第
に搬送速度が早くなり、最後は停止物例えばキヤ
リヤーなどに衝突して停止することとなる。この
ことは基板の周縁部が砕けたり、その砕けた微粉
が基板にごみとなつて付着したりするのであり、
従つて歩留まりを低下させることになる。
As shown in Fig. 1a, the air conveyance is performed by providing a through hole 3 in the conveying plate 2 that is in contact with the substrate 1 and providing an air passage 4 by providing a back plate 5, and applying pressure to the air passage 4. By blowing air, the air passing through the air passage 4 is ejected obliquely from the through hole 3, thereby transporting the board. When the board is transported using this air transport, transport starts. At first, the conveyance speed of the substrate is slow, but the conveyance speed gradually increases until it collides with a stationary object, such as a carrier, and comes to a stop. This causes the peripheral edge of the board to break, and the broken powder becomes dust and adheres to the board.
Therefore, the yield will be reduced.

上記の衝突を防止するべく停止物の前に真空に
した通孔3を設けて搬送中の基板を一度停止せし
め、その後に真空を切つて基板を搬送させて停止
物で止める方法も有るが、高粘度ネガレジスト等
をレジスト塗布機で塗布した基板においては、真
空にした通孔3で停止した時に搬送板2と基板1
が高粘度ネガレジストで搬送板2に付着して搬送
不能となるトラブルが発生する。そして又、基板
搬送時には搬送板2の上に設けてある基板ガイド
に接触しながら搬送されるため、基板にレジスト
などが塗布されている時はそのレジストが基板ガ
イドに付着してごみの発生となつたり、高粘度ネ
ガレジスト等では、ガイドに基板が付着して搬送
不能となるなどの欠点を有している。
In order to prevent the above-mentioned collision, there is a method in which a vacuumed through hole 3 is provided in front of the stopping object to temporarily stop the substrate being transported, and then the vacuum is turned off to transport the substrate and stop it at the stopping object. In the case of a substrate coated with high viscosity negative resist etc. using a resist coating machine, when the substrate is stopped at the vacuumed through hole 3, the conveyor plate 2 and the substrate 1
is a highly viscous negative resist that adheres to the conveying plate 2, causing trouble that conveyance becomes impossible. Furthermore, when the substrate is transported, it is transported while contacting the board guide provided on the transport plate 2, so if the board is coated with resist, the resist may adhere to the board guide and generate dust. A negative resist with a high viscosity or a high viscosity has the disadvantage that the substrate adheres to the guide, making it impossible to transport the resist.

次にOリング搬送は第1図bに示す如く、駆動
ベルト6がローラー7により架設されてなり、駆
動ベルト6によつて基板1を搬送させるものであ
るが、一般に駆動ベルト6の材質がゴムやプラス
チツク性樹脂などのため、搬送開始時や駆動ベル
ト6を回転させながら基板1をガイドに沿つて位
置合せする時に生じる基板1と駆動ベルト6の摩
擦による駆動ベルト6の摩耗によつてごみが発生
することと、一般に搬送速度を変化させていない
ためにエアー搬送同様に基板と停止物の衝突によ
る基板周縁部の砕け、又はポジレジストや拡散剤
塗布後などにおいては、基板上の塗布物の砕けに
よるごみ発生により歩留まり低下を招く欠点があ
る。
Next, in O-ring conveyance, as shown in FIG. 1b, a drive belt 6 is installed by rollers 7, and the substrate 1 is conveyed by the drive belt 6. Generally, the material of the drive belt 6 is rubber. or plastic resin, etc., dust may be generated due to wear of the drive belt 6 due to friction between the substrate 1 and the drive belt 6 that occurs at the start of conveyance or when positioning the substrate 1 along the guide while rotating the drive belt 6. In general, because the conveyance speed is not changed, the peripheral edge of the substrate may be broken due to collision between the substrate and a stationary object, similar to air conveyance, or after applying a positive resist or a diffusing agent, the coated material on the substrate may be broken. There is a drawback that the yield rate decreases due to the generation of dust due to crushing.

上記エアー搬送又はOリング搬送を回転処理装
置に使用した時の構成を、エアー搬送を例に説明
すると次の通りである。
The configuration when the above-mentioned air conveyance or O-ring conveyance is used in a rotary processing apparatus will be explained below using air conveyance as an example.

第2図は従来のエアー搬送を使用した回転処理
装置の全体斜視図であつて、供給キヤリヤー8と
そのキヤリヤー内の基板1を可動テーブル10に
導びく供給側搬送部11と基板1を可動テーブル
10より受け取つて回転処理するスピンドルチヤ
ツク12及びスピンドルチヤツク12の中央に基
板1を設置するための可動テーブル10上の位置
合せガイド13と基板1を収納側キヤリヤーに導
びくための収納側搬送部14より構成されてい
る。なお、搬送部には基板搬送に必要な基盤ガイ
ド9及び通孔3が設けてある。
FIG. 2 is an overall perspective view of a rotary processing apparatus using conventional air conveyance, showing a supply carrier 8 and a supply side conveyance section 11 that guides the substrate 1 in the carrier to a movable table 10, and a supply side conveyor section 11 that guides the substrate 1 in the carrier to a movable table 10. A spindle chuck 12 for receiving and rotating the substrate 1 from the spindle chuck 10, an alignment guide 13 on the movable table 10 for setting the substrate 1 in the center of the spindle chuck 12, and a storage side transport for guiding the substrate 1 to the storage side carrier. It is composed of a section 14. Note that the transport section is provided with a base guide 9 and a through hole 3 necessary for transporting the substrate.

しかして、その作用ついて説明すると第3図a
〜fに示す如くなる。
However, to explain its effect, see Figure 3 a.
It becomes as shown in ~f.

第3図aは供給側搬送部11より導びかれる基
板1及びスピンドルチヤツク12上で回転処理中
の基板1を示しており、基板1は可動テーブル1
0上の位置合せガイド13まで送られ、位置合せ
ガイド13に基板の周縁部が接した状態で停止す
る。そして、スピンドルチヤツク12上の回転処
理された基板は回転処理終了後図示一点鎖線位置
まで上昇される。次に第3図bのように可動テー
ブル10を矢印方向、即ち供給側から収納側に移
動することにより、スピンドルチヤツク12上の
基板1を可動テーブル10上に移し、さらに移動
することにより第3図cのようになる。この時点
で第3図dの如く可動テーブル10の収納側と、
収納側搬送部14の通孔3よりエアーを噴射する
ことにより可動テーブル10上の基板1を収納側
搬送部14を通り収納側キヤリヤー(図示せず)
に導くようになす。このさい位置合せガイド13
の端縁で停止されている今1つの基板1の下方位
置にはスピンドルチヤツク12が待期しているの
であり、次に第3図eの如くスピンドルチヤツク
12を上昇させて該スピンドルチヤツク12上面
に基板1を支持させ、あと可動テーブル10は供
給側搬送部11へ移動させるようになす。この状
態は第3図fで示しておりスピンドルチヤツク1
2は下降させて回転処理を行わしめ、以下同様に
して繰返えされる。
FIG. 3a shows the substrate 1 being guided from the supply side transport section 11 and the substrate 1 being rotated on the spindle chuck 12.
The substrate is sent to the alignment guide 13 on the substrate 0, and stops with the peripheral edge of the substrate in contact with the alignment guide 13. After the rotation process is completed, the rotated substrate on the spindle chuck 12 is raised to the position shown by the dashed line in the figure. Next, as shown in FIG. 3b, by moving the movable table 10 in the direction of the arrow, that is, from the supply side to the storage side, the substrate 1 on the spindle chuck 12 is transferred onto the movable table 10, and by further movement, the It will look like Figure 3c. At this point, as shown in FIG. 3d, the storage side of the movable table 10,
By injecting air from the through hole 3 of the storage-side transport section 14, the substrate 1 on the movable table 10 is passed through the storage-side transport section 14 and transferred to a storage-side carrier (not shown).
Let it guide you. This alignment guide 13
A spindle chuck 12 is waiting at a position below the current one substrate 1 which is stopped at the edge of the substrate 1.Next, as shown in FIG. The substrate 1 is supported on the upper surface of the movable table 12, and the movable table 10 is then moved to the supply side transport section 11. This state is shown in Figure 3f, and the spindle chuck 1
2 is lowered to perform the rotation process, and the same process is repeated thereafter.

ところで、斯かる従来塗布機としての搬送位置
決め方法は第3図aに於ける可動テーブル10上
の位置合せガイド13に基板1が送り込まれると
きはその前縁部イで、第3図bに於けるスピンド
ルチヤツク12上の基板1が可動テーブル上に移
されるときはその後縁部ロで夫々れ衝突が起るの
であり、従つて衝突による基板周縁部の砕け、ま
たポジレジストや拡散剤塗布後の基板搬送時はご
みの発生原因となると共に、高粘度ネガレジスト
塗布後では可動テーブル10と基板1が付着する
などのトラブルが発生するのである。
By the way, the transport positioning method for such a conventional coating machine is that when the substrate 1 is fed into the alignment guide 13 on the movable table 10 in FIG. When the substrate 1 on the spindle chuck 12 is transferred onto the movable table, a collision occurs at its rear edge. Therefore, the collision may break the peripheral edge of the substrate, or damage may occur after the positive resist or diffusion agent is applied. This causes dust to be generated when the substrate is transported, and troubles such as the movable table 10 and the substrate 1 sticking together occur after coating the high viscosity negative resist.

Oリング搬送を使用した回転処理装置も、第2
図及び第3図a〜fの搬送方法がエアーからOリ
ングに変るだけで、同じ位置決め方法が使用され
ているために上記エアー搬送と同様に、基板周縁
部の砕けやごみ発生による基板の汚れがあるので
あり、これに更にベルトのごみ発生などが加わつ
て基板の歩留低下をより一層招いているのが実情
である。
A rotary processing device using O-ring conveyance also has a second
The only difference is that the transportation method in Figures and Figures 3 a to 3 f is changed from air to O-ring, but the same positioning method is used, so the board gets dirty due to crumbling of the periphery of the board and dust generation, similar to the air transport described above. The reality is that this, combined with the generation of dust on the belt, further reduces the yield of substrates.

本発明者等は斯かる従来の欠点に鑑み鋭意検討
の結果、構成が簡単でごみの発生がなく、確実な
基板搬送と正確な位置合せを可能とする本発明装
置に到達した。以下、本発明装置実施の一例を添
附図面にもとづいて説明する。
The inventors of the present invention have made extensive studies in view of these conventional drawbacks, and as a result have arrived at the apparatus of the present invention, which has a simple configuration, does not generate dust, and enables reliable substrate transport and accurate positioning. An example of the implementation of the device of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

第4図は本発明装置のフオーク部可動機構を示
す斜視図である。本図に於て30は図示されてい
ない装置フレームに固定されたベース板、31は
その中央部位置に穿設された透孔であつて該透孔
を貫通してスピンドル軸が設けられ、板面上の一
定高さ位置でスピンドルチヤツク12が図示しな
い機構により上下動し、また回動されるようにな
つている。これらの機構は従来ものと変わりがな
いので説明を省略する。
FIG. 4 is a perspective view showing the fork portion movable mechanism of the device of the present invention. In this figure, 30 is a base plate fixed to a device frame (not shown), 31 is a through hole bored in the center of the base plate, and a spindle shaft is provided through the through hole. The spindle chuck 12 is moved up and down and rotated by a mechanism (not shown) at a constant height on the surface. Since these mechanisms are the same as those of the conventional ones, their explanations will be omitted.

32は上記ベース板30の前面端縁部に一体と
なして取付けられたレールであり、該レール32
を案内とし且つ前記ベース板中央のスピンドルチ
ヤツク12が上下動するに支障のない対向間隔で
一対のフオーク17,17′がベース板上の一定
高さ位置で一体となつて往復走行するように設け
られている。この具体的構成は長さ方向に設けた
ベアリング23,23′でレール32を挾持する
ようになした摺動匣27の前壁面に一定長のアー
ム支持杆21,21′をベース板側に立設させる
と共に、その各上端縁に対しテーブル板面と直交
し且つ水平となる状態に水平支持板19,19′
を固定ネジ20,20′で取付けせしめるのであ
り、また各水平支持板19,19′には一定の対
向間隔dで夫々れ1対のフオーク17a,17b
及び17′a,17′bを設けしめるのであり、こ
のさい各フオークはベース板30の長さ方向と平
行をなす一定長の水平爪体AとL字状腕体Bとか
ら構成し、L字状腕体Bの垂直部の高さにより水
平支持板19,19′との間に一定高さnと巾m
の立体空間V,V′が形成されるようにして止着
されるのである。しかして該立体空間は後述する
往復走行のさい、基板の吸着した状態のスピンド
ルチヤツク12がその上昇の上限位置で該空間
V,V′内の自由な通過を可能となすのである。
32 is a rail integrally attached to the front edge of the base plate 30;
is used as a guide, and the pair of forks 17, 17' move back and forth as one at a constant height position on the base plate at opposing intervals that do not hinder the vertical movement of the spindle chuck 12 at the center of the base plate. It is provided. In this specific configuration, arm support rods 21, 21' of a certain length are erected on the front wall surface of a sliding box 27, which is designed to hold a rail 32 between bearings 23, 23' provided in the longitudinal direction, on the base plate side. At the same time, horizontal support plates 19, 19' are placed perpendicular to the table plate surface and horizontal to each upper edge thereof.
are attached with fixing screws 20, 20', and each horizontal support plate 19, 19' is provided with a pair of forks 17a, 17b, respectively, at a constant spacing d.
and 17'a, 17'b, each fork is composed of a horizontal claw body A of a constant length parallel to the length direction of the base plate 30, and an L-shaped arm body B, and an L-shaped arm body B. Depending on the height of the vertical part of the letter-shaped arm body B, there is a certain height n and width m between the horizontal support plates 19 and 19'.
They are fixed in such a way that three-dimensional spaces V and V' are formed. During the reciprocating movement described later in the three-dimensional space, the spindle chuck 12 with the substrate attached thereto can freely pass through the spaces V and V' at the upper limit position of its rise.

なお、供給側キヤリヤ8に向うフオーク17
a,17b先端には基板1の周縁の一部と一致す
る切欠円を有する位置決めフツク18a,18b
が止着されてなるのであり、また各フオークには
後述する往復作用のさい基板をフオーク上に吸引
止着させるための真空孔37a,37b及び3
7′a,37′bが設けてあり、これら真空孔は水
平爪体A及びL字状腕体B内に穿設した透孔(点
線図示)と連通し、水平支持板19,19′に於
いてホース15,15′を介して図示しない真空
ポンプ手段と連結させてある。
In addition, the fork 17 facing the supply side carrier 8
a, 17b; positioning hooks 18a, 18b having cutout circles that coincide with a part of the peripheral edge of the substrate 1;
Each fork has vacuum holes 37a, 37b, and 3 for suctioning and fixing the substrate on the fork during reciprocating action, which will be described later.
7'a, 37'b are provided, and these vacuum holes communicate with the through holes (shown by dotted lines) drilled in the horizontal claw body A and the L-shaped arm body B, and are connected to the horizontal support plates 19, 19'. It is connected to vacuum pump means (not shown) via hoses 15, 15'.

一方、16a,16bは供給側キヤリヤー8に
向う側のベース板上に於て、該板の長さ方向と平
行をなす状態で立設させた基板受け台であつて、
このさい対向間距離Wはフオーク17a,17b
間距離dに対しd>Wの関係となるように設計さ
れており、またその高さgはフオーク17a,1
7bのベース板上の高さhに対し、同等若しくは
やゝ低くなる関係に設計されているのである。
On the other hand, 16a and 16b are substrate holders which are set upright on the base plate on the side facing the supply side carrier 8 in a state parallel to the length direction of the plate,
At this time, the distance W between the opposing sides is the forks 17a and 17b.
The forks 17a, 1
It is designed to be equal to or slightly lower than the height h above the base plate of 7b.

他方、上記構成のフオーク手段を支持する摺動
匣27は2箇のシリンダー25,26を使用して
ベース板上の長さ方向に往復走行せしめられるの
であつて、これには装置フレーム上にシリンダー
固定用のL字状ブラケツト29を取付けせしめ、
該ブラケツト29にベース板と平行状態に1つの
シリンダー(図示例では26)のピストンロツド
側を固定し、該シリンダー26のシリンダー本体
側はフオーク手段を支持する摺動匣27に対し少
き供給側キヤリヤーの方に離れる状態となしてレ
ール32から垂設させた別のL字状ブラケツト2
9′に取付けせしめるのであり、該L字状ブラケ
ツト29′には今1つのシリンダー(図示例では
25)のシリンダー本体側を固定し、該シリンダ
ーのピストンロツド側は前記摺動匣27の底面と
一体的に止着させた今1つのL字状ブラケツト2
8に固定させるのである。なお、24はL字状ブ
ラケツト29′がレール32を抱いて円滑な摺動
が行われるようになすためのブラケツト上部に設
けたベアリングである。
On the other hand, the sliding box 27 supporting the fork means having the above structure is made to reciprocate in the longitudinal direction on the base plate using two cylinders 25 and 26. Attach the L-shaped bracket 29 for fixing,
The piston rod side of one cylinder (26 in the illustrated example) is fixed to the bracket 29 in parallel with the base plate, and the cylinder body side of the cylinder 26 is a small supply side carrier with respect to the sliding box 27 that supports the fork means. Another L-shaped bracket 2 is suspended from the rail 32 so as to be separated from the rail 32.
The cylinder body side of one cylinder (25 in the illustrated example) is fixed to the L-shaped bracket 29', and the piston rod side of the cylinder is integral with the bottom surface of the sliding box 27. The unique L-shaped bracket 2
It is fixed at 8. Incidentally, reference numeral 24 denotes a bearing provided on the upper part of the bracket so that the L-shaped bracket 29' holds the rail 32 and slides smoothly.

次に本発明装置の作用を第5図及び第6図a〜
iにもとづいて説明する。
Next, the operation of the device of the present invention is shown in FIGS. 5 and 6 a to 6.
The explanation will be based on i.

第5図は待期位置の状態を示す全体斜視図であ
つて、第4図で説明したフオーク部及びその駆動
機構のほかに、ベース板上の左右端に上下動可能
に供給側キヤリヤー8及び収納側キヤリヤー22
を設けしめてあり、また供給側キヤリヤー8と前
記基板受け台16a,16b間には誘導溝33を
穿設し、供給側キヤリヤー8に収納されている基
板1を下方位置から真空吸着すると共に該誘導溝
33を経て受け台16a,16bの位置まで搬送
する搬送チヤツク34を設けしめてある。なお、
35は搬送チヤツクに設けた真空孔であり、また
供給側キヤリヤー8は対向する板面の夫々れには
水平状態の等間ピツチに多数の小溝36が設けて
あり、基板は各溝内に差入れられて保持されるの
である。他方、収納側キヤリヤー22にも同様に
水平状態で等間ピツチの小溝36が設けてある。
FIG. 5 is an overall perspective view showing the state of the standby position, in which, in addition to the fork portion and its drive mechanism explained in FIG. Storage side carrier 22
Further, a guide groove 33 is provided between the supply side carrier 8 and the substrate holders 16a and 16b, so that the substrate 1 stored in the supply side carrier 8 can be vacuum-adsorbed from a lower position, and the guide groove 33 can be A conveying chuck 34 is provided for conveying the material through the groove 33 to the positions of the pedestals 16a and 16b. In addition,
Reference numeral 35 indicates a vacuum hole provided in the transport chuck, and the supply side carrier 8 has a number of small grooves 36 provided at equal pitches in a horizontal state on each of the opposing plate surfaces, and the substrate is inserted into each groove. It is then maintained. On the other hand, the storage side carrier 22 is also provided with small grooves 36 at equal pitches in a horizontal state.

第6図aはシリンダー25,26を縮めた状態
でフオーク17a,17b及び17′a,17′b
は待期位置を示し、スピンドルチヤツク12は基
板1を保持して回転処理されている。このさい供
給側キヤリヤー8は下降し、キヤリヤー内の基板
1を搬送チヤツク34が上昇の上限まで上昇した
位置で下方からその1枚を真空孔35上に保持す
ると共に、誘導溝33を経て受け台16a,16
b側に向つて移動せしめ、基板1を保持した状態
でスピンドルチヤツク12上に於ける基板1の塗
布処理終了を待つ。この保持状態に於ける搬送チ
ヤツク34のベース板30上高さHは前記フオー
ク17a,17bのベース板上の高さh及び受け
台16a,16bの高さgの何れよりも高くなる
関係に設計されている。
Figure 6a shows forks 17a, 17b and 17'a, 17'b with cylinders 25 and 26 retracted.
indicates the standby position, and the spindle chuck 12 is holding the substrate 1 and rotating it. At this time, the supply side carrier 8 descends, holds one of the substrates 1 in the carrier above the vacuum hole 35 from below at the position where the transport chuck 34 has risen to its upper limit, and passes the substrate 1 through the guide groove 33 to the cradle. 16a, 16
The spindle chuck 12 is moved toward the b side and waits for the completion of the coating process on the substrate 1 on the spindle chuck 12 while holding the substrate 1. The height H above the base plate 30 of the conveyance chuck 34 in this holding state is designed to be higher than both the height h above the base plate of the forks 17a and 17b and the height g of the pedestals 16a and 16b. has been done.

しかしてスピンドルチヤツク12が一定時間回
転して塗布処理が終了するとスピンドルチヤツク
12は基板1を保持した状態で上限まで、上昇
し、第6図bの状態となる。
When the spindle chuck 12 rotates for a certain period of time and the coating process is completed, the spindle chuck 12 rises to its upper limit while holding the substrate 1, resulting in the state shown in FIG. 6b.

次に第6図cに示す如くシリンダー26を作動
してピストンロツドを伸長させることにより摺動
匣27の移動でフオーク支持手段を受け台16
a,16bの側に移動させる。このとき左側フオ
ーク17a,17bは搬送チヤツク34に保持さ
れた基板1の下方を通つて移動し、フオーク17
a,17b先端部の位置決めフツク18a,18
bが基板受け台16a,16bの左端縁部から少
し外れた位置で停止するのであり、また該移動の
さい基板1を支持して上限まで上昇しているスピ
ンドルチヤツク12は水平支持板19′と右側フ
オーク17′a,17′bとの間に形成された立体
空間V′を通過して邪魔にならないようになつて
おり、且つ前記停止位置では右側フオーク17′
a,17′bの先端がスピンドルチヤツク12に
保持された基板1の右端縁とほゞ一致する状態と
なるように設計されている。
Next, as shown in FIG. 6c, by operating the cylinder 26 to extend the piston rod, the sliding box 27 is moved, and the fork support means receiving pedestal 16 is moved.
a, 16b side. At this time, the left forks 17a and 17b move under the substrate 1 held by the transport chuck 34, and the fork 17
Positioning hooks 18a, 18 at the tips of a, 17b
b stops at a position slightly away from the left edge of the substrate holders 16a and 16b, and the spindle chuck 12, which supports the substrate 1 and has risen to its upper limit during the movement, is supported by the horizontal support plate 19'. and the right fork 17'a, 17'b so as not to get in the way, and at the stop position, the right fork 17'
It is designed so that the tips of a and 17'b substantially coincide with the right edge of the substrate 1 held by the spindle chuck 12.

第6図dは以上の状態で搬送チヤツク34及び
スピンドルチヤツク12の各吸引孔の真空を切つ
て下降させた状態であつて、搬送チヤツク34上
の基板は受け台16a,16b上に移り、またス
ピンドルチヤツク12上の基板1はフオーク1
7′a,17′b上に移るのである。
FIG. 6d shows a state in which the vacuum of each suction hole of the transport chuck 34 and spindle chuck 12 is cut off and lowered in the above state, and the substrate on the transport chuck 34 is moved onto the pedestals 16a and 16b. Also, the substrate 1 on the spindle chuck 12 is a fork 1.
7'a and 17'b.

そして、この状態でフオーク17a,17bの
真空孔37a,37bとフオーク17′a,1
7′bの真空孔37′a,37′bを真空吸引し又
シリンダー26はピストンロツドを縮小させるよ
うになすのであり、これにより第6図eに示す如
くフオーク17a,17b上の位置決めフツク1
8a,18bにより受け台16a,16b上の基
板1は位置決めフツク18a,18bに引掛けら
れて受け台16a,16b上を滑りながらスピン
ドルチヤツク12側け移動される。しかして、基
板1が基板受け台16a,16bより外れると、
位置決めフツク18a,18bにより位置決めさ
れた状態で基板1は真空孔37a,37bにより
フオーク17a,17bに保持されてスピンドル
チヤツク12上まで搬送される。これに対し、フ
オーク17′a,17′b上の基板1は収納側キヤ
リヤー22内に差入れられて小溝36に保持され
る状態となるのであり、このときシリンダー2
5,26は第6図fの如くシリンダー25のピス
トンロツドが伸長し、シリンダー26のピストン
ロツドは縮小された状態となつている。
In this state, the vacuum holes 37a, 37b of the forks 17a, 17b and the forks 17'a, 1
The vacuum holes 37'a and 37'b of the forks 17'b are vacuum-suctioned, and the cylinder 26 is made to contract the piston rod, so that the positioning hooks 1 on the forks 17a and 17b are moved as shown in FIG. 6e.
The substrate 1 on the pedestals 16a, 16b is hooked to the positioning hooks 18a, 18b and is moved to the side of the spindle chuck 12 while sliding on the pedestals 16a, 16b. However, when the board 1 comes off from the board holders 16a and 16b,
The substrate 1, positioned by the positioning hooks 18a, 18b, is held by the forks 17a, 17b by the vacuum holes 37a, 37b, and is conveyed onto the spindle chuck 12. On the other hand, the substrate 1 on the forks 17'a and 17'b is inserted into the storage side carrier 22 and held in the small groove 36, and at this time the cylinder 2
5 and 26, the piston rod of the cylinder 25 is extended and the piston rod of the cylinder 26 is contracted, as shown in FIG. 6(f).

次にフオーク17a,17bの真空孔37a,
37bとフオーク17′a,17′bの真空孔37
a′,37′bに対する真空を切ると共に、スピン
ドルチヤツク12に設けた真空孔38の真空吸引
が行われるようにして上限まで上昇させるとスピ
ンドルチヤツク12上には基板1が吸着されて持
上げられるのであり、一方収納側キヤリヤー22
は1ピツチ上昇させて第6図gの状態となす。こ
の状態のあとシリンダー25のピストンロツドを
縮小させてフオーク支持手段全体を左方向に移動
させるのであり、このさい基板1を支持したスピ
ンドルチヤツク12は水平支持板19とフオーク
17a,17bとの間に形成された立体空間Vを
通過することによつて邪魔になるようなことはな
く第6図hの待期位置に復帰する。このあと、ス
ピンドルチヤツク12は第6図iに示す如く下限
まで下降させられて回転処理が行われるのであ
り、以下は供給側キヤリヤー8を1ピツチづつ下
降させ、これに対し収納側キヤリヤー22は1ピ
ツチづつ上昇させることにより、前述の第6図a
〜iの作用が連続して自動的に繰返えされるので
ある。
Next, the vacuum holes 37a of the forks 17a and 17b,
37b and vacuum holes 37 of fork 17'a, 17'b
When the vacuum is turned off to a' and 37'b and the vacuum hole 38 provided in the spindle chuck 12 is raised to the upper limit, the substrate 1 is attracted onto the spindle chuck 12 and lifted. On the other hand, the storage side carrier 22
is raised by one pitch to obtain the state shown in Figure 6g. After this state, the piston rod of the cylinder 25 is contracted to move the entire fork support means to the left, and at this time the spindle chuck 12 supporting the substrate 1 is placed between the horizontal support plate 19 and the forks 17a and 17b. By passing through the formed three-dimensional space V, there is no obstruction and the robot returns to the waiting position shown in FIG. 6h. After this, the spindle chuck 12 is lowered to its lower limit as shown in FIG. By raising the pitch one pitch at a time, the above-mentioned figure 6a
The actions of ~i are continuously and automatically repeated.

本発明は上述の如くベース板上のスピンドルチ
ヤツクを挾んで片方には収納側キヤリヤーを、他
方には供給側キヤリヤーを直列状態に配設すると
共に、供給側キヤリアーのスピンドルチヤツクに
向うベース板上には一定距離Wで対向させた1対
の基板受け台を立設させ、且つ両者間には誘導溝
を穿設するのほか、供給側キヤリヤーア内の基板
を下方位置から真空吸着すると共に上記誘導溝を
経て基板受け台位置まで搬送するための搬送チヤ
ツクを設け、一方スピンドルチヤツクは一定高さ
位置間を昇降するように設けしめると共に、該ス
ピンドルチヤツクを中心とする左右対称方向の一
定距離間を移動する1対のフオークをベース板と
平行をなす一定高さ位置に配設し、このうち供給
側キヤリアーへ向うフオークは対向間距離dを上
記基板受け台間距離Wより大なる寸法で且つ各先
端部には相反する外方へ向つて基板周縁の一部と
一致する切欠円の形成された位置決めフツクを取
付け、他方各フオークは各フオークを支持してな
る水平支持アームとの間に前記スピンドルチヤツ
ク並びに該スピンドルチヤツク上に保持された基
板を通過するに充分な立体空間を形成した構成と
なしたことから同時にフオークに対する基板の供
給とスピンドルチヤツクよりの基板の取り外し、
及び又はスピンドルチヤツクへの基板の供給と収
納側キヤリアーへの基板の収納を、基板周縁部の
衝突なしに、しかも確実に位置決めし、且つ搬送
可能とする。この結果、被膜厚のバラツキが解消
され、ウエハー周辺部の汚れや搬送時のゴミの付
着がなくなり、従来方式では困難であつた高粘度
ネガレジスト塗布後のウエハー搬送も確実に行い
得るのであり、超SLIの量産に最適な装置として
著効を奏せしめるものである。
As described above, the present invention has a spindle chuck on a base plate, and a storage side carrier is arranged in series on one side and a supply side carrier on the other side, and a base plate facing the spindle chuck of the supply side carrier is arranged in series. A pair of substrate holders are erected on the top facing each other at a certain distance W, and a guide groove is provided between the two. In addition, the substrates in the supply side carrier are vacuum-adsorbed from a lower position, and the above-mentioned A transport chuck is provided for transporting the substrate through the guide groove to the substrate holder position, and a spindle chuck is provided to move up and down between fixed height positions, and a fixed horizontal symmetrical direction around the spindle chuck is provided. A pair of forks that move over a distance are arranged at a constant height position parallel to the base plate, and among these, the fork facing the supply side carrier has a distance d between them that is larger than the distance W between the substrate holders. Moreover, a positioning hook in which a cutout circle that coincides with a part of the circumferential edge of the board is formed is attached to each distal end, and each fork is connected to a horizontal support arm that supports each fork. Since the spindle chuck and the substrate held on the spindle chuck are configured to have a three-dimensional space sufficient to pass through, it is possible to simultaneously supply the substrate to the fork and remove the substrate from the spindle chuck.
And/or to supply a substrate to a spindle chuck and to store the substrate in a carrier on a storage side without causing collision of the peripheral edge of the substrate, and to surely position and transport the substrate. As a result, variations in film thickness are eliminated, dirt around the wafer and dust adhesion during transportation are eliminated, and the wafer can be reliably transported after coating with a high viscosity negative resist, which was difficult with conventional methods. This is an extremely effective device that is ideal for mass production of super SLI.

上記実施例ではフオークの左右移動をシリンダ
ーのピストンの伸縮より行われるものについて説
明したが、シリンダーに代り、タイミングベルト
とパルスモーター又はリニアパルスモーターなど
の採用により行うようになしても良く本発明実施
の範囲内とする。その他各部の修正及び変更は自
由である。
In the above embodiment, the left and right movement of the fork was explained as being performed by the expansion and contraction of the piston of the cylinder, but instead of the cylinder, the present invention may be implemented by using a timing belt and a pulse motor or a linear pulse motor. within the range of Other parts may be modified or changed freely.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来技術のエアー搬送とOリング搬送
を示す略式図、第2図は従来のエアー搬送を使用
した回転処理装置の全体斜視図、第3図a〜fは
その作用説明図、第4図は本発明装置のフオーク
部可動機構を示す斜視図、第5図は本発明装置の
待期位置の状態に於ける全体斜視図、第6図a〜
iはその作用説明図である。 1…基板、8…供給側キヤリヤー、12…スピ
ンドルチヤツク、16a,16b…基板受け台、
17,17′…フオーク、18a,18b…位置
決めフツク、19,19′…水平支持板、22…
収納側キヤリヤー、25…シリンダー、26…シ
リンダー、27…摺動匣、30…ベース板、32
…レール、33…誘導溝、36…搬送チヤツク、
36…小溝、37a,37b,37′a,37′b
…真空孔。
FIG. 1 is a schematic diagram showing conventional air conveyance and O-ring conveyance, FIG. 2 is an overall perspective view of a rotary processing apparatus using conventional air conveyance, FIG. Fig. 4 is a perspective view showing the fork part movable mechanism of the device of the present invention, Fig. 5 is a perspective view of the entire device of the present invention in the standby position, and Figs.
i is an explanatory diagram of its action. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Board, 8... Supply side carrier, 12... Spindle chuck, 16a, 16b... Board holder,
17, 17'...Fork, 18a, 18b... Positioning hook, 19, 19'... Horizontal support plate, 22...
Storage side carrier, 25...Cylinder, 26...Cylinder, 27...Sliding box, 30...Base plate, 32
...Rail, 33...Guiding groove, 36...Transportation chuck,
36...Small groove, 37a, 37b, 37'a, 37'b
...Vacuum hole.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ベース板上のスピンドルチヤツクを挾んで片
方には収納側キヤリヤーを、他方には供給側キヤ
リヤーを、直列状態に配設すると共に、供給側キ
ヤリヤーのスピンドルチヤツクに向うベース板上
には一定距離Wで対向させた1対の基板受け台を
立設させ、且つ両者間には誘導溝を穿設するのほ
か、供給側キヤリヤー内の基板を下方位置から真
空吸着すると共に上記誘導溝を経て基板受け台位
置まで搬送するための搬送チヤツクを設け、一方
スピンドルチヤツクは一定高さ位置間を昇降する
ように設けしめると共に、該スピンドルチヤツク
を中心とする左右対称方向の一定距離間を移動す
る1対のフオークをベース板と平行をなす一定高
さ位置に配設し、このうち供給側キヤリヤーへ向
うフオークは対向間距離Wより大なる寸法で且つ
各先端部には相反する外方へ向つて基板周縁の一
部と一致する切欠円の形成された位置決めフツク
を取付け、他方各フオークは各フオークを支持し
てなる水平支持アームとの間に前記スピンドルチ
ヤツク並びに該スピンドルチヤツク上に保持され
た基板を通過するに充分な立体空間が形成されて
いることを特徴とした基盤の搬送装置。 2 ベース板上のスピンドルチヤツクを挾んで片
方には収納側キヤリヤーを、他方には供給側キヤ
リヤーを直列状態に配設すると共に、供給側キヤ
リヤーのスピンドルチヤツクに向うベース板上に
は一定距離Wで対向させた1対の基板受け台を立
設させ、且つ両者間には誘導溝を穿設するのほ
か、供給側キヤリヤー内の基板を下方位置から真
空吸着すると共に上記誘導溝を経て基板受け台位
置まで搬送するための搬送チヤツクを設け、一方
スピンドルチヤツクは一定高さ位置間を昇降する
ように設けしめると共に、該スピンドルチヤツク
を中心とする左右対称方向の一定距離間を移動す
る1対のフオークをベース板と平行をなす一定高
さ位置に配設し、このうち供給側キヤリヤーへ向
うフオークは対向間距離dを上記基板受け台間距
離Wより大なる寸法で且つ各先端部には相反する
外方へ向つて基板周縁の一部と一致する切欠円の
形成された位置決めフツクを取付け、他方各フオ
ークは各フオークを支持してなる水平支持アーム
との間に前記スピンドルチヤツク並びに該スピン
ドルチヤツク上に保持された基板を通過するに充
分な立体空間を形成し、また上記供給側キヤリヤ
ー及び収納側キヤリヤーには水平状の等間ピツチ
に多数の小溝を穿設し、且つ供給側キヤリヤーの
各小溝には基板を棚段状に載置すると共に、該供
給側キヤリヤーは1ピツチ毎に間歇下降させ、こ
れに対し収納側キヤリヤーは1ピツチ毎に間歇上
昇する構成を特徴とした基板の搬送装置。
[Scope of Claims] 1. A storage side carrier is placed on one side of the spindle chuck on the base plate, and a supply side carrier is placed on the other side in series, and the spindle chuck is directed toward the spindle chuck of the supply side carrier. A pair of substrate holders are erected on the base plate facing each other at a certain distance W, and a guide groove is bored between the two, and the substrates in the supply side carrier are vacuum-adsorbed from a lower position. A conveyance chuck is also provided for conveying the substrate through the guide groove to the substrate holder position, while a spindle chuck is provided to move up and down between fixed height positions, and in a symmetrical direction around the spindle chuck. A pair of forks that move over a certain distance are arranged at a certain height parallel to the base plate, and among these, the fork facing the supply side carrier has a dimension larger than the distance W between opposite sides, and has a diameter at each tip. A positioning hook having a cutout circle formed therein which coincides with a part of the peripheral edge of the board is attached facing outwardly to the opposite side, and each fork is provided with the spindle chuck and the horizontal support arm formed by supporting each fork. A substrate conveyance device characterized in that a three-dimensional space sufficient for passing the substrate held on the spindle chuck is formed. 2. A storage side carrier is arranged in series on one side of the spindle chuck on the base plate, and a supply side carrier is arranged on the other side, and a fixed distance is placed on the base plate facing the spindle chuck of the supply side carrier. In addition to setting up a pair of substrate holders facing each other at W, and drilling a guide groove between them, the substrates in the supply side carrier are vacuum-adsorbed from a lower position, and the substrates are transferred through the guide grooves. A transport chuck is provided for transporting the material to the receiving position, while a spindle chuck is provided to move up and down between fixed height positions, and to move over a fixed distance in a symmetrical direction around the spindle chuck. A pair of forks are arranged at a constant height position parallel to the base plate, and among these, the fork facing the supply side carrier has a distance d between the opposing sides that is larger than the distance W between the substrate holders, and each tip thereof A positioning hook having a cutout circle formed with a part of the circumferential edge of the board is attached facing outward to the opposite side, and each fork has the spindle chuck between it and a horizontal support arm supporting each fork. A sufficient three-dimensional space is formed for the substrate held on the spindle chuck to pass through, and a large number of small grooves are bored at equal horizontal pitches in the supply side carrier and the storage side carrier, and The substrates are placed on each of the small grooves of the supply side carrier in a tiered manner, and the supply side carrier is intermittently lowered every pitch, whereas the storage side carrier is intermittently raised every pitch. Transport device for printed circuit boards.
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