JPS63154397A - Ic card - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
り見二立旦皿±!
本発明は絶縁層が新規なICカードに関するものである
。さらにくわしくは、絶縁充填材が少なくとも二種のエ
チレンに由来する単位と極性基を有する七ツマ−に由来
する単位とからなる共重合体あるいはこれらの共重合体
とエポキシ樹脂との混合物の架橋物であることを特徴と
するICカードに関するものであり、該絶縁充填材は表
面板。[Detailed Description of the Invention] Rimi Ni Tachitan Plate±! The present invention relates to an IC card having a novel insulating layer. More specifically, the insulating filler is a copolymer comprising at least two types of units derived from ethylene and units derived from heptamer having a polar group, or a crosslinked product of a mixture of these copolymers and an epoxy resin. This invention relates to an IC card characterized in that the insulating filler is a surface plate.
内部のプリントなどとの接着層が良好であるのみならず
、絶縁性および耐水性がすぐれており、しかも弾力性も
良好であるために耐久性、#衝撃性がすぐれたICカー
ドを提供することを目的とするものである。To provide an IC card that not only has a good adhesive layer with internal prints, etc., but also has excellent insulation and water resistance, and also has good elasticity, so that it has excellent durability and impact resistance. The purpose is to
良工立且l
梅棹忠夫ら監修“大図典°°(講談社、昭和59年発行
)、第86頁ないし第87頁に記載されているごとく、
キャッシュカード、クレジットカードなどのマイコンを
組みこんだカードなどのICカードが流通し、日常生活
において広く利用されている、メモリーだけを内臓した
カードから、半導体メモリーなどの集積回路を内臓した
ICカードの開発が行なわれている。たとえば、情報の
書き込みや読み出しを制御するICと、読み出し、書き
込み、消去が可能な記憶容量(I C)から成り立って
いる。As stated in "Great Encyclopedia °° (Kodansha, published in 1982), supervised by Tadao Umesao et al., pages 86 to 87,
IC cards such as cash cards, credit cards, and other cards with built-in microcomputers are in circulation and widely used in daily life, ranging from cards with only built-in memory to IC cards with built-in integrated circuits such as semiconductor memory. Development is underway. For example, it consists of an IC that controls writing and reading of information, and a storage capacity (IC) that can be read, written, and erased.
これらのICカードも世界的な利用の潮流に従い、国際
的規格づくりが行なわれている。大きさは、縦が5.4
cm、横が8.50腸、厚さが0.68〜0.80■(
現状では、 1.5〜5 am)が検討されており。These IC cards also follow the trend of worldwide usage and international standards are being created. The size is 5.4 in height.
cm, width 8.50cm, thickness 0.68~0.80■ (
Currently, 1.5 to 5 am) is being considered.
この一定の大きさのICカードのなかにいかに多くの機
能、すなわち記憶容量を持たせるかがポイントとなって
いる。The key point is how many functions, ie, storage capacity, can be provided within this fixed-sized IC card.
しかし、これらのICカードは記憶容量の大きいICを
埋め込むばかりでなく、ICの取付け。However, these IC cards not only embed an IC with a large storage capacity, but also require mounting of the IC.
電源の接続、表示をも内臓する必要があり、さらに正、
不正の識別と偽造防止の機能も必要である。また、内臓
されている集積メモリーが静電気に弱いために衣服によ
る放電、金属片との接触による放電などのノイズによっ
てICの誤動性、さらに破壊を生じることもある。It must also have a built-in power connection and display, and
Fraud identification and counterfeit prevention capabilities are also required. Further, since the built-in integrated memory is susceptible to static electricity, noise such as discharge from clothing or contact with metal pieces may cause malfunction or even destruction of the IC.
現在のICカードはICを内臓したプリント配線板を単
純に熱可塑成形されたケースに入れたものから、表面や
裏面に電磁嗜静電シールド、さらに酎折り曲げ補強用を
兼ねてアルミニウム、鉄。Today's IC cards range from simply housing a printed circuit board containing an IC in a thermoplastic case to having electromagnetic and static shielding on the front and back sides, as well as aluminum and steel that also serve as bending reinforcements.
ケイソ鋼、ステンレス鋼などの金属の薄板を用いている
ものがある。この様な表裏両面に金属の薄板を用いると
補強効果やシールド効果は発揮されるが、基板上に実装
されたIC、チップの部品の絶縁性が問題となる。IC
カードを局所的につよ〈押したりするならば、内部回路
と表面の金属面が接触してショートしたり、またチップ
部品の接続が破損したり、また部品そのものの破壊を生
じたりするなどの問題がある。Some use thin plates of metal such as diatom steel and stainless steel. Using such metal thin plates on both the front and back surfaces provides a reinforcing effect and a shielding effect, but the insulation of IC and chip components mounted on the board poses a problem. IC
If you push the card locally, there may be problems such as contact between the internal circuit and the metal surface, causing a short circuit, damage to the connections between the chip components, or destruction of the components themselves. There is.
現状では、これらを防止するために絶縁性の両面テープ
を用いて絶縁を行なっており、さらに接着力を利用して
カードへの基板の固定を行なっている。しかし、ICカ
ード自体、コネクターを持っており、使用時にはコンピ
ューターとの接続のための出し入れの繰り返しを行なう
ため、両面テープのづれなどが起こる。また、ICカー
ドの表・裏面間に部品の凹凸による空間が存在している
ため、そり1曲げなど外力による変形に弱いなどの欠点
が存在する。さらに、ICカードは将来的には常に携帯
するものであるため、高温・多湿における耐久性が問題
になってくる。Currently, in order to prevent these problems, insulating double-sided tape is used for insulation, and adhesive strength is also used to fix the board to the card. However, the IC card itself has a connector, and when it is used, it is repeatedly inserted and removed to connect it to a computer, which causes the double-sided tape to slip. Furthermore, since there is a space between the front and back surfaces of the IC card due to the unevenness of the parts, there are drawbacks such as susceptibility to deformation due to external forces such as warping. Furthermore, since IC cards will be carried around at all times in the future, durability under high temperature and high humidity will become an issue.
く しよ− る、 へ
以」二のことから、本発明はこれらの欠点(問題点)が
なく、すなわち絶縁充填材がカードの表・裏面板に用い
る金属板、プリント配線板との接着性が良好であるばか
りでなく、絶縁性にもすぐれており、しかも耐熱性、耐
水性が良好であり、さらに各種プリント配線板などとの
部品によって生じる凹凸と表皮層との空間に埋めること
が可能であり、かつ将来において予想される衝撃を吸収
する機能を有するために長期間にわたって安定して使用
することが可能であるICカードを得ることである。From the second point, the present invention does not have these drawbacks (problems); in other words, the insulating filler has good adhesion to the metal plates and printed wiring boards used for the front and back plates of the card. Not only does it have good insulation properties, it also has good heat resistance and water resistance, and it can also fill in the spaces between the skin layer and the unevenness caused by parts such as various printed wiring boards. The object of the present invention is to obtain an IC card that can be stably used for a long period of time because it has a function of absorbing shocks expected in the future.
口 占 ノ ため ゛よび本発明にしたが
えば、これらの問題点は、少なくともICカード内の絶
縁充填材が(A)少なくともエチレンに由来する単位と
α、β−不飽和モノカルボン酸、α、β−不飽和ジカル
ボン酸、その無水物およびハーフェステルからなる群か
らえらばれた少なくとも一種の七ツマ−に由来する単位
とからなる共重合体(I)および(B)少なくともエチ
レンに由来する単位とエポキシ基を含有するエチレン性
不飽和七ツマ−に由来する単位とからなる共重合体(H
)あるいはこれらの共重合体と(C)一分子中にエポキ
シ基を少なくとも2個を有するエポキシ樹脂からなる混
合物の架橋物であり、混合物中の共重合体(I)の混合
割合は10〜90重量%であり、かつ該混合物中のカル
ボキシル基およびカルボン酸無水物基の総和とエポキシ
基の総和との比率がモル比で0.2/1ないし5/1で
あることを特徴とするICカード、
によって解決することができる。以下、本発明を具体的
に説明する。According to the present invention, these problems can be solved by at least the insulating filler in the IC card containing (A) units derived from at least ethylene and α,β-unsaturated monocarboxylic acid, α, Copolymer (I) consisting of a unit derived from at least one type of heptamer selected from the group consisting of β-unsaturated dicarboxylic acid, its anhydride and Hafester; and (B) a copolymer comprising at least a unit derived from ethylene and an epoxy A copolymer (H
) or a crosslinked product of a mixture consisting of these copolymers and (C) an epoxy resin having at least two epoxy groups in one molecule, and the mixing ratio of copolymer (I) in the mixture is 10 to 90. % by weight, and the ratio of the sum of carboxyl groups and carboxylic anhydride groups to the sum of epoxy groups in the mixture is from 0.2/1 to 5/1 in molar ratio. , can be solved by. The present invention will be explained in detail below.
本発明において使われる共重合体(I)は少なくともエ
チレンに由来する単位とα、β−不飽和モノカルボン酸
、α、β−不飽和ジカルボン酸、その無水物およびハー
フェステルからなる群からえらばれた少なくとも一種の
七ツマ−に由来する単位とからなる共重合体である。該
共重合体は下記の重合体があげられる。The copolymer (I) used in the present invention has at least units derived from ethylene and is selected from the group consisting of α, β-unsaturated monocarboxylic acids, α, β-unsaturated dicarboxylic acids, their anhydrides, and halfesters. It is a copolymer consisting of units derived from at least one type of heptamer. Examples of the copolymer include the following polymers.
(りエチレンとα、β−不飽和モノカルボン酸との共重
合体〔以下「エチレン系共重合体(a)」と云う〕
(2)エチレンとα、β−、β−モノカルボン酸エステ
ルとの共重合体の一部または全部をケン化し、酸などを
使って一部または全部を脱金属処理などの中和反応を行
なうことによって得られる共重合体〔以下「エチレン系
共重合体(b)」と云う〕
および
(3)エチレンとα、β−不飽和のジカルボン酸、その
無水物またはそのハーフェステルとの共重合体〔以下[
エチレン系共重合体(C)」と云う〕
これらの共重合体(I)は150℃以下の温度で溶融し
、流動性を有するものが望ましい。(Copolymer of ethylene and α, β-unsaturated monocarboxylic acid [hereinafter referred to as “ethylene copolymer (a)”]) (2) Copolymer of ethylene and α, β-, β-monocarboxylic acid ester A copolymer obtained by saponifying part or all of the copolymer and performing a neutralization reaction such as demetallization using an acid etc. [hereinafter referred to as "ethylene copolymer (b)"] )] and (3) copolymers of ethylene and α, β-unsaturated dicarboxylic acids, their anhydrides, or their halfesters [hereinafter referred to as [
These copolymers (I) are preferably those that melt at a temperature of 150° C. or lower and have fluidity.
(A)エチレン系共重合体(a)
エチレン系共重合体(a)は少なくともエチレンとα、
β−不飽和不飽和モノカルボンチ重合体であり、前記の
流動性の性質を確保するためには、極性基を有するラジ
カル重合性のコモノマー(以下「第三成分」と云う)を
共重合されたものが好ましい。(A) Ethylene copolymer (a) Ethylene copolymer (a) contains at least ethylene and α,
It is a β-unsaturated unsaturated monocarboxylic polymer, which is copolymerized with a radically polymerizable comonomer having a polar group (hereinafter referred to as the "third component") in order to ensure the above-mentioned fluidity properties. is preferred.
この第三成分をコモノマーとして共重合させることによ
って該エチレン系共重合体(a)中に共重合させた第三
成分に該当する七ツマ−に由来する単位を有する多元共
重合体が得られる〔後記のエチレン系共重合体(b)な
いしエチレン系共重合体(d)の場合も同様〕。By copolymerizing this third component as a comonomer, a multi-component copolymer having units derived from a heptama corresponding to the third component copolymerized into the ethylene copolymer (a) can be obtained. The same applies to the ethylene copolymers (b) to ethylene copolymers (d) described later].
このエチレン系共重合体(a)の製造に用いることの出
来るα、β−不飽和不飽和モノカルボンチ数は一般には
3〜20個であり、とりわけ3〜10個のものが望まし
い0代表例としてはアクリル酸。The number of α,β-unsaturated monocarboxylic acids that can be used in the production of the ethylene copolymer (a) is generally 3 to 20, with 3 to 10 being particularly desirable. acrylic acid.
メタクリル酸、クロトン酸、七ノ″アルキルマレート、
七ノアルキルフマレートなどがあげられる。Methacrylic acid, crotonic acid, hepta-alkyl maleate,
Examples include heptanoalkyl fumarate.
また、第三成分とは、極性基を含有するラジカル重合性
のビニル化合物であり、不飽和カルボン酸エステル、ビ
ニルエステルおよびアルコキシアルキル(メタ)アクリ
レートなどが代表例としてあげられる。Further, the third component is a radically polymerizable vinyl compound containing a polar group, and representative examples include unsaturated carboxylic acid esters, vinyl esters, and alkoxyalkyl (meth)acrylates.
不飽和カルボン酸エステルの炭素数は通常4〜40個で
あり、特に4〜20個のものが好ましい0代表例として
は、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アク
リレートなどの熱安定性のよいものが好ましく、t−ブ
チル(メタ)アクリレートのように熱安定性の悪いもの
は発泡などの原因となり好ましくない。The number of carbon atoms in the unsaturated carboxylic acid ester is usually 4 to 40, and 4 to 20 carbon atoms are particularly preferred. Representative examples include carbon atoms with good thermal stability such as methyl (meth)acrylate and ethyl (meth)acrylate. Those with poor thermal stability such as t-butyl (meth)acrylate are not preferred because they cause foaming.
さらに、アルコキシアルキル(メタ)アクリレートの炭
素数は通常多くとも20(1!iである。また、アルキ
ル基の炭素数が1〜8個(好適には、1〜4債)のもの
が好ましく、さらにアルコキシ基の炭素数が1〜8個(
好適には、1〜4個)のものが望ましい、好ましいアル
コキシ(メタ)アルキルアクリレートの代表例としては
、メトキシエチルアクリレート、メトキシエチルアクリ
レート、およびブトキエチルアクリレートがあげられる
。また、ビニルエステルの炭素数は一般には多くとも2
0個(好適には、4〜16個)である、その代表例とし
ては酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ビニルブチレー
ト、ビニルビバレートなどがあげられる。Furthermore, the number of carbon atoms in the alkoxyalkyl (meth)acrylate is usually at most 20 (1!i).Also, it is preferable that the alkyl group has 1 to 8 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms), Furthermore, the number of carbon atoms in the alkoxy group is 1 to 8 (
Representative examples of preferred alkoxy(meth)alkyl acrylates, preferably 1 to 4 alkoxy(meth)alkyl acrylates, include methoxyethyl acrylate, methoxyethyl acrylate, and butkiethyl acrylate. Furthermore, the number of carbon atoms in vinyl ester is generally at most 2.
Typical examples thereof include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, and vinyl bivalate.
エチレン系共重合体(a)において、第三成分の量は2
5モル%で以下であることが好ましく、特に2〜20モ
ル%が好ましい、25モル%を越えても本発明の特徴は
発現するが、25モル%を越える必要はなく、製造上お
よび経済上杆ましくない。In the ethylene copolymer (a), the amount of the third component is 2
It is preferably 5 mol% or less, and particularly preferably 2 to 20 mol%. Even if it exceeds 25 mol%, the characteristics of the present invention are expressed, but it is not necessary to exceed 25 mol%, and from the viewpoint of production and economy. It's not consistent.
α、β−不飽和不飽和モノカルボンチレン系共重合体(
a)中の結合量は、0.5モル%以上、25モル%以下
であることが望ましく、とりわけ 1.0モル%〜15
モル%が好適である。なお、ブロックまたはランダム共
重合体があるが、とりわけランダム共重合体が好適であ
る。α, β-unsaturated unsaturated monocarboxyrene copolymer (
The amount of bonding in a) is preferably 0.5 mol% or more and 25 mol% or less, particularly 1.0 mol% to 15 mol%.
Mol% is preferred. Although block or random copolymers are available, random copolymers are particularly preferred.
該α、β−不飽和モノカルボン酸は後記のエチレン系共
重合体(d)およびエポキシ樹脂との架橋反応点として
、かつ各種幅広い基材との接着性を付与するためのもの
であり、どちらの面からみても過剰にある必要はない、
多くなると吸水性が高くなり、成形加工時の発泡や成形
後の吸水などによる電気特性の低下などに悪い影響をも
たらすばかりでなく、安全性・分m−回収などの製造上
の問題や経済的にも不利となり好ましくない、一方、
0.5モル%未満では、接着性の点で問題はないが、耐
熱性の点で不足となるため好ましくない。The α,β-unsaturated monocarboxylic acid is used as a crosslinking reaction point with the ethylene copolymer (d) described later and the epoxy resin, and to provide adhesiveness with a wide variety of base materials. There is no need to be excessive in terms of
If the amount increases, the water absorption will increase, which will not only have a negative impact on the deterioration of electrical properties due to foaming during molding and water absorption after molding, but will also cause manufacturing problems such as safety and minute recovery, as well as economic problems. On the other hand, it is disadvantageous and undesirable.
If it is less than 0.5 mol %, there will be no problem in terms of adhesiveness, but it is not preferable because it will be insufficient in terms of heat resistance.
(B)エチレン系共重合体(b)
さらに、本発明において使用されるエチレン系共重合体
(b)は、エチレンと、不飽和カルボン酸エステルから
なるエチレン系共重合体中のエステル基の一部または全
部をケン化し、脱金属処理などの中和反応を行うことに
よって得られる共重合体である。(B) Ethylene copolymer (b) Furthermore, the ethylene copolymer (b) used in the present invention is one of the ester groups in the ethylene copolymer consisting of ethylene and an unsaturated carboxylic acid ester. It is a copolymer obtained by saponifying part or all of it and performing a neutralization reaction such as demetalization treatment.
不飽和カルボン酸エステルの炭素数は通常4〜40個で
あり、特に4〜20個のものが好ましい0代表的な例と
してはメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)ア
クリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−
ブチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メ
タ)アクリレート、フマール酸ジエチルなどがあげられ
る。The number of carbon atoms in the unsaturated carboxylic acid ester is usually 4 to 40, and 4 to 20 carbon atoms are particularly preferred. Typical examples include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, and isopropyl (meth)acrylate. , n-
Examples include butyl (meth)acrylate, 2-methoxyethyl (meth)acrylate, diethyl fumarate, and the like.
該エチレン系共重合体(b)中の不飽和カルボン酸エス
テルの含量は1〜25モル%が好ましい、エステルのケ
ン化率は、エステルの含量にもよるので一部には云えな
いが、ケン化率、中和処理後の該共重合体中のカルボン
酸含有単位に換算して、0.5〜20モル%が好ましく
、とりわけ1〜15モル%が好適である。The content of unsaturated carboxylic acid ester in the ethylene copolymer (b) is preferably 1 to 25 mol%. The conversion rate, calculated as carboxylic acid-containing units in the copolymer after neutralization, is preferably 0.5 to 20 mol%, particularly preferably 1 to 15 mol%.
ケン化反応は広く知られている方法、たとえばトルエン
およびイソブチルアルコールの混合溶媒(混合比50
: 50)の中にNaOHとエステル基を含む共重合体
を加え3時間還流することにより行なえる。ケン化率は
NaOHの量により任意に調整できる。さらに、このケ
ン化物を水またはアルコールで析出させ、溶媒を濾過し
た後、−昼夜、50℃で真空乾燥する。このポリマーを
水中に分散させ。The saponification reaction can be carried out using a widely known method, for example, using a mixed solvent of toluene and isobutyl alcohol (mixing ratio: 50
: 50) by adding NaOH and a copolymer containing an ester group and refluxing for 3 hours. The saponification rate can be arbitrarily adjusted by adjusting the amount of NaOH. Furthermore, this saponified product is precipitated with water or alcohol, and after filtering the solvent, it is vacuum-dried at 50° C. day and night. Disperse this polymer in water.
これに硫酸を加え、70℃で1時間撹拌することで脱金
属処理に中和反応)を行なうことによりエチレン系共重
合体(b)が得られる。Ethylene copolymer (b) is obtained by adding sulfuric acid to this and stirring at 70° C. for 1 hour to perform a neutralization reaction for demetallization.
(C)エチレ系共重合体(C)
また、本発明において使われるエチレン系共重合体(C
)とは結果としてエチレンとα、β−不飽和のジカルボ
ン酸、その無水物またはそのモノエステルとの共重合体
(前記第三成分を含んでもよい)となっていればよい、
すなわちエチレンとα、β−不飽和ジカルボン酸、その
無水物またはそのハーフェステルあるいはこれらと前記
第三成分を直接共重合せしめたものである。(C) Ethylene copolymer (C) Also, the ethylene copolymer (C) used in the present invention
) may result in a copolymer of ethylene and an α,β-unsaturated dicarboxylic acid, its anhydride, or its monoester (which may also contain the third component),
That is, it is a direct copolymerization of ethylene, α,β-unsaturated dicarboxylic acid, its anhydride or its halfester, or these and the third component.
第三成分としてはエチレン系共重合体(a)と同と じ種類の化合物があげられる。The third component is the same as the ethylene copolymer (a). The same types of compounds can be mentioned.
該エチレン系共重合体(C)を直接共重合法で製造する
場合には、α、β−不飽和ジカルボン酸、その無水物ま
たはそのハーフェステルが共重合コモノマーとして選択
される。When the ethylene copolymer (C) is produced by a direct copolymerization method, α,β-unsaturated dicarboxylic acid, its anhydride, or its halfester is selected as the comonomer.
前記α、β−不飽和のジカルボン酸の炭素数は通常多く
とも20個であり、とりわけ4〜16個のものが好適で
ある。該ジカルボン酸の代表例とじては、マレイン酸、
フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、 3.6−ニン
ドメチレンー1.2,3.8−テトラヒドロ−シス−フ
タル酸(ナディック酸0)があげられる。The α,β-unsaturated dicarboxylic acid usually has at most 20 carbon atoms, preferably 4 to 16 carbon atoms. Typical examples of the dicarboxylic acids include maleic acid,
Examples include fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and 3,6-nindomethylene-1,2,3,8-tetrahydro-cis-phthalic acid (nadic acid 0).
α、β−不飽和ジカルボン酸ハーフェステルとしては、
炭素数は一般には多くとも40個であり。As α,β-unsaturated dicarboxylic acid hafester,
The number of carbon atoms is generally at most 40.
特に5〜20個のものがあげられる。その代表例として
は、前記ジカルボン酸のカルボキシル基の片方が後記の
アルコールの代表例によってハーフェステル化されたも
のがあげられる。該アルコールの代表例としては、メタ
ノール、エタノール、プロパツール、ブタノールなどの
炭素数が多くとも20個の一部アルコールがあげられる
。ハーフェステルの代表例として、マレイン酸モノメチ
ルエステル、マレイン酸モノエチルエステル、マレイン
酸モノイソプロピルエステル、マレイン酸モノメチルエ
ステルおよびイタコン酸モノエチルエステルなどがあげ
られる。In particular, 5 to 20 items may be mentioned. A typical example thereof is one in which one of the carboxyl groups of the dicarboxylic acid is halfesterified with a representative example of an alcohol described below. Representative examples of the alcohol include some alcohols having at most 20 carbon atoms, such as methanol, ethanol, propatool, and butanol. Representative examples of Hafestel include maleic acid monomethyl ester, maleic acid monoethyl ester, maleic acid monoisopropyl ester, maleic acid monomethyl ester, and itaconic acid monoethyl ester.
「α、β−不飽和ジカルボン酸またはそのハーフェステ
ル」 (以下「不飽和ジカルボン酸成分」と云う)の該
共重合体(c)中の結合量は0.5モル%以上、20モ
ル%以下であることが好ましい、さらに奸しくは 1.
0〜15モル%である。The bond amount of "α,β-unsaturated dicarboxylic acid or its halfester" (hereinafter referred to as "unsaturated dicarboxylic acid component") in the copolymer (c) is 0.5 mol% or more and 20 mol% or less. It is preferable that there be the following, more particularly: 1.
It is 0 to 15 mol%.
本発明において用いられる共重合体(II )は少なく
ともエチレンに由来する単位とエポキシ基を含有するエ
チレン性不飽和七ツマ−に由来する単位とからなるエチ
レン系共重合体〔以下「エチレン系共重合体(d)」と
云う〕である。The copolymer (II) used in the present invention is an ethylene copolymer [hereinafter referred to as "ethylene copolymer It is called "combination (d)".
(D)エチレン系共重合体(d)
該エチレン系共重合体(d)は少なくともエチレンと「
ラジカル共重合し得るエポキシ基を有する不飽和上ツマ
−」 (以下「エポキシ系化合物」と云う)との共重合
体である。また、エチレンおよびエポキシ系化合物と前
記の第三成分とを共重合させることによって得られる多
元共重合体も前記と同じ理由で使用することができる。(D) Ethylene copolymer (d) The ethylene copolymer (d) contains at least ethylene and "
It is a copolymer with an unsaturated compound having an epoxy group capable of radical copolymerization (hereinafter referred to as an "epoxy compound"). Furthermore, a multicomponent copolymer obtained by copolymerizing ethylene and an epoxy compound with the third component can also be used for the same reason as above.
このエポキシ系化合物の代表例としては、一般式が下式
〔(1)式および(II)式〕で示されるものがあげら
れる。Representative examples of this epoxy compound include those whose general formulas are represented by the following formulas [Formula (1) and Formula (II)].
CH2=CR4
(I)式および(n)式で示されるエポキシ系化合物の
代表例としては、グリシジルメタアクリレート、グリシ
ジルアクリレート、α−メチルグリシジルアクリレート
、α−メチルグリシジルメタアクリレート、ビニルグリ
シジルエーテル、アリルグリシジルエーテルおよびメタ
リルグリシジルエーテルなどがあげられる。CH2=CR4 Typical examples of epoxy compounds represented by formulas (I) and (n) include glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, α-methylglycidyl acrylate, α-methylglycidyl methacrylate, vinyl glycidyl ether, and allylglycidyl. Examples include ether and methallyl glycidyl ether.
これらのエチレン系共重合体(a)、エチレン系共重合
体(C)およびエチレン系共重合体(d)ならびにエチ
レン系共重合体(b)を製造するために使われるエチレ
ンと不飽和カルボン酸エステルとの共重合体は 100
〜2500Kg/ c rn’の超高圧下、 120〜
260°Cの温度で必要に応じ、連鎖移動剤を用い、撹
拌機付オートクレーブまたはチューブラ−リアクターで
、パーオキサイドなどの遊離基発生剤を用いてラジカル
重合させることによって製造することができる。これら
の共重合体の製造方法はよく知られているものである。Ethylene and unsaturated carboxylic acid used to produce these ethylene copolymers (a), ethylene copolymers (C), ethylene copolymers (d), and ethylene copolymers (b) Copolymer with ester is 100
~2500Kg/crn' ultra-high pressure, 120~
It can be produced by radical polymerization using a free radical generator such as peroxide at a temperature of 260°C, optionally using a chain transfer agent, in an autoclave equipped with a stirrer or a tubular reactor. Methods for producing these copolymers are well known.
これらのエチレン系共重合体(a)、エチレン系共重合
体(b)、エチレン系共重合体(c)およびエチレン系
共重合体(d)のメルトインデックス(JIS K−
7210に準拠し、温度が190℃および荷重力2 、
16Kg テIN 定、以下rM、1.Jと云う)はい
ずれも通常0.5 g / 10分以上であり、5.0
g / 10分以上が望ましく、とりわけ50 g
/ 10分以上が好適である。The melt index (JIS K-
7210, temperature is 190℃ and load force 2,
16Kg TeIN constant, hereinafter rM, 1. J) are usually 0.5 g/10 minutes or more, and 5.0
g / 10 minutes or more is desirable, especially 50 g
/ 10 minutes or more is suitable.
本発明の混合物は共重合体(I)および共重合体(II
)を後記の混合割合で均一になるように混合すること
によって製造することができるけれども、後記のエポキ
シ樹脂を混合させることによって混合物の流動性を改良
することができる。The mixture of the present invention comprises copolymer (I) and copolymer (II).
) can be produced by uniformly mixing them at the mixing ratios described below, and the fluidity of the mixture can be improved by mixing them with the epoxy resins described below.
さらに、共重合体(I)としてエチレンに由来する単位
とα、β−不飽和ジカルボン酸無水物に由来する単位と
からなる共重合体、すなわちエチレンとα、β−不飽和
ジカルボン酸の無水物またはこれらと前記第三成分とか
らなるエチレン系多元共重合体を用いる場合、「沸点が
150℃以上である有機化合物またはポリマーであり、
かつヒドロキシル2G(−oH基)またはカルホキシミ
/基(−C0OH基)を有するもの」 (以下「有機化
合物またはポリマー」と云う)を配合(混合)させるこ
とにより、前記共重合体(I)と共重合体(II )と
の架橋を促進させる。Furthermore, the copolymer (I) is a copolymer consisting of units derived from ethylene and units derived from α,β-unsaturated dicarboxylic acid anhydride, that is, an anhydride of ethylene and α,β-unsaturated dicarboxylic acid. Or when using an ethylene-based multi-component copolymer consisting of these and the third component, "an organic compound or polymer having a boiling point of 150°C or higher,
and having hydroxyl 2G (-oH group) or carboxyl group (-C0OH group) (hereinafter referred to as "organic compound or polymer"), the copolymer (I) and Promote crosslinking with polymer (II).
(E)エポキシ樹脂
また、本発明において使われるエポキシ樹脂は、一分子
中エポキシ基を少なくとも2個を有するものである。一
般には、デユラン法で示される軟化温度は170℃以下
のものであり、 180℃以下のものが好適である。該
軟化温度が170 ’Oを越えたエポキシ樹脂を用いる
ならば、溶融状態で混合するさいに反応が起こり、均一
な混合物が得られない。(E) Epoxy resin The epoxy resin used in the present invention has at least two epoxy groups in one molecule. Generally, the softening temperature indicated by the Durand method is 170°C or lower, preferably 180°C or lower. If an epoxy resin whose softening temperature exceeds 170'O is used, a reaction will occur during mixing in the molten state, making it impossible to obtain a homogeneous mixture.
このエポキシ樹脂については、′エンサイクロペディア
オフ ポリマー サイエンス アンドテクノロジー(
Ensyelopedia of Po17merSc
ience and Technology)” 〔イ
ンターサイエンス パブリシャー社(ディビジョン オ
フ ジョン ウィリー アンド サンズ社) (In
terscie−nce Publisher div
ision of John Wile2 & 5on
sInc、) 、 1987年発行〕、第6巻 第20
9頁ないし第271頁、村橘俊介、小田良平、井木稔編
集“プラスチック ハンドブック” (朝食書店 昭和
58年2月発行) 第272頁ないし第2111頁、垣
内弘編ごエポキシ樹脂″ (昭晃堂 昭和54年6月発
行)第89頁ないし第 105頁などに製造方法、軟化
、用途などが記載されているものである。For more information on this epoxy resin, please refer to 'Encyclopedia Off Polymer Science and Technology (
Ensyelopedia of Po17merSc
Interscience Publishers, Inc. (Division Off John Wiley & Sons, Inc.) (In
terscie-nce Publisher div
ision of John Wile2 & 5on
sInc, ), published in 1987], Volume 6, No. 20
Pages 9 to 271, edited by Shunsuke Muratachi, Ryohei Oda, and Minoru Iki, “Plastic Handbook” (Breakfast Shoten, published February 1980), pages 272 to 2111, edited by Hiroshi Kakiuchi, “Epoxy Resin” (Shoaki) The manufacturing method, softening, uses, etc. are described on pages 89 to 105 (published in June 1978).
このエポキシ樹脂としては、活性水素化合物(たとえば
、ビスフェノールA)とエピクロルヒドリンとの反応物
、ノボラック樹脂とエピクロルヒドリンとの反応物、オ
キシカルボン酸(たとえば、オキシ安息香酸)とエピク
ロルヒドリンとの反応物、ポリフェノールとエピクロル
ヒドリンとの反応物、レゾルシノール−アセトン樹脂と
エピクロルヒドリンとの反応物、多価フェノールとエピ
クロルヒドリンとの反応物、芳香族カルボン酸とエピク
ロルヒドリンとの反応物、脂環炭化水素(たとえば、シ
クロヘキセン、ジシクロペンタジェン、シクロペンテン
)を酸化させることによって得られるエポキシ樹脂があ
げられる。Examples of this epoxy resin include a reaction product between an active hydrogen compound (e.g., bisphenol A) and epichlorohydrin, a reaction product between a novolac resin and epichlorohydrin, a reaction product between an oxycarboxylic acid (e.g., oxybenzoic acid) and epichlorohydrin, and a reaction product between a polyphenol and epichlorohydrin. Reaction products with epichlorohydrin, resorcinol-acetone resins with epichlorohydrin, polyhydric phenols with epichlorohydrin, aromatic carboxylic acids with epichlorohydrin, alicyclic hydrocarbons (e.g. cyclohexene, dicyclopenta Examples include epoxy resins obtained by oxidizing gen, cyclopentene).
(F)有機化合物またはポリマー
また、有機化合物またはポリマーのうち、ポリマーとし
ては、前記エチレン系共重合体(a)、エチレン系共重
合体(b)、エチレン系共重合体(c)のうち、エチレ
ンに由来する単位とα、β−不飽和モノカルボン酸、α
、β−不飽和ジカルボン酸およびそのハーフェステルか
らなる群からえらばれたモノマーに由来する単位との共
重合体(これらの共重合体は第三成分を含宥するエチレ
ン系多元共重合体でもよい)、エチレンと酢酸ビニルと
の共重合体のけん化物、エチレンとヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートとの共重合体ならびにエチレンま
たはプロピレンを主成分とする重合体(単独重合体も含
む)に前記エチレン系共重合体(a)およびエチレン系
共重合体(c)を製造するさいに使ったα、β−不飽和
モノカルボン酸、α、β−不飽和ジカルボン酸またはそ
の無水物をグラフト重合させることによって得られる変
性オレフィン系重合体があげられる。また、有機化合物
としては、エチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、グリセリンおよびポリプロ
ピレングリコールがあげられる。(F) Organic compound or polymer Among the organic compounds or polymers, examples of the polymer include the ethylene copolymer (a), ethylene copolymer (b), and ethylene copolymer (c). Units derived from ethylene and α, β-unsaturated monocarboxylic acid, α
, a copolymer with a unit derived from a monomer selected from the group consisting of β-unsaturated dicarboxylic acid and its halfester (these copolymers may be ethylene-based multicomponent copolymers containing a third component) , saponified copolymers of ethylene and vinyl acetate, copolymers of ethylene and hydroxyalkyl (meth)acrylates, and polymers (including homopolymers) whose main components are ethylene or propylene. Obtained by graft polymerization of the α, β-unsaturated monocarboxylic acid, α, β-unsaturated dicarboxylic acid, or anhydride thereof used in producing the polymer (a) and the ethylene copolymer (c). Examples include modified olefin polymers. Furthermore, examples of organic compounds include ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, glycerin, and polypropylene glycol.
(G)混合割合
本発明の混合物中のエチレン系共重合体(a)ないしエ
チレン系共重合体(c)の混合割合はそれらの合計量と
して10〜80重量%であり、15〜90重量%が好ま
しく、特に20〜85重量%が好適である。(G) Mixing ratio The mixing ratio of the ethylene copolymers (a) to ethylene copolymers (c) in the mixture of the present invention is 10 to 80% by weight as their total amount, and 15 to 90% by weight. is preferred, particularly 20 to 85% by weight.
混合物のエチレン系共重合体(a)ないしエチレン系共
重合体(c)の混合割合がそれらの合計5量として10
重量%未満でも、30重量%を越える場合でも、組成割
合によっては混合物の架橋性が不充分であり、得られる
架橋物の耐熱性がよくない、また、エポキシ樹脂を配合
させる場合、混合物中のエポキシ樹脂の混合割合は多く
とも50重量%であり、40重量%以下が望ましく、と
りわけ30重量%以下が好適である。混合物中に占める
エポキシ樹脂の混合割合が50重量%を越えると、得ら
れる架橋物の柔軟性に乏しい。The mixing ratio of the ethylene copolymer (a) to the ethylene copolymer (c) in the mixture is 10 as the total amount of 5.
Even if it is less than 30% by weight or exceeds 30% by weight, the crosslinking properties of the mixture may be insufficient depending on the composition ratio, and the resulting crosslinked product may have poor heat resistance. The mixing ratio of the epoxy resin is at most 50% by weight, preferably 40% by weight or less, particularly preferably 30% by weight or less. If the proportion of the epoxy resin in the mixture exceeds 50% by weight, the resulting crosslinked product will have poor flexibility.
なお、混合物中のエチレン系共重合体(a)ないしエチ
レン系共重合体(C)のカルボキシル基(−cooH)
およびカルボン酸無水物基の総和とエチレン系共重合体
(d)およびエポキシ樹脂のエポキシの総和との比率は
0゜2/1ないし5/1であり、 0.3/1ないし
3/Iが好ましく、特に0.5/1ないし2/1が好適
である。混合物中のカルボキシル基およびカルボン酸無
水物基の総和とエポキシ基の総和との比率が0.2/
1未満の場合でも、 5/1を越える場合でも、高温下
における金属との接着性がよくない。In addition, the carboxyl group (-cooH) of the ethylene copolymer (a) to ethylene copolymer (C) in the mixture
The ratio of the sum of the carboxylic acid anhydride groups to the sum of the epoxy of the ethylene copolymer (d) and the epoxy resin is from 0°2/1 to 5/1, and from 0.3/1 to 3/I. Preferably, 0.5/1 to 2/1 is particularly suitable. The ratio of the sum of carboxyl groups and carboxylic acid anhydride groups to the sum of epoxy groups in the mixture is 0.2/
Whether it is less than 1 or more than 5/1, the adhesion to metals at high temperatures is poor.
本発明の混合物を製造するさい、前記の有機化合物また
はポリマーを配合する場合、それらの混合割合は前記共
重合体(Dおよび共重合体(II )あるいはこれらの
共重合体とエポキシ樹脂との合計量100重量部に対し
て通常多くとも20重量部であり、 0.1〜20重量
部が望ましく、 0.5〜20重量部が好適であり、と
りわけ1.0〜15重量部が好適である。In producing the mixture of the present invention, when blending the above-mentioned organic compounds or polymers, the mixing ratio thereof should be the sum of the above-mentioned copolymer (D and copolymer (II) or these copolymers and the epoxy resin). Usually at most 20 parts by weight per 100 parts by weight, preferably from 0.1 to 20 parts by weight, preferably from 0.5 to 20 parts by weight, especially preferably from 1.0 to 15 parts by weight. .
(H)混合方法
本発明の混合物を製造するには、以上の「共重合体(I
)〔すなわち、エチレン系共重合体(a)、エチレン系
共重合体(b)およびエチレン系共重合体(C)からえ
らばれる〕および共重合体(■)〔すなわち、エチレン
系共重合体(d)〕あるいはこれらの共重合体とエポキ
シ樹脂および/または有機化合物またはポリマー」 (
以下「混合成分」と云う)を均一に混合させればよい、
このさい、熱伝導性がl X I 0−3cal/”C
j・C麿・秒置上であり、かつ電気抵抗値が1010Ω
・C■以上である無機充填剤を配合させることによって
得られる肉薄物の架橋物が比較的に薄い場合に熱伝導性
を改良することができる。(H) Mixing method In order to produce the mixture of the present invention, the above “copolymer (I
) [i.e., selected from ethylene copolymer (a), ethylene copolymer (b) and ethylene copolymer (C)] and copolymer (■) [i.e., ethylene copolymer ( d)] or copolymers thereof and epoxy resins and/or organic compounds or polymers” (
(hereinafter referred to as "mixed components") may be uniformly mixed.
At this time, the thermal conductivity is l X I 0-3cal/”C
j・Cmaro・second position and electrical resistance value is 1010Ω
- Thermal conductivity can be improved when the crosslinked thin material obtained by blending an inorganic filler with a particle size of C■ or more is relatively thin.
該無機充填剤の代表例としては、酸化ベリリウム、窒素
硼素、酸化マグネシウム(マグネシア)、酸化アミニウ
ム(アルミナ)、炭化けい素およびガラスピーズがあげ
られる。また、該無機充填剤の粉末の粒度としては、粒
子径が100 JLm以下のものが望ましく、とりわけ
0.1〜20gmのものが好適である0粒子径が0.1
μ層未満では、前記混合成分に均一に分散させることが
困難である。一方、 longmを越えると、架橋物の
層(絶縁充填材の層)の厚さが厚くなり、さらに接着強
度も低下するために望ましくない。Representative examples of such inorganic fillers include beryllium oxide, boron nitrogen, magnesium oxide (magnesia), aminium oxide (alumina), silicon carbide, and glass beads. Furthermore, the particle size of the inorganic filler powder is preferably 100 JLm or less, particularly preferably 0.1 to 20 gm.
If the layer is less than μ layer, it is difficult to uniformly disperse it in the mixed components. On the other hand, if it exceeds longm, the thickness of the cross-linked material layer (layer of insulating filler material) becomes thick and the adhesive strength further decreases, which is not desirable.
この無機充填剤の配合割合は多くとも70容量%である
。The blending ratio of this inorganic filler is at most 70% by volume.
混合方法としてはオレフィン系重合体の分野において一
般に行なわれているヘンシェルミキサーのごとき混合機
を使ってトライブレンドしてもよく、バンバリー、°押
出機およびロールミルのごとき混合機を用いて溶融混練
させる方法があげられる。このさい、あらかじめトライ
ブレンドし、得られる混合物を溶融混練させることによ
ってより均一な混合物を得ることができる。溶融混線す
るさい、混合成分が実質に架橋反応しないことが必要で
ある(かりに架橋すると、得られる混合物を後記のよう
に成形加工するさいに成形性が悪くなるばかりでなく、
目的とする成形物の形状や成形物を架橋する場合に耐熱
性を低下させるなどの原因となるために好ましくない)
、このことから、溶融混練する温度は使われるエチレン
系重合体およびエポキシ樹脂の種類ならびに粘度にもよ
るが、室温(20℃)ないし150℃が望ましく140
℃以下が好適である。The mixing method may be tri-blending using a mixer such as a Henschel mixer, which is commonly used in the field of olefin polymers, or melt-kneading using a mixer such as a Banbury, ° extruder, or roll mill. can be given. At this time, a more uniform mixture can be obtained by triblending in advance and melt-kneading the resulting mixture. When melt-crosslinking, it is necessary that the mixed components do not undergo a substantial crosslinking reaction (if crosslinking occurs, not only will the moldability deteriorate when the resulting mixture is molded as described below),
(This is undesirable because it may cause a decrease in the shape of the intended molded product or in the heat resistance when crosslinking the molded product.)
From this, the melt-kneading temperature depends on the type and viscosity of the ethylene polymer and epoxy resin used, but is preferably room temperature (20°C) to 150°C.
C or lower is suitable.
この「実質的に架橋しない」の目安として、前記の共重
合体(1)、共重合体(II)およびエポキシ樹脂の合
計量を「沸騰トルエン中で3時間抽出処理した後、径が
0.1経■以上である残香」(以下「抽出残香」と云う
)が一般には15重量%以下であることが好ましく、1
0重量%以下が好適であり、とりわけ5重量%以下が最
適である。As a measure of "substantially no crosslinking", the total amount of copolymer (1), copolymer (II), and epoxy resin is "extracted in boiling toluene for 3 hours, and then the diameter is 0. In general, it is preferable that the amount of "extracted scent" (hereinafter referred to as "extracted scent") is 15% by weight or less, and
The content is preferably 0% by weight or less, and most preferably 5% by weight or less.
以上のようにして得られる混合物をICカードの製造に
使用するにあたり、この混合物をそのまま用いてもよく
、熱可塑性樹脂の分野において一般に実施されているT
−グイ法またはインフレーション法によってフィルムな
いしシートを製造して使ってもよい、このさい、高い温
度で押出を行なうと、一部または全部が架橋することが
ある。When using the mixture obtained as described above for manufacturing IC cards, this mixture may be used as it is, and T
- Films or sheets may be produced and used by the Gouy method or the inflation method. In this case, when extrusion is carried out at high temperatures, some or all of the films or sheets may be crosslinked.
そのために、押出強度は通常250℃以下である。Therefore, the extrusion strength is usually 250°C or less.
(J)ICカードおよびその製造方法
本発明のICカードは後記の周辺材料と前記の混合物を
後記のごとく加熱圧着させて積層させることによって製
造することができる。このさい、混合物は後記のごとく
加熱によって架橋していることが重要である。(J) IC card and its manufacturing method The IC card of the present invention can be manufactured by heat-pressing and laminating the peripheral materials described later and the mixture described above as described later. At this time, it is important that the mixture is crosslinked by heating as described below.
以下、本発明のICカードの代表例を図面をもって説明
する。Hereinafter, representative examples of the IC card of the present invention will be explained with reference to the drawings.
第1図は本発明のICカードの代表例の部分拡大断面図
である。この図面によって示されるICカードは表皮層
l、樹脂(混合物の架橋物)層2および2°、ICチッ
プ4、その他のチップ部品5を搭載させたプリント配線
板3(スルーホール6、ハンダによる接続部分7)によ
って積層されたものである。第1図は本発明の樹脂層を
用いた場合のICカードの代表的な部分拡大断面図であ
るが、前記以外にも用途に応じて本発明の混合物の菊橋
物が有するすぐれた接着性、耐熱性、耐水性を活かした
使用方法が可能であることは当然のことである。FIG. 1 is a partially enlarged sectional view of a representative example of the IC card of the present invention. The IC card shown in this drawing includes a skin layer 1, resin (crosslinked mixture) layers 2 and 2°, an IC chip 4, and a printed wiring board 3 on which other chip components 5 are mounted (through holes 6, solder connections). It is laminated by part 7). FIG. 1 is a typical partially enlarged cross-sectional view of an IC card using the resin layer of the present invention. It goes without saying that it is possible to use it in ways that take advantage of its heat resistance and water resistance.
(K)周辺材料
本発明を有効に利用するにあたり、下記の材料を用いる
ことができる。(K) Peripheral Materials The following materials can be used to effectively utilize the present invention.
第1図の1によって示される表皮層(表・裏面板)が補
強させるために使われるが、たとえばアクリロニトリル
−ブタジェン−スチレン三元共重合体(ABS樹脂)、
ポリフェニレンオキサイド(PPO樹脂)、ポリアミド
樹脂、ポリカーポネー) (PC) 、ポリエステルな
どが一般に使用されている熱可塑性樹脂またはフェノー
ル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などの
熱硬化性樹脂が用いられるが、本発明の絶縁充填材であ
る混合物を架橋させるさいの後記の架橋温度に充分に酎
えうる耐熱性を有するものが好んで使用される。The skin layers (front and back plates) indicated by 1 in Figure 1 are used for reinforcement, such as acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer (ABS resin),
Thermoplastic resins such as polyphenylene oxide (PPO resin), polyamide resin, polycarbonate (PC), and polyester are commonly used, or thermosetting resins such as phenol resin, unsaturated polyester resin, and epoxy resin are used, but this When crosslinking the mixture that is the insulating filler of the invention, those having sufficient heat resistance to reach the crosslinking temperature described below are preferably used.
一方、電磁波、磁気、静電気をシールドさせるためにア
ルミニウム、ケイ素鋼、鉄、銅などの金属の箔ないし板
が有用である。On the other hand, foils or plates of metals such as aluminum, silicon steel, iron, and copper are useful for shielding electromagnetic waves, magnetism, and static electricity.
熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂を使った場合の厚さは
通常30gmないしlamであり、50gIIa:いし
lamのものが好ましく、特に1002 rsないし
lamが好適である。また、金属の箔ないし板を用いた
場合、その厚さは一般には10終履ないし0.8m−で
あり、’lQp−mないし0.81露が望ましく、とり
わけ507zmないし0.6++usが好適である。熱
可塑性樹脂または熱硬化性樹脂の場合でも、金属の場合
でも、厚さが下限未満では補強としての効果が低下する
。一方、上限を越えると、全体の厚みが厚くなるために
好ましくない0本発明のICカードにおいて、・表皮層
の両面とも同様のものを使ってもよく、また異種のもの
を用いてもよい(たとえば、熱可塑性樹脂と金属)、ま
た、両面とも同じ厚さでもよく、異なってもよい。When a thermoplastic resin or a thermosetting resin is used, the thickness is usually 30 gm to lam, preferably 50 gm IIa to lam, and particularly preferably 1002 rs to lam. Further, when a metal foil or plate is used, its thickness is generally 10 m to 0.8 m, preferably 1Qp-m to 0.81 m, and particularly preferably 507 m to 0.6 µs. be. Whether it is a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a metal, if the thickness is less than the lower limit, the reinforcing effect will be reduced. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the overall thickness will increase, which is undesirable. (for example, thermoplastic resin and metal), and both sides may have the same or different thicknesses.
また、プリント配線板は一般に市販されているあらゆる
プリント配線板を用いることが可能である。このプリン
ト配線板の代表例としては、紙−フェノール基板、ガラ
ス−エポキシ基板などの熱硬化性樹脂基板、アルミニウ
ム、鉄、銅などの金属をベースとする基板およびハイブ
リッド化されたセラミック基板(主として、アルミナ基
板)ならびに耐熱性熱可塑性樹脂(たとえば、ポリイミ
ド樹脂、飽和ポリエステル樹脂)を用いたフレキシブル
配線板があげられる。これらのプリント配線板およびフ
レキシブル配線板はカバーレイを施したものでもよい。Further, as the printed wiring board, any commercially available printed wiring board can be used. Typical examples of printed wiring boards include thermosetting resin substrates such as paper-phenol substrates and glass-epoxy substrates, substrates based on metals such as aluminum, iron, and copper, and hybrid ceramic substrates (mainly, Examples include flexible wiring boards using alumina substrates) and heat-resistant thermoplastic resins (eg, polyimide resins, saturated polyester resins). These printed wiring boards and flexible wiring boards may be provided with a coverlay.
また、ICチップ(第1図の4)の表面を保護するため
にあらかじめシリコン樹脂、エポキシ樹脂をポットa形
させたものでもよい。Alternatively, silicone resin or epoxy resin may be made into a pot shape in advance to protect the surface of the IC chip (4 in FIG. 1).
(L)加熱圧着方法
第1図に示されているごとく、本発明のICカードの画
表皮層の間とプリント配線板との間に本発明の混合物ま
たはあらかじめ成形した本質的に架橋していないフィル
ムないしシートを充填させて積層させることによってI
Cカードを製造することができる。積層方法としては、
各部品や暦の厚さ、製造の容易さ、生産性などから適宜
えらばれるが、一般にはプレス成形機を使って熱プレス
方法および熱ロールを使って加圧させながら積層させる
方法がある。これ以外にも、一般に実施されているポッ
ト成形、トランスファー成形、射出成形などの方法を適
用して混合物またはフィルムないしシートを画表皮層と
プリント配線板との間に充填させることもできる。(L) Heat-press bonding method As shown in Figure 1, the mixture of the present invention or a pre-formed essentially non-crosslinked mixture is placed between the image surface layer of the IC card of the present invention and the printed wiring board. By filling and laminating films or sheets, I
C cards can be manufactured. As for the lamination method,
The method is selected depending on the thickness of each part or calendar, ease of manufacture, productivity, etc., but generally there are a hot press method using a press molding machine and a method of laminating while applying pressure using a hot roll. In addition to this, the mixture or film or sheet can be filled between the image skin layer and the printed wiring board by applying commonly used methods such as pot molding, transfer molding, and injection molding.
熱プレス方法では、加熱温度が30℃以上で充分な接着
性を有するものが得られるが、耐熱性を必要とする場合
ではICの各部品が破壊しない範囲でできる限り高い温
度(通常 120〜300℃)において圧着させること
が好ましい、120〜300℃の温度範囲では0.5〜
IO分間圧着させることが必要であり、前記の混合物ま
たはフィルムないしシートの樹脂(重合体)内で架橋反
応が起こり、架橋物と表皮層、プリント配線板、ICチ
ップ、その他の部品との接着性および耐熱性が著しく向
上する。In the heat press method, a product with sufficient adhesiveness can be obtained at a heating temperature of 30°C or higher, but if heat resistance is required, the temperature must be as high as possible (usually 120 to 300°C) without damaging the IC parts. It is preferable to press the bond at a temperature of 0.5 to
It is necessary to press the mixture for IO minutes, and a crosslinking reaction occurs within the resin (polymer) of the mixture or film or sheet, and the adhesiveness between the crosslinked product and the skin layer, printed wiring board, IC chip, and other parts is improved. and heat resistance is significantly improved.
加圧条件としては、ICチップ、その他の部品が動いた
り、破壊しない範囲でよく、一般には0.1〜100
Kg/ c m″(ゲージ圧)である、さらに、均一な
接着、気泡を含入させなくするために特に減圧下で微荷
重で加圧させることが望ましい。The pressurizing conditions may be within a range that does not move or destroy the IC chip or other parts, and is generally 0.1 to 100.
Kg/cm'' (gauge pressure).Furthermore, in order to achieve uniform adhesion and to prevent the inclusion of air bubbles, it is particularly desirable to apply pressure under reduced pressure with a slight load.
本発明の混合物をあらかじめ未架橋のフィルムないしシ
ートとして使用する場合、ICチップ、その他の凸部の
部品に対応するところを事前に穴をあけてくりぬいてお
き、表面板、裏面板、未架橋のフィルムないしシート、
プリント配線板などをあらかじめ積層させ、前記のよう
に熱プレスさせて接着拳架橋させることができる。むし
ろ、この方法のほうが、ICチップ、各種部品に積層時
に応力がかからずに成形することが可能であるために好
ましい。When using the mixture of the present invention as an uncrosslinked film or sheet, holes are punched out in advance at locations corresponding to IC chips and other convex parts. film or sheet,
Printed wiring boards and the like can be laminated in advance and then hot-pressed and bonded and cross-linked as described above. Rather, this method is preferable because it allows IC chips and various parts to be molded without stress being applied during stacking.
このようにして架橋された本廃明の絶縁充填材である架
橋物の抽出残存は少なくとも60%であり、65%以上
のものが望ましく、とりわけ70%以上のものが耐熱性
および耐水性がすぐれているために好適である。The residual content after extraction of the crosslinked insulating filler of this invention is at least 60%, preferably 65% or more, and especially 70% or more, which has excellent heat resistance and water resistance. It is suitable for
゛よび
以下、実施例によって本発明をさらにくわしく説明する
。The present invention will now be described in more detail with reference to Examples.
なお、実施例および比較例において、“剥離強度”はJ
IS C8481に準拠して架橋物(絶縁充填材)と
表皮層を3■残し、残りをエツチングでおとし、表皮層
を90度剥離(引張速度 50mm/分)時の剥離強度
を測定して求めた。In addition, in the examples and comparative examples, "peel strength" is J
In accordance with IS C8481, 3 cm of the crosslinked material (insulating filler) and skin layer were left, the rest was removed by etching, and the peel strength was measured when the skin layer was peeled off at 90 degrees (pulling speed 50 mm/min). .
なお、実施例および比較例において使用した混合物は下
記のようにして製造した。Note that the mixtures used in the Examples and Comparative Examples were manufactured as follows.
に、■、が300 g / 10分であるエチレン−ア
クリル酸共重合体(密度 0.954 g / c r
n’ 、アクリル酸の共゛重合割合 20重量%、以下
r EAAJと云う)とM、1.が7.2g/10分で
あるエチレン−メチルメタクリレート−グリシジルメタ
クリレートの三元共重合体(メチルメタクリレートの共
重合割合18.6重量%、グリシジルメタクリレートの
共重合割合 12.7重量%、以下r GMAJと云う
)とからなる混合物〔混合割合 EAA/ GMA=
50150 <重量比)、以下「混合物(I)」と云う
) 、 M、1.が210g/10分であるエチレン−
無水マレイン酸−エチルアクリレート三元共重合体(無
水マレイン酸の共重合割合 2.6モル%、エチルアク
リレートの共重合割合 9.5モル%、以下r ETP
Jと云う)と前記GMAとからなる混合物〔混合割合F
TP/ GMA= Go/40 (重量比)、以下「混
合物(II)J と云う〕ならびに前記ETPとGMA
ならびにエポキシ樹脂(チバガイギー社製、商品名 ア
ラルダイト ECN−1298、エポキシ当量 235
g /aq、デユラン融点 88℃、以下r ECH
Jと云う)からなる混合物〔混合割合 ETP/ GM
A/ EC)I=50/45/ 5 (重量比)、以下
「混合物(■)」と云う〕をそれぞれヘンシェルミキサ
ーを使って5分間トライブレンドさせることによって製
造した。Ethylene-acrylic acid copolymer (density 0.954 g/cr
n', copolymerization ratio of acrylic acid 20% by weight, hereinafter referred to as rEAAJ) and M, 1. terpolymer of ethylene-methyl methacrylate-glycidyl methacrylate (copolymerization ratio of methyl methacrylate 18.6% by weight, copolymerization ratio of glycidyl methacrylate 12.7% by weight, hereinafter r GMAJ ) [mixture ratio EAA/GMA=
50150 <weight ratio), hereinafter referred to as "mixture (I)"), M, 1. is 210 g/10 min.
Maleic anhydride-ethyl acrylate terpolymer (maleic anhydride copolymerization ratio 2.6 mol%, ethyl acrylate copolymerization ratio 9.5 mol%, hereinafter r ETP
J) and the GMA [mixture ratio F
TP/GMA=Go/40 (weight ratio), hereinafter referred to as "mixture (II) J" and the above ETP and GMA
and epoxy resin (manufactured by Ciba Geigy, trade name: Araldite ECN-1298, epoxy equivalent: 235
g/aq, Duran melting point 88℃, below r ECH
(referred to as J) [mixture ratio ETP/GM
A/EC)I=50/45/5 (weight ratio), hereinafter referred to as "mixture (■)"] were prepared by tri-blending them for 5 minutes using a Henschel mixer.
実施例 1〜7.比較例 1.2
このようにして得られた混合物(1)ないし混合物(m
)ならびにこれらの混合物を製造するために使用したE
AAおよびGMAをそれぞれT−ダイを備えた押出機(
径 40mm、ダイス幅 100I、回転数 85
回転/分)を用いて厚さがそれぞれ500 g rr+
および too 4 mのフィルムを成形した。成形温
度はシリンダーがCt”100°c、c2=120℃、
ダイス温度が140℃で行ない、ゲル・発泡がないフィ
ルムが得られた。なお、シリンダ一温度を 120℃以
上、ダイス温度を200℃以上で成形すると、混合物(
I)ないし混合物(III)は、いずれもゲルが多数発
生し、良好なフィルムを得ることができなかった。得ら
れた各フィルムの抽出残存はいずれも15%以下であっ
た。Examples 1-7. Comparative Example 1.2 Mixture (1) or mixture (m
) as well as the E used to prepare these mixtures.
AA and GMA were each extruded with a T-die (
Diameter 40mm, die width 100I, rotation speed 85
rotations/min) with a thickness of 500 g rr+
and too 4 m of film were formed. The molding temperature is cylinder Ct”100°C, c2=120°C,
The test was carried out at a die temperature of 140° C., and a film free from gelation and foaming was obtained. Note that if the cylinder temperature is 120°C or higher and the die temperature is 200°C or higher, the mixture (
In each of I) to mixture (III), a large amount of gel was generated, and a good film could not be obtained. The extraction residue of each of the obtained films was 15% or less.
得られた各フィルムの厚さが5004 mのフィルムを
第1図の2、厚さが+004 wrのフィルムを第1図
の2° となるようにし、さらに該図の1の表面板およ
び裏面板(各種類および厚さを第1表に示す)ならびに
プリント配線板(ガラス一二ポキシ樹脂ベースで厚さが
0.51の板、両面板でスルホール付、さらにICチッ
プが3個、コンデンサーが2個および抵抗器が5個を設
置)を第1図に示されているごとく積層させ、 180
℃に設定された真空プレス機にて20分間接着拳架橋を
行なった〔なお、実施例7では、架橋促進剤として混合
物(DI) 100重量部に対して0.5重量部のジ
メチルベンジルアミンを添加〕。The film with a thickness of 5004 m obtained was made to be 2° in Fig. 1, and the film with a thickness of +004 wr was made to be 2° in Fig. 1. (each type and thickness are shown in Table 1) and printed wiring board (glass, poxy resin base, 0.51 thickness, double-sided board with through holes, 3 IC chips, 2 capacitors) and 5 resistors) are stacked as shown in Figure 1, and 180
Adhesive crosslinking was carried out for 20 minutes in a vacuum press set at addition].
得られた幅が54s+s、長さが88m5および厚さが
262〜3.5Hの積層物(ICカード)から表面板と
フィルムの剥離強度を測定した。それらの結果を第1表
に示す、つぎに、これらの混合物の架橋物の抽出残炎を
測定した。それらの結果を第1表に示す、全実施例では
、いずれも抽出残炎が80%以上である。また、耐熱性
を調べるために280℃のハンダ浴に 1分間浸漬させ
た後、各ICカードを観察した。全実施例では全く変化
を認めることができなかったが、比較例1および2では
ともに樹脂層が流出してしまった。また、実施例6およ
び7で使用した混合物を同一条件でプレスした。The peel strength between the surface plate and the film was measured from the obtained laminate (IC card) having a width of 54 s+s, a length of 88 m5, and a thickness of 262 to 3.5 H. The results are shown in Table 1. Next, the extracted afterflame of the crosslinked products of these mixtures was measured. The results are shown in Table 1. In all Examples, the extracted afterflame was 80% or more. In addition, to examine heat resistance, each IC card was observed after being immersed in a 280°C solder bath for 1 minute. Although no change was observed in any of the Examples, the resin layer flowed out in both Comparative Examples 1 and 2. In addition, the mixtures used in Examples 6 and 7 were pressed under the same conditions.
各平板状物の体積抵抗率(JIS KEt91K
に従って測定)、誘電率(IM迅)、誘電正接および耐
電圧の測定を行なった。いずれも体積抵抗率は1016
Ω・C11であり、誘電率は2.5であった。また、誘
電正接は0.02であり、耐電圧は113KV/amで
あった。Volume resistivity of each flat plate (JIS KEt91K
The dielectric constant (IM), dielectric loss tangent, and withstand voltage were measured. The volume resistivity of both is 1016
Ω·C11, and the dielectric constant was 2.5. Further, the dielectric loss tangent was 0.02, and the withstand voltage was 113 KV/am.
(以下余白)
以ヒの結果から1本発明の構成成分である架橋物はIC
カードの内層材として用いると表皮層(表面板および裏
面板)との接着性が良好であるばかりか、耐熱性および
電気絶縁性にすぐれ、しかも回路基板と表皮層とを密に
充填できるために外部の衝撃にも強く、さらに耐久性も
向上していることは明らかである。(Left below) From the following results, the cross-linked product which is a constituent component of the present invention is IC.
When used as an inner layer material for cards, it not only has good adhesion with the skin layer (front plate and back plate), but also has excellent heat resistance and electrical insulation, and can densely fill the circuit board and the skin layer. It is clear that it is resistant to external shocks and has improved durability.
iに識」
本発明のICカードは充填される混合物の架橋物の耐熱
性が良好であるばかりでなく、電気絶縁性を著しく向上
させる。しかも該混合物の架橋能力を有するために弾力
性もあり、さらに架橋物は接着性を有するために耐久性
のあるものが得られ、下記のごとき効果を発揮する。The IC card of the present invention not only has good heat resistance of the crosslinked mixture filled therein, but also has significantly improved electrical insulation. Moreover, since the mixture has a crosslinking ability, it has elasticity, and since the crosslinked product has adhesive properties, a durable product can be obtained, and the following effects are exhibited.
らす、硬化時の収縮による回路部の破損、吸湿による回
路や部品の損傷もない、また、架橋物であるために弾力
性の富み、したがって外部の衝撃に対して部分的剥離や
亀裂の発生などもない。There is no damage to circuit parts due to shrinkage during curing, and no damage to circuits or parts due to moisture absorption.Also, since it is a crosslinked material, it has high elasticity, so it does not cause partial peeling or cracking when exposed to external impact. There is no such thing.
(2)該架橋物は、電気的特性(たとえば、絶縁性、耐
電圧、誘電正接)がすぐれているため、表皮層にシール
ドを目的として導電金属層を用いても、ICカードに多
少の曲げなどの変形が生じたとしても、回路部がショー
トしたり破壊したりすることはない。(2) Since the cross-linked material has excellent electrical properties (e.g. insulation, withstand voltage, dielectric loss tangent), even if a conductive metal layer is used as a shield on the surface layer, the IC card may be slightly bent. Even if such deformation occurs, the circuit section will not be short-circuited or destroyed.
(3)耐熱性および耐水性がすぐれているばかりか、金
属板、熱硬化性樹脂をベースとするプてプリント配線板
を表皮材に固定したときにみ°られる接着剤の流出、長
期間の劣化による接着力の低下などがない。(3) Not only does it have excellent heat resistance and water resistance, but it also prevents adhesive from leaking out when fixing metal plates or thermosetting resin-based printed wiring boards to the surface material. There is no decrease in adhesive strength due to deterioration.
(4)該混合物の架橋物を充填させることにより、各部
品が固定され、ICカードとしての耐久性を向上させる
。(4) By filling the crosslinked mixture, each component is fixed and the durability of the IC card is improved.
第1図はICカードの代表例の部分拡大断面図である。
1・・・・・・表皮層(表面板、裏面板)2.2°・・
・・・・混合物の架橋物(樹脂層)3・・・・・・市販
のプリント配線板
4・・・・・・ICチップ、5・・・・・・チップ部品
6・・・・・・スルーホール部FIG. 1 is a partially enlarged sectional view of a typical example of an IC card. 1... Epidermal layer (front plate, back plate) 2.2°...
...Crosslinked mixture (resin layer) 3...Commercially available printed wiring board 4...IC chip, 5...Chip component 6... Through hole part
Claims (1)
もエチレンに由来する単位とα、β−不飽和モノカルボ
ン酸、α、β−不飽和ジカルボン酸、その無水物および
ハーフエステルからなる群からえらばれた少なくとも一
種のモノマーに由来する単位とからなる共重合体( I
)および(B)少なくともエチレンに由来する単位とエ
ポキシ基を含有するエチレン性不飽和モノマーに由来す
る単位とからなる共重合体(II)あるいはこれらの共重
合体と(C)一分子中にエポキシ基を少なくとも2個を
有するエポキシ樹脂からなる混合物の架橋物であり、混
合物中の共重合体( I )の混合割合は10〜90重量
%であり、かつ該混合物中のカルボキシル基およびカル
ボン酸無水物基の総和とエポキシ基の総和との比率がモ
ル比で0.2/1ないし5/1であることを特徴とする
ICカード。At least the insulating filler in the IC card is selected from the group consisting of (A) units derived from at least ethylene, α, β-unsaturated monocarboxylic acids, α, β-unsaturated dicarboxylic acids, anhydrides and half esters thereof; A copolymer consisting of units derived from at least one monomer (I
) and (B) a copolymer (II) consisting of at least a unit derived from ethylene and a unit derived from an ethylenically unsaturated monomer containing an epoxy group, or a copolymer of these and (C) an epoxy group in one molecule. It is a crosslinked product of a mixture of epoxy resins having at least two groups, the proportion of the copolymer (I) in the mixture is 10 to 90% by weight, and the amount of carboxyl groups and carboxylic anhydride in the mixture is 10 to 90% by weight. An IC card characterized in that the molar ratio between the sum of physical groups and the sum of epoxy groups is from 0.2/1 to 5/1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61301772A JPS63154397A (en) | 1986-12-19 | 1986-12-19 | Ic card |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61301772A JPS63154397A (en) | 1986-12-19 | 1986-12-19 | Ic card |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63154397A true JPS63154397A (en) | 1988-06-27 |
Family
ID=17900985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61301772A Pending JPS63154397A (en) | 1986-12-19 | 1986-12-19 | Ic card |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63154397A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1035164A (en) * | 1996-04-25 | 1998-02-10 | Samsung Aerospace Ind Ltd | Ic card and manufacture thereof |
JP2009541993A (en) * | 2006-06-20 | 2009-11-26 | イノベイティア インコーポレイテッド | Embedded electronic device and method for manufacturing an embedded electronic device |
JP2009283793A (en) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
JP2010003296A (en) * | 2008-05-23 | 2010-01-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
-
1986
- 1986-12-19 JP JP61301772A patent/JPS63154397A/en active Pending
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