JPS63140494A - Nonvolatile semiconductor storage device - Google Patents
Nonvolatile semiconductor storage deviceInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、電気的に消去・書込み可能な不揮発性半導
体記憶装置(EEFROM>に関し、特にそのプログラ
ム手段の改良に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an electrically erasable and programmable nonvolatile semiconductor memory device (EEFROM), and particularly relates to an improvement in its programming means.
EEPROMのメモリセルに書込みを行うためには、チ
ップ内部で15〜20Vの高圧パルス(VPPパルス)
を発生し、このV□パルスをメモリトランジスタのコン
トロールゲートもしくはドレインに印加することにより
、フローティングゲートに電子を注入したり、フローテ
ィングゲートから電子を消去したりして行う。コントロ
ールゲートにVPPパルスを印加し、フローティングゲ
ートに電子を注入するとメモリトランジスタのしきい値
は高い方にシフトする。To write to EEPROM memory cells, a high voltage pulse of 15 to 20V (VPP pulse) is applied inside the chip.
By generating this V□ pulse and applying it to the control gate or drain of the memory transistor, electrons are injected into the floating gate or erased from the floating gate. When a VPP pulse is applied to the control gate and electrons are injected into the floating gate, the threshold value of the memory transistor is shifted to a higher side.
この動作を消去とよび、情報“1”が記憶される。ドレ
インにvppパルスを印加し、フローティングゲートか
ら電子を除去するとメモリトランジスタのしきい値は低
い方にシフトする。この動作をプログラムとよび、情報
“0”が記憶される。This operation is called erasing, and information "1" is stored. When a vpp pulse is applied to the drain and electrons are removed from the floating gate, the threshold value of the memory transistor is shifted lower. This operation is called a program, and information "0" is stored.
1バイトのメモリセルのメモリトランジスタのコントロ
ールゲートは共通接続されているので、まず消去が行わ
れ、全てのビットに“1”が書込まれた後、情報“O′
を書き込むべきビットにプログラム動作を行う。■□パ
ルスの幅は通常1ミリ秒ないし数ミリ秒であるので、1
バイトにデータを書込むためには10ミリ秒程度を要し
、このため、チップ全体にデータを書込むためには非常
に長い時間を必要とする。そのため、64にビット以上
の高集積EEFROMでは同一ワード線上の複数バイト
について一括書込みを行うページモードという機能が備
えられている。Since the control gates of the memory transistors of 1-byte memory cells are commonly connected, erasing is performed first, and after "1" is written to all bits, the information "O'
Perform a program operation on the bit to be written. ■□The width of the pulse is usually 1 millisecond to several milliseconds, so 1
It takes about 10 milliseconds to write data to a byte, so it takes a very long time to write data to the entire chip. Therefore, highly integrated EEFROMs with 64 bits or more are provided with a page mode function in which multiple bytes on the same word line are written at once.
第3図にこのページモード書込みサイクルの簡単な流れ
図を示す。A simple flow diagram of this page mode write cycle is shown in FIG.
ページモード書込みでは、書込みサイクルは外部書込み
サイクルCYIと内部書込みサイクルCY2とに分けら
れる。In page mode writing, the write cycle is divided into an external write cycle CYI and an internal write cycle CY2.
外部書込みサイクルCYIは、外部からデバイスにデー
タを書込むサイクルであり、スタティックRAMに書込
むのと同様な方法でアドレス指定を行い、データを入力
する。しかし、このサイクルでは、入力されたデータは
メモリセルに直接書込まれるのではなく、各ビット線、
コントロールゲート線に設けられたランチ(コラムラッ
チ)に一旦とり込まれる。このサイクルの継続する期間
はタイマTにより制御されている。The external write cycle CYI is a cycle for writing data into the device from the outside, and performs addressing and inputting data in a manner similar to writing to static RAM. However, in this cycle, the input data is not written directly to the memory cell, but rather to each bit line.
It is once taken into a launch (column latch) provided on the control gate line. The duration of this cycle is controlled by timer T.
外部書込みサイクルが終了すると自動的に内部書込みサ
イクルに移る。このサイクルCY2では、記憶装置内部
でチャージポンプ回路等を用いて高圧パルスが発生され
、コラムラッチにラッチされているデータをもとに、ビ
ット線、コントロールゲート線が高圧に昇圧され、メモ
リセルの消去、プログラムが行われる。まず消去が、1
ページのうち書換えたいバイトについて行われ、次に“
0”を書込むべきビットにプログラムが行われる。When the external write cycle ends, the process automatically moves to the internal write cycle. In this cycle CY2, a high voltage pulse is generated inside the memory device using a charge pump circuit, etc., and the bit line and control gate line are boosted to high voltage based on the data latched in the column latch, and the memory cell is Erasing and programming are performed. First, the deletion is 1
This is done for the byte of the page that you want to rewrite, and then “
The bits to be written with 0'' are programmed.
コラムラッチの従来例を第4図に、そのタイミングチャ
ートを第5図に示す。ビット線のコラムランチ(ビット
線を昇圧する高圧スイッチに組込まれている)20は、
第1〜第4のMOS)ランジスタ1〜4、第1.第2の
容量C1,C2から構、成されている。コントロールゲ
ート線(以下CG線と称す)のコラムラフチ3゛0は、
第1〜第4のMOS)ランジスタ5〜8、第1.第2の
容量C3,C4から構成されている。コラムラッチ20
.30とビット線16.コントロールゲート線17の間
にはトランスフアゲ−)9.10が設けられており、そ
のゲートにはクロックφが接続されている。A conventional example of a column latch is shown in FIG. 4, and its timing chart is shown in FIG. The bit line column launch (built into the high voltage switch that boosts the bit line) 20 is
1st to 4th MOS) transistors 1 to 4, 1st. It is composed of second capacitors C1 and C2. The column ruff 3'0 of the control gate line (hereinafter referred to as CG line) is
1st to 4th MOS) transistors 5 to 8, 1st to 4th MOS) It is composed of second capacitors C3 and C4. column latch 20
.. 30 and bit line 16. Transfer gates 9 and 10 are provided between the control gate lines 17, and a clock φ is connected to their gates.
なお40はXデコーダ、50はYデコーダ、70はメモ
リセルトランジスタ71及びトランスファゲート72か
らなるメモリセル11はCG線、12はI10&i、1
34:!Yゲ−)線、14,15゜61はトランスファ
ゲートである。Note that 40 is an X decoder, 50 is a Y decoder, 70 is a memory cell 11 consisting of a memory cell transistor 71 and a transfer gate 72, which is a CG line, 12 is I10&i, 1
34:! Y gate) lines 14 and 15°61 are transfer gates.
次に、第4図ないし第5図を参照して従来のコラムラッ
チの具体的な動作について説明する。電源投入時及び書
込サイクル終了時において、第1のリセット信号aがト
ランジスタ4のゲートに与えられるとともに、第2のリ
セット信号すがトランジスタ8のゲートに与えられる。Next, the specific operation of the conventional column latch will be explained with reference to FIGS. 4 and 5. At power-on and at the end of a write cycle, a first reset signal a is applied to the gate of transistor 4, and a second reset signal a is applied to the gate of transistor 8.
このリセット信号aおよびbに応じてトランジスタ4お
よび8がそれぞれ導通し、容量C2およびC4にそれぞ
れ蓄積されていた電荷が放電され、コラムラッチがリセ
ットされる。Transistors 4 and 8 are rendered conductive in response to reset signals a and b, respectively, the charges stored in capacitors C2 and C4 are discharged, and the column latch is reset.
外部書込サイクルが始まると、CG線11は第5図gに
示すように、′H″レベルに保たれ、l10vA12の
電位は入力データの“1゛、“0″に応じて、“L”、
“H”と変化する。第5図においては、入力データとし
て“0”が入力され、dに示すようにI10線12が“
H”になった状態を示している。成るYアドレスの組合
わせに対して、1本のYゲート線13が第5図gに示す
ようにH”となり、Yゲー)14.15がそれぞれ導通
する。それによって、l10vA12と選択されたバイ
トのビット線16とが接続されるとともに、CG線11
とコントロールゲート線17とが接続される。When the external write cycle starts, the CG line 11 is kept at the 'H' level as shown in FIG. ,
Changes to “H”. In FIG. 5, "0" is input as input data, and the I10 line 12 is "
For a combination of Y addresses, one Y gate line 13 becomes H" as shown in Figure 5g, and Y gates 14 and 15 are respectively conductive. do. As a result, l10vA12 and the bit line 16 of the selected byte are connected, and the CG line 11
and control gate line 17 are connected.
コントロールゲー)vA17が第5図fに示すように、
“H゛となり、ビット線16が第5図gに示すように、
入力データがO゛のとき、“H”レベルになる。外部書
込サイクルの間、クロック信号は第5図りに示すように
、“H”レベルに保たれ、その結果、トランジスタ9.
10が導通する。それによって、ビット線16およびコ
ントロールゲート線17のそれぞれの電位は容1tc2
゜C4に蓄積される。Control game) vA17 as shown in Figure 5f,
becomes “H”, and the bit line 16 becomes “H” as shown in FIG. 5g.
When the input data is O, it becomes "H" level. During the external write cycle, the clock signal is held at the "H" level, as shown in Figure 5, so that transistors 9.
10 is conductive. As a result, the potential of each of the bit line 16 and control gate line 17 increases to a capacity 1tc2.
It is stored in °C4.
外部書込サイクルが終了すると、消去サイクルに入る。When the external write cycle ends, an erase cycle begins.
消去サイクルでは、高電圧V□が第5図iに示すように
、20Vまで立上がり、第5図jに示すように、クロッ
ク信号φ2の発振が始まる。In the erase cycle, the high voltage V□ rises to 20V as shown in FIG. 5i, and the clock signal φ2 begins to oscillate as shown in FIG. 5j.
また、クロック信号も第5図kに示すように、20vま
で立上がる。Further, the clock signal also rises to 20V, as shown in FIG. 5k.
選択されたバイトのコントロールゲート線17はトラン
ジスタ7のゲート電位が“H”であるため導通し、クロ
ック信号φ2が容量C3を介してトランジスタ5のソー
スに与えられる。それによって、トランジスタ5.6が
導通し、コントロールゲート線17は第5図mに示すよ
うに、高電圧V□に立上がる。The control gate line 17 of the selected byte is rendered conductive because the gate potential of the transistor 7 is "H", and the clock signal φ2 is applied to the source of the transistor 5 via the capacitor C3. As a result, the transistor 5.6 becomes conductive, and the control gate line 17 rises to a high voltage V□, as shown in FIG. 5m.
消去サイクルが終了すると、第2のリセット信号が第5
図mに示すように、“H゛レベルなり、それによってト
ランジスタ8が導通ずる。すると、容量C4に蓄積され
ていた電荷が放電され、コントロールゲート線17のラ
ッチがリセットされ、次のプログラムサイクルの間、コ
ントロールゲート線17は第5図Oに示すように、′L
″レベルに保たれる。When the erase cycle is finished, the second reset signal
As shown in FIG. During this period, the control gate line 17 is connected to 'L' as shown in FIG.
″ level.
プログラムサイクルでは、第5図pに示すように、クロ
ック信号φ1の発振が始まり、容ICIを介してトラン
ジスタ2もオンする。その結果、第5図qに示すように
、高電圧V□が立上がり、クロック信号も第5図rに示
すように高電圧に立上がる。その結果、第5図3に示す
ように、′0″を書込みたいビットのビット線16が高
電圧に立ち上がる。プログラムが終了すると、第5図t
に示すように、第1のリセット信号が“H”になり、ト
ランジスタ4が導通して、容量C2に蓄積されていた電
荷が放電され、コラムラッチがリセットされる。In the program cycle, as shown in FIG. 5P, the clock signal φ1 starts to oscillate, and the transistor 2 is also turned on via the capacitor ICI. As a result, the high voltage V□ rises as shown in FIG. 5q, and the clock signal also rises to a high voltage as shown in FIG. 5r. As a result, as shown in FIG. 5, the bit line 16 of the bit to which '0'' is to be written rises to a high voltage.
As shown in FIG. 2, the first reset signal becomes "H", the transistor 4 becomes conductive, the charge accumulated in the capacitor C2 is discharged, and the column latch is reset.
従来の不揮発性半導体記憶装置は以上のように構成され
ており、Yゲートが開くと、そのYアドレスのコラムラ
ンチにデータが書込まれてしまうので、アドレス人力の
ビットにタイミングのずれ、所謂スキューがあった場合
、誤書込みをする恐れがあった。また、内部書込みサイ
クル時は、Yアドレスバッフ1の動作が禁止され、Yア
ドレスバッファの出力は、ある定められた値となるので
、このYアドレスに誤って書込む恐れがあった。Conventional non-volatile semiconductor memory devices are configured as described above, and when the Y gate opens, data is written to the column launch of that Y address, resulting in a timing shift or so-called skew in the address bit. If there was, there was a risk of writing errors. Furthermore, during the internal write cycle, the operation of the Y address buffer 1 is prohibited and the output of the Y address buffer becomes a certain predetermined value, so there is a risk of erroneous writing to this Y address.
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、外部書込みサイクル及び内部書込みサイクル
を通じて誤書込みの恐れのない不揮発性半導体記憶装置
を得ることを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to obtain a nonvolatile semiconductor memory device that is free from the possibility of erroneous writing during external write cycles and internal write cycles.
この発明に係る不揮発性半導体記憶装置は、書込み時に
WE倍信号応じてYデコーダを活性化し、内部書込みサ
イクルにてYデコーダを不活性化するようにしたもので
ある。The nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention activates the Y decoder in response to the WE multiplication signal during writing, and deactivates the Y decoder during the internal write cycle.
この発明においては、Yデコーダは、WE倍信号“L″
の間入力アドレスに応じて1本のYゲート線を“H”レ
ベルにし、内部書込みサイクル時は、すべてのYゲート
線に“L”を出力するから、外部書込みサイクルにおけ
るアドレス入力のスキニーによる誤書込み及び内部書込
みサイクルにお〜
ける、不活性状態のYアドレスバッファにより決まるア
ドレスへの誤書込みが防止される。In this invention, the Y decoder has a WE multiplied signal “L”
During the internal write cycle, one Y gate line is set to "H" level according to the input address, and "L" is output to all Y gate lines during the internal write cycle, so errors caused by skinny address input during the external write cycle are avoided. During write and internal write cycles, erroneous writes to addresses determined by the inactive Y address buffer are prevented.
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図は本発明の一実施例による不揮発性半導体記憶装置の
Yデコーダ(コラムデコーダ)回路の回路図であり、Y
o 、 Yo 、・・・Y、、Y丁はYアドレスバッフ
ァの出力信号である。図において、60はYデコーダで
あり、誤デコーダにおいて、18はNANDゲート、1
9はインバータである。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1st
The figure is a circuit diagram of a Y decoder (column decoder) circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
o, Yo, . . . Y, , Yd are output signals of the Y address buffer. In the figure, 60 is a Y decoder, and in the erroneous decoder, 18 is a NAND gate, 1
9 is an inverter.
また70はYデコーダ制御回路であり、誤回路70にお
いて20aはタイマ出力及びWE倍信号入力される2人
力NANDゲート、21aはプリデコード信号、R/B
信号ならびにNANDゲート20aの出力が入力される
3人力NANDゲートであり、該NANDゲート21a
の出力はYゲート線にドレインが接続されているトラン
ジスタ22のゲートならびにインバータ23に接続され
る。またインバータ23の出力はインバータ19のPチ
ャネルMOS)ランジスタのソースに接続されている。Further, 70 is a Y decoder control circuit, and in the error circuit 70, 20a is a two-man NAND gate to which the timer output and WE multiplied signal are input, 21a is a predecode signal, and R/B
It is a three-man powered NAND gate into which signals and the output of the NAND gate 20a are input, and the NAND gate 21a
The output of is connected to the gate of a transistor 22 whose drain is connected to the Y gate line and to an inverter 23. Further, the output of the inverter 23 is connected to the source of the P-channel MOS transistor of the inverter 19.
プリデコード信号は、これも一種のデコーダの出力であ
り、メモリアレイを複数のプロックに分割して構成した
場合にブロックを選択するための信号である。 R/
B (Ready/Busy)信号は、内部書込みサイ
クルの間”L”となる信号、タイマは外部書込みサイク
ルの期間を決定するためのものである。The predecode signal is also a type of decoder output, and is a signal for selecting a block when the memory array is divided into a plurality of blocks. R/
The B (Ready/Busy) signal is a signal that is "L" during the internal write cycle, and the timer is for determining the period of the external write cycle.
第2図に各クロックのタイミングならびに、Yゲート廁
電位を示す、WE倍信号“L”になるとタイマが起動さ
れ外部書込みサイクルに入る。タイマ出力が“H”にな
るとWE倍信号“L”の期間だけNANDゲート20a
の出力がH1となる。この期間R/B/号は“H”であ
るので、ブロックが選択されプリデコード信号が“H”
になるとNANDゲート21aは“L”を出力しYデコ
ーダを活性化する(インバータ19のPチャネルMO3
)ランジスタのソースに電圧を与える)。FIG. 2 shows the timing of each clock and the potential of the Y gate. When the WE multiplication signal becomes "L", the timer is activated and an external write cycle begins. When the timer output becomes “H”, the NAND gate 20a is activated only during the period of the WE multiplication signal “L”.
The output becomes H1. During this period, the R/B/ signal is “H”, so the block is selected and the predecode signal is “H”.
When this happens, the NAND gate 21a outputs “L” and activates the Y decoder (the P channel MO3 of the inverter 19
) gives voltage to the source of the transistor).
即ち、外部書込みサイクルの期間においてスキューの恐
れのない、WE倍信号1L”の期間のみYデコーダは活
性化されるので、目的とする1本のYゲート線のみが“
H″となり誤書込みが防止される。また内部書込みサイ
クルに入ると、R/百倍信号“L”となり、NANDゲ
ート21aの出力が“H″となるのでYデコーダは不活
性となり、全てのYゲート線が“L”となるのでYアド
レスバッファにより決まる誤ったアドレスへの書込みが
防止される。That is, since the Y decoder is activated only during the period of the WE multiplication signal 1L, which has no risk of skew during the external write cycle, only one target Y gate line is activated.
When the internal write cycle starts, the R/100x signal becomes "L" and the output of the NAND gate 21a becomes "H", so the Y decoder becomes inactive and all Y gates Since the line becomes "L", writing to an incorrect address determined by the Y address buffer is prevented.
なお第6図に示す本発明の他の実施例のようにR/B/
号が入力されるトランスファゲート24゜トランジスタ
25を設けてもよく、上記実施例と同様の効果が得られ
る。Note that as in another embodiment of the present invention shown in FIG.
A transfer gate 24° transistor 25 to which the signal is input may be provided, and the same effect as in the above embodiment can be obtained.
なお、R/百倍信号、外部ピンに出力される信号であっ
てもよいが、内部書込みサイクルの期間“Llになる信
号ならばいかなるものを用いてもよい。Note that the R/100 times signal or a signal output to an external pin may be used, but any signal that becomes "Ll" during the internal write cycle may be used.
以上のように、この発明に係る不揮発性半導体記憶装置
によれば、外部書込みサイクルに、WE倍信号応じてY
デコーダを活性化し、内部書込みサイクルにてYデコー
ダを不活性化するように構成したので、誤書込みの恐れ
のないEEPROMを得ることができるという効果があ
る。As described above, according to the nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, in an external write cycle, Y
Since the decoder is activated and the Y decoder is deactivated during the internal write cycle, it is possible to obtain an EEPROM without the risk of erroneous writing.
第1図は本発明の一実施例による不揮発性半導体記憶装
置を示す図、第2図は本発明のタイミングチャート図、
第3図は、EEPROMの書込みサイクルを示す図、第
4図は従来のコラムラッチを示す図、第5図は、従来例
のタイミングダイアグラム図、第6図は、本発明の他の
実施例を示す図である。
図において、60はYデコーダ、70はYデコーダ制御
回路、18はNANDゲート、19はインバータ、20
a、21aはNANDゲート、22はトランジスタ、2
3はインバータ、24はトランスファゲート、25はト
ランジスタである。FIG. 1 is a diagram showing a nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a timing chart diagram of the present invention,
FIG. 3 is a diagram showing a write cycle of an EEPROM, FIG. 4 is a diagram showing a conventional column latch, FIG. 5 is a timing diagram of the conventional example, and FIG. 6 is a diagram showing another embodiment of the present invention. FIG. In the figure, 60 is a Y decoder, 70 is a Y decoder control circuit, 18 is a NAND gate, 19 is an inverter, 20
a, 21a is a NAND gate, 22 is a transistor, 2
3 is an inverter, 24 is a transfer gate, and 25 is a transistor.
Claims (1)
込みサイクルからなる、ページモード書込み方式の不揮
発性半導体記憶装置において、上記外部書込みサイクル
の期間内でライトイネーブル信号がアクティブの期間に
活性化され上記内部書込みサイクルの期間には不活性と
なるようにYデコーダを制御するYデコーダ制御回路を
備えたことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。(1) In a page mode write nonvolatile semiconductor memory device in which a write cycle consists of an external write cycle and an internal write cycle, the write enable signal is activated during the active period of the external write cycle, and the internal write 1. A nonvolatile semiconductor memory device comprising a Y-decoder control circuit that controls a Y-decoder to be inactive during a cycle.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61241063A JPS63140494A (en) | 1986-10-08 | 1986-10-08 | Nonvolatile semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61241063A JPS63140494A (en) | 1986-10-08 | 1986-10-08 | Nonvolatile semiconductor storage device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63140494A true JPS63140494A (en) | 1988-06-13 |
Family
ID=17068745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61241063A Pending JPS63140494A (en) | 1986-10-08 | 1986-10-08 | Nonvolatile semiconductor storage device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63140494A (en) |
-
1986
- 1986-10-08 JP JP61241063A patent/JPS63140494A/en active Pending
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