JPS63155643A - Automatic sticking system for semiconductor wafer - Google Patents
Automatic sticking system for semiconductor waferInfo
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- JPS63155643A JPS63155643A JP61304788A JP30478886A JPS63155643A JP S63155643 A JPS63155643 A JP S63155643A JP 61304788 A JP61304788 A JP 61304788A JP 30478886 A JP30478886 A JP 30478886A JP S63155643 A JPS63155643 A JP S63155643A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、半導体ウェハのスクライブ工程の前工程にお
いて、半導体ウェハを粘着テープに貼付けるために用い
られる半導体ウェハの自動貼付は装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to an automatic semiconductor wafer affixing apparatus used for affixing a semiconductor wafer to an adhesive tape in a pre-process of a semiconductor wafer scribing process.
〈従来の技術〉
一般に、半導体ウェハのスクライブ工程では、半導体ウ
ェハを粘着テープに貼付けた状態でスクライブを行って
いる。スクライプされた半導体ウェハは、粘着テープに
貼付けられた状態でクラッキングされる。そして、粘着
テープを引き伸ばして、個々の半導体素子を分離し、次
工程であるグイポンディング工程において、半導体素子
を容易に取り扱えるようにしている。<Prior Art> Generally, in a scribing process for semiconductor wafers, scribing is performed with the semiconductor wafer attached to an adhesive tape. The scribed semiconductor wafer is cracked while attached to adhesive tape. The adhesive tape is then stretched to separate the individual semiconductor elements so that they can be easily handled in the next process, the bonding process.
このような半導体ウェハを粘着テープに貼付はル工程は
、半導体ウェハのスクライブ工程の前工程として行われ
る。そして、近年の半導体製造ラインの自動化に伴い、
半導体ウエノ1を粘着テープに貼付ける自動装置の開発
が望まれている。Such a process of attaching a semiconductor wafer to an adhesive tape is performed as a pre-process of a semiconductor wafer scribing process. With the automation of semiconductor manufacturing lines in recent years,
It is desired to develop an automatic device for attaching semiconductor wafer 1 to adhesive tape.
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明は、このような事情に鑑みて開発された半導体ウ
ェハの自動貼付は装置において、特に、エラー回復処理
を円滑に行うことができる半導体ウェハの自動貼付は装
置を提供することを目的としている。<Problems to be Solved by the Invention> The present invention is an automatic semiconductor wafer attachment device developed in view of the above circumstances, and in particular, an automatic semiconductor wafer attachment device that can smoothly perform error recovery processing. is intended to provide equipment.
このような本発明の目的は、後に行う本発明の詳細な説
明において、さらに明らかにする。Such objects of the present invention will become clearer in the detailed description of the present invention that follows.
〈問題点を解決するための手段〉
本発明は、上記目的を達成するために、次のような構成
を採る。<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention adopts the following configuration.
即ち、本発明は、オリエンテーションフラットが形成さ
れた半導体ウェハを位置合わせして粘着テープに貼付け
る半導体ウェハの自動貼付は装置であって、
前記半導体ウェハの自動貼付は装置の各機構部のエラー
を検出するエラー検出部と、
前記エラー検出部の出力に基づき、エラー箇所は即時停
止させ、エラー箇所より川下にあたる各機構部はポーズ
停止させ、エラー箇所より川下にあたる各機構部はワー
クの払い出しを行った後に停止させる停止制御部と、
前記エラーからの回復処理を行うエラー回復処理部とを
含み、
前記エラー回復処理部は、
前記エラー検出部によって検出されたエラーが回復可能
なエラーであるか否かを検出するエラー種類判別手段と
、
前記停止制御部によって各機構部が停止しているか否か
を検出する停止検出手段と、
前記エラー種類判別手段によって回復可能なエラーであ
ることが検出され、かつ、前記停止検出手段によって各
機構部の停止が確認された場合に、エラー箇所の復旧を
求める表示を行う復旧要求表示手段と、
前記復旧要求表示手段による復旧要求表示がなされた後
に、エラー箇所が復旧されているかを前記エラー検出手
段の出力に基づいて判断する復旧判別手段と、
前記復旧判別手段からの復旧確認出力に基づき、各機構
部の原点戻しを要求する表示を行う原点戻し要求表示手
段と1
、前記原点戻し要求表示手段による表示の後に、原点戻
しが終了したか否かを検出する原点戻し判別手段と、
前記原点戻し判別手段によって、原点戻しが確認された
場合に、装置の始動を促す表示を行う始動要求表示手段
とを備えたことを特徴としている。That is, the present invention provides an apparatus for automatically attaching a semiconductor wafer that aligns a semiconductor wafer on which an orientation flat is formed and attaches it to an adhesive tape, and the automatic attaching of the semiconductor wafer prevents errors in each mechanical part of the apparatus. Based on the output of the error detection section and the error detection section, the error location is immediately stopped, each mechanical section downstream from the error location is paused, and each mechanical section downstream from the error location discharges the workpiece. and an error recovery processing section that performs recovery processing from the error, and the error recovery processing section determines whether the error detected by the error detection section is a recoverable error. an error type determining means for detecting whether each mechanism is stopped by the stop control section; a stop detecting means for detecting whether each mechanical section is stopped by the stop control section; and an error type determining means detecting that the error is a recoverable error; and a recovery request display means for displaying a request for recovery of the error location when the stoppage of each mechanical section is confirmed by the stoppage detection means; recovery determination means for determining whether or not the system has been restored based on the output of the error detection means; and a return-to-origin request display for displaying a request to return each mechanism to the origin based on the recovery confirmation output from the recovery determination means. means and 1, a home return determining means for detecting whether or not the home return has been completed after the display by the home return request display means; The present invention is characterized by comprising a start request display means for displaying a request for starting.
〈実施例〉
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳しく説明す
る。<Example> Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the drawings.
第1図は、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装
置の全体構成を示した概略斜視図、第2図〜第9図は前
記半導体ウェハの自動貼付は装置の各部の構成の概略図
である。FIG. 1 is a schematic perspective view showing the overall configuration of the automatic semiconductor wafer attachment device according to the present embodiment, and FIGS. 2 to 9 are schematic diagrams of the configuration of each part of the automatic semiconductor wafer attachment device. It is.
第10図は、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は
装置によって粘着テープに貼付けられる半導体ウェハ2
と、この半導体ウェハ2を貼付け10た粘着テープを保
持するためのフレーム4と、半導体ウェハ2が貼付けら
れた状態のフレームであるマウント・フレーム6とを示
している。FIG. 10 shows a semiconductor wafer 2 that is attached to an adhesive tape by an apparatus for automatic attachment of semiconductor wafers according to this embodiment.
A frame 4 for holding the adhesive tape 10 to which the semiconductor wafer 2 is attached, and a mount frame 6 to which the semiconductor wafer 2 is attached are shown.
半導体ウェハ2の外周部には、平坦な切り欠き面である
オリエンテーションフラットOFが形成されている。こ
のオリエンテーションフラットOFを基準として、素子
パターンが半導体ウェハ2に形成されている。An orientation flat OF, which is a flat cutout surface, is formed on the outer periphery of the semiconductor wafer 2 . An element pattern is formed on the semiconductor wafer 2 using this orientation flat OF as a reference.
フレーム4は、リング状の金属板又は樹脂板であって、
その外周部には、後述するフレーム4の位置合わせの際
に使用される■ノツチ4I、4□が形成されている。The frame 4 is a ring-shaped metal plate or resin plate,
On its outer periphery, notches 4I and 4□ are formed, which are used when aligning the frame 4, which will be described later.
本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置は、上述
した半導体ウェハ2をウェハ・ローダ部から、フレーム
4をフレーム・ローダ部からそれぞれ個別に供給して粘
着テープに貼付け、最終的にはマウント・フレーム6を
アンローダ部に収納するようになっている。For automatic attachment of semiconductor wafers according to this embodiment, the apparatus separately supplies the semiconductor wafer 2 and the frame 4 from the wafer loader section and the frame loader section, respectively, and attaches them to the adhesive tape, and finally mounts the semiconductor wafers. -The frame 6 is stored in the unloader section.
以下、本装置の各部の構成を説明する。The configuration of each part of this device will be explained below.
第1図に示す符号8 (81〜84)は、ウェハ・ロー
ダ部にセットされたウェハ・カセットである。ウェハ・
カセット8は、複数枚の半導体ウェハ2をそれぞれ水平
状態に保持して、等間隔に上下方向に収納している。本
実施例では、二つのウェハ・ローダ部があり、左のウェ
ハ・ローダ部にウェハ・カセット8..8□が、右のウ
ェハ・ローダ部にウェハ・カセット83.84がそれぞ
れセントできる。各ウェハ・ローダ部は、上下方向に移
動可能に構成されているとともに、ウェハ・カセット8
内の半導体ウェハ2を検出して、これを押し出すことに
よって半導体ウェハ2の供給を行っている。Reference numerals 8 (81 to 84) shown in FIG. 1 are wafer cassettes set in the wafer loader section. Wafer
The cassette 8 holds a plurality of semiconductor wafers 2 horizontally and stores them vertically at regular intervals. In this embodiment, there are two wafer loader sections, and the left wafer loader section has wafer cassettes 8. .. Wafer cassettes 83 and 84 can be loaded into the right wafer loader section. Each wafer loader section is configured to be movable in the vertical direction, and the wafer cassette 8
The semiconductor wafer 2 is supplied by detecting the semiconductor wafer 2 inside and pushing it out.
各ウェハ・ローダ部に備えられるウェハ押し出し機構は
、第2図に示されている。即ち、左のウェハ・ローダ部
には、モータで駆動されるウェハ押し出し機構10が、
右のウェハ・ローダ部には、エアーシリンダで駆動され
るウェハ押し出し機構12がそれぞれ設けられている。The wafer push mechanism provided in each wafer loader section is shown in FIG. That is, in the left wafer loader section, a wafer pushing mechanism 10 driven by a motor is installed.
The right wafer loader section is provided with a wafer pushing mechanism 12 driven by an air cylinder.
各ウェハ・ローダ部から供給された半導体ウェハ2は、
この半導体ウェハ2を位置合わせするための半導体ウェ
ハ位置合わせ部14に搬送される。The semiconductor wafers 2 supplied from each wafer loader section are
This semiconductor wafer 2 is transported to a semiconductor wafer alignment section 14 for alignment.
半導体ウェハ2は、第2図に示す搬送ベルト16によっ
て半導体ウェハ位置合わせ部14に搬送される。この搬
送ベルト16は、モータ18によって正逆方向に駆動さ
れる。The semiconductor wafer 2 is transported to the semiconductor wafer alignment section 14 by a transport belt 16 shown in FIG. This conveyor belt 16 is driven by a motor 18 in forward and reverse directions.
半導体ウェハ位置合わせ部14は、搬送されてきた半導
体ウェハ2を受は取って、オリエンテーションフラット
OFの位置合わせを行うアライメント・テーブル20と
、半導体ウェハ2の中心をアライメント・テーブル20
の中心に一致させるように半導体ウェハ2の位置合わせ
を行う中心位置合わせ板22..22□などを含む。The semiconductor wafer alignment unit 14 includes an alignment table 20 that receives and receives the semiconductor wafer 2 that has been transferred and aligns the orientation flat OF, and an alignment table 20 that aligns the center of the semiconductor wafer 2 with the alignment table 20.
A center alignment plate 22. which aligns the semiconductor wafer 2 so that it aligns with the center of the center alignment plate 22. .. Including 22□ etc.
アライメント・テーブル20は、半導体ウェハ2を吸着
保持するための真空チャックを備えている。VLIは、
この真空チャックの入/切を行う電磁弁、PUSWIは
、真空チャック内の圧力低下を検出してON状態になる
圧力スイツチである。The alignment table 20 is equipped with a vacuum chuck for holding the semiconductor wafer 2 by suction. VLI is
The solenoid valve PUSWI that turns on/off the vacuum chuck is a pressure switch that turns on when it detects a drop in pressure within the vacuum chuck.
また、このアライメント・テーブル20は、パルスモー
タ24によって回動可能に構成されているとともに、エ
アーシリンダ26によって上下方向に移動可能に構成さ
れている。Further, this alignment table 20 is configured to be rotatable by a pulse motor 24 and configured to be movable in the vertical direction by an air cylinder 26.
中心位置合わせ板22.,22□は、上限位置にあるア
ライメント・テーブル20を介して対向する位置に設け
られている。各中心位置合わせ板22、.222の対向
面側には、半導体ウェハ2の外形に対応した円弧状の基
準面が形成されている。中心位置合わせ板221,22
.は、エアーシリンダ28で駆動されるリンク機構によ
って、水平方向に移動可能に構成されている。Center alignment plate 22. , 22□ are provided at positions facing each other with the alignment table 20 at the upper limit position interposed therebetween. Each center alignment plate 22, . An arc-shaped reference surface corresponding to the outer shape of the semiconductor wafer 2 is formed on the opposing surface side of the semiconductor wafer 2 . Center alignment plates 221, 22
.. is configured to be movable in the horizontal direction by a link mechanism driven by an air cylinder 28.
アライメント・テーブル20の両側には、搬送ベルト1
6に乗って搬送されてきた半導体ウェハ2を受は止める
ためのウェハストッパー301゜30□がある。ウェハ
ストッパー30..30゜は、図示しないエアーシリン
ダによって揺動される。左のウェハ・ローダ部から半導
体ウェハ2が供給されている場合には、右のウェハスト
ッパー30□が、右のウェハ・ローダ部から半導体ウェ
ハ2が供給されている場合には、左のウェハストッパー
30.が、それぞれ上昇して、搬送されてきた半導体ウ
ェハ2を受は止める。On both sides of the alignment table 20, conveyor belts 1
There is a wafer stopper 301°30□ for receiving and stopping the semiconductor wafer 2 conveyed on the wafer 6. Wafer stopper 30. .. It is swung by 30 degrees by an air cylinder (not shown). When the semiconductor wafer 2 is supplied from the left wafer loader section, the right wafer stopper 30□ is used, and when the semiconductor wafer 2 is supplied from the right wafer loader section, the left wafer stopper 30□ 30. , respectively, rise and stop receiving the semiconductor wafer 2 that has been transported.
第2図に示す符号32は、アライメント・テープル20
に吸着保持されて回転している半導体ウェハ2のオリエ
ンテーションフラットOFの端部を検出するために、3
組の透過型の光電素子PH3WI、2.3を備えたオリ
エンテーションフラット端部検出部である。このオリエ
ンテーションフラット端部検出部32は、第3図に示す
ように、前記光電素子PH3WI、2.3の発光部36
と受光部38とがエアーシリンダ34によって開閉自在
になるように構成されている。このような3組の透過型
の光電素子P HS W 1 、 2 、 3を使用す
るのは、半導体ウェハ2の大きさに応じて、適宜な光電
素子を選択して使用するためである。オリエンテーショ
ンフラット端部検出部32は、通常状態では開いており
、オリエンテーションフラッ1−OFの位置合わせのた
めに、その端部を検出するときに閉じられる。The reference numeral 32 shown in FIG.
In order to detect the edge of the orientation flat OF of the semiconductor wafer 2 which is being held by suction and rotating,
This is an orientation flat end detection unit equipped with a set of transmission type photoelectric elements PH3WI, 2.3. As shown in FIG.
The light receiving section 38 and the light receiving section 38 are configured to be openable and closable by the air cylinder 34. The reason why such three sets of transmission type photoelectric elements P HS W 1 , 2 , and 3 are used is to select and use an appropriate photoelectric element according to the size of the semiconductor wafer 2 . The orientation flat end detection section 32 is open in a normal state, and is closed when detecting the end of the orientation flat 1-OF for positioning.
第1図および第2図に示した符号40は、半導体ウェハ
位置合わせ部14によってオリエンテーションフラッ)
OFの位置合わせが行われた半導体ウェハ2を貼付はテ
ーブル42に搬送するための反転フォークである。この
反転フォーク40ば、半導体ウェハ2を裏面側から吸着
保持するための真空チャックを備えている。VL2は、
この真空チャックの入/切を行う電磁弁、PUSW2は
、真空チャック内の圧力低下を検出してON状態になる
圧力スイフチである。Reference numeral 40 shown in FIG. 1 and FIG.
A reversing fork is used to transfer the semiconductor wafer 2 whose OF has been aligned to the table 42. The reversing fork 40 is equipped with a vacuum chuck for suctioning and holding the semiconductor wafer 2 from the back side. VL2 is
The solenoid valve PUSW2 that turns on/off the vacuum chuck is a pressure switch that turns on when it detects a drop in the pressure inside the vacuum chuck.
反転フォーク40は、エアーシリンダ44によって駆動
されてアライメント・テーブル20と貼付はテーブル4
2との間を往復動するとともに、モータ46によって上
方向に回動されることによって、半導体ウェハ2の裏面
が上側になるように半導体ウェハ2を反転させる。PH
3W4は、反転フォーク40が反転動作して所定の位置
にあるか否かを検出するための光電素子である。The reversing fork 40 is driven by an air cylinder 44 to connect the alignment table 20 and the pasting table 4.
2, and is rotated upward by the motor 46, thereby inverting the semiconductor wafer 2 so that the back surface of the semiconductor wafer 2 faces upward. P.H.
3W4 is a photoelectric element for detecting whether the reversing fork 40 is in a predetermined position after performing a reversing operation.
貼付はテーブル42は、第6図に示すように、ウェハ・
チャックテーブル48と、このウェハ・チャックテーブ
ル48の周囲に設けられるフレーム・チャックテーブル
50とを含む。ウェハ・チャックテーブル48は、エア
ーシリンダ49によって上下方向に移動可能に構成され
ているとともに、圧縮コイルバネ51によって上方向に
付勢されている。ウェハ・チャックテーブル48の上に
は保護フィルム52が敷設されている。反転フォーク4
0によって搬送された半導体ウェハ2は、その裏面を上
側にした状態で、保護フィルム52を介してウェハ・チ
ャックテーブル48上に載置される。保護フィルム52
は、半導体ウェハ2の表面に傷を発生させないようにす
るために用いられている。As shown in FIG.
It includes a chuck table 48 and a frame chuck table 50 provided around the wafer chuck table 48. The wafer chuck table 48 is configured to be movable in the vertical direction by an air cylinder 49, and is biased upward by a compression coil spring 51. A protective film 52 is laid on the wafer chuck table 48. Reversing fork 4
The semiconductor wafer 2 transported by the wafer 2 is placed on the wafer chuck table 48 via the protective film 52 with its back side facing upward. Protective film 52
is used to prevent scratches from occurring on the surface of the semiconductor wafer 2.
第1図に戻って、符号54はフレーム・ローダ部である
。フレーム・ローダ部54は、複数枚のフレーム4を重
ねた状態で収納するフレーム・ストッカー56と、この
フレーム・ストッカー56に収納されたフレーム4を下
から順番に押し出すフレーム押し出し機構を備えている
。このフレーム押し出し機構は、第4図に示すように、
フレーム4を押し出すための押し出しプレート58と、
これを水平方向に駆動するエアーシリンダ60などから
構成されている。Returning to FIG. 1, reference numeral 54 is a frame loader section. The frame loader section 54 includes a frame stocker 56 that stores a plurality of frames 4 in a stacked state, and a frame push-out mechanism that sequentially pushes out the frames 4 stored in the frame stocker 56 from below. This frame extrusion mechanism, as shown in Figure 4,
an extrusion plate 58 for extruding the frame 4;
It is composed of an air cylinder 60 that drives this horizontally.
フレーム・ローダ部54から供給されたフレーム4は、
フレーム送り出し部によって、フレーム位置決め部62
にまで送り出される。フレーム送り出し部は、フレーム
・ストッカー56から押し出されたフレーム4の内周面
に係合して、このフレーム4を送り出すフレーム・プッ
シャー64と、このフレーム・プッシャー64を」二げ
下ろしするためのエアーシリンダ66と、フレーム・プ
ッシャー64を水平方向に駆動するためのエアーシリン
ダ68などから構成されている。通常状態において、フ
レーム・プッシャー64は下降している。The frame 4 supplied from the frame loader section 54 is
The frame positioning section 62
It is sent out to The frame feeding section includes a frame pusher 64 that engages with the inner circumferential surface of the frame 4 pushed out from the frame stocker 56 and feeds out the frame 4, and an air supply for pushing down the frame pusher 64. It is composed of a cylinder 66, an air cylinder 68 for horizontally driving the frame pusher 64, and the like. In the normal state, frame pusher 64 is lowered.
フレーム・ストッカー56からフレーム4が押し出され
ると、エアーシリンダ66が駆動して、フレーム・プッ
シャー64を押し上げて、これをフレーム4の内側に差
し入れ、続いて、エアーシリンダ68が駆動して、フレ
ーム4をフレーム位置決め部62にまで送り出す。When the frame 4 is pushed out from the frame stocker 56, the air cylinder 66 is driven to push up the frame pusher 64 and insert it into the frame 4, and then the air cylinder 68 is driven to push the frame pusher 64 up and into the frame 4. is sent out to the frame positioning section 62.
フレーム位置決め部62は、送り出されたフレーム4を
位置決めするだめの2本の位置決めビン70(但し、第
4図には1本の位置決めピン70だけが現れている)が
設けられている。この位置決めビン70と、フレーム4
の■ノツチ41.4゜が係合することによって、フレー
ム4が位置決めされる。PH3W5は、位置決めされた
フレーム4を検出するための光電素子である。The frame positioning section 62 is provided with two positioning pins 70 (however, only one positioning pin 70 is visible in FIG. 4) for positioning the sent-out frame 4. This positioning bin 70 and the frame 4
The frame 4 is positioned by engaging the notch 41.4°. PH3W5 is a photoelectric element for detecting the positioned frame 4.
位置決めされたフレーム4は、フレーム搬送部によって
貼付はテーブル42にまで搬送され、貼付はテーブル4
2のフレーム・チャックテーブル50にR置される。フ
レーム搬送部は、第5図に示すように、フレーム4を吸
着保持するフレーム・チャックアーム72と、このフレ
ーム・チャックアーム72を上昇させるエアーシリンダ
73と、フレーム・チャックアーム72を水平方向に駆
動するためのエアーシリンダ74などから構成されてい
る。Vl3は、このフレーム・チャックアーム72の入
/切を行う電磁弁、PUSW3は、フレーム・チャック
アーム72内の圧力低下を検出してON状態になる圧力
スイツチである。The positioned frame 4 is transported to the table 42 for pasting by the frame conveying section, and the pasting is carried out by the table 42.
2 is placed on the frame chuck table 50. As shown in FIG. 5, the frame transport section includes a frame chuck arm 72 that holds the frame 4 by suction, an air cylinder 73 that raises this frame chuck arm 72, and a horizontal drive of the frame chuck arm 72. It is composed of an air cylinder 74, etc. for Vl3 is a solenoid valve that turns on/off the frame chuck arm 72, and PUSW3 is a pressure switch that detects a drop in pressure within the frame chuck arm 72 and turns on.
フレーム・チャックテーブル50は、前記フレーム搬送
部によって搬送されたフレーム4を吸着保持する。第5
図に示したVl、4は、このフレーム・チャックテーブ
ル50の入/切を行う電磁弁、PUSW4は、フレーム
・チャックテーブル50内の圧力低下を検出してON状
態になる圧力スイッチである。また、PH3W6は、フ
レーム・チャックテーブル50上のフレーム4を検出す
る光電素子である。The frame chuck table 50 attracts and holds the frame 4 transported by the frame transport section. Fifth
Vl,4 shown in the figure is a solenoid valve that turns on/off the frame/chuck table 50, and PUSW4 is a pressure switch that detects a pressure drop within the frame/chuck table 50 and turns on. Further, PH3W6 is a photoelectric element that detects the frame 4 on the frame chuck table 50.
次に、第1図および第6図に基づいて、テープ供給・巻
き取り機構および粘着テープの切@機構について説明す
る。Next, the tape supply/winding mechanism and the adhesive tape cutting mechanism will be explained based on FIGS. 1 and 6.
前述した保護フィルム52は、貼付はテーブル42の一
方側に設けられた保護フィルム供給リール76から供給
され、貼付はテーブル42の他方側に設けられた保護フ
ィルム巻き取りリール78によって巻き取られる。The protective film 52 described above is pasted and supplied from a protective film supply reel 76 provided on one side of the table 42, and pasted and taken up by a protective film take-up reel 78 provided on the other side of the table 42.
符号80は、半導体ウェハ2を貼付けるための粘着テー
プ82を供給する粘着テープ供給リールである。粘着テ
ープ82は、これと同じ幅のセパレータ84と重ね合わ
された状態で粘着テープ供給リール80にセットされて
いる。セパレーク84は、粘着テープ82が粘着面を下
側にして送り一 15−
出されるときに、粘着テープ82とは別にセパレータ巻
き取りリール86によって巻き取られる。Reference numeral 80 is an adhesive tape supply reel that supplies adhesive tape 82 for pasting the semiconductor wafer 2. The adhesive tape 82 is set on the adhesive tape supply reel 80 in a state where it is overlapped with a separator 84 having the same width. The separator rake 84 is wound up by a separator take-up reel 86 separately from the adhesive tape 82 when the adhesive tape 82 is fed out with the adhesive side facing down.
半導体ウェハ2の貼付けのために使用された粘着テープ
82の残りは残渣テープ巻き取りリール88によって巻
き取られる。The remainder of the adhesive tape 82 used for pasting the semiconductor wafer 2 is taken up by a residual tape take-up reel 88.
符号90は、上下方向に配設された複数本のローラから
なる貼付はローラユニットである。第6図に示すように
、粘着テープ供給リール80から供給された粘着テープ
82は、貼付はローラユニット90に’SJの字状に架
は渡され、さらに、貼付はローラユニット90に並設さ
れた剥離ローラユニット92に架は渡されて、残渣テー
プ巻き取りリール8日に巻き取られる。Reference numeral 90 denotes a pasting roller unit consisting of a plurality of rollers arranged in the vertical direction. As shown in FIG. 6, the adhesive tape 82 supplied from the adhesive tape supply reel 80 is pasted onto a roller unit 90 in a 'SJ' shape, and is further pasted on the roller unit 90 in parallel. The frame is passed to a peeling roller unit 92, and the residue tape is wound on a take-up reel.
第7図に示すように、貼付はローラユニット90は、こ
れを水平駆動するエアーシリンダ94のロンド先端部に
結合されている。また、剥離ローラユニット92は、前
記エアーシリンダ94のシリンダ本体に結合されている
。貼付はローラユニット90および剥離ローラユニット
92は、それらの上部に設けられたカムホロワ−によっ
てレール96上を摺動するように構成されている。レー
ル96は、その両端部に設けられたエアーシリンダ98
1.982によって上下動可能に構成されている。貼付
はローラユニット90の下部には、ラック・ピニオン機
構100が設けられており、このランク・ピニオン機構
100は、ブレーキ102、クラッチ104を介して結
合されたモータ106によって駆動されるようになって
いる。As shown in FIG. 7, the pasting roller unit 90 is connected to the tip of an air cylinder 94 that horizontally drives the pasting roller unit 90. Furthermore, the peeling roller unit 92 is coupled to the cylinder body of the air cylinder 94. The pasting roller unit 90 and the peeling roller unit 92 are configured to slide on a rail 96 by means of cam followers provided above them. The rail 96 has air cylinders 98 provided at both ends thereof.
1.982, it is configured to be able to move up and down. A rack and pinion mechanism 100 is provided at the bottom of the roller unit 90, and this rank and pinion mechanism 100 is driven by a motor 106 coupled via a brake 102 and a clutch 104. There is.
上述した貼付はローラユニット90および剥離ローラユ
ニット92の動作を第7図および第8図によって説明す
る。The operations of the above-mentioned pasting roller unit 90 and peeling roller unit 92 will be explained with reference to FIGS. 7 and 8.
通常状態において、各ローラユニット90.92は貼付
はテーブル42よりも左側の原点位置にあり、レール9
6は上昇している。また、このときブレーキ102およ
びクラッチ104は解除されている。In the normal state, each roller unit 90, 92 is attached at the origin position to the left of the table 42, and the rail 9
6 is rising. Further, at this time, the brake 102 and the clutch 104 are released.
貼付は動作を行う場合、エアーシリンダ9L、98□が
作動してレール96が下降する。そして、剥離ローラユ
ニット92に関連して設けられた図示しないコックが作
動して剥離ローラユニノト92を停止状態に維持する。When pasting is performed, the air cylinders 9L and 98□ are operated and the rail 96 is lowered. Then, a cock (not shown) provided in connection with the peeling roller unit 92 is operated to maintain the peeling roller unit 92 in a stopped state.
この状態で、エアーシリンダ94が作動すると貼付はロ
ーラユニット90だけが水平方向に駆動されて、貼付は
ローラが貼付はテーブル42上の粘着テープ82を下方
に押圧しながら転勤することによって、粘着テープ82
と半導体ウェハ2との貼付けが行われる。In this state, when the air cylinder 94 is activated, only the roller unit 90 is driven in the horizontal direction, and the roller moves while pressing the adhesive tape 82 on the table 42 downward, thereby applying the adhesive tape. 82
and the semiconductor wafer 2 are attached.
このときクラッチ104は開放されている。At this time, clutch 104 is released.
粘着テープ82の切断後に、残渣テープをフレーム4な
どから剥離する場合、前記剥離ローラユニット92のコ
ツタが解除されるとともに、ブレーキ102が作動する
。この状態で、エアーシリンダ94が作動すると、貼付
はローラユニット90は停止状態を維持するから、剥離
ローラユニット92とエアーシリンダ94とが一体とな
って右方向に水平移動する。剥離ローラユニット92は
水平移動しながら、剥離ローラを回転駆動することによ
って、残渣テープを剥離する。第8図は、このような剥
離動作を終了した時点の各ローラユニット90.92の
位置を示している。When the residual tape is to be peeled off from the frame 4 or the like after cutting the adhesive tape 82, the peeling roller unit 92 is released and the brake 102 is activated. In this state, when the air cylinder 94 is operated, the pasting roller unit 90 remains in a stopped state, so the peeling roller unit 92 and the air cylinder 94 move horizontally to the right as one. The peeling roller unit 92 peels off the residual tape by rotating the peeling roller while moving horizontally. FIG. 8 shows the position of each roller unit 90, 92 at the time when such a peeling operation is completed.
剥離動作終了後の各ローラユニット90,92の原点復
帰は、次のようにして行われる。The return of each roller unit 90, 92 to its origin after the peeling operation is completed is performed as follows.
まず、エアーシリンダ98..98□が作動して、レー
ル96を上昇させる。このようにレール96を上昇させ
るのは、原点復帰動作のときに各ローラユニット90.
92が貼付はテーブル42上を転動すると、前述した剥
離動作によって剥離された残渣テープがフレーム4等に
再び接着するからである。レール96が上昇するととも
に、ブレーキ102が解除され、クラッチ104が結合
される。そして、モータ106が作動してランク・ビニ
オン機構100が駆動されることにより、貼付はローラ
ユニット90および剥離ローラユニット92が一体とな
って、左方向に水平移動して原点復帰する。First, air cylinder 98. .. 98□ operates to raise the rail 96. Raising the rail 96 in this way is done by each roller unit 90 during the return-to-origin operation.
This is because when the adhesive tape 92 rolls on the table 42, the residual tape peeled off by the above-described peeling operation will adhere to the frame 4 etc. again. As the rail 96 rises, the brake 102 is released and the clutch 104 is engaged. Then, when the motor 106 is operated and the rank-binion mechanism 100 is driven, the pasting roller unit 90 and the peeling roller unit 92 are integrally moved horizontally to the left and returned to the origin.
貼付はテーブル42の上方向には、前述した貼付は動作
によって貼付けられた帯状の粘着テープ82をフレーム
4に沿って円形に切断するための粘着テープ切断機構1
08が設けられている。この粘着テープ切断機構108
は、第6図に示すように、貼付はテーブル42上の粘着
テープ82を押さえ付けて保持する押さえプレート11
0と、押さえプレート110の外周に沿って回転駆動さ
れるテープカッター112などから構成されている。押
さえプレート110およびテープカッター112は、一
体となって上下方向に移動可能に構成されている。For pasting, an adhesive tape cutting mechanism 1 is provided above the table 42 for cutting the band-shaped adhesive tape 82 pasted by the above-described pasting operation into a circular shape along the frame 4.
08 is provided. This adhesive tape cutting mechanism 108
As shown in FIG.
0, a tape cutter 112 that is rotatably driven along the outer periphery of the presser plate 110, and the like. The pressing plate 110 and the tape cutter 112 are configured to be movable in the vertical direction as a unit.
第6図に示した符号114は、貼付はテーブル42から
マウント・フレーム6を、排出するためのマウント・フ
レームチャックアームである。このマウント・フレーム
チャックアーム114は、前述した剥離ローラユニット
92に取り付けられている。マウント・フレームチャッ
クアーム114は、剥離ローラユニット92の剥離動作
とともに貼付はテーブル42側に移動して、マウント・
フレーム6を吸着保持し、剥離ローラユニット92等の
原点復帰動作によって、マウント・フレーム6を排出搬
送する。なお、第6図に示したVL5は、このマウント
・フレームチャックアーム1工4の入/切を行う電磁弁
、PUSW5は、マウント・フレームチャックアーム1
14内の圧力像下を検出してON状態になる圧力スイツ
チである。Reference numeral 114 shown in FIG. 6 is a mount/frame chuck arm for ejecting the mount frame 6 from the attachment table 42. This mount/frame chuck arm 114 is attached to the peeling roller unit 92 described above. The mount/frame chuck arm 114 moves toward the table 42 side with the peeling operation of the peeling roller unit 92, and removes the mount/frame.
The frame 6 is held by suction, and the mount frame 6 is discharged and conveyed by the return-to-origin operation of the peeling roller unit 92 or the like. In addition, VL5 shown in FIG. 6 is a solenoid valve that turns on/off the mount/frame chuck arm 1, and PUSW5 is a solenoid valve that turns on/off the mount/frame chuck arm 1.
This is a pressure switch that detects the lower pressure image in 14 and turns on.
マウント・フレームチャックアーム114によって吸着
保持されたマウント・フレーム6は、前記各ローラユニ
ッ)90.92の原点復帰動作によって、スイング反転
ユニット116にまで搬送される。スイング反転ユニッ
ト116は、第6図および第9図に示すように、搬送さ
れたマウント・フレーム6を保持するクランプ機構11
8の他に、保持したマウント・フレームを水平方向に約
180度スイングするスイング機構120、スイングさ
れたマウント・フレーム6を半導体ウェハ2の表面が上
になるように反転させる反転機構122、反転されたマ
ウント・フレームをヒートステージ126にまで下降さ
せる上下駆動機構124などを備えている。なお、クラ
ンプ機構118に備えられたPH3W7は、このクラン
プ機構118にクランプされたマウント・フレーム6を
検出する光電素子である。The mount frame 6 suctioned and held by the mount frame chuck arm 114 is conveyed to the swing reversing unit 116 by the return-to-origin operation of each of the roller units 90 and 92. As shown in FIGS. 6 and 9, the swing reversing unit 116 includes a clamp mechanism 11 that holds the transported mount frame 6.
In addition to 8, there is also a swing mechanism 120 that swings the held mount frame 6 approximately 180 degrees in the horizontal direction, an inversion mechanism 122 that inverts the swung mount frame 6 so that the surface of the semiconductor wafer 2 faces up, and The apparatus includes a vertical drive mechanism 124 for lowering the mount frame to the heat stage 126. Note that the PH3W7 provided in the clamp mechanism 118 is a photoelectric element that detects the mount frame 6 clamped by the clamp mechanism 118.
ヒートステージ126は、熱収縮性フィルムを支持体と
して用いた粘着テープを使用する場合、加熱することに
よってテープ張力を増大させる目的で設けられている。The heat stage 126 is provided for the purpose of increasing tape tension by heating when using an adhesive tape using a heat-shrinkable film as a support.
第9図に示すように、このヒートステージ126に隣接
して、ヒートステージ126上のマウント・フレーム6
を押し出すためのマウント・フレーム押し出し機構12
8と、押し出されたマウント・フレーム6を第1図に示
すフレーム・カセット132(132,〜1324)に
搬送する搬送テーブル130が設けられている。搬送テ
ーブル130は、第9図に示すエアーシリンダ131に
よって、水平方向に移動可能に構成されており、左側の
アンローダ部に搬送するだめの搬送ベルト134と、右
側のアンローダ部に搬送するための搬送ベルト136に
、マウント・フレーム6を振り分けできるようになって
いる。As shown in FIG. 9, the mount frame 6 on the heat stage 126 is adjacent to the heat stage 126.
Mount frame extrusion mechanism 12 for extruding
8 and a transport table 130 for transporting the extruded mount frame 6 to a frame cassette 132 (132, to 1324) shown in FIG. The conveyance table 130 is configured to be movable in the horizontal direction by an air cylinder 131 shown in FIG. 9, and includes a conveyor belt 134 for conveying to the unloader section on the left side and a conveyor belt 134 for conveying to the unloader section on the right side. The mount frame 6 can be distributed to the belt 136.
なお、第9図に示した、PH3W8はヒートステージ1
26上のマウント・フレーム6を検出する光電素子、P
H3W9はヒートステージ126上のマウント・フレー
ム6の押し出しを検出する光電素子、PH3WIOは搬
送テーブル130によるマウント・フレーム6の受は取
りを検出する光電素子である。In addition, PH3W8 shown in FIG. 9 is heat stage 1.
A photoelectric element for detecting the mounting frame 6 on 26, P
H3W9 is a photoelectric element that detects the extrusion of the mount frame 6 on the heat stage 126, and PH3WIO is a photoelectric element that detects the reception of the mount frame 6 by the transport table 130.
フレーム・カセット132は、複数のマウント・フレー
ム6を水平状態で等間隔に収納するもので、本実施例で
は4個のフレーム・カセット1321〜1324をセン
トできる。フレーム・カセット132..132□は左
側のアンローダ部に、フレーム・カセット1323.1
324は右側のアンローダ部に、それぞれセットされる
。各アンローダ部は、それぞれ上下方向に移動可能に構
成されている。The frame cassette 132 stores a plurality of mount frames 6 horizontally at equal intervals, and in this embodiment, four frame cassettes 1321 to 1324 can be stored. Frame cassette 132. .. 132□ is the frame cassette 1323.1 in the left unloader section.
324 are respectively set in the right unloader section. Each unloader section is configured to be movable in the vertical direction.
第1図に示す、符号138は操作盤である。この操作盤
138には、装置のエラーの種類に対応したコードを表
示する3桁の7セグメントLEDや操作キーなどが設け
られている。また、符号140は、自動運転動作やエラ
ー発生などを表示するパトライトである。Reference numeral 138 shown in FIG. 1 is an operation panel. The operation panel 138 is provided with a three-digit, seven-segment LED that displays a code corresponding to the type of error in the device, operation keys, and the like. Further, reference numeral 140 is a patrol light that displays automatic driving operations, error occurrences, and the like.
次に、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置の
制御系の構成を第11図に基づいて説明する。Next, the configuration of the control system of the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to this embodiment will be explained based on FIG. 11.
制御部142は、CPU144.ROM14.6゜RA
M148.操作盤コントローラ150.センサーコント
ローラ152.アクチュエータコントローラ154.パ
ルスモータコントローラ156などから構成されている
。CPU144は、ROM146に格納された処理プロ
グラムに従って、装置全体の制御を行う。RAM148
には、貼付けされる半導体ウェハの大きさなどのデータ
や処理条件が書き込まれる。操作盤コントローラ150
は操作盤138を、センサーコントローラ152は本装
置に備えられた圧力スイツチや光電素子などの各種のセ
ンサ一群158を、アクチュエータコントローラ154
は本装置に備えられたモータやエアーシリンダなどの各
種のアクチュエータ群160ヲ、パルスモータコントロ
ーラ156はアライメント・テーブル20を回転駆動す
るパルスモータ24をそれぞれ制御するものである。The control unit 142 includes a CPU 144. ROM14.6゜RA
M148. Operation panel controller 150. Sensor controller 152. Actuator controller 154. It is composed of a pulse motor controller 156 and the like. The CPU 144 controls the entire device according to a processing program stored in the ROM 146. RAM148
Data such as the size of the semiconductor wafer to be pasted and processing conditions are written in. Operation panel controller 150
is the operation panel 138, the sensor controller 152 is a group of various sensors 158 such as pressure switches and photoelectric elements provided in this device, and the actuator controller 154 is
A group of various actuators 160 such as motors and air cylinders provided in this apparatus are controlled, and a pulse motor controller 156 controls a pulse motor 24 that rotationally drives the alignment table 20.
次に、上述した構成を備えた半導体ウェハの自動貼付は
装置の動作を、第12図に示した動作フローチャートに
従って説明する。Next, the operation of the automatic semiconductor wafer bonding apparatus having the above-described configuration will be explained according to the operation flowchart shown in FIG.
本装置の各部が原点に復帰しており、また、ウエバ・ロ
ーダ部およびアンローダ部にそれぞれウェハ・カセット
8およびフレーム・カセット132が装着された状態で
、本装置が始動されると、まず、ウェハ・カセット8が
装着された一方側のウェハ・ローダ部が下降する(ステ
ップS2)。When this apparatus is started with each part of the apparatus having returned to its original position and with the wafer cassette 8 and frame cassette 132 installed in the webber loader section and unloader section, respectively, the wafer - The wafer loader section on one side with the cassette 8 mounted is lowered (step S2).
このウェハ・ローダ部に備えられたウェハ検出器によっ
て、ウェハ・カセット8内の半導体ウェハ2が検出され
たか否かが確認される(ステップS4)。It is confirmed whether the semiconductor wafer 2 in the wafer cassette 8 has been detected by the wafer detector provided in the wafer loader section (step S4).
半導体ウェハ2が検出されると搬送ベル)16が駆動さ
れ、ウェハ・ローダ部に備えられたウェハ押し出し機構
10または12によって、前記検出された半導体ウェハ
2がウェハ・カセット8内から押し出される(ステップ
S8)。押し出された半導体ウェハ2は、搬送ベルト1
6に乗って半導体ウェハ位置合わせ部14へ搬送される
。When the semiconductor wafer 2 is detected, the transport bell 16 is driven, and the detected semiconductor wafer 2 is pushed out from the wafer cassette 8 by the wafer pushing mechanism 10 or 12 provided in the wafer loader section (step S8). The extruded semiconductor wafer 2 is transferred to the conveyor belt 1
6 and is transported to the semiconductor wafer alignment section 14.
そして、アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2
を受は取ったか否かが確認される(ステップ510)。Then, the alignment table 20 is aligned with the semiconductor wafer 2.
It is checked whether the receipt has been received (step 510).
半導体ウェハ2の受は取りの確認は、第13図に示すよ
うに、アライメント・テープル20の近傍に設けられた
光電素子PH5WIIによって検出される。一定時間経
過後アライメン1−・テーブル20が半導体ウェハ2を
受は取らなかった場合は、エラー表示■が行われ(ステ
ップ512)、パトライト140のエラー表示ライトが
点灯するとともに、操作盤138の7セグメン1− L
E Dが、このエラーに対応したコードを表示する。Confirmation that the semiconductor wafer 2 has been received is detected by a photoelectric element PH5WII provided near the alignment table 20, as shown in FIG. If the alignment table 20 does not receive the semiconductor wafer 2 after a certain period of time has elapsed, an error display ■ is performed (step 512), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the Segment 1-L
ED displays the code corresponding to this error.
アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2を受は取
ったことが確認されると、このアライメント・テーブル
20が上昇する(ステップ514)。そして、中心位置
合わせ仮22.,22□が駆動して、この半導体ウェハ
2の中心の割り出しを行う(ステップ816)。半導体
ウェハ2の中心が割り出されると、アライメント・テー
ブル20の真空チャックが作動して、この半導体ウェハ
2が吸着される(ステップ518)。そして、前記真空
チャックに関連して設けられた圧力スイフチPUSWI
によって、半導体ウェハ2が確実に吸着されているか否
かが確認される(ステップ520)。When it is confirmed that the alignment table 20 has received the semiconductor wafer 2, the alignment table 20 is raised (step 514). Then, temporarily align the center position 22. , 22□ are driven to determine the center of the semiconductor wafer 2 (step 816). Once the center of the semiconductor wafer 2 has been determined, the vacuum chuck of the alignment table 20 is operated to suck the semiconductor wafer 2 (step 518). and a pressure swifter PUSWI provided in connection with the vacuum chuck.
Thus, it is confirmed whether the semiconductor wafer 2 is reliably attracted (step 520).
半導体ウェハ2の吸着が確認されると、その半導体ウェ
ハ2のオリエンテーションフラットOFの位置合わせが
行われる(ステップ524)。When the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed, the orientation flat OF of the semiconductor wafer 2 is aligned (step 524).
以下、このステップにおいて行われる、半導体ウェハの
オリエンテーションフラン1〜の位置合わせの手順を第
13図および第14図に基づいて説明する。Hereinafter, the procedure for positioning the semiconductor wafer orientation flan 1 to performed in this step will be explained based on FIGS. 13 and 14.
第13図は、中心位置合わせ板22..22□によって
中心割り出しされた半導体ウェハ2が、アライメント・
テーブル20によって吸着された状態を示している。オ
リエンテーションフラットOFの端部は、半導体ウェハ
2の大きさに応じて適宜に選択された光電素子PH3W
I、2.3の中の一つによって検出される。この図では
、便宜的に光電素子PH3WIのみを示している。光電
素子PH3WIは、アライメント・テーブル20の中心
から半導体ウェハ2の半径よりも若干内側に位置して設
けられている。光電素子P HS W 1の出力は、パ
ルスモータ24をコントロールするパルスモータコント
ローラ156に直接に与えられる。パルスモータコント
ローラ156は、光電素子PH3WIの検出信号によっ
てパルスモータ24を停止させるように構成されている
。また、パルスモータコントローラ156はCPU14
4からの指令に基づいて、パルスモータ24に回転量を
出力するとともに、パルスモータ24が停止状態になる
までの回転量をCPU144に与える。FIG. 13 shows the center alignment plate 22. .. The semiconductor wafer 2 centered by 22□ is aligned and
A state in which the table 20 has been adsorbed is shown. The end of the orientation flat OF is provided with a photoelectric element PH3W that is appropriately selected according to the size of the semiconductor wafer 2.
I, 2.3. In this figure, only the photoelectric element PH3WI is shown for convenience. The photoelectric element PH3WI is located slightly inside the radius of the semiconductor wafer 2 from the center of the alignment table 20. The output of the photoelectric element P HS W 1 is directly given to a pulse motor controller 156 that controls the pulse motor 24 . The pulse motor controller 156 is configured to stop the pulse motor 24 in response to a detection signal from the photoelectric element PH3WI. Further, the pulse motor controller 156 is controlled by the CPU 14.
Based on the command from 4, the rotation amount is output to the pulse motor 24, and the rotation amount until the pulse motor 24 comes to a stop state is given to the CPU 144.
第14図は、オリエンテーションフラットOFの位置合
わせ動作のフローチャートである。以下、これに基づい
て説明する。FIG. 14 is a flowchart of the alignment operation of the orientation flat OF. The following explanation will be based on this.
半導体ウェハ2がアライメント・テーブル20に吸着保
持されると、CPUI 44はパルスモータ24を例え
ば、反時計方向に3606だけ回転させる回転量を設定
しくステップ3130)、これをパルスモータコントロ
ーラ156を介してパルスモータ24に出力する(ステ
ップS 132)。When the semiconductor wafer 2 is suctioned and held on the alignment table 20, the CPU 44 sets a rotation amount to rotate the pulse motor 24 counterclockwise, for example, by 3606 (step 3130), and controls this via the pulse motor controller 156. It outputs to the pulse motor 24 (step S132).
これにより、半導体ウェハ2がパルスモータ24によっ
て回転される。そして、オリエンテーションフラットO
Fの一方端が光電素子PH3WIによって検出されると
、その検出信号がパルスモータコントローラ156に与
えられて、パルスモータ24が停止する。Thereby, the semiconductor wafer 2 is rotated by the pulse motor 24. And orientation flat O
When one end of F is detected by the photoelectric element PH3WI, the detection signal is given to the pulse motor controller 156, and the pulse motor 24 is stopped.
ステップ5132の終了後、CPUI 44は、パルス
モータ24が停止したか否かを監視している(ステップ
S 134)。After completing step 5132, the CPU 44 monitors whether the pulse motor 24 has stopped (step S134).
パルスモータ24が停止したことを確認すると、CPU
144は、パルスモータ24を時計方向に360°回転
させる回転量を設定しくステップ5136)、これをパ
ルスモータコントローラ156を介してパルスモータ2
4に出力する(ステップ3138)。これにより、半導
体ウェハ2が時計方向に回転される。そして、オリエン
テーションフラン1−OFの他端が光電素子PH3WI
によって検出されると、その検出信号がパルスモータコ
ントローラ156に与えられて、パルスモータ24が停
止する。After confirming that the pulse motor 24 has stopped, the CPU
144 sets the amount of rotation for rotating the pulse motor 24 clockwise 360 degrees (step 5136), and sets the rotation amount to rotate the pulse motor 24 through the pulse motor controller 156.
4 (step 3138). As a result, the semiconductor wafer 2 is rotated clockwise. The other end of the orientation flange 1-OF is the photoelectric element PH3WI.
When detected, the detection signal is given to the pulse motor controller 156, and the pulse motor 24 is stopped.
CPU144は、パルスモータ24の停止を確認すると
(ステップ5140)、そのときの時計方向の回転量θ
を読み込む(ステップ5142)。When the CPU 144 confirms that the pulse motor 24 has stopped (step 5140), the CPU 144 determines the clockwise rotation amount θ at that time.
is read (step 5142).
そして、パルスモーク24を反時計方向にθ/2だけ回
転させる回転量を設定しくステップ5144)、これを
パルスモータコントローラ156を介してパルスモータ
24に出力する。これにより、半導体ウェハ2は反時計
方向にθ/2回転される。Then, a rotation amount for rotating the pulse smoke 24 counterclockwise by θ/2 is set (step 5144), and this is output to the pulse motor 24 via the pulse motor controller 156. As a result, the semiconductor wafer 2 is rotated counterclockwise by θ/2.
このような処理により、アライメント・テーブル20の
中心と光電素子PH3WIとを結ぶ方向に対して、オリ
エンテーションフラットOFが直角に交わる位置で、半
導体ウェハ2が停止する。Through such processing, the semiconductor wafer 2 is stopped at a position where the orientation flat OF intersects at right angles to the direction connecting the center of the alignment table 20 and the photoelectric element PH3WI.
以上がオリエンテーションフラットOFの位置合わせの
基本的手順であるが、半導体ウェハ2の機種に応じて、
半導体ウェハ2を更に90°回転あるいは180°回転
して、最終的な位置決めを完了することもある。The above is the basic procedure for aligning the orientation flat OF, but depending on the model of the semiconductor wafer 2,
Final positioning may be completed by further rotating the semiconductor wafer 2 by 90° or 180°.
以下、第12図に戻って本装置の動作説明を続ける。Hereinafter, referring back to FIG. 12, the explanation of the operation of this device will be continued.
オリエンテーションフラットOFの位置合わせが終了す
ると、再度、半導体ウェハ2の吸着の有無を確認する(
ステップ826)。これは、オリエンテーションフラッ
トOFの位置合わせ動作の際に、半導体ウェハ2がアラ
イメント・テーブル20から離脱することも考えられる
からである。When the alignment of the orientation flat OF is completed, check again whether or not the semiconductor wafer 2 is attracted (
step 826). This is because the semiconductor wafer 2 may come off from the alignment table 20 during the alignment operation of the orientation flat OF.
そして、このステップS26で、吸着されていないこと
が検出されると、前述したステップS22に進んでエラ
ー表示■を行う。If it is detected in this step S26 that the object is not attracted, the process proceeds to step S22 described above and an error display (2) is displayed.
ところで、前述したステップS14が終了した後、ステ
ップS16に移行するとともに、ステップ32Bに移行
する。これにより、反転フォーク40が前進し、アライ
メント・テーブル20に吸着された半導体ウェハ2の下
方に挿入した状態で停止する。By the way, after the above-mentioned step S14 is completed, the process moves to step S16 and also moves to step 32B. As a result, the reversing fork 40 moves forward and stops while being inserted below the semiconductor wafer 2 that is attracted to the alignment table 20.
反転フォーク40が半導体ウェハ2の下方に挿入された
後、アライメント・テーブル20が下降する(ステップ
530)。アライメント・テーブル20が下降すると同
時に、アライメント・テーブル20の吸着が解除され、
反転フォーク40の真空チャックが作動する。これによ
り、アライメント・テーブル20上の半導体ウェハ2が
、反転フォーク40に移って吸着保持される。After the reversing fork 40 is inserted below the semiconductor wafer 2, the alignment table 20 is lowered (step 530). At the same time as the alignment table 20 is lowered, the suction of the alignment table 20 is released,
The vacuum chuck of the reversing fork 40 is activated. As a result, the semiconductor wafer 2 on the alignment table 20 is moved to the reversing fork 40 and held there by suction.
そして、反転フォーク40が半導体ウェハ2を確実に吸
着したか否かが確認される(ステップ532)。吸着の
有無は、反転フォーク40の真空チャックに関連して設
けられた圧力スイツチPUSW2からの検出信号に基づ
いて判断される。吸着が行われていない場合は、エラー
表示■を行い(ステップ534)、パトライト140の
エラー表示ライI・が点灯するとともに、操作盤138
の7セグメンl−L E Dが、このエラーに対応した
コードを表示する。Then, it is checked whether the reversing fork 40 has reliably attracted the semiconductor wafer 2 (step 532). The presence or absence of suction is determined based on a detection signal from a pressure switch PUSW2 provided in connection with the vacuum chuck of the reversing fork 40. If suction has not been performed, an error display ■ is displayed (step 534), the error display light I on the patrol light 140 lights up, and the operation panel 138
The 7-segment LED displays a code corresponding to this error.
半導体ウェハ2が反転フォーク40に確実に吸着されて
いる場合、反転フォーク40が反転する(ステップ83
6)。そして、反転フォーク40が、所定の反転位置に
あるか否かが確認される(ステップ838)。反転フォ
ーク40の反転の有無は、この反転フォーク40に関連
して設けられた光電素子P HS W 4の検出信号に
基づいて判断される。反転フォーク40が所定位置にま
で反転していない場合、エラー表示■を行い(ステップ
540)、パトライト140のエラー表示ライトが点灯
するとともに、操作盤138の7セグメントLEDが、
このエラーに対応したコードを表示する。When the semiconductor wafer 2 is reliably attracted to the reversing fork 40, the reversing fork 40 is reversed (step 83).
6). Then, it is confirmed whether the reversing fork 40 is at a predetermined reversing position (step 838). Whether or not the reversing fork 40 is reversed is determined based on the detection signal of the photoelectric element P HS W 4 provided in relation to the reversing fork 40 . If the reversing fork 40 has not been reversed to the predetermined position, an error display ■ is displayed (step 540), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 lights up.
Display the code corresponding to this error.
反転フォーク40が正しく反転されている場合には、再
び、半導体ウェハ2の吸着の確認を行い(ステップ34
.1 ) 、吸着されていない場合には前述したエラー
表示■を行う(ステップ534)。If the reversing fork 40 is correctly reversed, the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed again (step 34).
.. 1) If the object is not absorbed, the above-mentioned error display (2) is performed (step 534).
半導体ウェハ2の吸着が確認されると、反転フォーク4
0が貼付はテーブル42側に後退する(ステップ542
)。そして、反転フォーク40は、半導体ウェハ2の吸
着を解除して、移送した半導体ウェハを、保護フィルム
52に覆われたウェハ・チャックテーブル48上に移ず
くステップ544)。ウェハ・チャックテーブル48に
移された半導体ウェハ2は、その裏面が上になっている
。When the semiconductor wafer 2 is confirmed to be attracted, the reversing fork 4
0 is pasted and retreats to the table 42 side (step 542
). Then, the reversing fork 40 releases the suction of the semiconductor wafer 2 and transfers the transferred semiconductor wafer onto the wafer chuck table 48 covered with the protective film 52 (step 544). The semiconductor wafer 2 transferred to the wafer chuck table 48 has its back side facing up.
一方、前述したステップS4において半導体ウェハ2が
検出されると、ステップS8に移行するとともに、ステ
ップS46に移行する。これにより、フレーム・ストッ
カー56に収納されたフレーム4が、フレーム押し出し
機構によって押し出される。そして、フレーム・ストッ
カー56とフレーム位置決め部62との搬送経路途中に
設けられたフレーム・プッシャー64が上昇しくステッ
プ848)、押し出されたフレーム4の内側に係合した
状態で前進する(ステップ550)。これにより、フレ
ーム4はフレーム位置決め部62に送り出され、フレー
ム4の■ノツチ4.,4□が、フレーム位置決め部62
に設けられた位置決めビン70に係合することによって
、フレーム4の位置決めが行われる。On the other hand, if the semiconductor wafer 2 is detected in step S4 described above, the process moves to step S8 and then moves to step S46. As a result, the frame 4 stored in the frame stocker 56 is pushed out by the frame push-out mechanism. Then, the frame pusher 64 provided in the middle of the conveyance path between the frame stocker 56 and the frame positioning section 62 rises (step 848), and moves forward while engaging the inside of the pushed-out frame 4 (step 550). . As a result, the frame 4 is sent out to the frame positioning section 62, and the notch 4. , 4□ is the frame positioning part 62
The frame 4 is positioned by engaging with a positioning pin 70 provided in the frame 4.
そして、フレーム4が確実に位置決めされたか否かが確
認される(ステップ552)。これは、フレーム位置決
め部62に設けられた光電素子PH3W5の検出信号に
基づいて判断される。フレーム4が位置合わせされてい
ない場合は、エラー表示■を行い(ステップ554)、
パトライト140のエラー表示ライトが点灯するととも
に、操作盤138の7セグメントLEDが、このエラー
に対応したコードを表示する。Then, it is confirmed whether the frame 4 has been reliably positioned (step 552). This is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH3W5 provided in the frame positioning section 62. If frame 4 is not aligned, an error message ■ is displayed (step 554);
The error indicator light on the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED on the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.
フレーム4の位置決めが行われている場合、そのフレー
ム4を貼付はテーブル42にまで搬送するフレーム・チ
ャックアーム72が下降しくステップ556)、位置決
めされたフレーム4を吸着する(ステップ858)。次
に、フレーム・チャックアーム72がフレーム4を吸着
したか否かが確認される(ステップ560)。これは、
フレーム・チャックアーム72に関連して設けられた圧
力スイッチPUSW3の検出信号に基づいて判断される
。フレーム4が吸着されていない場合は、エラー表示■
を行い(ステップ562)、パトライト140のエラー
表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグ
メントL E Dが、このエラーに対応したコードを表
示する。If the frame 4 has been positioned, the frame chuck arm 72 that conveys the frame 4 to the table 42 is lowered (step 556) and sucks the positioned frame 4 (step 858). Next, it is determined whether the frame chuck arm 72 has attracted the frame 4 (step 560). this is,
The determination is made based on the detection signal of the pressure switch PUSW3 provided in relation to the frame chuck arm 72. If frame 4 is not adsorbed, an error message appears■
is carried out (step 562), and the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.
フレーム4が吸着されていることが確認されると、フレ
ーム・チャックアーム72が上昇する(ステップ564
)。そして、再び、フレーム4が吸着されていることを
確認しくステップ565)、吸着されていない場合は前
述したエラー表示■を行う(ステップ562)。フレー
ム4の吸着が確認されると、フレーム・チャックアーム
72は貼付はテーブル42にまで移動する(ステップ8
66)。そして、フレーム・チャックアーム72が下降
して、フレーム4をフレーム・チャックテーブル50に
移す(ステップ567)。When it is confirmed that the frame 4 is attracted, the frame chuck arm 72 is raised (step 564).
). Then, it is checked again that frame 4 has been attracted (step 565), and if it has not been attracted, the above-mentioned error display (2) is performed (step 562). When adsorption of the frame 4 is confirmed, the frame chuck arm 72 moves to the attachment table 42 (step 8).
66). Then, the frame chuck arm 72 descends and transfers the frame 4 to the frame chuck table 50 (step 567).
フレーム4の移載が確認されると、フレーム・チャック
テーブル50が作動して、載置されたフレーム4を吸着
保持する(ステップ570)。そして、フレーム・チャ
ックテーブル50がフレーム4を確実に吸着しているか
否かが確認される(ステップ571)。これは、フレー
ム・チャックテーブル50に関連して設けられた圧力ス
イッチPUSW4の検出信号に基づいて判断される。When the transfer of the frame 4 is confirmed, the frame chuck table 50 is operated to suction and hold the placed frame 4 (step 570). Then, it is confirmed whether the frame chuck table 50 is reliably sucking the frame 4 (step 571). This is determined based on the detection signal of the pressure switch PUSW4 provided in relation to the frame/chuck table 50.
フレーム4が吸着されていない場合は、エラー表示■を
行い(ステップ572)、パトライト140のエラー表
示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグメ
ントLEDが、このエラーに対応したコードを表示する
。If the frame 4 is not attracted, an error display (2) is performed (step 572), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.
フレーム4がフレーム・チャックテーブル50に吸着さ
れていることを確認するとフレーム・チャックアーム7
2の吸着を解除しくステップS73)、フレーム・チャ
ックアーム72が上昇する(ステップ574)。After confirming that the frame 4 is attracted to the frame/chuck table 50, the frame/chuck arm 7
In order to release the suction of the frame chuck arm 72 (step S73), the frame chuck arm 72 rises (step 574).
以上のステップによって、貼付はテーブル42に半導体
ウェハ2およびフレーム4がセントされる。Through the above steps, the semiconductor wafer 2 and frame 4 are placed on the attachment table 42.
フレーム・チャックアーム72が上昇すると、貼付はロ
ーラユニット90が下降する(ステップ575)。これ
により、貼付はローラユニット90に架は渡された粘着
テープ82も下降して、この粘着テープ82はウェハ・
チャックテーブル48上の半導体ウェハ2の裏面に当接
する。貼付はローラユニット90が下降すると、この貼
付はローラユニット90は貼付はテーブル42に向かっ
て水平移動する。これにより、貼付はローラユニット9
0の貼付はローラが、半導体ウェハ2の裏面に当接した
粘着テープ82の上を転がりながら、軽く押圧し、半導
体ウェハ2と粘着テープ82とフレーム4との貼付けを
行う(ステップ876)。When the frame chuck arm 72 is raised, the pasting roller unit 90 is lowered (step 575). As a result, the adhesive tape 82 placed on the roller unit 90 also descends, and this adhesive tape 82 is attached to the wafer.
It comes into contact with the back surface of the semiconductor wafer 2 on the chuck table 48. When the pasting roller unit 90 is lowered, the pasting roller unit 90 moves horizontally toward the pasting table 42. As a result, pasting is performed by the roller unit 9.
0 is attached by a roller rolling over the adhesive tape 82 that is in contact with the back surface of the semiconductor wafer 2 and pressing lightly to attach the semiconductor wafer 2, the adhesive tape 82, and the frame 4 (step 876).
半導体ウェハ2と粘着テープ82とフレーム4との貼付
けが終了すると、押さえプレート110とテープカッタ
ー112とが下降し、押さえプレート110はフレーム
4上の粘着テープ82を押圧保持する。そして、テープ
カッター112が、押さえプレート110の周囲を1回
転することによって、フレーム4の外形よりも若干小さ
くなるように、粘着テープ82を切断する(ステップ5
78)。When the attachment of the semiconductor wafer 2, adhesive tape 82, and frame 4 is completed, the presser plate 110 and tape cutter 112 are lowered, and the presser plate 110 presses and holds the adhesive tape 82 on the frame 4. Then, by rotating the tape cutter 112 once around the presser plate 110, the adhesive tape 82 is cut so as to be slightly smaller than the outer shape of the frame 4 (step 5).
78).
粘着テープ82の切断が終了すると、ウェハ・チャック
テーブル48が下降しくステップ580)、保護フィル
ム巻き取りリール78が駆動して保護フィルム52を巻
き取るとともに、新しい保護フィルム52をウェハ・チ
ャックテーブル48正に引き出す(ステップ582)。When cutting of the adhesive tape 82 is completed, the wafer/chuck table 48 is lowered (step 580), the protective film take-up reel 78 is driven to take up the protective film 52, and the new protective film 52 is placed on the wafer/chuck table 48. (step 582).
一方、粘着テープ82の切断が終了すると、剥離ローラ
ユニット92が貼付はテーブル42側に向かって水平方
向に移動する。これにより、フレーム4の周辺部に貼付
いている粘着テープ82の残渣を、フレーム4から剥離
する(ステップ584)。On the other hand, when the cutting of the adhesive tape 82 is completed, the peeling roller unit 92 moves horizontally toward the adhesion table 42 side. As a result, the residue of the adhesive tape 82 stuck to the periphery of the frame 4 is peeled off from the frame 4 (step 584).
粘着テープの剥離が終わると、貼付はテーブル42上の
マウント・フレーム6を排出するためのマウント・フレ
ームチャックアーム114が下降しくステップ886)
。マウント・フレーム6を吸着する(ステップ588)
。そして、マウント・フレーム6が確実に吸着されたか
否がが確認される(ステップ590)。これは、マウン
ト・フレームチャックアーム114に関連して設けられ
た圧力スイツチPUSW5の検出信号に基づいて判断す
る。マウント・フレーム6が吸着されていない場合はエ
ラー表示Xを行い(ステップ592)、パトライト14
0のエラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤13
8の7セグメントLEDが、このエラーに対応したコー
ドを表示する。Once the adhesive tape has been peeled off, the mount/frame chuck arm 114 is lowered to eject the mount frame 6 on the table 42 (step 886).
. Attach the mount frame 6 (step 588)
. Then, it is confirmed whether the mount frame 6 has been reliably attracted (step 590). This is determined based on the detection signal of the pressure switch PUSW5 provided in connection with the mount/frame chuck arm 114. If the mount frame 6 is not attracted, an error message X is displayed (step 592), and the patrol light 14
0 error display light lights up and the operation panel 13
8 7-segment LEDs display the code corresponding to this error.
マウント・フレーム6が吸着されていることが確認され
ると、マウント・フレームチャックアーム114が上昇
する(ステップ594)。マウント・フレームチャック
アーム114が上昇した後、再び、マウント・フレーム
6の吸着を確認しくステップ595)、吸着されていな
い場合にはエラー表示Xを行う(ステップ592)。マ
ウント・−39=
フレーム6の吸着を確認すると、貼付はテーブル42に
まで移動している貼付はローラユニット90および剥離
ローラユニット92が元の位置(原点)にまで戻る(ス
テップ396)。貼付はローラユニット90および剥離
ローラユニット92が原点復帰するとともに、マウント
・フレーム6を吸着したマウント・フレームチャックア
ーム114もスイング反転ユニット116方向に移動す
る(ステップ898)。そして、マウント・フレームチ
ャックアーム114がスイング反転ユニット116のク
ランプ機構118にマウント・フレーム6の一端を挿入
する位置にまで移動したところで、再び、マウント・フ
レーム6の吸着を確認しくステップ599)、吸着され
ていない場合にはエラー表示Xを行う(ステップ592
)。When it is confirmed that the mount frame 6 is attracted, the mount frame chuck arm 114 is raised (step 594). After the mount/frame chuck arm 114 is raised, check again whether the mount/frame 6 is attracted (step 595), and if it is not attracted, an error message X is displayed (step 592). Mount -39= When adsorption of the frame 6 is confirmed, the pasting roller unit 90 and peeling roller unit 92, which have moved to the table 42, return to their original positions (origins) (step 396). For pasting, the roller unit 90 and the peeling roller unit 92 return to their origin, and the mount/frame chuck arm 114 that has attracted the mount frame 6 also moves toward the swing reversing unit 116 (step 898). Then, when the mount/frame chuck arm 114 has moved to the position where one end of the mount frame 6 is inserted into the clamp mechanism 118 of the swing reversing unit 116, check that the mount frame 6 is suctioned again (step 599). If not, an error message X is displayed (step 592).
).
マウント・フレーム6の吸着が確認されると、スイング
反転ユニット116のクランプ機構118が閉じてマウ
ント・フレーム6をクランプする(ステップ5100)
。そして、マウント・フレーム6が確実にクランプされ
ているか否かを確認=40−
する(ステップS 102)。これは、前記クランプ機
構118に備えられた光電素子PH3W7の検出信号に
基づいて判断する。マウント・フレーム6がクランプさ
れていない場合は、エラー表示XIを行い(ステップ5
104)、パトライト140のエラー表示ライトが点灯
するとともに、操作盤138の7セグメントLEDが、
このエラーに対応したコードを表示する。When adsorption of the mount frame 6 is confirmed, the clamp mechanism 118 of the swing reversing unit 116 closes and clamps the mount frame 6 (step 5100).
. Then, it is checked whether the mount frame 6 is securely clamped (step S102). This is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH3W7 provided in the clamp mechanism 118. If the mount frame 6 is not clamped, error display XI is displayed (step 5).
104), the error display light on the patrol light 140 lights up, and the 7 segment LED on the operation panel 138 lights up.
Display the code corresponding to this error.
マウント・フレーム6がクランプされていることを確認
すると、スイング反転ユニ・ノド116は、水平方向に
約180度スイングしくステップ8106)、再び、マ
ウント・フレーム6のクランプを確認する(ステップ5
107)。クランプされていない場合はエラー表示XI
を行う(ステップS 104)。マウント・フレーム6
のクランプが確認されると、半導体ウェハ2の表面が上
になるようにマウント・フレーム6を反転させる(ステ
ップ310B)。そして、もう一度、マウント・フレー
ム6のクランプを確認しくステップ5IO9)、クラン
プされていない場合にはエラー表示xrを行う(ステッ
プS 104)。After confirming that the mount frame 6 is clamped, the swing reversing uni-nod 116 swings approximately 180 degrees in the horizontal direction (step 8106), and again confirms that the mount frame 6 is clamped (step 5).
107). If not clamped, error display XI
(Step S104). Mount frame 6
When the clamping is confirmed, the mount frame 6 is turned over so that the surface of the semiconductor wafer 2 faces upward (step 310B). Then, check once again whether the mount frame 6 is clamped (Step 5IO9), and if it is not clamped, an error message xr is displayed (Step S104).
マウント・フレーム6のクランプが確認されると、ヒー
トステージ126上に他のマウント・フレーム6が無い
ことを確認する(ステップ5llO)。これは、ヒート
ステージ126に設けられた光電素子PH3W8の検出
信号に基づいて行われる。ヒートステージ126に他の
マウント・フレーム6があれば、エラー表示X■を行い
(ステップ5lll)、パトライト140のエラー表示
ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグメン
トL E Dが、このエラーに対応したコードを表示す
る。When the clamping of the mount frame 6 is confirmed, it is confirmed that there is no other mount frame 6 on the heat stage 126 (step 5llO). This is performed based on the detection signal of the photoelectric element PH3W8 provided on the heat stage 126. If there is another mount frame 6 on the heat stage 126, an error display X is displayed (step 5llll), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 indicates this error. Display the corresponding code.
ヒートステージ126に他のマウント・フレーム6が無
いことが確認されると、スイング反転ユニット116は
下降しくステップ5112)、マウント・フレーム6が
ヒートステージ126上にまで来たところで、クランプ
機構118が解放する(ステップS 113)。これに
よって、マウント・フレーム6はヒートステージ126
に移されヒートステージ126に移されたマウント・フ
レーム6は、ここで加熱される(ステップ5l14)。When it is confirmed that there is no other mount frame 6 on the heat stage 126, the swing reversing unit 116 descends (step 5112), and when the mount frame 6 reaches above the heat stage 126, the clamp mechanism 118 is released. (Step S113). With this, the mount frame 6 is attached to the heat stage 126.
The mount frame 6 transferred to the heat stage 126 is heated here (step 5l14).
これにより、マウント・フレーム6の粘着テープが収縮
して、そのテープ張力を強くする。This causes the adhesive tape on the mount frame 6 to contract, increasing the tape tension.
ただし、このような弛み除去を必要としない場合、この
ステップ5114は省略される。However, if such slack removal is not required, this step 5114 is omitted.
(以下、余白)
マウント・フレーム6の加熱を終了するよ、マウント・
フレーム押し出し機構128が作動して、ヒートステー
ジ126上のマウント・フレームを押し出す(ステップ
5116)。そして、マウント・フレーム6がヒートス
テージ126から押し出されたか否かが確認される(ス
テ1.ブ5l18)、これは、ヒートステージ126の
端部に設けられた光電素子P、H3W9の検出信号に基
づいて判断する。マウント・フレーム6の押し出しが行
われていない場合はエラー表示XIを行い(ステップ5
L20)、パトライト140のエラー表示ライトが点灯
するとともに、操作盤138の7セグメントLEDが、
このエラーに対応したコードを表示する。(Left below) Finish heating the mount frame 6.
Frame pushing mechanism 128 is activated to push out the mounting frame on heat stage 126 (step 5116). Then, it is confirmed whether or not the mount frame 6 has been pushed out from the heat stage 126 (Step 1.B5l18). Judgment based on. If the mount frame 6 is not pushed out, error display XI is displayed (step 5).
L20), the error display light on the patrol light 140 lights up, and the 7 segment LED on the operation panel 138 lights up.
Display the code corresponding to this error.
ヒートステージ126から押し出されたマウント・フレ
ーム6は、アンローダ部に搬送するための搬送テーブル
130に乗る。そして、この搬送テーブル130に設け
られた光電素子pH5w10によって、マウント・フレ
ーム6が搬送テーブル130に受は取られたか否かを確
認する(ステン7’5I22)。搬送テーブル130に
マウント・フレーム6が受は取られていない場合は、エ
ラー表示XrVを行い(ステップ5124)、パトライ
ト140のエラー表示ライトが点灯するとともに、操作
盤138の7セグメントLEDが、このエラーに対応し
たコードを表示する。The mount frame 6 pushed out from the heat stage 126 rides on a transport table 130 for transporting to the unloader section. Then, using the photoelectric element pH5w10 provided on the transfer table 130, it is confirmed whether the mount frame 6 has been placed on the transfer table 130 (Sten 7'5I22). If the mount frame 6 is not placed on the transport table 130, an error display XrV is performed (step 5124), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 indicates this error. Display the corresponding code.
搬送テーブル130にマウント・フレーム6が受は取ら
れている場合は、このマウント・フレーム6をアンロー
ダ部にまで搬送し、前記アンローダ部にセットされたフ
レーム・カセット132に収納する(ステップ5126
)。アンローダ部に設けられた光電素子によって、マウ
ント・フレーム6がフレーム・カセット132に収納さ
れたことが検出されると、アンローダ部は1ピ・7チ上
昇して、次のマウント・フレーム6が収納されるのを待
つ(ステップ312B>。If the mount frame 6 is not supported on the transport table 130, the mount frame 6 is transported to the unloader section and stored in the frame cassette 132 set in the unloader section (step 5126).
). When the photoelectric element provided in the unloader part detects that the mount frame 6 is stored in the frame cassette 132, the unloader part moves up 1 pin and 7 inches to store the next mount frame 6. (Step 312B>).
以上のように、ウェハ・ローダ部がら供給されり半導体
ウェハ2を所定方向に位置合わせした後、粘着テープ8
2に貼付けし、半導体ウェハ2が貼付けされたマウント
・フレーム6をフレーム・カセット132に収納すると
いう半導体ウェハ2の一連の貼付は作業が自動的に行わ
れる。As described above, after the semiconductor wafer 2 is supplied from the wafer loader section and aligned in a predetermined direction, the adhesive tape 8
A series of operations for attaching the semiconductor wafer 2, such as attaching the semiconductor wafer 2 to the frame cassette 132 and storing the mount frame 6 with the semiconductor wafer 2 attached thereto in the frame cassette 132, are automatically performed.
上述した実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置に
おいて、各機構部のエラーを検出するエラー検出部は、
光電素子PH3WI〜PH3W1、、圧力スイフチPU
SWI〜PUSW5などのセンサ一群と、これらのセン
サ一群の検出信号に基づいて、各機構部のエラー判別を
行うCPUI44とが対応している。In the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to the above-described embodiment, an error detection section that detects errors in each mechanical section includes:
Photoelectric element PH3WI~PH3W1, Pressure swift PU
A group of sensors such as SWI to PUSW5 correspond to a CPU 44 that determines errors in each mechanical section based on detection signals from these sensor groups.
ところで、上述の実施例では、各機構部のエラーが検出
された場合には、それらに対応したエラー表示■〜XT
Vが行われると説明したが、このようなエラー表示とと
もに、本装置に備えられる停止制御部が動作して、各機
構部を停止させる。停止制御部としてのCPU144は
、前記エラー検出用センサ一群の検出信号に基づき、予
め定められたプログラムに従って本装置を停止させる。By the way, in the above-mentioned embodiment, when an error is detected in each mechanical part, the corresponding error display ■~XT
Although it has been explained that V is performed, along with such an error display, the stop control section provided in this device operates to stop each mechanical section. The CPU 144 serving as a stop control unit stops the apparatus according to a predetermined program based on the detection signals from the group of error detection sensors.
即ち、停止制御部としてのCPU144は、エラーが発
生した箇所の機構部は即時停止させ、エラー箇所よりも
川下にあたる各機構部はポーズ停止させ、エラー箇所よ
りも川下にあたる各機構部はワーク(半導体ウェハ2.
フレーム4.マウント・フレーム6)を払い出した後に
停止させる。In other words, the CPU 144 as a stop control unit immediately stops the mechanical section where the error has occurred, pauses each mechanical section downstream from the error point, and causes each mechanical section downstream from the error point to stop the workpiece (semiconductor). Wafer 2.
Frame 4. After the mount frame 6) is paid out, it is stopped.
ここで、ポーズ停止とは、各機構部の1動作ナイクル中
の区切りとなる動作を終了した後に停止させることをい
う。各機構部の動作の区切りは、各機構部のアクチュエ
ータに設けられた、センサーによって検出される。エラ
ー箇所よりも川下にあたる機構部をポーズ停止させるの
は、即時停止させると、その機構部の停止位置をCPU
144で知ることができなくなり、後述するエラー回復
処理を行う」二で、不都合だからである。一方、エラー
箇所よりも川下にあたる機構部について、ワークを払い
出した後に停止させるのは、エラーが回復して装置を再
スタートさせる場合に、エラー箇所の川下にワークが残
っていると、この残りワークと、前記エラー箇所から流
れてきたワークとが衝突して、エラーを再発するおそれ
があるからである。Here, the term "pause stop" refers to stopping the mechanical parts after each mechanical part completes its delimiting action during one action cycle. The end of the operation of each mechanical section is detected by a sensor provided in the actuator of each mechanical section. Pause-stopping the mechanism downstream from the error point is possible if you stop it immediately, and the CPU determines the stop position of the mechanism.
144, and the error recovery process described later is performed.'' This is because it is inconvenient. On the other hand, stopping the mechanical parts downstream of the error location after discharging the work is important because when the error is recovered and the equipment is restarted, if there is work remaining downstream of the error location, the remaining work will be stopped. This is because there is a risk that the error will occur again due to collision between the workpiece and the workpiece that has flowed from the error location.
次に、上述した実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は
装置に備えられるエラー回復処理部について説明する。Next, an explanation will be given of an error recovery processing section provided in the automatic semiconductor wafer attachment apparatus according to the above-described embodiment.
エラー回復処理の手順は、プログラムとして予め、制御
部142のROM146に書き込まれている。The error recovery processing procedure is written in the ROM 146 of the control unit 142 in advance as a program.
第15図は、このようなエラー回復処理手順を示したフ
ローチャートである。以下、このフローチャートに基づ
いて、エラー回復処理手順を説明する。FIG. 15 is a flowchart showing such an error recovery processing procedure. The error recovery processing procedure will be described below based on this flowchart.
前記実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置にエラ
ーが発生すると、エラー種類判別手段としてのCPU1
44は、前記エラーが回復可能なエラーであるか否かを
判別する(ステップ5150)。ここで、回復可能なエ
ラーとは、主としてワークの受は渡しミスにより発生ず
るエラーであって、第12図に示した動作フローチャー
トで説明した各エラーが該当する。一方、回復不可能な
エラーは、主として本装置に備えられるセンサーやアク
チュエータの動作異常によって発生するエラーである。In the automatic attachment of semiconductor wafers according to the above embodiment, when an error occurs in the apparatus, the CPU 1 as an error type determination means
44 determines whether the error is a recoverable error (step 5150). Here, the recoverable error is an error mainly caused by a mistake in receiving or transferring a workpiece, and corresponds to each error explained in the operation flowchart shown in FIG. 12. On the other hand, an unrecoverable error is an error that occurs mainly due to an abnormal operation of a sensor or actuator provided in the apparatus.
第12図に示した動作フローチャートでは、回復不可能
なエラーについての説明を省略し=48−
たが、制御部142は、このような回復不可能なエラー
の判別をも行って、前述した回復可能なエラーと同様の
エラー表示をする。このような回復不可能なエラーとし
て、例えば、半導体ウェハ2゜フレーム4.マウント・
フレーム6の払い出しが規定時間以内に終了しない場合
、貼付はローラユニット90や剥離ローラユニット92
の原点戻りが規定時間以内に終了しない場合などがある
。In the operation flowchart shown in FIG. 12, explanation of unrecoverable errors is omitted =48-, but the control unit 142 also determines such unrecoverable errors and performs the recovery described above. Displays errors similar to possible errors. Examples of such irrecoverable errors include semiconductor wafer 2° frame 4. mount·
If the dispensing of the frame 6 is not completed within the specified time, the pasting is carried out by the roller unit 90 or the peeling roller unit 92.
The return to origin may not be completed within the specified time.
上述したステップ5150で、回復可能なエラーである
と判断された場合は、停止検出手段としてのCPU14
4は、装置の運転が停止されたか否かを確認する(ステ
ップ5152)。装置が停止したことが確認されると、
装置の運転動作中に点灯していた青色のパトライト14
0を消灯するとともに、イジェクトランプを点)成して
、オペレータにエラー箇所の復旧を求める(ステップ5
154)。このイジェクトランプは、操作盤138に設
けられ、本発明における復旧要求表示手段に対応してい
る。If it is determined in step 5150 that the error is recoverable, the CPU 14 as a stop detection means
Step 4 confirms whether the operation of the device has been stopped (step 5152). Once it is confirmed that the device has stopped,
Blue patrol light 14 that was lit while the device was operating
0 is turned off, the eject lamp is turned on, and the operator is asked to recover the error location (step 5).
154). This eject lamp is provided on the operation panel 138 and corresponds to the recovery request display means in the present invention.
ステップ5154の終了後、CPU144は、オペレー
タによってイジェクトスイッチが押されるのを待つ(ス
テップ5156)。このイジェクトスイッチは、エラー
箇所を次の動作ステップに移行させるためのトリガをC
PU144に与えるためのスイッチであって、操作盤1
38に設けられている。例えば、アライメント・テーブ
ル20が半導体ウェハ2を吸着している状態で、このイ
ジェクトスイッチが押されると、半導体ウェハ2の吸着
が解除される。また、クランプ機構118がマウント・
フレーム6をクランプしている状態で、イジェクトスイ
ッチが押されると、クランプが解除される。After completing step 5154, the CPU 144 waits for the eject switch to be pressed by the operator (step 5156). This eject switch provides a trigger to move the error location to the next operation step.
A switch for supplying power to the PU144, which is connected to the operation panel 1.
38. For example, if this eject switch is pressed while the alignment table 20 is suctioning the semiconductor wafer 2, the suction of the semiconductor wafer 2 is released. In addition, the clamp mechanism 118 mounts
When the eject switch is pressed while the frame 6 is being clamped, the clamp is released.
イジェクトランプが点滅すると、オペレータは、操作盤
138に表示されたエラーコードから、エラーの種類を
判断する。そして、エラーの種類に応じた対策を採る。When the eject lamp flashes, the operator determines the type of error from the error code displayed on the operation panel 138. Then, take measures depending on the type of error.
例えば、
■ステップS12において、アライメント・テーブル2
0のウェハ受は取りミスを示すエラー表示■がされてい
る場合には、搬送ヘルド16上の半導体ウェハ2を取り
除き、イジェクトスイッチを押す。For example, ■In step S12, alignment table 2
If the wafer receiver 0 has an error display (■) indicating a mistake in picking up the wafer, remove the semiconductor wafer 2 from the transfer heald 16 and press the eject switch.
■ステップS22において、アライメント・テーブル2
0の吸着ミスを示すエラー表示■がされている場合には
、フレーム・チャックテーブル50上のフレーム4を取
り除き、イジェクトスイッチを押し、アライメント・テ
ーブル2o上の半導体ウェハ2を取り除く。■In step S22, alignment table 2
If an error display (■) indicating a suction error of 0 is displayed, the frame 4 on the frame/chuck table 50 is removed, the eject switch is pressed, and the semiconductor wafer 2 on the alignment table 2o is removed.
、 ■ステップS34において、反転フォーク40の
吸着ミスを示すエラー表示■がされている場合には、フ
レーム・チャックテーブル50上のフレーム4を取り除
き、イジェクトスイッチを押し、反転フォーク40上の
半導体ウェハ2を取り除く。, ■ In step S34, if error display ■ indicating a suction error of the reversing fork 40 is displayed, remove the frame 4 on the frame/chuck table 50, press the eject switch, and remove the semiconductor wafer 2 on the reversing fork 40. remove.
■ステップS40において、反転フォーク40の反転ミ
スを示すエラー表示■がされている場合には、反転フォ
ーク40上の半導体ウェハ2を手で保持しつつ、イジェ
クトスイッチを押し、半導体ウェハ2を取り除く。また
、フレーム・チャックテーブル50上のフレーム4を取
り除く。(2) In step S40, if the error display (2) indicating a mistake in reversing the reversing fork 40 is displayed, the semiconductor wafer 2 is removed by pressing the eject switch while holding the semiconductor wafer 2 on the reversing fork 40 by hand. Also, the frame 4 on the frame/chuck table 50 is removed.
■ステップS54において、フレーム4の位置決めミス
を示すエラー表示■がされている場合には、送り出され
たフレーム4を取り除き、イジェクトスイッチを押す。(2) In step S54, if the error display (2) indicating an error in positioning the frame 4 is displayed, the sent frame 4 is removed and the eject switch is pressed.
■ステップS62において、フレーム・チャックアーム
72のフレーム吸着ミスを示すエラー表示■がされてい
る場合には、フレーム・チャックアーム72を押し上げ
て、送り出されたフレーム4を取り除き、イジェクトス
イッチを押す。(2) In step S62, if the error display (2) indicating an error in frame suction by the frame/chuck arm 72 is displayed, the frame/chuck arm 72 is pushed up, the sent-out frame 4 is removed, and the eject switch is pressed.
■ステップS72において、フレーム・チャックテーブ
ル50のフレーム吸着ミスを示すエラー表示■がされて
いる場合には、イジェクトスイッチを押し、フレーム・
チャックテーブル50上のフレームを取り除く。■In step S72, if an error message indicating an error in frame suction on the frame chuck table 50 is displayed, press the eject switch and press the eject switch to remove the frame.
Remove the frame on the chuck table 50.
■ステップ392において、マウント・フレームチャッ
クアーム114の吸着ミスを示すエラー表示Xがされて
いる場合には、フレーム・チャックテーブル50上のマ
ウント・フレーム6が吸着されていないときは、イジェ
クトスイッチを押し、マウント・フレーム6を取り除く
。マウント・フレームチャックアーム114がマウント
・フレーム6を保持しているときは、マウント・フレー
ム6を手で保持しつつ、イジェクトスイッチを押してマ
ウント・フレーム6を取り除く。マウント・フレーム6
が落下しているときは、マウント・フレーム6を取り除
きイジェクトスイッチを押す。■In step 392, if an error message X indicating an error in suction of the mount/frame chuck arm 114 is displayed, and if the mount/frame 6 on the frame/chuck table 50 is not suctioned, press the eject switch. , remove the mounting frame 6. When the mount frame chuck arm 114 is holding the mount frame 6, the mount frame 6 is removed by pressing the eject switch while holding the mount frame 6 by hand. Mount frame 6
If it has fallen, remove the mount frame 6 and press the eject switch.
■ステップ5104において、マウント・フレーム6の
クランプミスを示すエラー表示XIがされている場合に
は、マウント・フレーム6が落下しておれば、落下した
マウント・フレーム6を取り除き、イジェクトスイッチ
を押す。クランプされているときには、マウント・フレ
ーム6を手で保持しつつ、イジェクトスイッチを押して
、マウント・フレーム6を取り除く。(2) In step 5104, if error display XI indicating a mistake in clamping the mount frame 6 is displayed, if the mount frame 6 has fallen, remove the fallen mount frame 6 and press the eject switch. When the mount frame 6 is clamped, the mount frame 6 is held by hand and the eject switch is pressed to remove the mount frame 6.
[相]ステップ5111において、ヒートステージ12
6上のマウント・フレーム残りミスを示すエラー表示が
されている場合には、ヒートステージ126のマウント
・フレーム6を取り除き、イジェクトスイッチを押す。[Phase] In step 5111, heat stage 12
If an error message indicating that the remaining mount frame on the heat stage 126 is incorrect is displayed, remove the mount frame 6 from the heat stage 126 and press the eject switch.
■ステップ5120において、マウント・フレーム6の
押し出しミスを示すエラー表示X■がされている場合に
は、ヒートステージ126上のマラント・フレーム6を
取り除き、イジェクトスイッチを押す。(2) In step 5120, if the error display X (2) indicating an error in pushing out the mount frame 6 is displayed, the marant frame 6 on the heat stage 126 is removed and the eject switch is pressed.
■ステップ5124において、搬送テーブル130のマ
ウント・フレーム受は取りミスを示ずエラー表示XIV
がされている場合には、マウント・フレーム6を取り除
き、イジェクトスイッチを押す。■In step 5124, the mount/frame receiver of the transport table 130 does not indicate a mistake in picking, and an error message is displayed.
If so, remove the mount frame 6 and press the eject switch.
イジェクトスイッチが押されたことが確認されると、イ
ジェクトランプを点灯する(ステップ8158)。そし
て、復旧判別手段としてCPUI44は、上述した対策
によって、カセットが正しくセントされ、あるいは、ワ
ークが取り除かれた否かなどを、各機構部のセンサーの
検出信号に基づいて確認する(ステップ3160)。When it is confirmed that the eject switch has been pressed, the eject lamp is turned on (step 8158). Then, as a recovery determination means, the CPU 44 checks whether the cassette has been correctly sent or the workpiece has been removed by the above-described measures, based on the detection signals of the sensors of each mechanism (step 3160).
エラー対策が正しく行われたことを確認すると、イジェ
クトランプを消灯するとともに、原点戻し要求表示手段
としての原点戻しランプを点滅させて、オペレータにエ
ラー箇所の原点戻しを要求しくステップ3162)、オ
ペレータによって原点戻しスイッチが押されるのを待つ
(ステップ5164)。前記原点戻し要求ランプおよび
原点戻しスイッチは、操作盤138に設けられている。When it is confirmed that the error countermeasures have been taken correctly, the eject lamp is turned off, and the origin return lamp as a return to origin request display means is blinked to request the operator to return to the origin of the error location (step 3162). Wait for the origin return switch to be pressed (step 5164). The origin return request lamp and origin return switch are provided on the operation panel 138.
原点戻しスイッチが押されると、エラー箇所の原点戻し
が実行される(ステップ5166)。そして、原点戻し
が終了したか否かを、エラー箇所のアクチュエータに設
けられたセンサーの検出信号に基づいて判断する(ステ
ップS ] 68)。When the origin return switch is pressed, the error location is returned to the origin (step 5166). Then, it is determined whether or not the return to the origin has been completed based on the detection signal of the sensor provided in the actuator at the error location (step S]68).
原点戻しが終了すると、原点戻しランプを消灯するとと
もに、始動要求表示手段としてのスタートランプを点滅
させて、オペレータに装置の始動を要求しくステップ5
170)、オペレータがスタートスイッチを押すのを待
つ(ステップ5174)。スタートランプおよびスター
トスイッチは、操作盤138に設けられている。When the return to origin is completed, the return to origin lamp is turned off and the start lamp serving as a start request display means is blinked to request the operator to start the device (step 5).
170), and waits for the operator to press the start switch (step 5174). A start lamp and a start switch are provided on the operation panel 138.
スタートスイッチが押されたことを確認すると、半導体
ウェハ2の貼付は動作を再開する。When it is confirmed that the start switch has been pressed, the operation of attaching the semiconductor wafer 2 is resumed.
ところで、上述したステップ5150において、回復不
可能なエラーであると判断されると、ステップ8176
に進み、前述したステップ5152と同様に、装置が停
止したかを確認する。装置の停止が確認されると、青色
のパトライト140を消灯させ(ステップ5178)、
オペレータによって原点戻しスイッチが押されるのを待
つ(ステップ3180)。By the way, if it is determined in step 5150 that the error is unrecoverable, step 8176 is performed.
The process advances to step 5152 and checks whether the device has stopped, as in step 5152 described above. When it is confirmed that the device has stopped, the blue patrol light 140 is turned off (step 5178),
Wait until the operator presses the return-to-origin switch (step 3180).
オペレータは、エラー箇所のセンサーまたはアクチュエ
ータの動作を調べて、必要な対策を採った後、原点戻し
スイッチを押す。The operator checks the operation of the sensor or actuator at the error location, takes necessary measures, and then presses the home return switch.
原点戻しスイッチが押されたことが確認されると、各機
構部の原点戻しが実行されて(ステップ3182)、装
置は初期状態に復帰する。When it is confirmed that the return-to-origin switch has been pressed, each mechanical section is returned to its origin (step 3182), and the device returns to its initial state.
なお、本発明に備えられる復旧要求表示手段。Note that the present invention includes a recovery request display means.
原点戻し要求表示手段、始動要求表示手段の各表示態様
は、上述した実施例のようなランプによる表示に限られ
ず、ブザー表示など種々変形実施することができる。The display modes of the return-to-origin request display means and the start-up request display means are not limited to the lamp display as in the above-mentioned embodiments, but may be modified in various ways, such as a buzzer display.
また、本発明に係る半導体ウェハ自動貼付は装置は、実
施例において説明した装置に限定されるものでないこと
は勿論である。Furthermore, it goes without saying that the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to the present invention is not limited to the apparatus described in the embodiments.
〈発明の効果〉
以上の説明から明らかなように、本発明に係る半導体ウ
ェハの自動貼付は装置は、装置のある箇所にエラーが発
生した場合に、予め定められたエラー回復手順にしたが
って、エラー回復処理を行っている。<Effects of the Invention> As is clear from the above explanation, when an error occurs in a certain part of the device, the automatic semiconductor wafer attaching device according to the present invention can recover the error according to a predetermined error recovery procedure. Recovery processing is in progress.
したがって、本発明によれば、エラー回復処理を円滑に
行うことができ、また、これにより装置の稼動効率を向
上させることもできる。Therefore, according to the present invention, error recovery processing can be performed smoothly, and the operating efficiency of the apparatus can thereby be improved.
第1図は本発明の一実施例に係る半導体ウェハの自動貼
付は装置の全体構成の概略を示した説明図、第2図は前
記実施例における半導体ウェハ位置合わせ部および反転
フォーク周辺部の構成図、第3図は前記実施例における
オリエンテーションフラット端部検出部の構成図、第4
図は前記実施例におけるフレーム・ローダ部とフレーム
位置決め部周辺の構成図、第5図は前記実施例における
フレーム搬送部周辺の構成図、第6図は前記実施例にお
ける粘着テープ供給系統と粘着テープ切断機構周辺の構
成図、第7図および第8図は前記実施例における貼付は
ローラユニットとff1ll離ローラユニットとの構成
および動作説明図、第9図は前記実施例におけるヒート
ステージ周辺の構成図、第10図は前記実施例において
使用される半導体ウェハ、フレームおよびマウント・フ
レームの説明図、第11図は前記実施例における制御系
統の構成の概略を示したブロック図、第12図は前記実
施例の動作フローチャート、第13図は前記実施例にお
けるオリエンテーションフラット位置合わせの説明図、
第14図は前記実施例におけるオリエンテーションフラ
ット位置合わせの動作フローチャート、第15図は前記
実施例におけるエラー回復処理のフローチャートである
。
2・・・半導体ウェハ、OF・・・オリエンテーション
フラット、4・・・フレーム、6・・・マウント・フレ
ーム、8・・・ウェハ・カセット、14・・・半導体ウ
ェハ位置合わせ部、20・・・アライメント・テーブル
、24・・・パルスモータ、32・・・オリエンテーシ
ョンフラット端部検出部、40・・・反転フォーク、4
2・・・貼付はテーブル、48・・・ウェハ・チャック
テーブル、50・・・フレーム・チャックテーブル、5
4・・・フレーム・ローダ部、62・・・フレーム位置
決め部、72・・・フレーム・チャックアーム、82・
・・粘着テープ、90・・・貼付はローラユニット、9
2・・・剥離ローラユニット、108・・・粘着テープ
切断機構、114・・・マウント・フレームチャックア
ーム、116・・・スイング反転ユニット、118・・
・クランプ機構、126・・・ヒートステージ、128
・・・マウント・フレーム押し出し機構、130・・・
搬送テーブル、132・・・フレーム・カセット、13
8・・・操作盤、140・・・パトライト、142・・
・制御部、144・・・CPU、PH3WI〜PH5W
I 1・・・光電素子、PUSWI〜PUSW5・・・
圧力スイツチ。FIG. 1 is an explanatory diagram schematically showing the overall configuration of a semiconductor wafer automatic pasting apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a configuration of the semiconductor wafer alignment section and the surrounding area of the reversing fork in the embodiment. FIG. 3 is a configuration diagram of the orientation flat end detection section in the above embodiment, and FIG.
The figure is a block diagram of the frame loader section and the surroundings of the frame positioning section in the embodiment, FIG. 5 is a block diagram of the frame transport section and its periphery in the embodiment, and FIG. 6 is the adhesive tape supply system and the adhesive tape in the embodiment. FIGS. 7 and 8 are diagrams illustrating the configuration and operation of the pasting roller unit and the ff1ll separating roller unit in the above embodiment; FIG. 9 is a diagram illustrating the configuration around the heat stage in the embodiment; FIGS. , FIG. 10 is an explanatory diagram of the semiconductor wafer, frame, and mount frame used in the embodiment, FIG. 11 is a block diagram schematically showing the configuration of the control system in the embodiment, and FIG. 12 is a diagram illustrating the configuration of the control system in the embodiment. An example operation flowchart, FIG. 13 is an explanatory diagram of orientation flat alignment in the embodiment,
FIG. 14 is an operational flowchart of orientation flat alignment in the embodiment, and FIG. 15 is a flowchart of error recovery processing in the embodiment. 2... Semiconductor wafer, OF... Orientation flat, 4... Frame, 6... Mount frame, 8... Wafer cassette, 14... Semiconductor wafer positioning unit, 20... Alignment table, 24... Pulse motor, 32... Orientation flat end detection section, 40... Reversing fork, 4
2... Paste on table, 48... Wafer/chuck table, 50... Frame/chuck table, 5
4... Frame loader section, 62... Frame positioning section, 72... Frame chuck arm, 82...
...Adhesive tape, 90...Pasting is done using a roller unit, 9
2... Peeling roller unit, 108... Adhesive tape cutting mechanism, 114... Mount/frame chuck arm, 116... Swing reversing unit, 118...
・Clamp mechanism, 126... Heat stage, 128
...Mount frame extrusion mechanism, 130...
Transport table, 132...Frame cassette, 13
8... Control panel, 140... Patrol light, 142...
・Control unit, 144...CPU, PH3WI to PH5W
I1...Photoelectric element, PUSWI~PUSW5...
Pressure switch.
Claims (1)
ハを位置合わせして粘着テープに貼付ける半導体ウェハ
の自動貼付け装置であって、 前記半導体ウェハの自動貼付け装置の各機構部のエラー
を検出するエラー検出部と、 前記エラー検出部の出力に基づき、エラー箇所は即時停
止させ、エラー箇所より川上にあたる各機構部はポーズ
停止させ、エラー箇所より川下にあたる各機構部はワー
クの払い出しを行った後に停止させる停止制御部と、 前記エラーからの回復処理を行うエラー回復処理部とを
含み、 前記エラー回復処理部は、 前記エラー検出部によって検出されたエラーが回復可能
なエラーであるか否かを検出するエラー種類判別手段と
、 前記停止制御部によって各機構部が停止しているか否か
を検出する停止検出手段と、 前記エラー種類判別手段によって回復可能なエラーであ
ることが検出され、かつ、前記停止検出手段によって各
機構部の停止が確認された場合に、エラー箇所の復旧を
求める表示を行う復旧要求表示手段と、 前記復旧要求表示手段による復旧要求表示がなされた後
に、エラー箇所が復旧されているかを前記エラー検出手
段の出力に基づいて判断する復旧判別手段と、 前記復旧判別手段からの復旧確認出力に基づき、各機構
部の原点戻しを要求する表示を行う原点戻し要求表示手
段と、 、前記原点戻し要求表示手段による表示の後に、原点戻
しが終了したか否かを検出する原点戻し判別手段と、 前記原点戻し判別手段によって、原点戻しが確認された
場合に、装置の始動を促す表示を行う始動要求表示手段
とを備えたことを特徴とする半導体ウェハの自動貼付け
装置。[Scope of Claims] An automatic semiconductor wafer pasting device that aligns a semiconductor wafer on which an orientation flat is formed and sticks it onto an adhesive tape, the device detecting errors in each mechanical part of the automatic semiconductor wafer pasting device. Based on the output of the error detection section and the error detection section, the error location is immediately stopped, each mechanism section upstream from the error location is paused, and each mechanism section downstream from the error location is stopped after the workpiece is delivered. It includes a stop control unit that causes the error to stop, and an error recovery processing unit that performs recovery processing from the error, and the error recovery processing unit determines whether or not the error detected by the error detection unit is a recoverable error. an error type determining means for detecting; a stop detecting means for detecting whether each mechanical section is stopped by the stop control unit; and a recoverable error is detected by the error type determining means, and a recovery request display means for displaying a request for recovery of the error location when the stoppage of each mechanical section is confirmed by the stoppage detection means; recovery determination means for determining whether or not the error detection means has been activated based on the output of the error detection means; and origin return request display means for displaying a request to return each mechanism to the origin based on the recovery confirmation output from the recovery determination means. , a return-to-origin determination means for detecting whether the return-to-origin has been completed after the display by the return-to-origin request display means; 1. An automatic semiconductor wafer affixing apparatus, comprising: start request display means for displaying a prompting display.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61304788A JPS63155643A (en) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | Automatic sticking system for semiconductor wafer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61304788A JPS63155643A (en) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | Automatic sticking system for semiconductor wafer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63155643A true JPS63155643A (en) | 1988-06-28 |
Family
ID=17937240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61304788A Pending JPS63155643A (en) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | Automatic sticking system for semiconductor wafer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63155643A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03163818A (en) * | 1989-11-22 | 1991-07-15 | Canon Inc | Wafer conveying equipment |
JPH11176915A (en) * | 1997-12-08 | 1999-07-02 | Nitto Denko Corp | Automatic sticking device of semiconductor wafer |
JP2007173305A (en) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Nitto Denko Corp | Restoration assisting system |
JP2008205234A (en) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Tokyo Electron Ltd | Method of obtaining height of chuck top and program recording medium in which the method is recorded |
JP2009060063A (en) * | 2007-09-04 | 2009-03-19 | Tokyo Electron Ltd | Treatment apparatus, treatment method and storage medium |
-
1986
- 1986-12-18 JP JP61304788A patent/JPS63155643A/en active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03163818A (en) * | 1989-11-22 | 1991-07-15 | Canon Inc | Wafer conveying equipment |
JPH11176915A (en) * | 1997-12-08 | 1999-07-02 | Nitto Denko Corp | Automatic sticking device of semiconductor wafer |
JP2007173305A (en) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Nitto Denko Corp | Restoration assisting system |
JP4606319B2 (en) * | 2005-12-19 | 2011-01-05 | 日東電工株式会社 | Recovery support device |
JP2008205234A (en) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Tokyo Electron Ltd | Method of obtaining height of chuck top and program recording medium in which the method is recorded |
JP4695106B2 (en) * | 2007-02-21 | 2011-06-08 | 東京エレクトロン株式会社 | Method for determining height of chuck top and program recording medium recording this method |
JP2009060063A (en) * | 2007-09-04 | 2009-03-19 | Tokyo Electron Ltd | Treatment apparatus, treatment method and storage medium |
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