JPS63159737A - 欠陥観察装置 - Google Patents
欠陥観察装置Info
- Publication number
- JPS63159737A JPS63159737A JP31490286A JP31490286A JPS63159737A JP S63159737 A JPS63159737 A JP S63159737A JP 31490286 A JP31490286 A JP 31490286A JP 31490286 A JP31490286 A JP 31490286A JP S63159737 A JPS63159737 A JP S63159737A
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Links
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 5
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- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
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Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は欠陥観察装置、特に、光ディスクまたは光デイ
スク製造工程における各段階で、例えばガラス原盤、ス
タンバなどの情報記録面上に形成された傷またはゴミな
どの欠陥、あるいは半導体製造に用いられる半導体ウェ
ノ１−の表面上に形成された傷またはゴミなどの欠陥を
検出する欠陥観察装置に関する。
スク製造工程における各段階で、例えばガラス原盤、ス
タンバなどの情報記録面上に形成された傷またはゴミな
どの欠陥、あるいは半導体製造に用いられる半導体ウェ
ノ１−の表面上に形成された傷またはゴミなどの欠陥を
検出する欠陥観察装置に関する。
近年の欠陥観察装置は被測定物の表面上に散在 。
する微少な傷またはゴミなどの欠陥をより高精度かつ高
速に検出し欠陥の位置、大きさ、形状を正確に観察する
ことを要望されている。
速に検出し欠陥の位置、大きさ、形状を正確に観察する
ことを要望されている。
従来の欠陥観察装置は走査形電子顕微鏡などの高倍率顕
微鏡とＸ−Ｙテーブルなどの被測定物移動台とを含んで
構成される。
微鏡とＸ−Ｙテーブルなどの被測定物移動台とを含んで
構成される。
次に従来の欠陥観察装置について図面を参照して説明す
る。
る。
第２図に示すようにＸ−Ｙテーブルなどの被測定物移動
台７に固定した被測定物１を移動走査しながら欠陥を走
査形電子顕微鏡などの高倍率顕微鏡８の視野内にとらえ
欠陥の大きさ、形状を観察する。
台７に固定した被測定物１を移動走査しながら欠陥を走
査形電子顕微鏡などの高倍率顕微鏡８の視野内にとらえ
欠陥の大きさ、形状を観察する。
上述した従来の欠陥観察装置はＸ−Ｙテーブルなどの被
測定物移動台によって被測定物の表面を無作為に移動走
査しながら高倍率顕微鏡で欠陥を検出し観察するので、
被測定物の表面上に散在する微少な欠陥を高倍率顕微鏡
の狭視野内にとらえるために多大な時間と熟練した技能
を要するという欠点があった。
測定物移動台によって被測定物の表面を無作為に移動走
査しながら高倍率顕微鏡で欠陥を検出し観察するので、
被測定物の表面上に散在する微少な欠陥を高倍率顕微鏡
の狭視野内にとらえるために多大な時間と熟練した技能
を要するという欠点があった。
また被測定物の特性に影響を与えるような特定の光学的
変化を示す欠陥を弁別して選択的に観察することは困難
であるという欠点があった。
変化を示す欠陥を弁別して選択的に観察することは困難
であるという欠点があった。
本発明の欠陥観察装置は被測定物の表面にレーザ光を集
光投射する光学系と前記表面の光学的変化を欠陥として
検出し欠陥信号を出力する欠陥検出部と前記欠陥信号に
基づいて欠陥の位置および長さを演算し欠陥データ信号
を出力する演算部と、前記欠陥データ信号に基づいて欠
陥データを記憶する記憶部と、任意の欠陥を選択して観
察できるように前記欠陥データに基づいて被測定物を自
動的に位置調節する位置制御機構と当該欠陥を観察部と
を含んで構成される。
光投射する光学系と前記表面の光学的変化を欠陥として
検出し欠陥信号を出力する欠陥検出部と前記欠陥信号に
基づいて欠陥の位置および長さを演算し欠陥データ信号
を出力する演算部と、前記欠陥データ信号に基づいて欠
陥データを記憶する記憶部と、任意の欠陥を選択して観
察できるように前記欠陥データに基づいて被測定物を自
動的に位置調節する位置制御機構と当該欠陥を観察部と
を含んで構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図である。
第１図に示す欠陥観察装置は被測定物１を固定し駆動す
るための駆動部２と被測定物１の表面にレーザ光を集光
投射する光学系を備え前記表面の光学的変化を検出し光
電変換して欠陥信号ａを出力する移動可能な欠陥検出部
３と前記欠陥信号に基づいて欠陥の位置および長さを演
算し欠陥データ信号すを出力する演算部４と、前記欠陥
データ信号すに基づいて欠陥データを記憶する記憶部５
と、記憶された前記欠陥を選択して観察できるように自
動的に位置調節する制御部６と、当該欠陥を観察できる
ように被測定物１を固定し移動できる被測定物移動台７
と当該欠陥を観察する観察部として走査形電子顕微鏡な
どの高倍率顕微鏡８とを含んで構成される。
るための駆動部２と被測定物１の表面にレーザ光を集光
投射する光学系を備え前記表面の光学的変化を検出し光
電変換して欠陥信号ａを出力する移動可能な欠陥検出部
３と前記欠陥信号に基づいて欠陥の位置および長さを演
算し欠陥データ信号すを出力する演算部４と、前記欠陥
データ信号すに基づいて欠陥データを記憶する記憶部５
と、記憶された前記欠陥を選択して観察できるように自
動的に位置調節する制御部６と、当該欠陥を観察できる
ように被測定物１を固定し移動できる被測定物移動台７
と当該欠陥を観察する観察部として走査形電子顕微鏡な
どの高倍率顕微鏡８とを含んで構成される。
駆動部２に固定された被測定物１の表面上に移動可能な
欠陥検出部３のレーザ発生源３１よシ集光レンズ３２を
介してレーザ光を集光させる。集光させたレーザ光の反
射光をビームスプリッタ３３によシ光検出器３４に導き
光電変換した後、増幅器３５で増幅し反射光量変化に対
応した欠陥信号ａを得る。前記欠陥信号ａとあらかじめ
設定した基準値とを演算部４において比較器４１で比較
し基準値を越えるものを欠陥と認識して１とし、基準値
以下のものを０とし前記欠陥信号をディジタル化する。
欠陥検出部３のレーザ発生源３１よシ集光レンズ３２を
介してレーザ光を集光させる。集光させたレーザ光の反
射光をビームスプリッタ３３によシ光検出器３４に導き
光電変換した後、増幅器３５で増幅し反射光量変化に対
応した欠陥信号ａを得る。前記欠陥信号ａとあらかじめ
設定した基準値とを演算部４において比較器４１で比較
し基準値を越えるものを欠陥と認識して１とし、基準値
以下のものを０とし前記欠陥信号をディジタル化する。
得られたディジタルパルスのパルス幅およびパルス位置
をパルス幅計数器４２およびパルス位置検出器４３によ
って演算することにより欠陥の長さおよび位置を求め欠
陥データ信号すを出力し、前記欠陥データ信号ｂＫ基づ
いた欠陥データを記憶部５に記憶させる。駆動部２と欠
陥検出部３によって被測定物１の全面または必要な測定
領域を走査し走査領域内の全ての欠陥の欠陥データを記
憶部５に記憶する。任意の欠陥を選択して観察できるよ
う、制御部６によりて記憶部５よシ当該欠陥の欠陥デー
タを読み出し被測定物移動台７を位置調節して当該欠陥
を自動的に走査形電子顕微鏡などの高倍率電子顕微鏡８
の視野内に正確にとらえ当該欠陥の大きさ、形状などを
観察する。
をパルス幅計数器４２およびパルス位置検出器４３によ
って演算することにより欠陥の長さおよび位置を求め欠
陥データ信号すを出力し、前記欠陥データ信号ｂＫ基づ
いた欠陥データを記憶部５に記憶させる。駆動部２と欠
陥検出部３によって被測定物１の全面または必要な測定
領域を走査し走査領域内の全ての欠陥の欠陥データを記
憶部５に記憶する。任意の欠陥を選択して観察できるよ
う、制御部６によりて記憶部５よシ当該欠陥の欠陥デー
タを読み出し被測定物移動台７を位置調節して当該欠陥
を自動的に走査形電子顕微鏡などの高倍率電子顕微鏡８
の視野内に正確にとらえ当該欠陥の大きさ、形状などを
観察する。
本発明の欠陥観察装置は欠陥検出部と演算部と記憶部と
制御部とを追加することによシ任意の欠陥を容易にかつ
高速で探し出し当該欠陥の位置、大きさ、形状を観察す
ることができるという効果がある。
制御部とを追加することによシ任意の欠陥を容易にかつ
高速で探し出し当該欠陥の位置、大きさ、形状を観察す
ることができるという効果がある。
また特定の光学的変化を示す欠陥や特定の大きさの欠陥
などを弁別し選択的に観察することができるため欠陥の
種類を判別したシあるいは欠陥の発生原因を容易に知り
得るという効果がある。
などを弁別し選択的に観察することができるため欠陥の
種類を判別したシあるいは欠陥の発生原因を容易に知り
得るという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は従来
の一例を示す構成図である。 １・・・・・・被測定物、２・・・・・・駆動部、３・
・・・・・欠陥検出部、３１・・・・・・レーザ発生源
、３２・・・・・・集光レンズ、３３・・・・・・ビー
ムスプリッタ、３４−・・・・・光検出器、３５・・・
・・・増幅器、４・・・・・・演算部、４１−−−−−
−比較Ｗ、４２・・・・・・パルス幅ｔｌ［Ｄ、＜ｓ・
・・・・・ハルス位置検出器、５・・・・・・記憶部、
６・・・・・・制御部、７・・・・・・被測定物移動台
、８・・・・・・高倍率顕微鏡。 ′ＦＪｔ国
の一例を示す構成図である。 １・・・・・・被測定物、２・・・・・・駆動部、３・
・・・・・欠陥検出部、３１・・・・・・レーザ発生源
、３２・・・・・・集光レンズ、３３・・・・・・ビー
ムスプリッタ、３４−・・・・・光検出器、３５・・・
・・・増幅器、４・・・・・・演算部、４１−−−−−
−比較Ｗ、４２・・・・・・パルス幅ｔｌ［Ｄ、＜ｓ・
・・・・・ハルス位置検出器、５・・・・・・記憶部、
６・・・・・・制御部、７・・・・・・被測定物移動台
、８・・・・・・高倍率顕微鏡。 ′ＦＪｔ国
Claims (1)
- 被測定物の表面にレーザ光を集光投射する光学系と前記
表面の光学的変化を欠陥として検出し欠陥信号を出力す
る欠陥検出部と、前記欠陥信号に基づいて前記欠陥の位
置および長さを演算し欠陥データ信号を出力する演算部
と、前記欠陥データ信号を記憶する記憶部と、任意の前
記欠陥を選択して観察できるように前記欠陥データ信号
に基づいて被測定物を自動的に位且調節する位置制御機
構と、前記欠陥を観察する観察部とを含むことを特徴と
する欠陥観察装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31490286A JPS63159737A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 欠陥観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31490286A JPS63159737A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 欠陥観察装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63159737A true JPS63159737A (ja) | 1988-07-02 |
Family
ID=18059013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31490286A Pending JPS63159737A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 欠陥観察装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63159737A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05156087A (ja) * | 1991-12-10 | 1993-06-22 | Kureha Rubber Kogyo Kk | シール用液状組成物 |
| US6202037B1 (en) * | 1998-02-26 | 2001-03-13 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Quality management system and recording medium |
-
1986
- 1986-12-23 JP JP31490286A patent/JPS63159737A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05156087A (ja) * | 1991-12-10 | 1993-06-22 | Kureha Rubber Kogyo Kk | シール用液状組成物 |
| US6202037B1 (en) * | 1998-02-26 | 2001-03-13 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Quality management system and recording medium |
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