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JPS63163319A - 光学系 - Google Patents

光学系

Info

Publication number
JPS63163319A
JPS63163319A JP62317636A JP31763687A JPS63163319A JP S63163319 A JPS63163319 A JP S63163319A JP 62317636 A JP62317636 A JP 62317636A JP 31763687 A JP31763687 A JP 31763687A JP S63163319 A JPS63163319 A JP S63163319A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
concave mirror
mirror
concave
lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62317636A
Other languages
English (en)
Inventor
デヴイツド・ロス・シエーフアー
エイブ・オフナー
ラマ・シング
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Biosystems Inc
Original Assignee
Perkin Elmer Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Perkin Elmer Corp filed Critical Perkin Elmer Corp
Publication of JPS63163319A publication Critical patent/JPS63163319A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/0836—Catadioptric systems using more than three curved mirrors
    • G02B17/0844—Catadioptric systems using more than three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/22—Telecentric objectives or lens systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G02B17/0647—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors
    • G02B17/0657—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光学的リレー系に関する。詳言すれば、本発
明は拡大系を包含するような系に関する。これらは特に
ステップ・アンド・スキャン・マイクロリソグラフィー
投影印刷法において有用であり、かつスペクトルの可視
光線から深紫外線範囲まで光学的に補正されたものに関
する。
従来の技術 本発明は、リング視野光学系をベースとし、かつまた“
限定されたオフーアックス視野”光学系に関する。この
ような系の例は、オフナー（ｏｒｒｎｅｒ）による米国
特許第３，７４８，０１５号及び第４，２９３，１８６
号明細書に記載されている。本発明は、前記のような系
の基本的技術思想を使用するが、但し変倍（ｍａｇｎｉ
ｆｉｃａｔ　１ｏｎ）技術を付加する。本発明は２つの
基本的発明を提供する。その１つの基本的技術思想は、
画像品質の高い度合いは１つの要因を成さない場合に有
用である完全なカドオプトリック系である。らう１つは
、レンズか溶融シリカから成り、従って紫外線において
有用であるカドオプトリック系である。
以下には、カドオプトリック系の１つの実施例と、カド
オプトリック系の２つの特殊な実施例を記載する。
発明の構成 本発明の光学系は、３つの凹面鏡と、１つの凸面鏡から
成る。それぞれの鏡は、系の光軸上にその曲率の中心を
有する。拡大は少なくとも部分的に凸面鏡によって達成
される。該系は、物体と最終像との間に中間像を形成す
るように配置されている。
実施例 次に、図示の実施例により本発明の詳細な説明する。
特に第１図に関して言及すれば、本発明による光学的リ
レー系が示されている。該リレー系は、物体０からの光
線を受光しかつ該光線を凸面鏡１２に反射するように配
置された凹面鏡１２を有する。物体０は鏡１０の曲率の
中心の位置で光軸に対して垂直な面内にある。従って、
該物体は単位倍率で結像される。凸面鏡１２は倍率を導
入しかつ該光線を第２の凹面鏡Ｉ４に向けて反射する。
この場合、“倍率”とは、変更された“単位”を有しな
ければ、１つの共役点における像の寸法が他方の共役点
におけるよりも大きいか又は小さい像を意味する。鏡１
４は中間像！ｉを形成し、該像は次いで凹面鏡１６によ
って最終像（ｆに反射される。総ての鏡、即ち両者の凹
面鏡及び凸面鏡は、それらの曲率の中心を光軸ＯＡ上に
有する。
第１図の光学系には多数の利点が存在する。
これは例えば物体と像端部に対してテレセントリックで
ある。このことは、小さな焦点差異のために像のスケー
ルにおける変化を排除するという極めて望ましい特徴で
ある。凸面鏡１２に位置に十分に規定された開口絞りが
設けられている。この系は、該系を十分に偏向すること
のできるＩｉに中間像を有する。こらの反射鏡は総て球
面鏡でありかつ従って極めて高い精度で製作しかつ検査
することができる。凹面鏡！０．１４．１６は、それら
を極めて正確にアライメントする単位倍率で動作する、
この場合には前記凹面鏡を傾斜又は偏心させることによ
ってはコマ収差は導入されない。凸面鏡１２は先行する
凹面鏡ｌＯの曲率の中心の像を引き続いての凹面鏡１４
に曲率に中心に形成する、従って総ての凹面鏡は光学的
に同心的である。“光学的に同心的”とは、曲率の中心
がいずれも同じ位置にあるか又はその曲率の中心が著し
く離れた未−ｉ’−１こようτ先受的に前λρイ存Ｍに
枯脅六れ乙ことを意味する。ここに記載する総てのの３
つの系は、このケースに包含される。これらの条件下で
は、即ち工学系が物体と像側においてテレセントリック
である（即ち、アフォーカルである）という条件下では
、ゼロのベツバル湾曲、ゼロの歪み及びゼロの非点収差
を有する系が生じる。
第１図に示した実施例は、高度の像品質はｌ要因ではな
いというリレーイングのために好適である。このような
実施形は、例えば分光光度計、環状領域照明器及びリレ
ー系において使用することができる。しかしながら、こ
れらの系のそれぞれにおける凸面鏡は、著しい里のコマ
収差および若干の球面収差を導入する。
前記系を極端に高い精度で半導体ウェハ上に回路パター
ンを結像させるために使用可能なように改良するために
は、コマ及び球面収差は実質的に排除され、しかも有利
な特徴は維持されるべきである。後者の有利な特徴は、
テレセントリック性及び非点収差、歪み及びベツバル湾
曲の補正を包含する。しかしながら、深紫外線で使用す
るためには、１種類だけのガラス、即ち溶融シリカ（石
英）のみが有効である。第２図は、溶融シリカレンズを
組み込んだ環状領域リレー系の１実施例を示し、該リレ
ー系は３次の収差、及びそれらの色変動並びに長手方向
及び横方向の色収差の総てを補正する。この系は、特に
物体、又はマスク面から像、又はウェハ面への分数倍率
を伴うマイクロロソグラフィで使用するために特に設計
されている。即ち、物体が像よりも大きい。以下の第２
図及び第３図においては、それぞれの素子は常法の参照
番号が付されている。しかしながら、付加的に、それぞ
れの光学的表面の直径は、記号Ｒに順次にマスクからウ
ェハに向かって連続番号が付されている。
第２図においては、マスク面２６は正確な物体スリット
２８を規定し、該スリットから光線はプリズム３２．３
４から成るビームスプリッタアセンブリ３０を通過する
。ビームスプリッタの機能は、ウェハに対するマスクの
初期の視覚的アライメントを行うことを可能にする。次
いで、照明光線は高い次数歪み及び非点収差を制御する
ために役立つ厚いシェルレンズ３６を通過する。次いで
、光線は平面鏡３８によって凹面鏡４０に向けて反射さ
れる。引き続き、マスク反射鏡から出た光線は薄いシェ
ルレンズ４２を通過しかつ二次凸面鏡４４に入射しかつ
シェルレンズ４２を経て戻される。
薄いシェルレンズ４２から出た光線は、中間凹面鏡４６
から反射され、負のレンズ４８、正のレンズ５０及び負
のレンズ５２から成る中間レンズ群４７を透過する。中
間像１ｉはレンズ４８とレンズ５０との間の空間に形成
されることに留意されるべきである。このことは１つの
重要な特徴である、それというのもその位置に像からの
散乱した光線を排除するために視野絞り（図示せず）を
配置することができるからである。又、必要なレンズを
物体又は像の近くに配置するよりもむしろ該中間像で視
野湾曲を補正することができる。
負のレンズ５２から出た光線は、平面鏡５４によってウ
ェハ凹面鏡５６に向けて偏向せしめられる。ウェハ鏡５
６から光線は、負のレンズ５８、正のレンズ６０及び薄
いシェルレンズ６２から成る最終レンズ群５７を透過し
てウェハ面６６内の正確なスリット６４に達する。
レンズ６０の第１の機能は、凸面鏡４４によって導入さ
れるコマ収差を補正することにある。該レンズはその結
果を達成するが、但し長手方向及び横方向の色収差、及
びペツバル湾曲を導入する。又、これは主光線を偏向さ
せる、それによって系の一方端部のテレセントリック性
を破壊する。レンズ４８の機能は、レンズ６０によって
惹起された前記の好ましくない結果を修正する。反射鏡
５６によって形成されたレンズ６０の像は、ほぼレンズ
４８の位置に結像する。レンズ４８の屈折力はレンズ６
０の屈折力にほぼ等しくかつそれに対して反対である。
このようにして、該対のベツバル湾曲と長手方向及び横
方向の色収差の両者をゼロにすることができる。第２図
の系の各反射鏡は第１図の系の相応する反射鏡と極めて
類似して機能する、即ち凹面鏡４０．４６及び５６は実
質的に単位倍率で動作し、かつ凹面鏡４２は倍率を導入
するまさにレンズ４８とレンズ６０が存在すると、物体
と像共役は色不含であるが、主光線は色に関しては補正
されない。その結果として、主光線は異なった色に関し
ては異なった高さで凸面鏡４４に入射する。この作用効
果は小さいが、但しコマ収差と非点収差における許容さ
れない量の色収差を惹起する。その解決手段は、総ての
波長が同じ位置で凸面鏡４４に入射するように、主光線
の色を補正することである。この目的は、正のレンズ５
０を付加することにより達成される。その屈折力及び形
状は、系の非点収差の色変動を主光線の色を制御するこ
とによって補正せしめる。又、該レンズは種々の高次の
収差例えば斜めの球面収差及び高次のコマ収差にも影響
する。
主光線の球面収差は又、該主光線を物体高さの関数とし
て凸面鏡４４における位置を変化させる。これは高次の
収差を惹起する。正のレンズ５０は主光線の球面収差に
影響を及ぼし、それによりそれらの高次の収差に影響す
る。厚いシェルレンズ３６及び薄いシェルレンズ６２は
高次の歪み及び非点収差を制御するために使用されかつ
別の収差には殆ど影響しない。
薄いシェルレンズ４２を除いて存在する前記の総てのレ
ンズを使用すると、良好なモノクロマチック性能を有′
し、しかも同時にコマ収差、非点収差、及びペツバル湾
曲の色変動を補正した設計を得ることが可能である。し
かしながら、球面色収差は補正することができない。そ
れは薄いシェルレンズ４２の機能である。該シェルが系
内に存在すと、又高次のコマ収差（楕円形のコマ収差）
に強力な影響を及ぼす。又、コマ収差の色変動にも影響
する。
接線方向及びサツシタルの瞳光線に関して良好に収差補
正した設計を得ることは比較的簡単である。しかしなが
ら、瞳内の４５°の配向光線を制御することは困難であ
る。これらの４５゜の有効な制御は、第２図に示した優
れた実施例によって達成される。この成功の原因は直接
的３つの基本的特徴に求めることができる。
その第１の特徴は、ウェハ反射鏡５６上の主光線の高さ
がその符号において反対でありかつウェハに類似した倍
率を有する。このことは正のレンズ６０によって導入さ
れるテレセントリック性からの大きな偏差に基づく。
第２のかつ緊密な関係にある特徴は、正のレンズ６０が
約　１．５×の倍率を有することにある。従って、中間
像Ｉｉは、ほぼ同じ量だけ最終像Ｉｆよりも大きくなる
。この構成は薄いシェルレンズ４２の近くの明るさを改
善する、従ってより高いｆナンバー人力を、明るさの問
題を伴うことなく所定の物体高さのために使用すること
ができる。又、このことは正のレンズ６０の前方の総て
の光学系が低いｆナンバーで動作することを意味する。
第３の特徴は、薄いシェルレンズ４２にある。その主な
機能は球面色収差の補正にあるが、又４５°配向瞳光線
への大きな影響にある。
第２図の系のための完全な光学的データを、以下の表に
示す。総ての寸法単位はＲ１１である。
第　　　１　　　表 １　　　　　　　マスク面　　　　２８．５７　　　　
　　　空気２　　　　　　　　　ＩＮＦ、　　　　　　
４３．００１　　　　　　　石英３　　　　　　　　１
ＮＦ、　　　　　　７６．６４７　　　　　　　空気４
　　　　　　　−１３５．９２０　　　　４０．０００
　　　　　　　石英５　　　　　　　−１５１．７８６
　　　　４７６．００　　　　　　　空気６　　　　　
　　−６１８．３５９　　　−３０７．１３１　　　　
　　−空気７　　　　　　　１３０．３２３　　　　−
４．５４３　　　　　−石英８　　　　　　　　１７４
．５０１　　　　−０．１００　　　　　−空気９　　
　　　　　−１５６．１６５　　　　　０．１００　　
　　　　　空気１０　　　　　　　１７４．５０１　　
　　　４．５４３　　　　　　　石英１１　　　　　　
　１：（０，３２３４５２，０２３空気１２　　　　　
　　−５７４．６８９　　　−４５２．０２３　　　　
　−空気ｒ３　　　　　　　　　ＩＮＦ、　　　　　−
１０９，２０６−空気１４　　　　　　　−２１６．５
６１　　　　−８．０５０　　　　　−石英１５　　　
　　　　−６６．６５７　　　　−７７．４０６　　　
　　−空気１６　　　　　　　　７８．６３８　　　　
−６２．０００　　　　　−空気１７　　　　　　　　
１１０．４５９　　　　　−９．４６９　　　　　　−
空気１ｇ　　　　　　　　　ＩＮＦ、　　　　　　　−
８，１２５−石英１９　　　　　　　−２２９．２１７
　　　　−６９．１９９　　　　　−空気２０　　　　
　　　　　ＩＮＦ、　　　　　　−２５０，４３８−空
気２１　　　　　　　３ｇ４．４３９　　　　２５０．
４３８　　　　　　　空気２２　　　　　　　１０４．
８８０　　　　　７．９７７　　　　　　　石英２３　
　　　　　　　７２．５２０　　　　　４．９９９　　
　　　　　空気２４　　　　　　　　９２．４５６　　
　　２２．４０１　　　　　　　石英２５　　　　　　
　−１２４．２９３　　　　　０．１００　　　　　　
　空気２６　　　　　　　　４５．２０９　　　　　９
．４６６　　　　　　　石英２７　　　　　　　　４０
．２３３　　　　２９．７７６　　　　　　　空気２８
　　　　　　　　　ＩＮＦ、　　　　　　６．５４０　
　　　　　　空気２９　　　　　　　　　ＩＮＦ、　　
　　　　−０，０９８空気３０　　　　　　　　ウェハ
面 注二表面１３，２０．２８及び２９は、仮想表面であり
かつ第２図には示されていない。
本発明による光学系のもう１つの実施例は、第３図に示
されている。この系は第２図の実施例に著しく類似して
いる。従って、類似した素子には同じ参照番号が、但し
ダッシュ（°）が付けられている。従って、マスク面２
６°から始まって、該系はビームスプリツターアセンブ
リ３０゛、厚いシェルレンズ３６°、平面鏡３８゛、及
びマスク凹面鏡４０°から成る。この系は又、第２の凸
面鏡４４°に隣接した薄いシェルレンズ４２゛を使用し
ており、該レンズは光線を中間凹面鏡４６゛に向けて偏
向させる。
該レンズは第２図のものとは幾分か異なっているが、但
しほぼ同じ結果をもたらす。該レンズは５つのレンズ、
即ち順次に平凹面の負のレンズ７０、正のレンズ７２、
正のレンズ７４、負のレンズ７６及びシェルフ８から成
る中間群６８を包含する。中間像Ｉｆは、レンズ７４と
７６の間に形成される。次いで、光線は反射鏡５４゛に
よってウェハ凹面鏡５６゛に偏向せしめられ、かつそこ
から厚い負のシェルレンズ５８°、正のレンズ６０°及
び薄いシェルレンズ６２°を透過してウェハ面に到達す
る。
第３図の系と第２図の系の間の１つの相異点は、全体的
倍率は両者の系において同じであるにも拘わらず、第３
図の系においては、中間像が第２図の系におけるよりも
物体に比較して大さいことにある。第３図の系に関する
光学的データを、以下の第２表に示す： 第　　２　　表 光学的データ 表面　　　　　　半径　　　　　　厚さ　　　　　　素
材ｌ　　　　　　マスク面　　　　２５．４０００　　
　　　　　空気２　　　　　　　　ＩＮＦ、　　　　　
　５０．８０００　　　　　　　石英３　　　　　　　
　ＩＮＦ、　　　　　　４５．０５９３　　　　　　　
空気４　　　　　　−１５３．３２００　　　　４９．
３４７７　　　　　　石英５　　　　　　−１５５．６
６２０　　　　１４１．２３５０　　　　　　　空気６
　　　　　　　１ＮＦ、　　　　　　２２５．４３８０
　　　　　　　空気？　　　　　　　−５３３４９３０
−２２５，４３８０−空気８　　　　　　　　１ＮＦ、
　　　　　　　１．００００　　　　　　−空気９　　
　　　　１１４．１１３０　　　　−４．４９０９　　
　　　−石英１０　　　　　　　１５７．４７２０　　
　　−０．０３８０　　　　　−空気１１　　　　　　
−２０７．９２９０　　　　　０．０３８０　　　　　
　　空気１２　　　　　　１５７．４７２０　　　　　
４．４９０９　　　　　　　石英１３　　　　　　−１
１４．１１３０　　　　３５４．５４５０　　　　　　
　空気１４　　　　　　−５０６．６５３０　　　〜３
５４．５４５０　　　　　　−空気１５　　　　　　　
５０８．００００　　　　−３０．ＱＯＯｏ　　　　　
　−空気１６　　　　　　１９２２．５４００　　　　
−１０．００００　　　　　　−石英１７　　　　　　
−１６０．２２１０　　　　−４８．４８５９　　　　
　−空気１８　　　　　　−３７８．２９１０　　　　
−３１．７５００　　　　　−石英１９　　　　　　６
７１．９６２０　　　−２２２．５７００　　　　　−
空気２０　　　　　　　４８７．０３９０　　　　−２
８．４１００　　　　　　−石英２１　　　　　　　２
２６．９９８０　　　　−２．６５９１　　　　　−空
気２２　　　　　　−２５０．５６３０　　　　−１０
．１６００　　　　　　−石英２３　　　　　　−１３
４．３７６０　　　　−８４．２７５８　　　　　　−
空気２４　　　　　　−１７９４６２０　　　　−１２
．４７６９　　　　　−石英２５　　　　　　−２１４
．７１００、　　−６５．６５１８０　　　　　−空気
２６　　　　　　　　ＩＮＦ、　　　　　　−２４１，
４４５０空気２７　　　　　　４４３．４１１０　　　
　２３１．４４５０　　　　　　　空気２８　　　　　
　　５２．７３２７　　　　１０．９５１０　　　　　
　　石英２９　　　　　　　４７．７４７８　　　　２
４．１８７１　　　　　　　空気３０　　　　　　　６
２．６５２７　　　　４１．４４０２　　　　　　　石
英３１　　　　　　−１３６．６０８０　　　　　０．
０５００　　　　　　　空気３２　　　　　　　４０．
３７１５　　　　　３．３４００　　　　　　　空気３
３　　　　　　　３５．８５４９　　　　２８．４７３
３　　　　　　　空気３４　　　　　　　１ＮＦ、　　
　　　　　−０，０８９２空気３５　　　　　　　ウェ
ハ面　　　　　　　　　　　　　　空気圧：表面３４は
仮想表面である。
発明の効果 本発明によれば、拡大凸面鏡と組合せたワン−ツー−ワ
ン（ｏｎｅ−ｔｏ−ｏｎｅ）凸面鏡光線の新規の適用形
が提供される。更に補正を加えることによって、高品質
の実質的に収差不含の像を提供することが可能になった
。付加的な利点は、光学系内に中間像を形成することに
より達成される。このことは中間像での収差補正を可能
にしかつ父系の好適なパフリングを可能ならしめると同
時に物体と像に著しい物理的作業距離を提供する。
その他の多数の、本発明の利点は、当業者にとっては容
易に理解されるはずである。又、本発明の範囲内で、そ
の技術的思想及び範囲から逸脱することなく、多数の変
更及び変化が可能であることも自明である。従って、前
記実施例は本発明の詳な説明にすぎず、本発明を限定す
るものではない。本発明は前記特許請求の範囲のみによ
って制限される。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に基づくカドジオプトリツク系のｌ実施
例の構成図、第２図は本発明に基づくカドジオプトリツ
ク系の１実施例の構成図、及び第３図は第２図の系の変
更実施例の構成図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、光学系の光軸と同心的円形リング内に物体の変倍さ
    れた像を形成するための光学系において、第１、第２及
    び第３の凹面鏡と、１つの凸面鏡を有し、該鏡のそれぞ
    れがその曲率中心を系の光軸上に有しかつ前記凹面鏡が
    光学的に同心的であり、第１の凹面鏡が物体領域からの
    光線を受光するように配置されており、前記凸面鏡が前
    記凹面鏡からの光線を受光するように配置されており、
    前記第２の凹面鏡が前記凸面鏡からの光線を受光するよ
    うに配置されており、かつ前記第３の凹面鏡が前記第２
    の凹面鏡からの光線を受光するように配置されておりか
    つ該光線を最終像領域に結像し、前記第２の凹面鏡が光
    線を前記第２と第３の凹面鏡との間の中間像領域に結像
    することを特徴とする光学系。 ２、実質的に総ての拡大が凸面鏡で行われる、特許請求
    の範囲第１項記載の光学系。 ３、物体が第１の凹面鏡の曲率の中心にありかつ像が第
    ３の凹面鏡の曲率の中心にある、特許請求の範囲第１項
    記載の光学系。 ４、総ての凹面鏡が単位倍率で動作する、特許請求の範
    囲第１項記載の光学系。 ５、物体と像空間の両者において実質的にテレセントリ
    ックである、特許請求の範囲第１項記載の光学系。 ６、光学系の光軸と同心的円形リング内に物体の変倍さ
    れた像を形成するための光学系において、第１、第２及
    び第３の凹面鏡と、１つの凸面鏡を有し、該鏡のそれぞ
    れがその曲率中心を系の光軸上に有しかつ前記凹面鏡が
    光学的に同心的であり、第１の凹面鏡が物体領域からの
    光線を受光するように配置されており、前記凸面鏡が前
    記凹面鏡からの光線を受光するように配置されており、
    前記第２の凹面鏡が前記凸面鏡からの光線を受光するよ
    うに配置されており、かつ前記第３の凹面鏡が前記第２
    の凹面鏡からの光線を受光するように配置されておりか
    つ該光線を最終像領域に結像し、前記第２の凹面鏡が光
    線を前記第２と第３の凹面鏡との間の中間像領域に結像
    すし、かつ前記凸面鏡の存在によって惹起される収差を
    補正するために、系の光路全体の亙って複数の屈折レン
    ズ部材が配置されていることを特徴とする光学系。 ７、前記複数のレンズ部材が、 物体と第１の凹面鏡との間に配置された第 １のレンズ群、 前記凹面鏡に近接して配置されたレンズ群 、 第２の凹面鏡と第３の凹面鏡との間に配置 された中間レンズ群、及び 第３の凹面鏡と最終像領域との間に配置さ れた最後のレンズ群 とから構成されている、特許請求の範囲第６項記載の光
    学系。 ８、前記最後のレンズ群が、前記凸面鏡によって導入さ
    れたコマ収差を補正するために少なくとも１つのレンズ
    部材を有する、特許請求の範囲第７項記載の光学系。 ９、前記中間レンズ群が、前記最後のレンズ群のコマ収
    差補正レンズ部材によって惹起された長手方向及び横方
    向の色収差を補正するために少なくとも１つのレンズ部
    材を有する、特許請求の範囲第８項記載の光学系。 １０、前記中間レンズ群が、ペツバル湾曲を補正するた
    めに１つのレンズ部材を有する、特許請求の範囲第９項
    記載の光学系。 １１、ａ）長手方向及び横方向の色収差を補正するため
    に中間レンズ群内に含まれたレンズ部材、及び ｂ）前記最後のレンズ群のコマ収差補正レ ンズ部材 の屈折力が、ほぼ等しくかつ反対の符号を有する、特許
    請求の範囲第９項記載の光学系。 １２、前記中間レンズ群が、ペツバル湾曲を補正するた
    めに少なくとも１つのレンズ部材を有する、特許請求の
    範囲第１１項記載の光学系。 １３、系内に形成された中間像が最終像よりも大きくか
    つ最後のレンズ群のコマ補正レンズ部材が倍率を導入す
    る、特許請求の範囲第９項記載の光学系。 １４、凹面鏡に隣接したレンズ群が、球面色収差を補正
    するために薄いシェルレンズを有する、特許請求の範囲
    第７項記載の光学系。 １５、実質的に総ての拡大が凸面鏡で行われる、特許請
    求の範囲第７項記載の光学系。 １６、付加的、に変倍が最後のレンズ群内で行われる、
    特許請求の範囲第１７項記載の光学系。 １７、総てのレンズ部材が同じ素材から成る、特許請求
    の範囲第７項記載の光学系。 １８、総てのレンズ部材が溶融シリカから成る、特許請
    求の範囲第１７項記載の光学系。 １９、総ての凹面鏡が実質的に単位倍率で動作する、特
    許請求の範囲第７項記載の光学系。 ２０、物体と像空間の両者において実質的にテレセント
    リックである、特許請求の範囲第７項記載の光学系。 ２１、最後のレンズ群が、該群と第３の凹面鏡との間の
    距離よりも著しく小さい焦点距離を有する、特許請求の
    範囲第７項記載の光学系。
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