JPS63208830A - エレクトロクロミツク装置の駆動方法 - Google Patents
エレクトロクロミツク装置の駆動方法Info
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- JPS63208830A JPS63208830A JP62042248A JP4224887A JPS63208830A JP S63208830 A JPS63208830 A JP S63208830A JP 62042248 A JP62042248 A JP 62042248A JP 4224887 A JP4224887 A JP 4224887A JP S63208830 A JPS63208830 A JP S63208830A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、リークのあるエレクトロクロミンク装置の駆
動方法に関するものである。
動方法に関するものである。
電圧を印加すると可逆的に電解酸化または還元反応が起
こり可逆的に着色する現象をエレクトロクロミズムと言
う、このような現象を示すエレクトロクロミック(以下
、ECと略称する)物質のFJ!膜を一対の電極層で挟
持して、その電極層間に印加する電圧を操作することに
より着消色するEC装W、(以下、ECDと略す)を作
り、このECDを光量制御素子(例えば、防眩ミラー)
や7セグメントを利用した数字表示素子に利用しようと
する試みは、20年以上前から行われている。
こり可逆的に着色する現象をエレクトロクロミズムと言
う、このような現象を示すエレクトロクロミック(以下
、ECと略称する)物質のFJ!膜を一対の電極層で挟
持して、その電極層間に印加する電圧を操作することに
より着消色するEC装W、(以下、ECDと略す)を作
り、このECDを光量制御素子(例えば、防眩ミラー)
や7セグメントを利用した数字表示素子に利用しようと
する試みは、20年以上前から行われている。
例えば、ガラス基板の上に透明電極層、三酸化タングス
テン薄膜と絶縁膜(例えば二酸化ケイ素)との2N膜(
+111は不同)及び対向電極層を順次積層してなるE
CD (特公昭52−46098参照)が全固体型EC
Dとして知られている。このECDに着色電圧Vcを印
加すると二酸化タングステン(WOz)il膜が青色に
着色する。その後、このECDに逆極性の消色電圧vb
を印加すると、WO!薄膜の青色が消えて無色になる。
テン薄膜と絶縁膜(例えば二酸化ケイ素)との2N膜(
+111は不同)及び対向電極層を順次積層してなるE
CD (特公昭52−46098参照)が全固体型EC
Dとして知られている。このECDに着色電圧Vcを印
加すると二酸化タングステン(WOz)il膜が青色に
着色する。その後、このECDに逆極性の消色電圧vb
を印加すると、WO!薄膜の青色が消えて無色になる。
この着色・消色する機構は詳しくは解明されていないが
、WO3薄膜および絶縁膜(イオン導電層)中に含まれ
る少量の水分がWOsの着色・消色を支配していると理
解されている0着色の反応式は下記のように推定されて
いる。
、WO3薄膜および絶縁膜(イオン導電層)中に含まれ
る少量の水分がWOsの着色・消色を支配していると理
解されている0着色の反応式は下記のように推定されて
いる。
陰極側:
H!O−4H“+ 0H−
WO2+nH” +ne−=HlIWOx(無色透明)
=(青色) 陽極側: OH−→1/2 Hz O+1/4 ox i+1/
2e−ところで、ECl1liを直接又は間接的に挟む
一対の電極層は、EC層の着消色を外部に見せるために
少なくとも一方は透明でなければならない、特に透過型
のECDの場合には両方とも透明でなければならない、
i3明な電極材料としては、現在のところSnO,、I
nt Os 、ITO(SnO。
=(青色) 陽極側: OH−→1/2 Hz O+1/4 ox i+1/
2e−ところで、ECl1liを直接又は間接的に挟む
一対の電極層は、EC層の着消色を外部に見せるために
少なくとも一方は透明でなければならない、特に透過型
のECDの場合には両方とも透明でなければならない、
i3明な電極材料としては、現在のところSnO,、I
nt Os 、ITO(SnO。
とIntOsとの混合物)、ZnOなどが知られている
が、これらの材料は比較的透明度が悪いために薄くせね
ばならず、この理由及びその他の理由からECDは基板
例えばガラス板やプラスチック板の上に形成するのが普
通であり、このようなECDの構造の一例を第4図に示
す。
が、これらの材料は比較的透明度が悪いために薄くせね
ばならず、この理由及びその他の理由からECDは基板
例えばガラス板やプラスチック板の上に形成するのが普
通であり、このようなECDの構造の一例を第4図に示
す。
第4図に於いて、2は下部透明電極(例えば、ITO)
、3は可逆的電解酸化層又は酸化着色性EC層(例え
ば酸化又は水酸化イリジウム)、4はイオン導電層(例
えば五酸化タンタル)、5は還元着色性EC層(例えば
WOs ) 、6は上部電橋兼反射層(例えばAjり
をそれぞれ示し、基本的にはこの2〜6の積層構造だ
けでECDが構成されるが、前述のとおり、これらのE
CDは基板(例えばガラス板)l上に形成される。
、3は可逆的電解酸化層又は酸化着色性EC層(例え
ば酸化又は水酸化イリジウム)、4はイオン導電層(例
えば五酸化タンタル)、5は還元着色性EC層(例えば
WOs ) 、6は上部電橋兼反射層(例えばAjり
をそれぞれ示し、基本的にはこの2〜6の積層構造だ
けでECDが構成されるが、前述のとおり、これらのE
CDは基板(例えばガラス板)l上に形成される。
7はECDの封止材例えばエポキシ樹脂であり、8は保
護用の封止ガラス板である。
護用の封止ガラス板である。
ところで、先の反応式からも理解されるように、EC層
は一種のコンデンサーと見ることができ、着色状態は電
荷が溜まっている状態、消色状態は電荷が空の状態と見
ることができる。
は一種のコンデンサーと見ることができ、着色状態は電
荷が溜まっている状態、消色状態は電荷が空の状態と見
ることができる。
従って、一旦ECDを消色すれば、もはや消色電圧を印
加しても電流は流れないはずである。そのため、従来の
駆動方法は、第2図に示すように、着色電圧Vcを所定
時間Tc例えば2〜lO秒の間印加し、その後は一対の
電極層間を開放状態にするものであった。
加しても電流は流れないはずである。そのため、従来の
駆動方法は、第2図に示すように、着色電圧Vcを所定
時間Tc例えば2〜lO秒の間印加し、その後は一対の
電極層間を開放状態にするものであった。
しかし、このようなECDも製造上の問題で、ECDに
よっては、(11本来電子絶縁性であるイオン導電層が
多少電子を通すこと、(2)一対の電極層間で多少の短
絡状態が存在することなどの原因で、一旦BCDを消色
すれば、もはや消色電圧を印加しても電流は流れないは
ずにもかかわらず、実際には流れる(このことをリーク
があると呼び、その電流値を消色電圧で割った商をリー
ク量と呼ぶ)ECDが多い。
よっては、(11本来電子絶縁性であるイオン導電層が
多少電子を通すこと、(2)一対の電極層間で多少の短
絡状態が存在することなどの原因で、一旦BCDを消色
すれば、もはや消色電圧を印加しても電流は流れないは
ずにもかかわらず、実際には流れる(このことをリーク
があると呼び、その電流値を消色電圧で割った商をリー
ク量と呼ぶ)ECDが多い。
そのため、何が起きるかというと、ECDを着色させた
後、着色電圧の印加をやめても、本来は着色状態が保持
される(メモリー性があるという)はずにもかかわらず
、比較的速やかに自然に消色してしまう (メモリー性
がない)という問題点があった。
後、着色電圧の印加をやめても、本来は着色状態が保持
される(メモリー性があるという)はずにもかかわらず
、比較的速やかに自然に消色してしまう (メモリー性
がない)という問題点があった。
そこで、従来でも第3図に示すように、所定の着色電圧
Vcを所定時間Tc例えば2〜10秒の間印加して所定
の着色状態とした後、前記Vcと同一か又はそれより弱
い着色電圧VCCを印加し続けることにより一定の着色
状態を維持する駆動方法が提案された。
Vcを所定時間Tc例えば2〜10秒の間印加して所定
の着色状態とした後、前記Vcと同一か又はそれより弱
い着色電圧VCCを印加し続けることにより一定の着色
状態を維持する駆動方法が提案された。
しかし、この提案された駆動方法は、ECDを早めに劣
化させ寿命を短くするという新たな問題点を発生させた
。
化させ寿命を短くするという新たな問題点を発生させた
。
従って、本発明の目的は、リークのあるECDについて
もメモリー性があるように見せ掛け、しかもECDの寿
命を短くしない駆動方法を提供することにある。
もメモリー性があるように見せ掛け、しかもECDの寿
命を短くしない駆動方法を提供することにある。
上記問題点の解決のため、本発明は、「リークのあるエ
レクトロクロミック装置の一対の電極層間に、所定の着
色電圧Vcを印加して所定の着色状態とした後、 咳電
極層間を所定時間t07.の間開放する開放状態と、該
電極層間に前記着色電圧Vcと同一か又はやや弱い着色
電圧Vccを所定時間to++の間印加する印加状態と
を、繰り返すことにより一定の着色状態を保持すること
を特徴とする駆動方法」を提供する。
レクトロクロミック装置の一対の電極層間に、所定の着
色電圧Vcを印加して所定の着色状態とした後、 咳電
極層間を所定時間t07.の間開放する開放状態と、該
電極層間に前記着色電圧Vcと同一か又はやや弱い着色
電圧Vccを所定時間to++の間印加する印加状態と
を、繰り返すことにより一定の着色状態を保持すること
を特徴とする駆動方法」を提供する。
本発明の駆動方法では、特にエレクトロクロミック装置
を所定の着色状態にするまでに注入される電荷量をQク
ーロン、着色電圧Vcとは逆極性の消色電圧vb <
単位:ボルト)を10秒印加後のリーク量をLアンペア
とするとき、 前記L off及びt。7が、 100 Laff 3を満足するよう
にL aff及びto+tを決めることが好ましく、 1、、+1゜、。
を所定の着色状態にするまでに注入される電荷量をQク
ーロン、着色電圧Vcとは逆極性の消色電圧vb <
単位:ボルト)を10秒印加後のリーク量をLアンペア
とするとき、 前記L off及びt。7が、 100 Laff 3を満足するよう
にL aff及びto+tを決めることが好ましく、 1、、+1゜、。
本発明に於けるECDの積層構造は、特にどれと限定さ
れるものではないが、固体型ECDの構造としては、例
えば■電橿層/EC層/イオン導電N/電掻層のような
4層構造、■電極層/還元着色性EC層/イオン導電N
/可逆的電解酸化層ないし酸化着色性EC層/電極層の
ような5層構造があげられる。
れるものではないが、固体型ECDの構造としては、例
えば■電橿層/EC層/イオン導電N/電掻層のような
4層構造、■電極層/還元着色性EC層/イオン導電N
/可逆的電解酸化層ないし酸化着色性EC層/電極層の
ような5層構造があげられる。
透明電極の材料としては、例えばSnow、Ink O
,、rToなどが使用される。このような電極層は、一
般には真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリン
グなどの真空薄膜形成技術で形成される。(還元着色性
)EC層としては一般にWO,、MoO,などが使用さ
れる。
,、rToなどが使用される。このような電極層は、一
般には真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリン
グなどの真空薄膜形成技術で形成される。(還元着色性
)EC層としては一般にWO,、MoO,などが使用さ
れる。
イオン導電層としては、例えば酸化ケイ素、酸化タンタ
ル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、酸化
ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ランタン、フッ化
マグネシウムなどが使用される。これらの物質薄膜は製
造方法により電子に対して絶縁体であるが、プロトン(
H+)およびヒドロキシイオン(OH−)に対しては良
導体となる。EC層の着色消色反応にはカチオンが必要
とされ H+イオンやLi+イオンをEC層その他に含
有させる必要がある H+イオンは初めからイオンであ
る必要はなく、電圧が印加されたときにH゛イオン生じ
ればよく、従ってH9イオンの代わりに水を含有させて
もよい。この水は非常に少なくて十分であり、しばしば
、大気中から自然に侵入する水分でも着消色する。
ル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、酸化
ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ランタン、フッ化
マグネシウムなどが使用される。これらの物質薄膜は製
造方法により電子に対して絶縁体であるが、プロトン(
H+)およびヒドロキシイオン(OH−)に対しては良
導体となる。EC層の着色消色反応にはカチオンが必要
とされ H+イオンやLi+イオンをEC層その他に含
有させる必要がある H+イオンは初めからイオンであ
る必要はなく、電圧が印加されたときにH゛イオン生じ
ればよく、従ってH9イオンの代わりに水を含有させて
もよい。この水は非常に少なくて十分であり、しばしば
、大気中から自然に侵入する水分でも着消色する。
EC層とイオン導電層とは、どちらを上にしても下にし
てもよい、さらにECFJに対して間にイオン導電層を
挟んで可逆的電解酸化層(ないし酸化着色型EC層)又
は触媒層を配設してもよい。
てもよい、さらにECFJに対して間にイオン導電層を
挟んで可逆的電解酸化層(ないし酸化着色型EC層)又
は触媒層を配設してもよい。
このような層としては、例えば酸化ないし水酸化イリジ
ウム、同じくニッケル、同じくクロム、同じくバナジウ
ム、同じくルテニウム、同じくロジウムなどがあげられ
る。これらの物質は、イオン導電層又は透明電極層を構
成する物質例えば酸化ケイ素、酸化タンタル、酸化チタ
ン、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム
、fi化ハフニウム、酸化ランタン、フン化マグネシウ
ムや酸化スズ、酸化インジウム、ITOなどに分散され
ていてもよい。
ウム、同じくニッケル、同じくクロム、同じくバナジウ
ム、同じくルテニウム、同じくロジウムなどがあげられ
る。これらの物質は、イオン導電層又は透明電極層を構
成する物質例えば酸化ケイ素、酸化タンタル、酸化チタ
ン、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム
、fi化ハフニウム、酸化ランタン、フン化マグネシウ
ムや酸化スズ、酸化インジウム、ITOなどに分散され
ていてもよい。
不透明な電極層は、反射層と兼用していてもよく、例え
ば金、銀、アルミニウム、クロム、スズ、亜鉛、ニッケ
ル、ルテニウム、ロジウム、ステンレスなどの金属が使
用される。
ば金、銀、アルミニウム、クロム、スズ、亜鉛、ニッケ
ル、ルテニウム、ロジウム、ステンレスなどの金属が使
用される。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれに限定されるものではない。
明はこれに限定されるものではない。
縦8cmX横L5c+w x厚さll1llのガラス基
板1を用意し、これにITO電極層を形成し、次にホト
エツチング又はレーザーカッティングにより下部電極6
用の取出し部6aと下部電極層2との間に溝を形成した
。これにより取出し部6aと下部電極N2とそれに連続
して続く下部電極の取出し部を形成した。
板1を用意し、これにITO電極層を形成し、次にホト
エツチング又はレーザーカッティングにより下部電極6
用の取出し部6aと下部電極層2との間に溝を形成した
。これにより取出し部6aと下部電極N2とそれに連続
して続く下部電極の取出し部を形成した。
なお、ITOをマスク蒸着することにより直接にこれら
のパターンを形成してもよい。
のパターンを形成してもよい。
次に酸化イリジウムを酸化スズとの混合物からなる酸化
着色性層3、イオン導電層4としての酸化タンタル層及
び還元着色性EC層5として酸化タングステン層を順に
形成した。
着色性層3、イオン導電層4としての酸化タンタル層及
び還元着色性EC層5として酸化タングステン層を順に
形成した。
次に下部電極層6としてAjを蒸着した。このとき、l
は既に基板1上に形成された取出し部6aと一端が接触
するようにする。
は既に基板1上に形成された取出し部6aと一端が接触
するようにする。
最後に封止用ガラス板8にエポキシ樹脂封止材7を多め
に塗布してこれをECDに張り合わせ、そして放置する
ことによりエポキシ樹脂を硬化させ、第4図に示すEC
Dを作製した。第4図は、一部をデホルメしてあり、正
確な寸法比を有しない。
に塗布してこれをECDに張り合わせ、そして放置する
ことによりエポキシ樹脂を硬化させ、第4図に示すEC
Dを作製した。第4図は、一部をデホルメしてあり、正
確な寸法比を有しない。
このECDは、上部電極N6がANで反射層を兼用して
いることから基板1側から入射した光(L)は上部電極
層6で反射されるので、消色電圧Vb =−1,OVを
印加したところ、約1秒で消色状態となり、反射率Rを
測定したところR−60%で、それ以上消色電圧vbを
印加し続けてもRに変化はなかった。
いることから基板1側から入射した光(L)は上部電極
層6で反射されるので、消色電圧Vb =−1,OVを
印加したところ、約1秒で消色状態となり、反射率Rを
測定したところR−60%で、それ以上消色電圧vbを
印加し続けてもRに変化はなかった。
それに対しEC層を着色させると、反射光は、途中で第
1EC層5と第2EC層3をそれぞれ2度透過するので
吸収されて反射光量が減少し、その結果反射率Rが低下
する。
1EC層5と第2EC層3をそれぞれ2度透過するので
吸収されて反射光量が減少し、その結果反射率Rが低下
する。
そこで、このECDに駆動電源(Su)がら着色電圧V
c −+1.35Vを印加すると、約3秒でR−16%
に低下し、それ以上着色電圧Vcを印加し続けても、R
に変化はなかった。
c −+1.35Vを印加すると、約3秒でR−16%
に低下し、それ以上着色電圧Vcを印加し続けても、R
に変化はなかった。
R=16%とした後、消色電圧Vb −−1,0Vを印
加すると、約1秒でR−60%に戻ったが、vbを印加
してから10秒後に電流を測定したところ、0.6mA
/Vの電流が流れ続けており、これは1時間後に測定し
ても同一であワた。そこで、消色電圧vbを印加してか
ら10秒後に測定した電流値(ここでは0.6−^/V
)をリーク量りと定義した。
加すると、約1秒でR−60%に戻ったが、vbを印加
してから10秒後に電流を測定したところ、0.6mA
/Vの電流が流れ続けており、これは1時間後に測定し
ても同一であワた。そこで、消色電圧vbを印加してか
ら10秒後に測定した電流値(ここでは0.6−^/V
)をリーク量りと定義した。
同様にECDを100枚製造し、各ECDのリークil
Lを測定した。その中からリークltLが、0.6mA
/Vのもの;第1グル−プ 1m^/Vのもの:第2グループ 2−^/Vのもの:第3グループ 3−^/Vのもの:第4グル−プ 4 sA/Vのもの:第5グループ を各グループとも5枝選択した。
Lを測定した。その中からリークltLが、0.6mA
/Vのもの;第1グル−プ 1m^/Vのもの:第2グループ 2−^/Vのもの:第3グループ 3−^/Vのもの:第4グル−プ 4 sA/Vのもの:第5グループ を各グループとも5枝選択した。
反射率Rは±5%変化すると、人間の目には大きく変化
したと感じるので、選択したECDについて初期値R−
16%とした後、反射率Rが5%向上するまでの時間を
調べた。この結果を第1表に示す。
したと感じるので、選択したECDについて初期値R−
16%とした後、反射率Rが5%向上するまでの時間を
調べた。この結果を第1表に示す。
第 1 表
この結果から、リーク量L−1−^/V以下のECDを
問題なしとし、リーク量し=2m^/V以上のものをリ
ークがあると判定して、リーク量L−2−^/Vのもの
について各種の駆動方法を試みた。
問題なしとし、リーク量し=2m^/V以上のものをリ
ークがあると判定して、リーク量L−2−^/Vのもの
について各種の駆動方法を試みた。
まず、このリーク量L = 2 +*A/ V −0,
002A /VのECDについて、EC層に注入・排出
される電荷i1Qを測定したところ、Q−0,7クーロ
ンであった。そこで、前記式1、式2を計算したところ
、 0.7 100 1 tea 1であったので
、ここではL off及びteaを次のように設定した
。
002A /VのECDについて、EC層に注入・排出
される電荷i1Qを測定したところ、Q−0,7クーロ
ンであった。そこで、前記式1、式2を計算したところ
、 0.7 100 1 tea 1であったので
、ここではL off及びteaを次のように設定した
。
第2表
次に、比較試験のため、リーク量−2mA/VのECD
を3グループ用意し、それらについて、グループA :
第2図に示すように着色電圧Vc=+1.35V を
5秒印加した後、降圧してゼロとする駆動方法、 グループB :第3図に示すように着色電圧Vc=+1
.35Vを5秒印加シタ後、降圧L7Vcc−+1.2
Vを印加し続ける駆動方法、グループC;第1図に示
すように着色電圧■C=+1.35Vを5秒印加した後
、降圧してVcc−+1.2 Vを第2表の各実施態様
に従いto+tの間印加する印加状態とtol、の間一
対の電極間を開放する開放状態を繰り返す駆動方法 をそれぞれ長期間試みた。
を3グループ用意し、それらについて、グループA :
第2図に示すように着色電圧Vc=+1.35V を
5秒印加した後、降圧してゼロとする駆動方法、 グループB :第3図に示すように着色電圧Vc=+1
.35Vを5秒印加シタ後、降圧L7Vcc−+1.2
Vを印加し続ける駆動方法、グループC;第1図に示
すように着色電圧■C=+1.35Vを5秒印加した後
、降圧してVcc−+1.2 Vを第2表の各実施態様
に従いto+tの間印加する印加状態とtol、の間一
対の電極間を開放する開放状態を繰り返す駆動方法 をそれぞれ長期間試みた。
なお、上記試験の途中でECDの劣化状態を見るため、
駆動開始から5時間後、10時間後、1日後、2日後、
7日後、14日後、1力月後、2力月後、6力月後にそ
れぞれ反射率Re(着色状態)と、一旦消色電圧vb−
−t、oボルトを5秒間印加して消色状態にしたときの
反射率Rhを測定した。
駆動開始から5時間後、10時間後、1日後、2日後、
7日後、14日後、1力月後、2力月後、6力月後にそ
れぞれ反射率Re(着色状態)と、一旦消色電圧vb−
−t、oボルトを5秒間印加して消色状態にしたときの
反射率Rhを測定した。
この結果、反射率Rc(着色状fLi)が当初の16%
であればメモリー性がありと判定して合格とし、反射率
Rc(着色状態)が当初の16%より5%以上向上して
いればメモリー性なしと判定して不合格とし、反射率R
h (消色状態)が当初の60%であればECDの劣
化はないと判断して合格とし、反射率Rb C消色状
I’lりが当初の60%より5%以上小さければECN
が着色状態のまま固定されECDが劣化したと判断し、
不合格とした。前者をメモリー性、後者を寿命として次
の第3表に「初めて不合格になるまでの試験開始からの
経過時間」を示す。
であればメモリー性がありと判定して合格とし、反射率
Rc(着色状態)が当初の16%より5%以上向上して
いればメモリー性なしと判定して不合格とし、反射率R
h (消色状態)が当初の60%であればECDの劣
化はないと判断して合格とし、反射率Rb C消色状
I’lりが当初の60%より5%以上小さければECN
が着色状態のまま固定されECDが劣化したと判断し、
不合格とした。前者をメモリー性、後者を寿命として次
の第3表に「初めて不合格になるまでの試験開始からの
経過時間」を示す。
第3表(ECD(7)リーク量L−211IA/V)〔
発明の効果〕 以上のように、本発明によれば、リークのあるECDで
あっても、着色状態とした後、■一対の電極間を所定時
間t02.の間開放する開放状態と、■該電極間に着色
電圧Vcと同一か又はやや弱い着色電圧Vccを所定時
間tonの間印加する印加状態とを、繰り返すことによ
り、メモリー性があるように見せ掛けることができ、し
かもECDの寿命を短くしないで済む。
発明の効果〕 以上のように、本発明によれば、リークのあるECDで
あっても、着色状態とした後、■一対の電極間を所定時
間t02.の間開放する開放状態と、■該電極間に着色
電圧Vcと同一か又はやや弱い着色電圧Vccを所定時
間tonの間印加する印加状態とを、繰り返すことによ
り、メモリー性があるように見せ掛けることができ、し
かもECDの寿命を短くしないで済む。
第1図は、本発明の1実施例にかかる駆動方法を説明す
る着色電圧のタイムチャートである。 第2〜3図は、従来の駆動方法を説明する着色電圧のタ
イムチャートである。 第4図は、本発明の1実施例に使用したECDの垂直断
面を示す概念図である。 〔主要部分の符号の説明〕 11.・・−・ガラス基板 2−・−・下部透明電極層 3・・・〜・−・酸化着色性EC層 4・・〜・・・・イオン導電層 ら−一一一一・・還元着色性EC層 6−−−一上部電極層 羞♂電圧 1色電、圧。 8“第4図
る着色電圧のタイムチャートである。 第2〜3図は、従来の駆動方法を説明する着色電圧のタ
イムチャートである。 第4図は、本発明の1実施例に使用したECDの垂直断
面を示す概念図である。 〔主要部分の符号の説明〕 11.・・−・ガラス基板 2−・−・下部透明電極層 3・・・〜・−・酸化着色性EC層 4・・〜・・・・イオン導電層 ら−一一一一・・還元着色性EC層 6−−−一上部電極層 羞♂電圧 1色電、圧。 8“第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少なくともエレクトロクロミック層とこれを一対の
電極層で挟持してなるエレクトロクロミック装置であっ
て、リークのある装置の一対の電極層間に、所定の着色
電圧Vcを印加して所定の着色状態とした後、該電極層
間を所定時間をt_o_f_fの間開放する開放状態と
、該電極層間に前記着色電圧Vcと同一か又はやや弱い
着色電圧Vccを所定時間をt_o_nの間印加する印
加状態とを、繰り返すことにより一定の着色状態を保持
することを特徴とする駆動方法。 2 前記エレクトロクロミック装置を所定の着色状態と
するまでに注入される電荷量をQ(単位:クーロン)、
前記着色電圧Vcとは逆極性の消色電圧Vb(単位:ボ
ルト)を10秒印加後のリーク量をL(単位:アンペア
)とするとき、前記所定時間t_o_f_fと前記所定
時間t_o_nが、式1:(t_o_f_f×L)/Q
<3/100式2:1/100<t_o_n/t_o_
f_f<1/3を満足することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の駆動方法。
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