JPS63213694A - 電気的用途の金属ワイヤ上に移動モードでニツケルの連続薄膜を電着するための方法及び装置 - Google Patents
電気的用途の金属ワイヤ上に移動モードでニツケルの連続薄膜を電着するための方法及び装置Info
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- JPS63213694A JPS63213694A JP63001137A JP113788A JPS63213694A JP S63213694 A JPS63213694 A JP S63213694A JP 63001137 A JP63001137 A JP 63001137A JP 113788 A JP113788 A JP 113788A JP S63213694 A JPS63213694 A JP S63213694A
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- nickel plating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0607—Wires
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電気的用途の金属ワイヤ上に、大きさが調整
可能な小球の形態でニッケルの連続薄膜’(JJ動モー
ドで電着するための方法及び装置に閏する。
可能な小球の形態でニッケルの連続薄膜’(JJ動モー
ドで電着するための方法及び装置に閏する。
本出願人名義の米国特許第4492615号明細書は、
長い金属を金属層で被覆する方法及び装置を開示してい
る。特にそれは直接にニッケルめ−)きする方法、即ち
中間層を適用せずに、直径が1.5〜3Iの間であり且
つ工業的に又は家庭内で使用されるアルミニウム又はそ
の合金の一つの導電1N上に直接にニッケルめっきをす
る方法に適用される。
長い金属を金属層で被覆する方法及び装置を開示してい
る。特にそれは直接にニッケルめ−)きする方法、即ち
中間層を適用せずに、直径が1.5〜3Iの間であり且
つ工業的に又は家庭内で使用されるアルミニウム又はそ
の合金の一つの導電1N上に直接にニッケルめっきをす
る方法に適用される。
該方法は、ワイヤから潤滑残油を取去った?・≧に、本
明細言中に於いては以降活性化槽と称する液体電流供給
手段にワイヤを通すことから成る。活性化槽の中では、
直流又はパルス状の電流の流れのためにワイヤは正に帯
電しており、且つ槽に3よれる酸1ヒ合物及び/又は塩
化合物の作用で、そのに面は、活性とされる後続の被覆
又はコーティング操作に中し分なく適したものとなる。
明細言中に於いては以降活性化槽と称する液体電流供給
手段にワイヤを通すことから成る。活性化槽の中では、
直流又はパルス状の電流の流れのためにワイヤは正に帯
電しており、且つ槽に3よれる酸1ヒ合物及び/又は塩
化合物の作用で、そのに面は、活性とされる後続の被覆
又はコーティング操作に中し分なく適したものとなる。
次いでワイヤをニッケルy)つき槽に通ずと、何様の電
流のために負に帯電して、連続3膜を形成するまて次第
にニッケルで被覆される。この方法ならば1分間に30
0メートル近い速度で移動するワイヤ上に、厚さ数ミク
ロンであって、信頼性がある導電体を提供するためには
不可欠な特性である良好なレベルの粘着性及び低くて無
変化な接触抵抗を有するニソゲル薄膜と作製することが
可能である。薄膜の上記粘着性は、ニッケル被覆がめく
れたりはがれたりしないで直径0.78+o+oまで延
伸することがでさる程であった。
流のために負に帯電して、連続3膜を形成するまて次第
にニッケルで被覆される。この方法ならば1分間に30
0メートル近い速度で移動するワイヤ上に、厚さ数ミク
ロンであって、信頼性がある導電体を提供するためには
不可欠な特性である良好なレベルの粘着性及び低くて無
変化な接触抵抗を有するニソゲル薄膜と作製することが
可能である。薄膜の上記粘着性は、ニッケル被覆がめく
れたりはがれたりしないで直径0.78+o+oまで延
伸することがでさる程であった。
上記1S許は、活性(ヒタンク及びニッケルめ−)きタ
ンクが各々貝さ5メーI〜ル近くあり且つ、各)(が槽
中をワ(−’t−が移動する経路全体に、ワイヤと平行
に延びる漏下又は平面状の電極を備えている小型装置ら
開示している。
ンクが各々貝さ5メーI〜ル近くあり且つ、各)(が槽
中をワ(−’t−が移動する経路全体に、ワイヤと平行
に延びる漏下又は平面状の電極を備えている小型装置ら
開示している。
直径llll111未満の幾本かのニッケルめっきアル
ミニウムワイヤによって形成してあるストランドから電
気テーブル3作製する1」的で、上記方法にワイー\・
を所望の直径にするワイヤ延伸操作を追加して上記方法
を使用することを試みた。しかし断面を充分小さくした
ニッケル被覆に崩壊が発生し、得られるワイヤの接触抵
抗における不利な変動を生じるという困難が生じた。
ミニウムワイヤによって形成してあるストランドから電
気テーブル3作製する1」的で、上記方法にワイー\・
を所望の直径にするワイヤ延伸操作を追加して上記方法
を使用することを試みた。しかし断面を充分小さくした
ニッケル被覆に崩壊が発生し、得られるワイヤの接触抵
抗における不利な変動を生じるという困難が生じた。
この理由がら、本出願人はワイヤを直接より合わぜして
ワイヤ延伸操作を回避するために、細いワイヤを被覆す
る方法を提(!(することを試みた。
ワイヤ延伸操作を回避するために、細いワイヤを被覆す
る方法を提(!(することを試みた。
しかし粉末状堆積物又は非連続nvAとい−)た新たな
問題に遭遇した。
問題に遭遇した。
この問題点を肝決するために、如いてはいかなる寸法の
ワ・イヤにも解決策が適用されるように、本出願者は本
発明によって、電気的用途の金属ワイヤ上に、大きさが
調整可能な小球の形態でニッケルの連続3膜を移動モー
ドで電着するための方法念開発した。該方法では、油脂
を取り去った後に、電圧分かけた活性化槽に通ずことに
よってワイへ′を電流密度に当てて正に帯電させ、すす
ぎの後て、′工圧企かけた酸ニッケルめっき槽に通すこ
とによってワイヤを電流密度に当てて負に帯電させ、最
後にすずぎ模(ヤ及び乾燥操作を実施するものであって
、ワイヤの移動経路に沿って電流密度を変調させるたy
)に、ニッケルめっき槽の上流部分校び/又は活性化槽
の下流部分では電流密度含低減してあり且つニッケルめ
っき槽の酸性度が1)11値1から5に調整してあるこ
とを特徴とする方法である。
ワ・イヤにも解決策が適用されるように、本出願者は本
発明によって、電気的用途の金属ワイヤ上に、大きさが
調整可能な小球の形態でニッケルの連続3膜を移動モー
ドで電着するための方法念開発した。該方法では、油脂
を取り去った後に、電圧分かけた活性化槽に通ずことに
よってワイへ′を電流密度に当てて正に帯電させ、すす
ぎの後て、′工圧企かけた酸ニッケルめっき槽に通すこ
とによってワイヤを電流密度に当てて負に帯電させ、最
後にすずぎ模(ヤ及び乾燥操作を実施するものであって
、ワイヤの移動経路に沿って電流密度を変調させるたy
)に、ニッケルめっき槽の上流部分校び/又は活性化槽
の下流部分では電流密度含低減してあり且つニッケルめ
っき槽の酸性度が1)11値1から5に調整してあるこ
とを特徴とする方法である。
従って、該方法は上記特許方法で使用している1段を包
3するが、それに特別な手段ら加えており、該特別手段
ではニッケルめつき槽中で、一方でワイヤに完全に密着
する小球という11殊な形態でニッケルの堆積物を生じ
、そうして粉末状の堆積物を回避でき、また一方では、
ワイヤ」−に連続的なt皮層又はコーティングを施すよ
うに面記小球の大きさ及び分布を調整できる。活性化槽
に於いて、上記特別手段は、特にニッケルのための定着
中心(rixiB centar)を生成させることに
よって、ワイヤ表面の調製に有益であることが判明して
いる。
3するが、それに特別な手段ら加えており、該特別手段
ではニッケルめつき槽中で、一方でワイヤに完全に密着
する小球という11殊な形態でニッケルの堆積物を生じ
、そうして粉末状の堆積物を回避でき、また一方では、
ワイヤ」−に連続的なt皮層又はコーティングを施すよ
うに面記小球の大きさ及び分布を調整できる。活性化槽
に於いて、上記特別手段は、特にニッケルのための定着
中心(rixiB centar)を生成させることに
よって、ワイヤ表面の調製に有益であることが判明して
いる。
上記手段は、一方でニッケルめつき槽の上流部分及び/
又は活性化槽の下流部分の電流密度を低減することによ
って形成される。実際、単一電極であるか又は複数電極
であってもそれは槽に2r>つて規則的な配列で分布し
ており且つワイヤに平行であった従来の技術では、電流
密度は二ンゲルめっき槽の上流部分では非常に高くて、
特に電流密度のレベルはり・えられた電流の強度が増加
するのに比例して増加し、このことは堆積物の品質に有
害になり得ることが判明した。
又は活性化槽の下流部分の電流密度を低減することによ
って形成される。実際、単一電極であるか又は複数電極
であってもそれは槽に2r>つて規則的な配列で分布し
ており且つワイヤに平行であった従来の技術では、電流
密度は二ンゲルめっき槽の上流部分では非常に高くて、
特に電流密度のレベルはり・えられた電流の強度が増加
するのに比例して増加し、このことは堆積物の品質に有
害になり得ることが判明した。
本出願人は、基板に密着し且つ最高の状態で被覆する小
球の形態で、接触抵抗を低いレベルに押さえるニッケル
層を生成するためには、ニッケルy)つき槽の上流部分
の電流密着を低減する必要があることを見出だした。
球の形態で、接触抵抗を低いレベルに押さえるニッケル
層を生成するためには、ニッケルy)つき槽の上流部分
の電流密着を低減する必要があることを見出だした。
改良の重点は電流密度の変化量のグラフ(profil
e)を置き換えることにあって、該グラフは従来の方法
では固有であり、即ち槽の放電の入口から下降する曲線
であるが、本発明%方法では、それを規則的に上昇した
後になだらかに下降するグラフであって特に最大密度が
槽の全長の入口から部分の−から中間の間にあるように
置き換え。
e)を置き換えることにあって、該グラフは従来の方法
では固有であり、即ち槽の放電の入口から下降する曲線
であるが、本発明%方法では、それを規則的に上昇した
後になだらかに下降するグラフであって特に最大密度が
槽の全長の入口から部分の−から中間の間にあるように
置き換え。
最大密度と最小密度の差をできるだけ小さくするように
配置する。
配置する。
これらの条件下では、小球の大きさが小さくなることで
ワイヤの被覆が高度となり、その結果接触抵抗のレベル
が著しく向上することが分かる。
ワイヤの被覆が高度となり、その結果接触抵抗のレベル
が著しく向上することが分かる。
本発明による手段は、また一方ではニッケルめっき槽の
酸性度をpHHI3ら5の間に調整することを包含する
。その理由は本出願人は、この範囲であれば上記長所を
備えたニッケル小球の大きさを小さくすることが可能で
あることを見出だしたからである。特に酸性度のレベル
が増加する程よいが、これらの結果はpH値2.5から
3.5の間で特に明らかに達成さノLる。
酸性度をpHHI3ら5の間に調整することを包含する
。その理由は本出願人は、この範囲であれば上記長所を
備えたニッケル小球の大きさを小さくすることが可能で
あることを見出だしたからである。特に酸性度のレベル
が増加する程よいが、これらの結果はpH値2.5から
3.5の間で特に明らかに達成さノLる。
槽の酸性度はニッケルめっき槽中の例えばスルファミン
酸の量を増やすことによって高くできるが、ニッケルめ
っき槽は上記1¥51に記載してあるように、塩1にニ
ッケル及びオルI・ホウ酸ムまた3白し、−力活性化槽
は上記特許に記載してある5′)と同じ成分を3存する
。
酸の量を増やすことによって高くできるが、ニッケルめ
っき槽は上記1¥51に記載してあるように、塩1にニ
ッケル及びオルI・ホウ酸ムまた3白し、−力活性化槽
は上記特許に記載してある5′)と同じ成分を3存する
。
本発明による方法は、例えば銅線といったいかなる金属
ワイヤにら適用されt′するが、電気的用途の、アルミ
ニウム又はそのh金の一つのワイヤのニッケルめっきに
は特に魅力的である。なぜならば、その比較的小さい比
質量とその為に重量か小さいので、例えば膝軸又は空伯
備晶に適・J−る、1うなケーブル製造のために銅と置
き換えるならば、エイ、ルギーを充分節約することがで
きるからである。
ワイヤにら適用されt′するが、電気的用途の、アルミ
ニウム又はそのh金の一つのワイヤのニッケルめっきに
は特に魅力的である。なぜならば、その比較的小さい比
質量とその為に重量か小さいので、例えば膝軸又は空伯
備晶に適・J−る、1うなケーブル製造のために銅と置
き換えるならば、エイ、ルギーを充分節約することがで
きるからである。
該方法は、同じ槽中に鉛直方向に整列した配列状に設置
してある複数のワイヤ又はストランドを同時にニッケル
めっきすることによって作製され得るス1〜ランド導線
及びケーブルの作製に適する強度な密着被覆を提供する
ので、特に小断面(11未満)のスI・ランド又はワイ
ヤのニッケルめっきに適している。
してある複数のワイヤ又はストランドを同時にニッケル
めっきすることによって作製され得るス1〜ランド導線
及びケーブルの作製に適する強度な密着被覆を提供する
ので、特に小断面(11未満)のスI・ランド又はワイ
ヤのニッケルめっきに適している。
本発明は上記方法を実施するための装置にも関する。
上記特許のように、該装置は、ワイヤが移動する方向に
、活性化槽を包含する第一タンクと、ずずぎ区画室と、
ニッケルめっき槽を包含する第二タンクとから成り、二
つのタンク各々は少なくとも二対の1扁平な電極を備え
ており、各対はワイヤの両側に設置してある電極の形態
であり且つ少なくとも一部がそれぞれの槽に浸してあっ
て、活性化槽の対は負の電流源に接続してあり且つニッ
ケルめっき槽の対は正の電流源に接続してある装置であ
る。そして、前記対の少なくとも一つの電極が可動性で
あり且つ少なくとも一つの隣接する対とワイヤとに対す
る距雛が調整可能であり、各前記電極及びワイ−Vの間
に電気的絶縁材料でできた少なくとも一つの可動性スク
リーンが設置してあることを1.?徴とする。
、活性化槽を包含する第一タンクと、ずずぎ区画室と、
ニッケルめっき槽を包含する第二タンクとから成り、二
つのタンク各々は少なくとも二対の1扁平な電極を備え
ており、各対はワイヤの両側に設置してある電極の形態
であり且つ少なくとも一部がそれぞれの槽に浸してあっ
て、活性化槽の対は負の電流源に接続してあり且つニッ
ケルめっき槽の対は正の電流源に接続してある装置であ
る。そして、前記対の少なくとも一つの電極が可動性で
あり且つ少なくとも一つの隣接する対とワイヤとに対す
る距雛が調整可能であり、各前記電極及びワイ−Vの間
に電気的絶縁材料でできた少なくとも一つの可動性スク
リーンが設置してあることを1.?徴とする。
このように、従来の技術とは異なり、タンクに沿って規
則的に且つワイヤから等距離に配設される一つ又はそれ
以上の電極に代わって、本発明による装置は、一方で、
電極を相互に近(=Iけるか又は1.7にタンクの端部
の一方で電極を遠ざけるか若しくは自由空間を残すため
に、タンクの長さく縦)方向に沿って変位するか、或い
は、被覆されるべきワイヤの方に多少なりとも電極を移
動させるために、タンクの上記とは別の次元方向に沿っ
て変位される対をなす電極によって形成されている。
則的に且つワイヤから等距離に配設される一つ又はそれ
以上の電極に代わって、本発明による装置は、一方で、
電極を相互に近(=Iけるか又は1.7にタンクの端部
の一方で電極を遠ざけるか若しくは自由空間を残すため
に、タンクの長さく縦)方向に沿って変位するか、或い
は、被覆されるべきワイヤの方に多少なりとも電極を移
動させるために、タンクの上記とは別の次元方向に沿っ
て変位される対をなす電極によって形成されている。
この形態では、電極がない箇所では電流密度が低減し且
つワイヤの方に電極が近付くと電流密度が増大するとい
う事実を考慮すれば、ワイヤに沿った電流密度の変化量
のグラフを変調することが可能である。
つワイヤの方に電極が近付くと電流密度が増大するとい
う事実を考慮すれば、ワイヤに沿った電流密度の変化量
のグラフを変調することが可能である。
特に上記グラフは、ニッケルめっきタンクの上流部分及
び/又は活性化タンクの下流部分に自由空間を残すか、
又は上記部分とは反対の部分でワイヤの方へ電極を移動
させることによって、得られる。
び/又は活性化タンクの下流部分に自由空間を残すか、
又は上記部分とは反対の部分でワイヤの方へ電極を移動
させることによって、得られる。
1[極を移動させるための特殊手段については、当業者
の知諾に基づきf’fE製され得る。
の知諾に基づきf’fE製され得る。
本発明による装置には、少なくとも一対の電極の各々と
ワイヤとの間にある少なくとも一つの可動性スクリーン
が更に存在する。スクリーンは電気絶縁材料からできて
おり、且つ活性化又はニッケルめっき槽に対して充分な
抵抗レベルを有するのが好ましい。スクリーンはワイヤ
から遠ざけたりワイヤに近付けたりして設置し、少なく
とも電極を一部マスクして槽を流れる電流のラインを中
断又は迂回さU゛、従って槽の正確な箇所での゛3E流
密度を低減することができる。
ワイヤとの間にある少なくとも一つの可動性スクリーン
が更に存在する。スクリーンは電気絶縁材料からできて
おり、且つ活性化又はニッケルめっき槽に対して充分な
抵抗レベルを有するのが好ましい。スクリーンはワイヤ
から遠ざけたりワイヤに近付けたりして設置し、少なく
とも電極を一部マスクして槽を流れる電流のラインを中
断又は迂回さU゛、従って槽の正確な箇所での゛3E流
密度を低減することができる。
1−記グラフを作製−J−るために、スクリーンはニッ
ケルめ−)きタンクの上流部分及び/′又は活性化タン
クの下流部分に設置してある。しかし、可変直径の孔を
6市えたスクリーン分使用すれば、上記グラフに更によ
い効果を生じることができる。好適には、孔の数はタン
ク内のスクリーンの位置に従ってI耳変てあり、特に穴
の数はワイへ′が移動する方向に増加する。孔がないス
クリーン及び孔を有するスクリーンを組きわせることも
可能である。
ケルめ−)きタンクの上流部分及び/′又は活性化タン
クの下流部分に設置してある。しかし、可変直径の孔を
6市えたスクリーン分使用すれば、上記グラフに更によ
い効果を生じることができる。好適には、孔の数はタン
ク内のスクリーンの位置に従ってI耳変てあり、特に穴
の数はワイへ′が移動する方向に増加する。孔がないス
クリーン及び孔を有するスクリーンを組きわせることも
可能である。
上記形態の装置は、密封手段を備えて相互に並んだ適当
な開口を有し、端と端とを縦につなく閏1系にあるタン
クの壁を提供することによって、一本又はそれ以上ワイ
ヤの処理に適す。好適には、ワイヤと槽との間の交換を
促進するために、ポンプによって槽に循環を与えること
が可能である。
な開口を有し、端と端とを縦につなく閏1系にあるタン
クの壁を提供することによって、一本又はそれ以上ワイ
ヤの処理に適す。好適には、ワイヤと槽との間の交換を
促進するために、ポンプによって槽に循環を与えること
が可能である。
つまり装置は、ニッケルめっきタンクから伴出(enL
rain)された槽を脱塩水によって除去するためのす
すぎ区画室によって完全なものとなり、ワイヤをぬらす
水は乾燥区画室で蒸発される。
rain)された槽を脱塩水によって除去するためのす
すぎ区画室によって完全なものとなり、ワイヤをぬらす
水は乾燥区画室で蒸発される。
タンク及びすすぎ区画室のアセンブリはモジュール要素
の形態であり、その長さ及び断面は、関連する被覆の問
題点に適用でき且つ相互に容易に剃[合わせられるよう
にしてある。
の形態であり、その長さ及び断面は、関連する被覆の問
題点に適用でき且つ相互に容易に剃[合わせられるよう
にしてある。
添付の図面を参照すれば本発明がより理解される。第1
図はニッケルy)つきタンクの透視図であって、中央対
称面のわずかに手前の位置の鉛直方向・F面に沿った、
タンクの長さ方向の断面図である。
図はニッケルy)つきタンクの透視図であって、中央対
称面のわずかに手前の位置の鉛直方向・F面に沿った、
タンクの長さ方向の断面図である。
第1図には平行六面体形のタンク1を示してあり、その
小さい面2には三つの孔3が開けてあ−)て、この孔3
を3木の金属ワイヤ又はストランド4が通って矢印5で
示す方向にニッケルめっき槽中を移動する。ワイヤ、1
の配列の両側には、垂直方向に設置してあり且つワイヤ
がタンクを通して移動する方向で次第にワイヤに近f寸
く8個の電極7の内の4個を示す、電極7は正の電流源
(不図示)に接続してあり、ワイヤ4は負に帯電してあ
る。
小さい面2には三つの孔3が開けてあ−)て、この孔3
を3木の金属ワイヤ又はストランド4が通って矢印5で
示す方向にニッケルめっき槽中を移動する。ワイヤ、1
の配列の両側には、垂直方向に設置してあり且つワイヤ
がタンクを通して移動する方向で次第にワイヤに近f寸
く8個の電極7の内の4個を示す、電極7は正の電流源
(不図示)に接続してあり、ワイヤ4は負に帯電してあ
る。
電極とワイヤ4の配列との間には、ワイ−S’ 4の配
列に平行で且つそれらの間は等間隔である8個のスクリ
ーン8の内の11個を示す。ワイヤが移動する方向に最
θノの2個のスクリーン8は孔がないが、3番目のスク
リーンは6個の孔9を有し且つQ後のスクリーンは12
個の孔を存する。
列に平行で且つそれらの間は等間隔である8個のスクリ
ーン8の内の11個を示す。ワイヤが移動する方向に最
θノの2個のスクリーン8は孔がないが、3番目のスク
リーンは6個の孔9を有し且つQ後のスクリーンは12
個の孔を存する。
電極及びスクリーンは、タンク中を長さ方向及び横方向
に変位させられる手段(不図示)によって槽中に息出し
てある。槽は、あふれ手段lOからの流れによって与え
られ且つ槽を分配アセンブリ11にポンプで組込むポン
プ(不図示)を用いて上向きに循環運動をしている。
に変位させられる手段(不図示)によって槽中に息出し
てある。槽は、あふれ手段lOからの流れによって与え
られ且つ槽を分配アセンブリ11にポンプで組込むポン
プ(不図示)を用いて上向きに循環運動をしている。
活性化タンクについてもこのように表される。
本発明を、次の本発明の使用の実施例によって説明する
。
。
火遣干しL
この実施例は、
一白径が1000x120x120+o+nであって、
容積80リッ1−ルのリバースタンクからポンプで組み
入れた70°Cの溶液9リットルが入った第一すすぎ区
真宗と、−ずすぎ区画室と、 一寸法が10100x80x80であり且つ40ホルI
・で200OA供給できる電流源の負端子に接続してあ
る電極と、電流密度を適当に選択して分配するために設
置された寸法120x40x5+niのポリプロピレン
のスクリーンとを備えた、内径IQOOX120X12
011+111の活性化タンクであって、611□0含
有する塩化ニッケル125g/ρとオルトホウ酸12.
5g/ρと、フッ化水素酸Gcm3/1とを含有する4
5°Cの溶液が入れてあり、?HJIL 6 +a3/
時間で上向きに循環している前記活性(ヒタンクと、 一第二すずぎ区画室と、 一活性化タンクと同じ電流源の正端子に接続してある電
極と、活性化タンクのらのと同じ−・1法のスクリーン
とを備えた、内径1000x120x120++onの
ニッケルめ−)きタンクであって、そのアセンブリは第
1図に示ず通りてあり、スルファミン酸ニッケル:10
0g/L!:、i= (ヒ−T−ッ’I ル30g/l
ト、 オルトホウ酸30g/2 ):=をか在して、
p++値3.2を(Tする65℃(’) ?8 lIV
。
容積80リッ1−ルのリバースタンクからポンプで組み
入れた70°Cの溶液9リットルが入った第一すすぎ区
真宗と、−ずすぎ区画室と、 一寸法が10100x80x80であり且つ40ホルI
・で200OA供給できる電流源の負端子に接続してあ
る電極と、電流密度を適当に選択して分配するために設
置された寸法120x40x5+niのポリプロピレン
のスクリーンとを備えた、内径IQOOX120X12
011+111の活性化タンクであって、611□0含
有する塩化ニッケル125g/ρとオルトホウ酸12.
5g/ρと、フッ化水素酸Gcm3/1とを含有する4
5°Cの溶液が入れてあり、?HJIL 6 +a3/
時間で上向きに循環している前記活性(ヒタンクと、 一第二すずぎ区画室と、 一活性化タンクと同じ電流源の正端子に接続してある電
極と、活性化タンクのらのと同じ−・1法のスクリーン
とを備えた、内径1000x120x120++onの
ニッケルめ−)きタンクであって、そのアセンブリは第
1図に示ず通りてあり、スルファミン酸ニッケル:10
0g/L!:、i= (ヒ−T−ッ’I ル30g/l
ト、 オルトホウ酸30g/2 ):=をか在して、
p++値3.2を(Tする65℃(’) ?8 lIV
。
を入れてあり、!ffi;i!:6i+’/時間で上向
きに循環している前記タンクと、 一第三すずぎ区画室と、 一乾燥オーブン とを連続的に邑合する装置を使用する。
きに循環している前記タンクと、 一第三すずぎ区画室と、 一乾燥オーブン とを連続的に邑合する装置を使用する。
この装置を使用して、アルミニウム、協会基準で131
0.50型、直径0.5In++nのアルミニウムの5
本のワイヤ又はスI−ランドを同時に装置内を通して1
分間に50メートルの速度で移動さゼ/と。
0.50型、直径0.5In++nのアルミニウムの5
本のワイヤ又はスI−ランドを同時に装置内を通して1
分間に50メートルの速度で移動さゼ/と。
得られたスI〜ランド又はワイヤは各々、直径1、Op
の小球の形態で平均の厚さ1.511Inのニッケルで
被覆された。これを第2図に3000倍に拡大して示し
、従来の技術に相当する第3図と比較できるようにした
。第3図はかなり大きい小球(3/J)であり連続層を
形成していない。
の小球の形態で平均の厚さ1.511Inのニッケルで
被覆された。これを第2図に3000倍に拡大して示し
、従来の技術に相当する第3図と比較できるようにした
。第3図はかなり大きい小球(3/J)であり連続層を
形成していない。
ワイヤはより合わされて、500gでの接触抵抗につい
てのテストを通して、1.5〜2…Ωの値を示した。一
方従来の技術では、該ワイヤは2mΩより大の1ljf
が得られた。
てのテストを通して、1.5〜2…Ωの値を示した。一
方従来の技術では、該ワイヤは2mΩより大の1ljf
が得られた。
実−に旧42
同じ装置を使用して、実施例1よりも小さい直径、即ち
直径0.32−0.30−0.210.20及び0.1
5の5本のワイヤのアレイを、移動の速度は1分間に2
5〜50メートルで処理すると、直径が1ミクロンより
小さい小球の形態で、接触抵抗のレベル1随Ω未満を有
する、平均の厚さ1.0μのニッケルの堆債物を得た。
直径0.32−0.30−0.210.20及び0.1
5の5本のワイヤのアレイを、移動の速度は1分間に2
5〜50メートルで処理すると、直径が1ミクロンより
小さい小球の形態で、接触抵抗のレベル1随Ω未満を有
する、平均の厚さ1.0μのニッケルの堆債物を得た。
。
これらのニッケルめっきワイヤをより計わせてケーブル
にして、次いで空車公認のN↑゛Iで絶縁した。
にして、次いで空車公認のN↑゛Iで絶縁した。
本発明は、いかなる直径、特に直径1mIII未満の金
属ワイヤ特にアルミニウムのニッケルめっきに適用され
、スI−ランド1ヒ及びケーブル1ヒによって軽量且つ
信顆性のある導電体の製造を可能にし、該導電体は陸輸
又は空輸備品に使用するのには特に結方的であって、使
用される設備の重ff1f!:軽減することによってエ
ネルギーが節約されることは非常に在利なことである。
属ワイヤ特にアルミニウムのニッケルめっきに適用され
、スI−ランド1ヒ及びケーブル1ヒによって軽量且つ
信顆性のある導電体の製造を可能にし、該導電体は陸輸
又は空輸備品に使用するのには特に結方的であって、使
用される設備の重ff1f!:軽減することによってエ
ネルギーが節約されることは非常に在利なことである。
第1図はニッケルめっきタンクの透視図であって、中央
対称面のわずかに手前の位置の鉛直方向平面に沿ったそ
の長さ方向の断面図、第2図は本発明によるニッケルめ
っき層の拡大写真、第3図は&を来の技術によるニッケ
ルめっき層の拡大写真である。 1・・・タンク、2・・・面、3,9・・・孔、・1・
・・ワイヤ、5・・・矢印、6・・・ニッケルめっき槽
、7・・・電極、8・・・スクリーン、10・・・あふ
れ手段、11り分配アセンフリ。
対称面のわずかに手前の位置の鉛直方向平面に沿ったそ
の長さ方向の断面図、第2図は本発明によるニッケルめ
っき層の拡大写真、第3図は&を来の技術によるニッケ
ルめっき層の拡大写真である。 1・・・タンク、2・・・面、3,9・・・孔、・1・
・・ワイヤ、5・・・矢印、6・・・ニッケルめっき槽
、7・・・電極、8・・・スクリーン、10・・・あふ
れ手段、11り分配アセンフリ。
Claims (18)
- (1)電気的用途の金属ワイヤ上に、大きさが制御可能
な小球の形態のニッケルの連続薄膜を移動モードで電着
するために、油脂を取り去った後に、電圧をかけた活性
化槽を通すことによってワイヤを電流密度に当てて正に
帯電させ、すすぎの後で、電圧をかけたニッケルめっき
槽を通すことによつてワイヤを電流密度に当てて負に帯
電させ、最後にすすぎ操作及び乾燥操作を実施する方法
であって、ワイヤの移動経路に沿って電流密度を変調さ
せるために、ニッケルめっき槽の上流部分及び/又は活
性化槽の下流部分では電流密度を低減し、且つニッケル
めっき槽の酸性度がpH値1から5の間に調整してある
ことを特徴とする前記方法。 - (2)ワイヤが移動する方向に電流密度を緩やかに増加
させ次いで減少させることを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載の方法。 - (3)槽の最初の三分の一と中間との間で最大値を有す
るように電流密度を増加させることを特徴とする特許請
求の範囲第2項に記載の方法。 - (4)小球の大きさを小さくするために、最大密度と最
小密度との差違を小さくすることを特徴とする特許請求
の範囲第3項に記載の方法。 - (5)堆積させる小球の大きさを小さくするために、ニ
ッケルめっき槽の酸性度を高くすることを特徴とする特
許請求の範囲第1項に記載の方法。 - (6)酸性度が2.2から3.5の間のpH値であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 - (7)電気的用途の、アルミニウム又はその合金の一つ
のニッケルめっきワイヤであることを特徴とする特許請
求の範囲第1項に記載の方法。 - (8)直径が1mm未満のニッケルめっきワイヤである
ことを特徴とする特許請求の範囲第7項に記載の方法。 - (9)ニッケルめっきワイヤが、次いでより合わされる
少なくとも二つの分離したストランドの鉛直方向に整列
した配列の形態であることを特徴とする特許請求の範囲
第8項に記載の方法。 - (10)特許請求の範囲第1項に記載の方法を実施する
ためのものであり、ワイヤが移動する方向に、活性化槽
を包含する第一タンクと、すすぎ区画室と、ニッケルめ
っき槽を包含する第二タンクとから成っており、二つの
タンク各々は少なくとも二対の偏平な電極を備えており
、各対はワイヤの両側に設置してある電極の形態であり
且つ少なくとも一部がそれぞれの槽に浸してあって、活
性化槽の対は負の電流源に接続してあり且つニッケルめ
っき槽の対は正の電流源に接続してある装置であって、
前記対の少なくとも一つの電極が可動性であり且つ少な
くとも一つの隣接する対とワイヤとに対する距離が調整
可能であり、各前記電極及びワイヤの間に電気的絶縁材
料でできた少なくとも一つの可動性スクリーンが設置し
てあることを特徴とする前記装置。 - (11)隣接する対に対する距離が調整されてニッケル
めっきタンクの上流部分及び/又は活性化タンクの下流
部分に自由空間を残すことを特徴とする特許請求の範囲
第10項に記載の装置。 - (12)ワイヤに対する距離が調整されて、それがニッ
ケルめっきタンクの上流部分及び/又は活性化タンクの
下流部分でより大きいことを特徴とする特許請求の範囲
第10項に記載の装置。 - (13)スクリーンをニッケルめっきタンクの上流部分
及び/又は活性化タンクの下流部分に設置することを特
徴とする特許請求の範囲第10項に記載の装置。 - (14)スクリーンの少なくとも一つには孔を設けてあ
ることを特徴とする特許請求の範囲第10項に記載の装
置。 - (15)孔の数がタンク中のスクリーンの位置によって
可変であることを特徴とする特許請求の範囲第14項に
記載の装置。 - (16)孔の数が、ニッケルめっきタンクではワイヤが
移動する方向に且つ活性化タンクではその反対方向に増
加することを特徴とする特許請求の範囲第15項に記載
の装置。 - (17)ニッケルめっきタンクの後にはすすぎ区画室及
び乾燥区画室があることを特徴とする特許請求の範囲第
10項に記載の装置。 - (18)タンク及び区画室がモジュール型の要素形態で
あることを特徴とする特許請求の範囲第10項に記載の
装置。
Applications Claiming Priority (2)
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FR8700952 | 1987-01-06 | ||
FR8700952A FR2609292B1 (fr) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | Procede et dispositif pour deposer electrolytiquement au defile un film continu de nickel sur du fil metallique a usage electrique |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63213694A true JPS63213694A (ja) | 1988-09-06 |
JPH0317920B2 JPH0317920B2 (ja) | 1991-03-11 |
Family
ID=9347320
Family Applications (1)
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---|---|
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EP (1) | EP0276190B1 (ja) |
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CN (1) | CN1008823B (ja) |
AT (1) | ATE56758T1 (ja) |
AU (1) | AU589106B2 (ja) |
BR (1) | BR8800017A (ja) |
CA (1) | CA1309690C (ja) |
DE (1) | DE3860610D1 (ja) |
DK (1) | DK388A (ja) |
ES (1) | ES2019995B3 (ja) |
FI (1) | FI880021A (ja) |
FR (1) | FR2609292B1 (ja) |
IS (1) | IS1431B6 (ja) |
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CN1180132C (zh) | 2000-05-18 | 2004-12-15 | 克里斯铝轧制品有限公司 | 铝或铝合金工件的制备方法、含水镀液和其应用、组件和其制备方法 |
US6796484B2 (en) | 2001-02-02 | 2004-09-28 | Corus Aluminum Walzprodukte Gmbh | Nickel-plated brazing product having improved corrosion performance |
WO2002086197A1 (en) | 2001-04-20 | 2002-10-31 | Corus Aluminium Walzprodukte Gmbh | Method of plating and pretreating aluminium workpieces |
US6572743B2 (en) * | 2001-08-23 | 2003-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Electroplating assembly for metal plated optical fibers |
US6815086B2 (en) | 2001-11-21 | 2004-11-09 | Dana Canada Corporation | Methods for fluxless brazing |
US7294411B2 (en) * | 2002-01-31 | 2007-11-13 | Aleris Aluminum Koblenz Gmbh | Brazing product and method of its manufacture |
US6994919B2 (en) * | 2002-01-31 | 2006-02-07 | Corus Aluminium Walzprodukte Gmbh | Brazing product and method of manufacturing a brazing product |
US7056597B2 (en) * | 2002-12-13 | 2006-06-06 | Corus Aluminium Walzprodukte Gmbh | Brazing sheet product and method of its manufacture |
US7078111B2 (en) * | 2002-12-13 | 2006-07-18 | Corus Aluminium Walzprodukte Gmbh | Brazing sheet product and method of its manufacture |
US20060157352A1 (en) * | 2005-01-19 | 2006-07-20 | Corus Aluminium Walzprodukte Gmbh | Method of electroplating and pre-treating aluminium workpieces |
WO2006086274A2 (en) * | 2005-02-08 | 2006-08-17 | Dyno Nobel Inc. | Delay units and methods of making the same |
US8794152B2 (en) | 2010-03-09 | 2014-08-05 | Dyno Nobel Inc. | Sealer elements, detonators containing the same, and methods of making |
CN102790199B (zh) * | 2012-08-22 | 2015-08-05 | 陈伟洲 | 锂离子电池正极极耳及其制造方法 |
CN103820831B (zh) * | 2014-02-13 | 2016-08-24 | 德清县佳伟线缆有限公司 | 一种金属线材的电镀处理设备 |
CN118173330B (zh) * | 2024-05-14 | 2024-07-19 | 山东无棣海丰电缆有限公司 | 一种海洋电缆加工用防腐蚀处理装置 |
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---|---|---|---|---|
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US4126522A (en) * | 1976-08-09 | 1978-11-21 | Telefonaktiebolaget L M Ericsson | Method of preparing aluminum wire for electrical conductors |
FR2526052B1 (fr) * | 1982-04-29 | 1985-10-11 | Pechiney Aluminium | Procede et dispositif pour revetir une grande longueur de metal d'une couche metallique |
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- 1987-01-06 FR FR8700952A patent/FR2609292B1/fr not_active Expired
- 1987-02-27 US US07/019,666 patent/US4741811A/en not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-01-04 IS IS3303A patent/IS1431B6/is unknown
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- 1988-01-04 DE DE8888420002T patent/DE3860610D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-04 EP EP88420002A patent/EP0276190B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-04 AT AT88420002T patent/ATE56758T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-01-04 ES ES88420002T patent/ES2019995B3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-05 FI FI880021A patent/FI880021A/fi not_active Application Discontinuation
- 1988-01-05 AU AU10059/88A patent/AU589106B2/en not_active Ceased
- 1988-01-05 NO NO880019A patent/NO880019L/no unknown
- 1988-01-05 CA CA000555884A patent/CA1309690C/fr not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-05 PT PT86493A patent/PT86493B/pt not_active IP Right Cessation
- 1988-01-05 BR BR8800017A patent/BR8800017A/pt unknown
- 1988-01-06 JP JP63001137A patent/JPS63213694A/ja active Granted
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