JPS63146927A - 芳香族コポリエステルアミド - Google Patents
芳香族コポリエステルアミドInfo
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- JPS63146927A JPS63146927A JP12559287A JP12559287A JPS63146927A JP S63146927 A JPS63146927 A JP S63146927A JP 12559287 A JP12559287 A JP 12559287A JP 12559287 A JP12559287 A JP 12559287A JP S63146927 A JPS63146927 A JP S63146927A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、リン原子を含有する芳香族ジオール。
芳香族ジカルボン酸、芳香族オキシカルボン酸及び芳香
族オキシアミン、芳香族ジアミンもしくは芳香族アミノ
カルボン酸とから得られる耐熱性及び難燃性に優れた新
規な芳香族コポリエステルアミドに関するものである。
族オキシアミン、芳香族ジアミンもしくは芳香族アミノ
カルボン酸とから得られる耐熱性及び難燃性に優れた新
規な芳香族コポリエステルアミドに関するものである。
(従来の技術)
従来、耐熱性が良く、シかも溶融加工性の優れた高分子
として溶融異方性を有する液晶性ポリエステルアミドが
種々提案されている(例えば、特開昭55−27391
号、同57−172921号、同58−1722号。
として溶融異方性を有する液晶性ポリエステルアミドが
種々提案されている(例えば、特開昭55−27391
号、同57−172921号、同58−1722号。
同58−29820号等)。
一般に、芳香族ポリエステルアミドは難燃性に優れてい
るが、限界酸素指数では高々40程度であって、十分な
運燃性とはいい難く、また5非常に融点もしくは軟化点
が高く、同時に溶融粘度が高いため、高温、高圧で加工
しなげればならないという問題を有していた。
るが、限界酸素指数では高々40程度であって、十分な
運燃性とはいい難く、また5非常に融点もしくは軟化点
が高く、同時に溶融粘度が高いため、高温、高圧で加工
しなげればならないという問題を有していた。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は、このような従来の芳香族ポリエステルアミド
の欠点を解消し、溶融成形加工が容易で。
の欠点を解消し、溶融成形加工が容易で。
しかも高度な難燃性をも有する新規な芳香族コポリエス
テルアミドを提供しようとするものである。
テルアミドを提供しようとするものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは6上記の目的を達成するために鋭意研究の
結果、特定の構造を有する含リン芳香族コポリエステル
アミドが、極めて優れた性質を有することを見出し5本
発明に到達した。
結果、特定の構造を有する含リン芳香族コポリエステル
アミドが、極めて優れた性質を有することを見出し5本
発明に到達した。
すなわち5本発明の要旨は次のとおりである。
下記構造式■〜■で示される構成単位から主としてなり
、全繰り返し単位に対して、[1]が5〜90モル%、
■5〜90モル%、[3]が5〜50モル%を占め、■
がバランス量で存在するランダムコポリエステルアミド
であって、極限粘度が0.5以上である芳香族コポリエ
ステルアミド。
、全繰り返し単位に対して、[1]が5〜90モル%、
■5〜90モル%、[3]が5〜50モル%を占め、■
がバランス量で存在するランダムコポリエステルアミド
であって、極限粘度が0.5以上である芳香族コポリエ
ステルアミド。
■
−O−Ar’−〇−
一〇−Ar2−C○−■
−X −Ar5−N I−T−■
−○C−Ar’−C○−■
(Ar’は3価の芳香族基、 Ar2. Ar3及びA
r’は2価の芳香族基を示し、Xは一〇−、−NH−も
しくは一○C−を示す。
r’は2価の芳香族基を示し、Xは一〇−、−NH−も
しくは一○C−を示す。
ただし、芳香環及び−NH−の水素原子は置換基で置換
されていてもよい。〕 水素原子は置換基で置換されていてもよい。〕なお、構
成単位■がバランス量で存在するとは。
されていてもよい。〕 水素原子は置換基で置換されていてもよい。〕なお、構
成単位■がバランス量で存在するとは。
コポリエステルアミドを形成するのにバランスする量で
存在することを意味し、具体的には、Xが一〇−、−N
H−の場合は5■と■の和と■とが実質的に等モルとな
り、Xが−OC−の場合は。
存在することを意味し、具体的には、Xが一〇−、−N
H−の場合は5■と■の和と■とが実質的に等モルとな
り、Xが−OC−の場合は。
■と■とが実質的に等モルとなる量で存在することを意
味する。
味する。
本発明のコポリエステルアミドは、共重合の組成によっ
て、結晶性、非品性又はサーモトロピック液晶性のいず
れかを示す。耐熱性を重視すれば融点もしくは軟化点は
高くなるが、結晶性のものがよいし、耐熱性と成形性を
両立させるためには、サーモトロピック液晶性のものが
特に好適である。
て、結晶性、非品性又はサーモトロピック液晶性のいず
れかを示す。耐熱性を重視すれば融点もしくは軟化点は
高くなるが、結晶性のものがよいし、耐熱性と成形性を
両立させるためには、サーモトロピック液晶性のものが
特に好適である。
ここで、サーモトロピック液晶性とは、溶融相において
コポリエステルアミドの分子が規則的に一方向に配列し
てネマティック相といわれる液晶を生成する性質のこと
をいい、直交偏光子を用いた常用の偏光技術により確認
できる。
コポリエステルアミドの分子が規則的に一方向に配列し
てネマティック相といわれる液晶を生成する性質のこと
をいい、直交偏光子を用いた常用の偏光技術により確認
できる。
本発明のコポリエステルアミドは少なくとも四つの構成
単位からなり、これらの構成単位は高分子の状態に結合
させたとき、軟化点が通常約330°C以下となるもの
であり、特に好ましいものは300°C以下で非常に加
工し易いサーモトロピック液晶性溶融相を形成するもの
である。
単位からなり、これらの構成単位は高分子の状態に結合
させたとき、軟化点が通常約330°C以下となるもの
であり、特に好ましいものは300°C以下で非常に加
工し易いサーモトロピック液晶性溶融相を形成するもの
である。
本発明のコポリエステルアミドの第一の構成単位は前記
式■で示される含リン芳香族ジオールの残基である。
式■で示される含リン芳香族ジオールの残基である。
構造式■におりるAr’としては、ベンゼン環及びナフ
タリン環が最も好ましい。また、構造式■において芳香
環の水素原子は炭素原子数1〜20のアルキル基、アル
コキシ基、炭素原子数6〜20のアリール基、アリロキ
シ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよい。
タリン環が最も好ましい。また、構造式■において芳香
環の水素原子は炭素原子数1〜20のアルキル基、アル
コキシ基、炭素原子数6〜20のアリール基、アリロキ
シ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよい。
含リン芳香族ジオールの具体例としては5次の式(a)
〜(d)で表されるものが挙げられるが、特に好ましい
ものは5式(a)及び式(b)で表されるものである。
〜(d)で表されるものが挙げられるが、特に好ましい
ものは5式(a)及び式(b)で表されるものである。
本発明のコポリエステルアミドの第二の構成単位は前記
式■で示される単位であり、具体的には。
式■で示される単位であり、具体的には。
4−オキシ安息香酸残基、2−オキシ−6−ナフトエ酸
残基等が挙げられる。
残基等が挙げられる。
構造式■における芳香環の水素原子は炭素原子数1〜2
0のアルキル基、アルコギシ基、炭素原子数6〜20の
アリール基、アリロキシ基もしくはハロケン原子で置換
されていてもよい。
0のアルキル基、アルコギシ基、炭素原子数6〜20の
アリール基、アリロキシ基もしくはハロケン原子で置換
されていてもよい。
本発明のコポリエステルアミドの第三の構成単位は前記
式■で示される単位であり、芳香族オキシアミン1芳香
族ジアミンもしくは芳香族アミノカルボン酸の残基であ
る。
式■で示される単位であり、芳香族オキシアミン1芳香
族ジアミンもしくは芳香族アミノカルボン酸の残基であ
る。
構造式■におけるAr3としては、ベンゼン環及びナフ
タリン環が好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。
タリン環が好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。
構造式〇における窒素原子に結合した水素原子は炭素原
子数1〜20のアルキル基、アシル基、炭素原子数6〜
20の了り−ル基で置換されていてもよく、芳香環の水
素原子は炭素原子数1〜20のアルギル基、アルコギシ
基、炭素原子数6〜20のアリール基、アリロキシ基も
しくはハロゲン原子で置換されていてもよい。
子数1〜20のアルキル基、アシル基、炭素原子数6〜
20の了り−ル基で置換されていてもよく、芳香環の水
素原子は炭素原子数1〜20のアルギル基、アルコギシ
基、炭素原子数6〜20のアリール基、アリロキシ基も
しくはハロゲン原子で置換されていてもよい。
本発明のコポリエステルアミドの第四の構成単位は前記
式■で示される芳香族ジカルボン酸の残基である。
式■で示される芳香族ジカルボン酸の残基である。
構造式〇におけるAr’としては、ベンゼン環及びナフ
タリン環が好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。
タリン環が好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。
構造式■において芳香環の水素原子は炭素原子数1〜2
0のアルキル基、アルコキシ基、炭素原子数6〜20の
了り−ル基、アリロキシ基もしくはハロゲン原子で置換
されていてもよい。
0のアルキル基、アルコキシ基、炭素原子数6〜20の
了り−ル基、アリロキシ基もしくはハロゲン原子で置換
されていてもよい。
最も好ましい芳香族ジカルボン酸は、テレフタル酸(T
P八)及びイソフタル酸(TP八)であり、TP八とI
PAとをモル比で100:O〜o:1oo、 好まし
くは100:O〜50 : 50.最適には100:O
〜70 : 30の割合で用いるのが適当である。
P八)及びイソフタル酸(TP八)であり、TP八とI
PAとをモル比で100:O〜o:1oo、 好まし
くは100:O〜50 : 50.最適には100:O
〜70 : 30の割合で用いるのが適当である。
この他の芳香族ジカルボン酸の具体例としては。
2.6−ナックレンジカルボン酸、1,8−ナフタレン
ジカルボン酸、2.2−ビス(4′−カルボキシフェニ
ル)プロパン、ビス (4−カルボキシフェニル)メタ
ン、ヒス (4−カルボキシフェニル)エーテル等が挙
げられる。
ジカルボン酸、2.2−ビス(4′−カルボキシフェニ
ル)プロパン、ビス (4−カルボキシフェニル)メタ
ン、ヒス (4−カルボキシフェニル)エーテル等が挙
げられる。
構成単位■〜■の割合は、[1]が5〜90モル%。
■が5〜90モル%、[3]が5〜50モル%となるよ
うにすることが必要である。これらの範囲を外れて構成
単位[1]が多くなり過ぎると強度や耐熱性が低下した
り、構成単位■もしく[3]が多くなると融解温度が高
くなり過ぎたり、難燃性が劣るようになる。
うにすることが必要である。これらの範囲を外れて構成
単位[1]が多くなり過ぎると強度や耐熱性が低下した
り、構成単位■もしく[3]が多くなると融解温度が高
くなり過ぎたり、難燃性が劣るようになる。
そして、構成単位[3]が、芳香族オキシアミン及び/
又は芳香族ジアミンの場合は、[1]が10〜75モル
%、■が20〜80モル%、[3]が5〜30モル%と
なるようにすることが好ましく、サーモトロピック液晶
性とするためには、[1]が10〜50モル%、■が4
0〜80モル%、[3]が10〜30モル%となるよう
にするとよい。
又は芳香族ジアミンの場合は、[1]が10〜75モル
%、■が20〜80モル%、[3]が5〜30モル%と
なるようにすることが好ましく、サーモトロピック液晶
性とするためには、[1]が10〜50モル%、■が4
0〜80モル%、[3]が10〜30モル%となるよう
にするとよい。
構成単位[3]が、芳香族アミノカルボン酸の場合は、
■カ10〜75モル%、■が10〜80モル%、[3]
が5〜50モル%となるようにすることが好ましく。
■カ10〜75モル%、■が10〜80モル%、[3]
が5〜50モル%となるようにすることが好ましく。
−9=
サーモトロピック液晶性とするためには、[1]が10
〜50モル%、■が10〜80モル%、[3]が10〜
50モル%となるようにするとよい。
〜50モル%、■が10〜80モル%、[3]が10〜
50モル%となるようにするとよい。
また1本発明のコポリエステルアミドの効果を損なわな
い範囲で他の共重合成分を含有させてもよく、そのよう
な共重合成分としては5例えばハイドロキノン(HQ)
、 レヅルシン、4.4’−ジヒドロキシジフェニル
、エチレングリコール、1.4−ブタンジオール、1,
6−ヘキサンジオール、シクロヘキザンジメタノール、
ペンタエリスリト−ル等が挙げられる。
い範囲で他の共重合成分を含有させてもよく、そのよう
な共重合成分としては5例えばハイドロキノン(HQ)
、 レヅルシン、4.4’−ジヒドロキシジフェニル
、エチレングリコール、1.4−ブタンジオール、1,
6−ヘキサンジオール、シクロヘキザンジメタノール、
ペンタエリスリト−ル等が挙げられる。
本発明のコポリエステルアミドは、極限粘度〔η〕が0
.5以上、好ましくは1〜10.最適には1〜5である
。〔η〕が0.5より小さいと耐熱性を始めとする各種
の物理的2機械的、化学的特性値がたものとなる。なお
、 〔η〕が10より大きいと溶融粘度が高くなりすぎ
て成形性、流動性などが損なわれたりして好ましくない
ときがある。
.5以上、好ましくは1〜10.最適には1〜5である
。〔η〕が0.5より小さいと耐熱性を始めとする各種
の物理的2機械的、化学的特性値がたものとなる。なお
、 〔η〕が10より大きいと溶融粘度が高くなりすぎ
て成形性、流動性などが損なわれたりして好ましくない
ときがある。
本発明のコポリエステルアミドを経済的に製造し得る好
ましい一例として、第一の構成単位が前記式(alのリ
ン化合物である9、10−ジヒドロ−9−オキサ−10
−(2’、5’−ジヒドロキシフェニル)ホスファフェ
ナントレン−10−オキシド(PHQ)の残基、第二の
構成単位が4−オキシ安息香酸(4HBA)の残基、第
三の構成単位がパラアミノフェノール(PAP)の残基
、第四の構成単位がTPA / IPAの残基であるコ
ポリエステルアミドについて、その製造法を説明する。
ましい一例として、第一の構成単位が前記式(alのリ
ン化合物である9、10−ジヒドロ−9−オキサ−10
−(2’、5’−ジヒドロキシフェニル)ホスファフェ
ナントレン−10−オキシド(PHQ)の残基、第二の
構成単位が4−オキシ安息香酸(4HBA)の残基、第
三の構成単位がパラアミノフェノール(PAP)の残基
、第四の構成単位がTPA / IPAの残基であるコ
ポリエステルアミドについて、その製造法を説明する。
(イ) TPA/IP八とPHQと411B八及びPA
Pとをヒドロキシル基とアミノ基の和とカルボキシル基
とが当量となる量及びヒドロキシル基とアミノ基の総量
と当量以上(好ましくは1.05〜1.25倍当量)の
無水酢酸(八c20)あるいは(ロ)TPΔ/IPAと
PHQのジアセテート(PHQ−A) と4HBへのア
セテート(48BA−A)及びパラアセトキシアセトア
ニリド(PAP−A) とをヒドロキシル残基とアミ
ノ残基の和とカルボキシル基とが当量となる量及びヒド
ロキシル残基とアミノ残基の総量に対して0〜0.25
倍当量のAc20を反応機に仕込み、常圧下、150°
C程度の温度で約2時間程度酸交換反応もしくはエステ
ル化反応させる。その後、順次界温し、必要なら減圧し
ながら酢酸を溜出させ、酸交換反応させた後、280°
C程度に昇温する。
Pとをヒドロキシル基とアミノ基の和とカルボキシル基
とが当量となる量及びヒドロキシル基とアミノ基の総量
と当量以上(好ましくは1.05〜1.25倍当量)の
無水酢酸(八c20)あるいは(ロ)TPΔ/IPAと
PHQのジアセテート(PHQ−A) と4HBへのア
セテート(48BA−A)及びパラアセトキシアセトア
ニリド(PAP−A) とをヒドロキシル残基とアミ
ノ残基の和とカルボキシル基とが当量となる量及びヒド
ロキシル残基とアミノ残基の総量に対して0〜0.25
倍当量のAc20を反応機に仕込み、常圧下、150°
C程度の温度で約2時間程度酸交換反応もしくはエステ
ル化反応させる。その後、順次界温し、必要なら減圧し
ながら酢酸を溜出させ、酸交換反応させた後、280°
C程度に昇温する。
その後、最終的に通常280〜330℃の温度下1トル
程度の高減圧下に数十分〜数時間、溶融相又は固相て重
縮合反応させることによって1本発明のコポリエステル
アミドを製造することができる。
程度の高減圧下に数十分〜数時間、溶融相又は固相て重
縮合反応させることによって1本発明のコポリエステル
アミドを製造することができる。
なお、前記したように、コポリエステルアミドの種類に
よっては1重縮合反応の過程で固化し。
よっては1重縮合反応の過程で固化し。
固相状態となる場合もあるし、溶融状態のまま重縮合で
きる場合もある。
きる場合もある。
また5通常1重縮合反応には触媒が用いられるが1本発
明のコポリエステルアミドの製造には。
明のコポリエステルアミドの製造には。
各種金属化合物あるいは有機スルホン酸化合物の中から
選ばれた1種以上の化合物が用いられる。
選ばれた1種以上の化合物が用いられる。
金属化合物としては、アンチモン、チタン、ゲルマニウ
ム、スズ、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、カルシ
ウム、すトリウム、カリウム、マンガンあるいはコバル
ト等の化合物が用いられ。
ム、スズ、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、カルシ
ウム、すトリウム、カリウム、マンガンあるいはコバル
ト等の化合物が用いられ。
有機スルホン酸化合物としては、スルホサリチル酸、0
−スルホ安息香酸無水物等の化合物が用いられるが、ジ
メチルスズマレエート及び0−スルホ安息香酸無水物が
特に好適に用いられる。
−スルホ安息香酸無水物等の化合物が用いられるが、ジ
メチルスズマレエート及び0−スルホ安息香酸無水物が
特に好適に用いられる。
触媒の添加量は、コポリエステルアミドの構成単位1モ
ルに対し2通常、0.lX10−’〜100×10−4
モル、好ましくは0.5 X 10−’〜50 X 1
0− ’モル、最適にはlXl0−’〜l0XIO−’
モルが適当である。
ルに対し2通常、0.lX10−’〜100×10−4
モル、好ましくは0.5 X 10−’〜50 X 1
0− ’モル、最適にはlXl0−’〜l0XIO−’
モルが適当である。
(実施例)
次に、実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。
極限粘度は、フェノールと四塩化エタンとの等重量混合
溶媒中、20℃で測定した溶液粘度から求めた。
溶媒中、20℃で測定した溶液粘度から求めた。
また、軟化点は、ペネトロメータ一式軟化点測定装置を
用いて、荷重16.7g、針入れ深さl nl11の条
件で測定した。
用いて、荷重16.7g、針入れ深さl nl11の条
件で測定した。
難燃性ばUL 94規格による難燃度ならびにJISK
7201規格による限界酸素指数(LOT)により1
判定した。 (ただし、実施例で得られたコポリエステ
ルアミドの旧794規格の難燃度はいずれもv−0級で
あり5表示を省略した。) また2本発明のコポリエステルアミドの同定は赤外線吸
収スペクトル、軟化点及び元素分析により行い、液晶性
はホットステージ付Leitz偏光顕微鏡で確認した。
7201規格による限界酸素指数(LOT)により1
判定した。 (ただし、実施例で得られたコポリエステ
ルアミドの旧794規格の難燃度はいずれもv−0級で
あり5表示を省略した。) また2本発明のコポリエステルアミドの同定は赤外線吸
収スペクトル、軟化点及び元素分析により行い、液晶性
はホットステージ付Leitz偏光顕微鏡で確認した。
実施例1
反応装置にPHQ−A、 41+BA−八、 PI!I
P−A及びAC20をモル比で2ニア:1:2とPHQ
−AとPAP−八との和と等モルのTPAを仕込み、触
媒としてジメチルスズマレエートをコポリエステルアミ
ドの繰り返し単位1モルに対し4X10−’モル加え、
窒素雰囲気下、常圧、150℃で2時間混合しながら反
応させた。この反応物をさらに常圧下、250°Cで2
時間、さらに280℃で2時間反応させた。その後減圧
を開始し、順次昇温しで反応を行い、最終的に320°
Cまで温度を上げて1合計10時間溶融重合した。
P−A及びAC20をモル比で2ニア:1:2とPHQ
−AとPAP−八との和と等モルのTPAを仕込み、触
媒としてジメチルスズマレエートをコポリエステルアミ
ドの繰り返し単位1モルに対し4X10−’モル加え、
窒素雰囲気下、常圧、150℃で2時間混合しながら反
応させた。この反応物をさらに常圧下、250°Cで2
時間、さらに280℃で2時間反応させた。その後減圧
を開始し、順次昇温しで反応を行い、最終的に320°
Cまで温度を上げて1合計10時間溶融重合した。
得られたコポリエステルアミドは、〔η) 2.73゜
軟化点265℃、 LOI 57で1色調に優れた耐熱
難燃性ポリマーであった。
軟化点265℃、 LOI 57で1色調に優れた耐熱
難燃性ポリマーであった。
また、このコポリエステルアミドは5ザーモトロピ・ツ
ク液晶性を示し、第1図の赤外線吸収スペクトルを示し
た。
ク液晶性を示し、第1図の赤外線吸収スペクトルを示し
た。
元素分析の結果は、 C69,2%(理論値69.5
%)。
%)。
H3,39%(理論値3.40%)、P3.46%(理
論値3.11%)、N O,76%(理論値0.70%
)であった。
論値3.11%)、N O,76%(理論値0.70%
)であった。
実施例2〜4
実施イ多111において、 PIIQ−Aと411B八
−八とPAP−八とのモル比あるいはTPAとIPAと
のモル比を変更した以外は実施例1と同様にしてコポリ
エステルアミドを製造した。
−八とPAP−八とのモル比あるいはTPAとIPAと
のモル比を変更した以外は実施例1と同様にしてコポリ
エステルアミドを製造した。
実施例1〜4の原料の仕込みモル比と得られたコポリエ
ステルアミドの特性値をまとめて第1表に示す。
ステルアミドの特性値をまとめて第1表に示す。
第1表
実施例5
反応装置にPHQ、 4HBA、 PAP及び八C20
をモル比で2ニア:1:16とPHQとPAPの和と等
モルのTPAを仕込み、触媒としてジメチルスズマレエ
ートをコポリエステルアミドの繰り返し単位1モルに対
し4、X10−’モル加え5窒素雰囲気下、常圧、15
0°Cで2時間混合しながら反応させた。この反応物を
さらに常圧下、250°Cで2時間、さらに、280’
Cで2時間反応させた。その後、順次減圧、昇温して反
応を行い、最終的に320°Cまで温度を上げて1合計
10時間溶融重合した。
をモル比で2ニア:1:16とPHQとPAPの和と等
モルのTPAを仕込み、触媒としてジメチルスズマレエ
ートをコポリエステルアミドの繰り返し単位1モルに対
し4、X10−’モル加え5窒素雰囲気下、常圧、15
0°Cで2時間混合しながら反応させた。この反応物を
さらに常圧下、250°Cで2時間、さらに、280’
Cで2時間反応させた。その後、順次減圧、昇温して反
応を行い、最終的に320°Cまで温度を上げて1合計
10時間溶融重合した。
得られたコポリエステルアミドは5〔η) 2.8L軟
化点264°C,LOT 59で5色調に優れた面J熱
難燃性ポリマーであった。
化点264°C,LOT 59で5色調に優れた面J熱
難燃性ポリマーであった。
実施例6
反応装置にPHQ、4HBA、パラフェニレンジアミン
(PPD八)及びAC20をモル比で3:6:1:19
とPHQとPPDへの和と等モルのTP八へIP八へモ
ル上ヒ90/10)を仕込み、触媒としてジメチルスズ
マレエートをコポリエステルアミドの繰り返し単位1モ
ルに対し4X10−’モル加え、窒素雰囲気下、常圧、
150°Cで。
(PPD八)及びAC20をモル比で3:6:1:19
とPHQとPPDへの和と等モルのTP八へIP八へモ
ル上ヒ90/10)を仕込み、触媒としてジメチルスズ
マレエートをコポリエステルアミドの繰り返し単位1モ
ルに対し4X10−’モル加え、窒素雰囲気下、常圧、
150°Cで。
2時間混合しながら反応させた。この反応物をさらに減
圧下250℃で、2時間、さらに、280℃で2時間反
応させた。その後、順次減圧、昇温して反応を行い、最
終的に320℃まで温度を上げて。
圧下250℃で、2時間、さらに、280℃で2時間反
応させた。その後、順次減圧、昇温して反応を行い、最
終的に320℃まで温度を上げて。
合計10時間溶融重合した。
得られたコポリエステルアミドは、〔η〕2.12゜軟
化点280°c、 LOI 60で5色調に優れた耐熱
難燃また。このコポリエステルアミドば、サーモトロピ
ック液晶性を示し、第2図の赤外線吸収スペクトルを示
した。
化点280°c、 LOI 60で5色調に優れた耐熱
難燃また。このコポリエステルアミドば、サーモトロピ
ック液晶性を示し、第2図の赤外線吸収スペクトルを示
した。
実施例7
反応装置にPIIQ、4HBA、パラアミノ安息香酸及
びAc20をモル比て2:5:3:15とPHQと等モ
ルノTPAを仕込み、触媒としてジメチルスズマレエー
トをコポリエステルアミドの繰り返し単位1モルに対し
4X10−’モル加え、窒素雰囲気下、常圧、150°
Cで、2時間混合しながら反応させた。この反応物をさ
らに減圧下250’Cで、2時間、さらに。
びAc20をモル比て2:5:3:15とPHQと等モ
ルノTPAを仕込み、触媒としてジメチルスズマレエー
トをコポリエステルアミドの繰り返し単位1モルに対し
4X10−’モル加え、窒素雰囲気下、常圧、150°
Cで、2時間混合しながら反応させた。この反応物をさ
らに減圧下250’Cで、2時間、さらに。
280″Cで2時間反応させた。その後、順次減圧。
昇温して反応を行い、最終的に320℃まで温度を上げ
て3合計10時間溶融重合した。
て3合計10時間溶融重合した。
得られたコポリエステルアミドは、〔η) 1.89゜
軟化点283℃、 LOI 60で5色調に優れた耐熱
離燃性ポリマーであった。
軟化点283℃、 LOI 60で5色調に優れた耐熱
離燃性ポリマーであった。
また、このコポリエステルアミドは、サーモトロピック
液晶性を示し、第3図の赤外線吸収スペクトルを示した
。
液晶性を示し、第3図の赤外線吸収スペクトルを示した
。
実施例8
反応装置にPHQ、 ilQ、 PPDA、 4HBA
及びAc20をモル比で3:3:1:3:21とPHQ
、 HQ及びPPDAの和と等モルのTPA/TPA(
モル比60/40)を仕込み。
及びAc20をモル比で3:3:1:3:21とPHQ
、 HQ及びPPDAの和と等モルのTPA/TPA(
モル比60/40)を仕込み。
触媒としてジメチルスズマレエートをコポリエステルア
ミドの構成単位1モルに対し4X10−’モル加え、窒
素雰囲気下、常圧、150°Cで、2時間混合しながら
反応させた。この反応物をさらに、常圧下、250°C
で2時間、さらに、501−ルとして、260°Cで2
時間反応させた。この反応物を同化粉砕後。
ミドの構成単位1モルに対し4X10−’モル加え、窒
素雰囲気下、常圧、150°Cで、2時間混合しながら
反応させた。この反応物をさらに、常圧下、250°C
で2時間、さらに、501−ルとして、260°Cで2
時間反応させた。この反応物を同化粉砕後。
さらに、0.1トルの減圧下、150’Cより反応を始
め。
め。
順次昇温しで反応を行い、最終的に320’Cまて温度
を上げて1合計15時間同相重合した。
を上げて1合計15時間同相重合した。
得られたコポリエステルアミドは、〔η) 1.56゜
軟化点316℃、 LOI 60で1色調に優れた耐熱
難燃性ポリマーであった。
軟化点316℃、 LOI 60で1色調に優れた耐熱
難燃性ポリマーであった。
また、このコポリエステルアミドは、サーモトロピック
液晶性を示した。
液晶性を示した。
実施例9〜28
第2表に示したモル比のP)IQ、4HBA、PAP、
HQ、TP八及びIPAを使用して実施例5と同様に
してサーモトロピック液晶性コポリエステルアミドを製
造した。
HQ、TP八及びIPAを使用して実施例5と同様に
してサーモトロピック液晶性コポリエステルアミドを製
造した。
結果を第2表に示す。
第2表
実施例29〜3I
実施例6において、 PHQの代わりに他のリン化合物
を用いた以外は実施例6と同様にしてサーモトロピック
液晶性コポリエステルアミドを製造した。
を用いた以外は実施例6と同様にしてサーモトロピック
液晶性コポリエステルアミドを製造した。
結果を第3表に示す。
なお、第3表中におけるリン化合物(bL (C1,(
dlは、それぞれ前記構造式(b)、 (C)、 (d
)を有する有機リン化合物を示す。
dlは、それぞれ前記構造式(b)、 (C)、 (d
)を有する有機リン化合物を示す。
第3表
実施例32〜36
実施イ列1において、 PHQ−Aと旧(BA−AとP
AP−八とのモル比あるいはTPAとIP/lのモル比
を第4表のように変更した以外は実施例1と同様にして
非晶性コポリエステルアミドを得た。
AP−八とのモル比あるいはTPAとIP/lのモル比
を第4表のように変更した以外は実施例1と同様にして
非晶性コポリエステルアミドを得た。
結果を第4表に示す。
第4表
実施例37〜41
実施例Hにおいて、 PI+Q−Aと旧IBへ−へとP
AP−八とのモル比あるいはTPAとTPAのモル比を
第5表のように変更し、実施例8と同様な条件で重合し
て結晶性コポリエステルアミドを得た。
AP−八とのモル比あるいはTPAとTPAのモル比を
第5表のように変更し、実施例8と同様な条件で重合し
て結晶性コポリエステルアミドを得た。
結果を第5表に示す。
第5表
娼缶 仕込みモル比 極限軟化LOI例M
粘度点PHQ−八
4HB八−A PAP−八 (TPA/TP
A) ”C370,590,5(
10010) 1.35 398 5938 0
.5 8.5 1 (80/20) 1
.60 396 6039 0.8 8 1.
2 (10010) 1.33 381 58
比較例1〜2 実施例1において、 PHQ−Aと4HBA−4仕込み
モル比を99:1又は1:99とした以外は実施例1と
同様に実験したところ、前者では融点402°Cの結晶
性コポリエステルアミドとなり、融点以上に加熱しても
サーモトロピック液晶性を示さず、後者の場合、融点が
極めて高<450°Cから分解し始めて実質的に融点が
観測されず、溶融成形困難で実用に供し得ないものであ
った。
粘度点PHQ−八
4HB八−A PAP−八 (TPA/TP
A) ”C370,590,5(
10010) 1.35 398 5938 0
.5 8.5 1 (80/20) 1
.60 396 6039 0.8 8 1.
2 (10010) 1.33 381 58
比較例1〜2 実施例1において、 PHQ−Aと4HBA−4仕込み
モル比を99:1又は1:99とした以外は実施例1と
同様に実験したところ、前者では融点402°Cの結晶
性コポリエステルアミドとなり、融点以上に加熱しても
サーモトロピック液晶性を示さず、後者の場合、融点が
極めて高<450°Cから分解し始めて実質的に融点が
観測されず、溶融成形困難で実用に供し得ないものであ
った。
参考例
実施例1で得られたポリエステルを、直径0.151の
紡糸孔より、温度330°Cで吐出し、速度300m/
分で引取り、 750d/72fのコポリエステルアミ
ドフィラメントを得た。
紡糸孔より、温度330°Cで吐出し、速度300m/
分で引取り、 750d/72fのコポリエステルアミ
ドフィラメントを得た。
得られたフィラメントは、引張強度13.8g/d。
引張弾性率406g/dを示した。
(発明の効果)
本発明によれば3次のような耐熱性高分子として優れた
物性を有し、高度の耐熱性、難燃性を要求される用途に
使用されるフィルム、繊維その他の成形物として有用な
コポリエステルアミドが提供される。
物性を有し、高度の耐熱性、難燃性を要求される用途に
使用されるフィルム、繊維その他の成形物として有用な
コポリエステルアミドが提供される。
■側鎖に特定の含リン構造単位を有しているので。
高温で使用しても分解を起こさないだけでな(。
成形物としたときにも高度の難燃性を示す。
■主鎖が主として剛直な構成単位から構成されているの
で5異方性溶融相を生成し易く、耐熱性。
で5異方性溶融相を生成し易く、耐熱性。
成形性に優れている。
第1図、第2図及び第3図は、それぞれ実施例1、実施
例6及び実施例7で得られたコポリエステルアミドの赤
外線吸収スペクトルを示す。
例6及び実施例7で得られたコポリエステルアミドの赤
外線吸収スペクトルを示す。
Claims (2)
- (1)下記構造式[1]〜[4]で示される構成単位か
ら主としてなり、全繰り返し単位に対して、[1]が5
〜90モル%、[2]5〜90モル%、[3]が5〜5
0モル%を占め、[4]がバランス量で存在するランダ
ムコポリエステルアミドであって、極限粘度が0.5以
上である芳香族コポリエステルアミド。 ▲数式、化学式、表等があります▼[1] −O−Ar^2−CO−[2] −X−Ar^3−NH−[3] −OC−Ar^4−CO−[4] 〔Ar^1は3価の芳香族基、Ar^2、Ar^3及び
Ar^4は2価の芳香族基を示し、Xは−O−、−NH
−もしくは−OC−を示す。 ただし、芳香環及び−NH−の水素原子は置換基で置換
されていてもよい。〕 - (2)コポリエステルアミドがサーモトロピック液晶性
を示す組成を有するものである特許請求の範囲第1項記
載のコポリエステルアミド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17264586 | 1986-07-22 | ||
JP61-172645 | 1986-07-22 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63146927A true JPS63146927A (ja) | 1988-06-18 |
Family
ID=15945723
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12559287A Pending JPS63146927A (ja) | 1986-07-22 | 1987-05-22 | 芳香族コポリエステルアミド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63146927A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011208140A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-20 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶熱硬化性オリゴマーまたはポリマー、並びにこれを含む熱硬化性組成物および基板 |
JP2013185156A (ja) * | 2012-03-07 | 2013-09-19 | Samsung Fine Chemicals Co Ltd | 熱硬化性樹脂製造用組成物及びその硬化物、該硬化物を含むプリプレグ、並びに該プリプレグを用いた金属箔積層体及びプリント配線板 |
JP2014521801A (ja) * | 2011-08-04 | 2014-08-28 | サムスン ファイン ケミカルズ カンパニー リミテッド | 熱硬化性樹脂製造用組成物及びその硬化物、該硬化物を含むプリプレグ、及び該プリプレグを採用した金属箔積層板並びにプリント配線板 |
-
1987
- 1987-05-22 JP JP12559287A patent/JPS63146927A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011208140A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-20 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶熱硬化性オリゴマーまたはポリマー、並びにこれを含む熱硬化性組成物および基板 |
JP2014521801A (ja) * | 2011-08-04 | 2014-08-28 | サムスン ファイン ケミカルズ カンパニー リミテッド | 熱硬化性樹脂製造用組成物及びその硬化物、該硬化物を含むプリプレグ、及び該プリプレグを採用した金属箔積層板並びにプリント配線板 |
JP2013185156A (ja) * | 2012-03-07 | 2013-09-19 | Samsung Fine Chemicals Co Ltd | 熱硬化性樹脂製造用組成物及びその硬化物、該硬化物を含むプリプレグ、並びに該プリプレグを用いた金属箔積層体及びプリント配線板 |
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