JPS63135358A - 3‐第三ブチル‐ あるいは 3‐ 第三ブチル‐5‐ アルキル‐4‐ ヒドロキシフエニル‐(アルカン)‐ カルボン酸とビス‐(4‐あるは2‐ヒドロキシフエニル)‐アルカン類、‐オキシド類、‐スルフイド類および‐ スルホン類の、トリス‐(4‐ヒドロキシフエニル) ‐ アルカンのおよび1,3,5‐トリス‐(4‐ヒドロキシフエニル‐イソプロピリデン)‐アリーレンのオキシエチラートとのエステル、その製造方法および安定剤としてのその用途 - Google Patents
3‐第三ブチル‐ あるいは 3‐ 第三ブチル‐5‐ アルキル‐4‐ ヒドロキシフエニル‐(アルカン)‐ カルボン酸とビス‐(4‐あるは2‐ヒドロキシフエニル)‐アルカン類、‐オキシド類、‐スルフイド類および‐ スルホン類の、トリス‐(4‐ヒドロキシフエニル) ‐ アルカンのおよび1,3,5‐トリス‐(4‐ヒドロキシフエニル‐イソプロピリデン)‐アリーレンのオキシエチラートとのエステル、その製造方法および安定剤としてのその用途Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/13—Phenols; Phenolates
- C08K5/134—Phenols containing ester groups
- C08K5/1345—Carboxylic esters of phenolcarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/005—Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
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- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の対象は、式I
(CH,)。C0OH
〔式中、R1は−C(CH3)!であり、R2はH1炭
素原子数1〜4のアルキル基、殊に−C(C1h)!で
あり、 mはO〜4、殊に2である。] で表される3−第三プチル−あるいは3−第三プチル−
5−アルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)
カルボン酸と 下記式Hのビス−(4−あるいは2−ヒドロキシフェニ
ル)−アルカン類、−オキシド類、スルフィド類および
一スルホン類のオキシエチラート、殊にビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−アルカン類、−オキシド類、スル
フィド類およびスルホン類のオキシエチラート、下記式
maのトリス−(4−ヒドロキフェニル)−アルカン類
のオキシエチラートまたは下記式I[[bの1.3.5
−トリス−(4−ヒドロキシフェニル−イソプロピリデ
ン)−アリーレンのオキシエチラート: (u) (I[[a)CH3
−C−CH3 OH (II[b) 〔式■、II[aおよびmb中、Aは−CRsRn−、
炭素原子数2〜12のアルカンジイル−1−〇−1−O
CHzCHJ−1−5−.5CIbCHzS−、−5O
z−1−so□cH,CHzSO,−、ビス−イソプロ
ピリデン−アリール残基(はヌ′1.4−あるいは1.
3−ビス−1−メチル−エチルアリール残基)であり、 R1、R4はH1炭素原子数1〜8アルキル基、アリー
ル基、4−((4−ヒドロキシフェニル)−イソプロピ
リデン〕−フェニル(はX゛4(1−(4−ヒドロキシ
フェニル)−1−メチルエチル]−フェニル基)、炭素
原子数5〜12のシクロアルキル基、殊にアルキル基で
あり、但しR3およびR4はR6およびR6が11であ
る場合にはCH,ではなく、 その際、R3、R4がアルキル基であればこれら置換基
は閉環して場合によってはアルキル置換された炭素原子
数12以下の環を形成してもよく(即ち、−CR,R4
−= シクロアルキリデン基)、 Rs、 RhはH1炭素原子数1〜4のアルキル基、炭
素原子数5〜12のシクロアルキル基、炭素原子数1〜
4のアルコキシ基、殊にHであり、 その際R%、れが式■において11でない場合には両方
の置換基はフェノール性水酸基に対して0−あるいはO
o−位に位置してはならず、 R1はH1炭素原子数1〜8のアルキル基である、] □オキシエチレラートは最高3つのアルキレンオキサイ
ド単位、殊にエチレンオキサイド単位を含有していても
よい□との新規のエステル、その製造方法および有機系
重合体、殊にポリオレフィンおよびポリジエン、特にポ
リエチレンおよびポリプロピレンの安定化にこのエステ
ルを用いることに関する。
素原子数1〜4のアルキル基、殊に−C(C1h)!で
あり、 mはO〜4、殊に2である。] で表される3−第三プチル−あるいは3−第三プチル−
5−アルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)
カルボン酸と 下記式Hのビス−(4−あるいは2−ヒドロキシフェニ
ル)−アルカン類、−オキシド類、スルフィド類および
一スルホン類のオキシエチラート、殊にビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−アルカン類、−オキシド類、スル
フィド類およびスルホン類のオキシエチラート、下記式
maのトリス−(4−ヒドロキフェニル)−アルカン類
のオキシエチラートまたは下記式I[[bの1.3.5
−トリス−(4−ヒドロキシフェニル−イソプロピリデ
ン)−アリーレンのオキシエチラート: (u) (I[[a)CH3
−C−CH3 OH (II[b) 〔式■、II[aおよびmb中、Aは−CRsRn−、
炭素原子数2〜12のアルカンジイル−1−〇−1−O
CHzCHJ−1−5−.5CIbCHzS−、−5O
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ピリデン−アリール残基(はヌ′1.4−あるいは1.
3−ビス−1−メチル−エチルアリール残基)であり、 R1、R4はH1炭素原子数1〜8アルキル基、アリー
ル基、4−((4−ヒドロキシフェニル)−イソプロピ
リデン〕−フェニル(はX゛4(1−(4−ヒドロキシ
フェニル)−1−メチルエチル]−フェニル基)、炭素
原子数5〜12のシクロアルキル基、殊にアルキル基で
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は閉環して場合によってはアルキル置換された炭素原子
数12以下の環を形成してもよく(即ち、−CR,R4
−= シクロアルキリデン基)、 Rs、 RhはH1炭素原子数1〜4のアルキル基、炭
素原子数5〜12のシクロアルキル基、炭素原子数1〜
4のアルコキシ基、殊にHであり、 その際R%、れが式■において11でない場合には両方
の置換基はフェノール性水酸基に対して0−あるいはO
o−位に位置してはならず、 R1はH1炭素原子数1〜8のアルキル基である、] □オキシエチレラートは最高3つのアルキレンオキサイ
ド単位、殊にエチレンオキサイド単位を含有していても
よい□との新規のエステル、その製造方法および有機系
重合体、殊にポリオレフィンおよびポリジエン、特にポ
リエチレンおよびポリプロピレンの安定化にこのエステ
ルを用いることに関する。
場合によっては官能性の基を含有するモノ−およびジ−
オレフィンを重合(または共重合)することによってま
たは適当な前駆体の重縮合□例えばジオール類とジカル
ボン酸との重縮合□によって得られる如き有機系重合体
が、熱、光または高エネルギー輻射線によって、強度、
硬度および伸び率の如き重合体の重要な工業的な性質に
害を及ぼし変化を受は得ることは公知である。この種の
害によってしばしば、測定可能な物理的な性質の明白な
変化が生じるだけでなく視覚的に認めることのできる成
形体の軟化、脆弱化および/または変色がもたらされる
。この理由から相応する重合体に加工前に安定剤が添加
される。詳細はG 、 Sco t tにより”Atm
ospheric 0xidation and An
tioxidants”、Elsveier Publ
、Co、 、アムステルダム、オックスホード、ニュー
ヨーク(1965); R,Gaechter。
オレフィンを重合(または共重合)することによってま
たは適当な前駆体の重縮合□例えばジオール類とジカル
ボン酸との重縮合□によって得られる如き有機系重合体
が、熱、光または高エネルギー輻射線によって、強度、
硬度および伸び率の如き重合体の重要な工業的な性質に
害を及ぼし変化を受は得ることは公知である。この種の
害によってしばしば、測定可能な物理的な性質の明白な
変化が生じるだけでなく視覚的に認めることのできる成
形体の軟化、脆弱化および/または変色がもたらされる
。この理由から相応する重合体に加工前に安定剤が添加
される。詳細はG 、 Sco t tにより”Atm
ospheric 0xidation and An
tioxidants”、Elsveier Publ
、Co、 、アムステルダム、オックスホード、ニュー
ヨーク(1965); R,Gaechter。
11、Mueller S”Ta5chenbuch
der Kunststoff−Additive’
、C0)lanser−Verlag 、 ミュンヘン
/ウィーン(1979): J、Po5pisil、“
Degradation andStabilizat
ion of Polymers“、(出版者:HlJ
ellinek) 、Elsveier、アムステルダ
ム、オックスホード、ニューヨーク(1983)、第1
93頁以降; P、P、に1en+chuk等、”Po
lymer Degradationand 5tab
ilization”、7 (1984)第131頁以
降の要約論文に記載されている。
der Kunststoff−Additive’
、C0)lanser−Verlag 、 ミュンヘン
/ウィーン(1979): J、Po5pisil、“
Degradation andStabilizat
ion of Polymers“、(出版者:HlJ
ellinek) 、Elsveier、アムステルダ
ム、オックスホード、ニューヨーク(1983)、第1
93頁以降; P、P、に1en+chuk等、”Po
lymer Degradationand 5tab
ilization”、7 (1984)第131頁以
降の要約論文に記載されている。
ポリオレフィンにおいては安定剤としてフェノール性水
酸基含有化合物を用いることが有利であることおよびか
−るフェノール系誘導体の中にはフェノール性水酸基に
対して少なくとも一つのオルト位に嵩張ったアルキル基
、殊に第三ブチル基を持つ物質が特に良好な効果を示す
ことが公知である。記載された多数の安定剤(例えば、
J、C,Johnson+ ”Antioxidant
s”Noyes Data Corp、1975HM、
W、Raa+sey、、”Antioxidants−
Recent Developments”、 Noy
es Data Corp、+1979;M、T、G1
1lies、“5tabi−1izers of 5y
nthetic Re5ins”、Noyes Dat
a Corp、、 Park Ridge、ニューシャ
ーシー州、1983)の中にはエステルも認められる。
酸基含有化合物を用いることが有利であることおよびか
−るフェノール系誘導体の中にはフェノール性水酸基に
対して少なくとも一つのオルト位に嵩張ったアルキル基
、殊に第三ブチル基を持つ物質が特に良好な効果を示す
ことが公知である。記載された多数の安定剤(例えば、
J、C,Johnson+ ”Antioxidant
s”Noyes Data Corp、1975HM、
W、Raa+sey、、”Antioxidants−
Recent Developments”、 Noy
es Data Corp、+1979;M、T、G1
1lies、“5tabi−1izers of 5y
nthetic Re5ins”、Noyes Dat
a Corp、、 Park Ridge、ニューシャ
ーシー州、1983)の中にはエステルも認められる。
3.5−ジアルキル−4−ヒドロキシ−フェニル−(ア
ルカン)カルボン酸のエステルは、例えば米国特許第3
.681,431号明細書、同第3,330,859号
明細書、同第3,644,482号明細書、同第3,2
85,855号明細書に、4.6−ジアルキル−3−ヒ
ドロキシフェニル−(アルカン)カルボン酸のエステル
は米国特許第3.988,363号明細書、同第3,8
62.130号明細書にそして2−メチル−4−第三ブ
チル−5−ヒドロキシ−フェニルアルカン−カルボン酸
のエステルはヨーロッパ特許第48.841号明細書に
記載されている。
ルカン)カルボン酸のエステルは、例えば米国特許第3
.681,431号明細書、同第3,330,859号
明細書、同第3,644,482号明細書、同第3,2
85,855号明細書に、4.6−ジアルキル−3−ヒ
ドロキシフェニル−(アルカン)カルボン酸のエステル
は米国特許第3.988,363号明細書、同第3,8
62.130号明細書にそして2−メチル−4−第三ブ
チル−5−ヒドロキシ−フェニルアルカン−カルボン酸
のエステルはヨーロッパ特許第48.841号明細書に
記載されている。
フェノール系安定剤の能力は、大抵は硫黄またはリンを
含有している特定の化合物を添加することによって更に
向上される。安定剤と協力剤との最適な量比は個々の場
合に常に実験的に決めることができる。安定剤にとって
もまた協力剤にとっても、これらを難無く且つ分解する
ことなく種々の重合体中に混入することおよびその中に
出来るだけ均一に分布させるのが妥当である。他方にお
いては、重合体は必要とされる高い混入温度のもとて添
加物によって変色するベキでなくまた温度−および剪断
力によって分子量が分解されるべきでない。
含有している特定の化合物を添加することによって更に
向上される。安定剤と協力剤との最適な量比は個々の場
合に常に実験的に決めることができる。安定剤にとって
もまた協力剤にとっても、これらを難無く且つ分解する
ことなく種々の重合体中に混入することおよびその中に
出来るだけ均一に分布させるのが妥当である。他方にお
いては、重合体は必要とされる高い混入温度のもとて添
加物によって変色するベキでなくまた温度−および剪断
力によって分子量が分解されるべきでない。
文献から、安定剤として用いられそして立体障害性ヒド
ロキシフェニル基の他に協力作用をする硫黄原子を同一
分子中に含有している種々の化合物が公知である(例え
ばl?、W、Layer、’NNon−5tainin
Antioxidants’(G、5cottの”D
evelopments in Polymer 5t
abilization’ 4(1981) 、第16
3頁以降、第167頁); F、X、O°5hea、
八dvances Chem、 5eries’8
5 (1968) 、、 第 128頁以降:
G、5cottの”Developments in
Polymer 5tabilization”6(1
983)、第29頁以降参照)、殊にオルト−チオビス
フェノールの誘導体は著しく変色する傾向があり、確か
にゴム混合物の安定化にのみ用いることができる。
ロキシフェニル基の他に協力作用をする硫黄原子を同一
分子中に含有している種々の化合物が公知である(例え
ばl?、W、Layer、’NNon−5tainin
Antioxidants’(G、5cottの”D
evelopments in Polymer 5t
abilization’ 4(1981) 、第16
3頁以降、第167頁); F、X、O°5hea、
八dvances Chem、 5eries’8
5 (1968) 、、 第 128頁以降:
G、5cottの”Developments in
Polymer 5tabilization”6(1
983)、第29頁以降参照)、殊にオルト−チオビス
フェノールの誘導体は著しく変色する傾向があり、確か
にゴム混合物の安定化にのみ用いることができる。
本発明の課題は、公知の3−第三ブチル−あるいは3−
第三ブチル−5−アルキル−4−ヒドロキシ−フェニル
(アルカン)カルボン酸あるいはその誘導体、殊に3.
5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオ
ン酸(誘導体)から出発して、経済的に製造できる選択
されたアルコールと反応させることによってこの式(1
)の3−第三ブチル−あるいは3−第三ブチル−5−ア
ルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)カルボ
ン酸の改善された安定剤特性のエステルを得ることおよ
びこのエステルを有機重合体、殊にポリプロピレンおよ
びポリエチレンに混入することによってこの種の重合体
を加工の際または長時間にわたって使用する際の分子量
の分解に対して良好に安定化し、その際に安定剤の添加
に起因して上記の負荷を掛ける際に言うに値する変色を
生じさせないことにある。
第三ブチル−5−アルキル−4−ヒドロキシ−フェニル
(アルカン)カルボン酸あるいはその誘導体、殊に3.
5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオ
ン酸(誘導体)から出発して、経済的に製造できる選択
されたアルコールと反応させることによってこの式(1
)の3−第三ブチル−あるいは3−第三ブチル−5−ア
ルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)カルボ
ン酸の改善された安定剤特性のエステルを得ることおよ
びこのエステルを有機重合体、殊にポリプロピレンおよ
びポリエチレンに混入することによってこの種の重合体
を加工の際または長時間にわたって使用する際の分子量
の分解に対して良好に安定化し、その際に安定剤の添加
に起因して上記の負荷を掛ける際に言うに値する変色を
生じさせないことにある。
この課題は驚くべきことに、式■のビス−(4−あるい
は2−ヒドロキシフェニル)−アルカン類、−オキシド
類、スルフィド類および−スルホン類のオキシエチラー
ト、殊にビス−(4−ヒドロキシフェニル)−アルカン
類、−オキシド類、スルフィド類およびスルホン類のオ
キシエチラート、式maのトリス−(4−ヒドロキフェ
ニル)−アルカン類のオキシエチラートまたは式I[[
bの1.3.5−トリス−(4−ヒドロキシフェニル−
イソプロピリデン)−アリーレンの容易に入手し得るオ
キシエチラート、殊に水酸基当たりに一つのアルキレン
オキサイド単位を持つオキシエチラート、特に式■ある
いは■の化合物のそれぞれの水酸基の替わりに各一つの
2−ヒドロキシエトキシ基を持つオキシエチラートを弐
Iの3−第三プチル−あるいは3−第三ブチル−5−ア
ルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)カルボ
ン酸のエステル、殊に3.5−ジ第三ブチルー4−ヒド
ロキシープロピオン酸のエステルに転化しそしてアルコ
ール成分として(ポリ)−オキシエチラートを含有する
このエステルを上記の重合体の安定化に用いた場合に解
決される。
は2−ヒドロキシフェニル)−アルカン類、−オキシド
類、スルフィド類および−スルホン類のオキシエチラー
ト、殊にビス−(4−ヒドロキシフェニル)−アルカン
類、−オキシド類、スルフィド類およびスルホン類のオ
キシエチラート、式maのトリス−(4−ヒドロキフェ
ニル)−アルカン類のオキシエチラートまたは式I[[
bの1.3.5−トリス−(4−ヒドロキシフェニル−
イソプロピリデン)−アリーレンの容易に入手し得るオ
キシエチラート、殊に水酸基当たりに一つのアルキレン
オキサイド単位を持つオキシエチラート、特に式■ある
いは■の化合物のそれぞれの水酸基の替わりに各一つの
2−ヒドロキシエトキシ基を持つオキシエチラートを弐
Iの3−第三プチル−あるいは3−第三ブチル−5−ア
ルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)カルボ
ン酸のエステル、殊に3.5−ジ第三ブチルー4−ヒド
ロキシープロピオン酸のエステルに転化しそしてアルコ
ール成分として(ポリ)−オキシエチラートを含有する
このエステルを上記の重合体の安定化に用いた場合に解
決される。
課題のこの解決は、エーテル結合に隣接する第一一およ
び第ニー炭素原子に酸素が容易に攻撃することが正にア
ルキル残基含有エーテルの場合に、既に若干高い温度の
もとてしばしば分解するヒドロペルオキシドを形成しそ
してか−るヒドロペルオキシドを除く為の注意深い洗浄
をエステルの使用前に行う必要があるので(Hoube
n−Weyl、“I’1ethoden der or
gan、 Chemie”、第1V/3巻参照)、極め
て驚くべきことである。
び第ニー炭素原子に酸素が容易に攻撃することが正にア
ルキル残基含有エーテルの場合に、既に若干高い温度の
もとてしばしば分解するヒドロペルオキシドを形成しそ
してか−るヒドロペルオキシドを除く為の注意深い洗浄
をエステルの使用前に行う必要があるので(Hoube
n−Weyl、“I’1ethoden der or
gan、 Chemie”、第1V/3巻参照)、極め
て驚くべきことである。
それ故に、ビス−(4−あるいは2−ヒドロキシフェニ
ル)−アルカン類のおよびペテロ原子含有類似化合物の
あるいはトリス−(4−ヒドロキシフェニル)−アルカ
ン類のまたは1.3.5−トリス−(4−ヒドロキシフ
ェニル−イソプロピリデン)−アリーレンのオキシエチ
ラートを基礎とする本発明のエステルをポリオレフィン
加工の高温のもので混入でき、非常に有効で且つこれを
含有する重合体物質の変色が驚くほど僅かと成る安定剤
を得ることかできることは予期できなかった。このこと
は、下記式■のエーテル基含有α、ω−ビスヒドロキシ
エチル(ポリ)オキサアルカンHO(CHz)11(0
(CHz)s )、 0(CI+りL OH(m 、
nおよびiは2であり、p≧0である。)とジアルキル
−4−ヒドロキシフェニル−アルカン−カルボン酸とよ
り成る従来技術により□例えば米国特許第3.285.
855号明細書によりm−製造できる市販されているエ
ステルがポリオレフィン中において変色をもたらし、そ
の結果この種の生成物がか−る重要な用途分野に適さな
いので、益々驚くべきことである。
ル)−アルカン類のおよびペテロ原子含有類似化合物の
あるいはトリス−(4−ヒドロキシフェニル)−アルカ
ン類のまたは1.3.5−トリス−(4−ヒドロキシフ
ェニル−イソプロピリデン)−アリーレンのオキシエチ
ラートを基礎とする本発明のエステルをポリオレフィン
加工の高温のもので混入でき、非常に有効で且つこれを
含有する重合体物質の変色が驚くほど僅かと成る安定剤
を得ることかできることは予期できなかった。このこと
は、下記式■のエーテル基含有α、ω−ビスヒドロキシ
エチル(ポリ)オキサアルカンHO(CHz)11(0
(CHz)s )、 0(CI+りL OH(m 、
nおよびiは2であり、p≧0である。)とジアルキル
−4−ヒドロキシフェニル−アルカン−カルボン酸とよ
り成る従来技術により□例えば米国特許第3.285.
855号明細書によりm−製造できる市販されているエ
ステルがポリオレフィン中において変色をもたらし、そ
の結果この種の生成物がか−る重要な用途分野に適さな
いので、益々驚くべきことである。
一般に熱的におよび更には接触的に容易にフェノール(
類)およびアルケニル−フェノール類に分解する、高価
な合成樹脂の前駆体として使用できるビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)−アルカンおよび式■および■の類似
化合物の技術的に簡単に実施できるオキシエチル化(例
えばtlllmann、“Enzyklopedie
der Techn、 Chemie、”、第18巻(
1979)、第215頁以降参照)によって、式■のカ
ルボン酸とのエステル化反応後に□安定化すべき重合体
への混入およびそれの加工においである如き□強い熱負
荷のもとでも分解の兆候も示さないことも同様に驚くべ
きことである。更に、オキシエチル化(即ちエーテル形
成)および弐Iの特別なカルボン酸とのエステル化の両
方の簡単な化学反応によって非常に有効な安定剤かえら
れ、その能力は従来技術(011mannの上記掲載文
献、第216頁;および第8巻第19頁以降)に従う特
定の、殊に一つまたは二つの嵩張ったオルトアルキル基
を持つフェノール類を、後記の例で実証されている如く
五かに凌駕していることも驚(べきことである。特に驚
くべきことは、式■および■のオキシエチル化用ビス−
(フェノール類)およびトリス−(フェノール類)が、
フェノール性水酸基に対してオルト位にあり且つ上記の
安定剤能力の為に必要とされるアルキル基を有しておら
ずそしてそれによってオキシエチル化が非常に容易にさ
れている場合にも本発明の安定剤はその能力に害を受け
ることがないことである。式■のビス−(4−あるいは
2−ヒドロキシフェニル)−アルカンあるいはシクロア
ルカン並びに式■のトリス−(4−ヒドロキシフェニル
)−化合物は本発明においてエステル化するべきポリオ
ールの原料として特に有利である。
類)およびアルケニル−フェノール類に分解する、高価
な合成樹脂の前駆体として使用できるビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)−アルカンおよび式■および■の類似
化合物の技術的に簡単に実施できるオキシエチル化(例
えばtlllmann、“Enzyklopedie
der Techn、 Chemie、”、第18巻(
1979)、第215頁以降参照)によって、式■のカ
ルボン酸とのエステル化反応後に□安定化すべき重合体
への混入およびそれの加工においである如き□強い熱負
荷のもとでも分解の兆候も示さないことも同様に驚くべ
きことである。更に、オキシエチル化(即ちエーテル形
成)および弐Iの特別なカルボン酸とのエステル化の両
方の簡単な化学反応によって非常に有効な安定剤かえら
れ、その能力は従来技術(011mannの上記掲載文
献、第216頁;および第8巻第19頁以降)に従う特
定の、殊に一つまたは二つの嵩張ったオルトアルキル基
を持つフェノール類を、後記の例で実証されている如く
五かに凌駕していることも驚(べきことである。特に驚
くべきことは、式■および■のオキシエチル化用ビス−
(フェノール類)およびトリス−(フェノール類)が、
フェノール性水酸基に対してオルト位にあり且つ上記の
安定剤能力の為に必要とされるアルキル基を有しておら
ずそしてそれによってオキシエチル化が非常に容易にさ
れている場合にも本発明の安定剤はその能力に害を受け
ることがないことである。式■のビス−(4−あるいは
2−ヒドロキシフェニル)−アルカンあるいはシクロア
ルカン並びに式■のトリス−(4−ヒドロキシフェニル
)−化合物は本発明においてエステル化するべきポリオ
ールの原料として特に有利である。
好ましくはポリプロピレンおよびポリエチレン中に安定
剤として添加できる本発明のエステルは、性質を融点お
よび分光分析的な実験によって後記の実施例において知
ることのできる新規の化合物である。か\る結晶質の化
合物は液状の安定剤に比較して、重合体中に均一に分散
しそしておよび必要とされる僅かな量を連続的に添加す
るのに一最に僅かな困難しか生じないので特に有利であ
る。
剤として添加できる本発明のエステルは、性質を融点お
よび分光分析的な実験によって後記の実施例において知
ることのできる新規の化合物である。か\る結晶質の化
合物は液状の安定剤に比較して、重合体中に均一に分散
しそしておよび必要とされる僅かな量を連続的に添加す
るのに一最に僅かな困難しか生じないので特に有利であ
る。
公知でない本発明のエステルは、式■の反応性酸あるい
はその誘導体を上記式■あるいは■の上記出発化合物の
オキシエチル化によって容易に入手し得る二官能性ある
いは多官能性アルコールと反応させることによって自体
公知の方法で製造できる。このエステルは少なくとも二
つあるいは三つのアルキレンオキサイド単位、殊にエチ
レンオキサイド単位を含有しているべきである。その際
、オキシエチル化の際に形成さざるエーテル橋は二つあ
るいは三つの異なる水酸基から出発するべきである。オ
キシエチル化の為には、式V のアルキレンオキサイドを式■または■の相応する原料
に付加させる従来技術の公知方法(例えば、M、J、5
chick、 ’Non1onic 5urfacta
nts”。
はその誘導体を上記式■あるいは■の上記出発化合物の
オキシエチル化によって容易に入手し得る二官能性ある
いは多官能性アルコールと反応させることによって自体
公知の方法で製造できる。このエステルは少なくとも二
つあるいは三つのアルキレンオキサイド単位、殊にエチ
レンオキサイド単位を含有しているべきである。その際
、オキシエチル化の際に形成さざるエーテル橋は二つあ
るいは三つの異なる水酸基から出発するべきである。オ
キシエチル化の為には、式V のアルキレンオキサイドを式■または■の相応する原料
に付加させる従来技術の公知方法(例えば、M、J、5
chick、 ’Non1onic 5urfacta
nts”。
Marcel Dekker 、 ニューヨーク(19
67)、第1巻第57頁以降参照)を用いることができ
る。エチレンオキサイド(即ち、式VにおいてR=H)
の付加生成物は、3−第三ブチル−あるいは3−第三ブ
チル−5−アルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アル
カン)−カルボン酸の本発明のエステルの原料として特
に有利である。特に非常に適している前駆体は、全ての
フェノール性水酸基がエチレンオキサイドの影響によっ
て2−ヒドロキシエチル基に転化されたビス(4−ある
いは2−ヒドロキシフェニル)−アルカン類、−キシド
類、−スルフィド類およびスルホン類のあるいはトリス
−(4−ヒドロキシフェニル)−アルカン類および−ア
リーレン類のジー(あるいはポリ−)(モノオキシエチ
ラート)である。この種のビス(4−あるいは2−ヒド
ロキシフェニル)−アルカン類、−キシド類、−スルフ
ィド類、スルホン類および一アリーレン類の式■および
■に相当する全ての化合物については以前に開示されて
いない。所望のジー(ポリ−)オールを場合によってオ
キシエチル化の際に生じる副生成物、例えばポリグリコ
ール類またはより高級のオキシエチラートから従来公知
の方法、即ち適当な溶剤(例えばアルコールまたはエー
テル)で結晶化させることによって、カラムクロマトグ
ラフィーによってまたは一特別の場合には一減圧下に蒸
留することによって分離することできる。
67)、第1巻第57頁以降参照)を用いることができ
る。エチレンオキサイド(即ち、式VにおいてR=H)
の付加生成物は、3−第三ブチル−あるいは3−第三ブ
チル−5−アルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アル
カン)−カルボン酸の本発明のエステルの原料として特
に有利である。特に非常に適している前駆体は、全ての
フェノール性水酸基がエチレンオキサイドの影響によっ
て2−ヒドロキシエチル基に転化されたビス(4−ある
いは2−ヒドロキシフェニル)−アルカン類、−キシド
類、−スルフィド類およびスルホン類のあるいはトリス
−(4−ヒドロキシフェニル)−アルカン類および−ア
リーレン類のジー(あるいはポリ−)(モノオキシエチ
ラート)である。この種のビス(4−あるいは2−ヒド
ロキシフェニル)−アルカン類、−キシド類、−スルフ
ィド類、スルホン類および一アリーレン類の式■および
■に相当する全ての化合物については以前に開示されて
いない。所望のジー(ポリ−)オールを場合によってオ
キシエチル化の際に生じる副生成物、例えばポリグリコ
ール類またはより高級のオキシエチラートから従来公知
の方法、即ち適当な溶剤(例えばアルコールまたはエー
テル)で結晶化させることによって、カラムクロマトグ
ラフィーによってまたは一特別の場合には一減圧下に蒸
留することによって分離することできる。
本発明のエステルは、式1a
(C11□)lICOOH
H
で表される3−(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキ
シフェニル−プロピオン酸と一般式■のビス(2−ヒド
ロキシフェニル)−アルカン類、−キシド類、−スルフ
ィド類およびスルホン類のオキシエチラート、殊に八が
−CR,R,−、−0−、−S−、−SO□−でありそ
してR1、R4がH,C)f、(但し、R8およびR1
はR3およびR6が水素である場合にはC11゜でない
。)、アリール基あるいは−CR3R4−が1゜1−シ
クロへキシリデン、1.l−シクロドデカンデンである
もののオキシエチラート、式maのトリス−(4−ヒド
ロキフェニル)−アルカン類のまたは弐mbの1.3.
5−1−リス−(4−ヒドロキシフェニル−イソプロピ
リデン)−アリーレンのオキシエチラートとのエステル
が有利である。特に有利なのは式■および■の化合物の
水酸基の替わりにそれぞれエチレンオキサイド単位を(
2−ヒドロキシエトキシ基として)含有している弐■お
よび■の化合物のオキシエチラートとのエステルである
。更に好ましいエステルはα、α′−ビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)−p−あるいは−m−ジイソプロピル
ベンゼンのビス−あるいはトリス−(モノオキシエチラ
ート)(即ち、1.4−あるいは1.3−ビス−〔α−
(4−ヒロキシフェニル)−イソプロピリデン〕ベンゼ
ンまたは1,3−ビス−〔1−(4−ヒロキシフェニル
)−1−メチル−えちる]−フェニレン)との、1.1
−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−あるいは1.1
−ビス−(4−ヒドロキシ−3−第三ブチルフェニル)
−シクロヘキサンとの、1.1−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−あるいは1゜1−ビス−(4−ヒドロキ
シ−3−メチルフヱニル)−あるいは1.1−ビス−(
4−ヒドロキシ−3−第三ブチルフェニル)−シクロド
デカンとの、1.l−ビス=(4−ヒドロキシフェニル
)−1−フェニル−エタンとの、2.2.−ビス(4−
ヒドロキシ−3−第三ブチルフェニル)−プロパンとの
、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−エーテルとの、
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−スルフィドとの、
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−スルホンとの、ト
リス−(44:Fo−t−ジフェニル)−メタンとの、
1,1.1− )リス−(4−ヒドロキシフェニル)−
エタンとのおよび1,3.5−トリス−(4−ヒドロキ
シフェニル−イソプロピリデン)−ベンゼンとのエステ
ルである。
シフェニル−プロピオン酸と一般式■のビス(2−ヒド
ロキシフェニル)−アルカン類、−キシド類、−スルフ
ィド類およびスルホン類のオキシエチラート、殊に八が
−CR,R,−、−0−、−S−、−SO□−でありそ
してR1、R4がH,C)f、(但し、R8およびR1
はR3およびR6が水素である場合にはC11゜でない
。)、アリール基あるいは−CR3R4−が1゜1−シ
クロへキシリデン、1.l−シクロドデカンデンである
もののオキシエチラート、式maのトリス−(4−ヒド
ロキフェニル)−アルカン類のまたは弐mbの1.3.
5−1−リス−(4−ヒドロキシフェニル−イソプロピ
リデン)−アリーレンのオキシエチラートとのエステル
が有利である。特に有利なのは式■および■の化合物の
水酸基の替わりにそれぞれエチレンオキサイド単位を(
2−ヒドロキシエトキシ基として)含有している弐■お
よび■の化合物のオキシエチラートとのエステルである
。更に好ましいエステルはα、α′−ビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)−p−あるいは−m−ジイソプロピル
ベンゼンのビス−あるいはトリス−(モノオキシエチラ
ート)(即ち、1.4−あるいは1.3−ビス−〔α−
(4−ヒロキシフェニル)−イソプロピリデン〕ベンゼ
ンまたは1,3−ビス−〔1−(4−ヒロキシフェニル
)−1−メチル−えちる]−フェニレン)との、1.1
−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−あるいは1.1
−ビス−(4−ヒドロキシ−3−第三ブチルフェニル)
−シクロヘキサンとの、1.1−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−あるいは1゜1−ビス−(4−ヒドロキ
シ−3−メチルフヱニル)−あるいは1.1−ビス−(
4−ヒドロキシ−3−第三ブチルフェニル)−シクロド
デカンとの、1.l−ビス=(4−ヒドロキシフェニル
)−1−フェニル−エタンとの、2.2.−ビス(4−
ヒドロキシ−3−第三ブチルフェニル)−プロパンとの
、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−エーテルとの、
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−スルフィドとの、
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−スルホンとの、ト
リス−(44:Fo−t−ジフェニル)−メタンとの、
1,1.1− )リス−(4−ヒドロキシフェニル)−
エタンとのおよび1,3.5−トリス−(4−ヒドロキ
シフェニル−イソプロピリデン)−ベンゼンとのエステ
ルである。
本発明のエステルはの製造は、式■あるいは■の化合物
から製造できるビス−(あるいはポリ−)(モノオキシ
エチラート)を式Iの3−第三ブチル−5−アルキル−
4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)−カルボン酸の
エステル、殊に1〜4個の炭素原子を含有する3−(3
,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル〕−プロ
ピオン酸のエステルと易揮発性アルコールの放出除去下
にエステル交換した場合に特に簡単に製造される。エス
テル交換は一般に高温、殊に125°C以下のもとで実
施する。ジオール(あるいはポリオール)と低級アルキ
ルエステルとの直接的反応がしばしば経済的な方法であ
るが、不活性溶剤および/または放出アルコールを除く
為の共沸剤の存在下でも実施することができる。エステ
ル交換を促進する為に従来技術に従う触媒(好ましくは
塩基性または中性の触媒)、例えばナトリウム−メチラ
ート、リチウムアミド、カリウム第三ブチラード、チタ
ン−テトラブチラード、アルミニウムー トリイソプロ
ピラード等を用いる。これらは一般には、反応混合物の
重量を基準として0.1〜5重量2の量で添加し、その
際に反応速度および費用の理由で0.5〜1.5重量%
の量が特に有利である。
から製造できるビス−(あるいはポリ−)(モノオキシ
エチラート)を式Iの3−第三ブチル−5−アルキル−
4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)−カルボン酸の
エステル、殊に1〜4個の炭素原子を含有する3−(3
,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル〕−プロ
ピオン酸のエステルと易揮発性アルコールの放出除去下
にエステル交換した場合に特に簡単に製造される。エス
テル交換は一般に高温、殊に125°C以下のもとで実
施する。ジオール(あるいはポリオール)と低級アルキ
ルエステルとの直接的反応がしばしば経済的な方法であ
るが、不活性溶剤および/または放出アルコールを除く
為の共沸剤の存在下でも実施することができる。エステ
ル交換を促進する為に従来技術に従う触媒(好ましくは
塩基性または中性の触媒)、例えばナトリウム−メチラ
ート、リチウムアミド、カリウム第三ブチラード、チタ
ン−テトラブチラード、アルミニウムー トリイソプロ
ピラード等を用いる。これらは一般には、反応混合物の
重量を基準として0.1〜5重量2の量で添加し、その
際に反応速度および費用の理由で0.5〜1.5重量%
の量が特に有利である。
エステル交換は、原料あるいは反応生成物の酸化を回避
する為におよび反応混合物への熱的負荷を殊にエステル
交換触媒の存在下に少なく保持する為に不活性ガス雰囲
気でまたは減圧下に実施するのが有利である。原料の一
方を必要とされる化学量論量より10〜20モルχ過剰
に用いるのが有利である。この反応は、反応混合物の分
析によってまたは分離されらアルコールを秤量すること
によって不足量で用いた成分が充分に(あるいは完全に
)消費されたことが確認されたらただちに中止する。こ
の目的の為には触媒を不活性化しく即ち、塩基性または
中性触媒の場合には例えば当量の酸を添加することによ
って該触媒を不活性化する)、反応混合物を後処理しそ
してポリオールエステルを適当な溶剤、例えばアルコー
ル、エーテルまたは芳香族炭化水素で再結晶化処理する
ことによって精製する。次いで化合物の構造を’H−N
MR−スペクトルにて種々の信号の状態および強度によ
って確かめる。
する為におよび反応混合物への熱的負荷を殊にエステル
交換触媒の存在下に少なく保持する為に不活性ガス雰囲
気でまたは減圧下に実施するのが有利である。原料の一
方を必要とされる化学量論量より10〜20モルχ過剰
に用いるのが有利である。この反応は、反応混合物の分
析によってまたは分離されらアルコールを秤量すること
によって不足量で用いた成分が充分に(あるいは完全に
)消費されたことが確認されたらただちに中止する。こ
の目的の為には触媒を不活性化しく即ち、塩基性または
中性触媒の場合には例えば当量の酸を添加することによ
って該触媒を不活性化する)、反応混合物を後処理しそ
してポリオールエステルを適当な溶剤、例えばアルコー
ル、エーテルまたは芳香族炭化水素で再結晶化処理する
ことによって精製する。次いで化合物の構造を’H−N
MR−スペクトルにて種々の信号の状態および強度によ
って確かめる。
ビス−あるいはポリ−(4−あるいは2−ヒドロキシフ
ェニル)−アルカン類、−キシド類、−スルフィド類、
スルホン類および−アリーレン類の本発明の3−第三プ
チル−あるいは3−第三プチル−5−アルキル−4−ヒ
ドロキシフェニル−(アルカン)−カルボン酸−エステ
ルは、重合体、殊にモノ−および/またはジオレフィン
の(共)重合体、特にポリプロピレンおよびポリエチレ
ンの為の存効な安定剤である。これらは加工用安定剤と
しても、長時間安定剤としても用いることができる。重
合体中への混入は、従来公知の方法に従って粉末状重合
体と安定剤または安定剤濃厚物(それぞれの重合体中に
入れられた濃厚物)と混合することによって行うことが
できる。
ェニル)−アルカン類、−キシド類、−スルフィド類、
スルホン類および−アリーレン類の本発明の3−第三プ
チル−あるいは3−第三プチル−5−アルキル−4−ヒ
ドロキシフェニル−(アルカン)−カルボン酸−エステ
ルは、重合体、殊にモノ−および/またはジオレフィン
の(共)重合体、特にポリプロピレンおよびポリエチレ
ンの為の存効な安定剤である。これらは加工用安定剤と
しても、長時間安定剤としても用いることができる。重
合体中への混入は、従来公知の方法に従って粉末状重合
体と安定剤または安定剤濃厚物(それぞれの重合体中に
入れられた濃厚物)と混合することによって行うことが
できる。
しかし安定剤の添加は、懸濁状態、乳化状態または溶液
状態で後処理前に重合体に混入してもよい、安定剤は一
般に、安定化するべき物質の約0.02〜3重量%の量
で用いられるが、しかし当業者によって容易に確かめる
ことのできる最適な量は安定化するべき重合体および要
求の種類に依存している。有利な範囲の安定剤添加量は
0.05〜2重量%であり、ポリオレフィンの場合には
0.1〜1重量%添加するのが特に有利である。この場
合選択的に個々のエステルまたは複数エステルの混合物
を添加することができる。
状態で後処理前に重合体に混入してもよい、安定剤は一
般に、安定化するべき物質の約0.02〜3重量%の量
で用いられるが、しかし当業者によって容易に確かめる
ことのできる最適な量は安定化するべき重合体および要
求の種類に依存している。有利な範囲の安定剤添加量は
0.05〜2重量%であり、ポリオレフィンの場合には
0.1〜1重量%添加するのが特に有利である。この場
合選択的に個々のエステルまたは複数エステルの混合物
を添加することができる。
更に別の種々の添加物、例えば協力剤一本発明の安定剤
ではない□としての硫黄有機物および/またはリン含有
化合物、可塑剤、顔料、紫外線安定剤、帯電防止剤、フ
ィラーおよび/またはステアリン酸カルシウムの如き加
工助剤を重合体に追加的に混入することができる。
ではない□としての硫黄有機物および/またはリン含有
化合物、可塑剤、顔料、紫外線安定剤、帯電防止剤、フ
ィラーおよび/またはステアリン酸カルシウムの如き加
工助剤を重合体に追加的に混入することができる。
ポリオレフィンの場合に射出成形法あるいは押出成形法
に従って多方面に使用可能な成形体に加工することので
きる重合体の本発明に従う安定化を以下の実施例によっ
て更に詳細に説明する。
に従って多方面に使用可能な成形体に加工することので
きる重合体の本発明に従う安定化を以下の実施例によっ
て更に詳細に説明する。
内部温度計、マグネットスタラーおよびリービッヒ冷却
器を備えたミロフラスコ中で、約0゜3モル(95g)
の市販の2.2−ビス−〔4”−(2−ヒドロキシエト
キシ)−フェニル〕−プロパン(コダック社)を約0.
64モル(187g )3−(3,5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸−メチルエ
ステルおよび0.076モル(4,1g)のナトリウム
メチラートと混合する。不活性ガス雰囲気でこの反応混
合物を反応装置中において湿気の排除下に110°Cに
加熱する。約1時間の反応時間の後に圧力を段階的に約
0.2hPa (mbar)に減少させる。留去するメ
タノールを凝縮しそして、約4〜5時間を必要とするエ
ステル交換において達成される転化率を評価する為に秤
量する。三ロフラスコの内容物を約300 mflのト
ルエンに取り、ナトリウムメチラート触媒にはり当量の
酢酸(5%過剰)を添加しそして次いでトルエン溶液を
炭酸水素ナトリウム溶液および水にて洗浄する。濾過、
濾過物の乾燥および減圧下でのトルエンの留去の後に粘
性の藩留残留物から未反応のあるいは過剰の3−(3,
5−ジ第三−ブチルー4−ヒドロキシフェニル−(プロ
ピオン酸メチルエステル(沸点 約130℃/ 0.0
5hl’a(s+bar))を減圧下に留去する。反応
混合物の非揮発性成分は主として、2,2−ビス−〔4
°−(2”ヒドロキシエトキシ)−フェニル〕−プロパ
ンのジー3− (3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキ
シフェニル)−プロピオン酸エステルである。僅かな量
の易揮発性テトラヒドロフランを添加することによって
このエステルを結晶化させる。沈澱する粗生成物をエタ
ノールにて再結晶処理することによって融点が一定にな
るまで精製する。達成される純度はrlNクロマトグラ
フィー(TLCと略す)にて検査する。
器を備えたミロフラスコ中で、約0゜3モル(95g)
の市販の2.2−ビス−〔4”−(2−ヒドロキシエト
キシ)−フェニル〕−プロパン(コダック社)を約0.
64モル(187g )3−(3,5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸−メチルエ
ステルおよび0.076モル(4,1g)のナトリウム
メチラートと混合する。不活性ガス雰囲気でこの反応混
合物を反応装置中において湿気の排除下に110°Cに
加熱する。約1時間の反応時間の後に圧力を段階的に約
0.2hPa (mbar)に減少させる。留去するメ
タノールを凝縮しそして、約4〜5時間を必要とするエ
ステル交換において達成される転化率を評価する為に秤
量する。三ロフラスコの内容物を約300 mflのト
ルエンに取り、ナトリウムメチラート触媒にはり当量の
酢酸(5%過剰)を添加しそして次いでトルエン溶液を
炭酸水素ナトリウム溶液および水にて洗浄する。濾過、
濾過物の乾燥および減圧下でのトルエンの留去の後に粘
性の藩留残留物から未反応のあるいは過剰の3−(3,
5−ジ第三−ブチルー4−ヒドロキシフェニル−(プロ
ピオン酸メチルエステル(沸点 約130℃/ 0.0
5hl’a(s+bar))を減圧下に留去する。反応
混合物の非揮発性成分は主として、2,2−ビス−〔4
°−(2”ヒドロキシエトキシ)−フェニル〕−プロパ
ンのジー3− (3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキ
シフェニル)−プロピオン酸エステルである。僅かな量
の易揮発性テトラヒドロフランを添加することによって
このエステルを結晶化させる。沈澱する粗生成物をエタ
ノールにて再結晶処理することによって融点が一定にな
るまで精製する。達成される純度はrlNクロマトグラ
フィー(TLCと略す)にて検査する。
収量: 123gのジエステル(理論値の49z)、融
点: 103.5〜105°C 純度=98χ(TCLによる) この化合物の構造は’II−NMR−スペクトルの吸収
スペクトル線の強度および状態によって確認される。(
内部標準としてのテトラメチルシラン(TMS))を含
有するCDCj2z中に本発明のエステルを溶解しての
スペクトルについて詳細に説明する第1表参照) エニル ン、 a −+スー 4−2−ヒ′
ロキエ キシ−エニルーイ゛ 0ロフエノール類の公知
のオキシエチル化法(例えば、MJ、5chickの既
に掲載した文献参照)に従って、1.l−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン(ぼりビスフェ
ノールZと同じ:例2)、α、α°−ビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)−ジイソプロピルベンゼン(はりビス
フェノールDと同じ:例3) 、1.1−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−1−フェニル−エタン(例4)
、ビス−(2−ヒドロキシ−3−シクロへキシル−5−
メチル−フェニル)−メタン(例5) 、1.1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロドデカン(例6
)、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−エーテル(例
7)、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−スルフィド
(例8)、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−スルホ
ン(例9)、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)−メ
タン(は奮′ロイコオーリン(Laukoaurin)
に同じ:例10)および1.3.5− )リス−(4−
ヒドロキシフェニル−イソプロピリデン)−ベンゼン(
例11)を触媒量の水酸化ナトリウムの存在下にエチレ
ンオキサイドと反応させる。この場合ビス−あるいはト
リス−(4−あるいは2−ヒドロキシフェニル)−化合
物をジエチレングリコールジメチルエーテルに溶解した
溶液を、出発化合物の1モルの水酸基当たり各1モルの
エチレンオキサイドが吸収されるまで加圧下にエチレン
オキサイドと反応させる。冷却、用いた触媒の当量の酢
酸での中和および溶剤の全部または一部の除去の後に、
□場合によっては0°Cで長時間放置した後に□結晶沈
澱物が生じる。この粗生成物を適当な溶剤、一般にメタ
ノール、エタノールまたはエーテルで再結晶処理する。
点: 103.5〜105°C 純度=98χ(TCLによる) この化合物の構造は’II−NMR−スペクトルの吸収
スペクトル線の強度および状態によって確認される。(
内部標準としてのテトラメチルシラン(TMS))を含
有するCDCj2z中に本発明のエステルを溶解しての
スペクトルについて詳細に説明する第1表参照) エニル ン、 a −+スー 4−2−ヒ′
ロキエ キシ−エニルーイ゛ 0ロフエノール類の公知
のオキシエチル化法(例えば、MJ、5chickの既
に掲載した文献参照)に従って、1.l−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン(ぼりビスフェ
ノールZと同じ:例2)、α、α°−ビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)−ジイソプロピルベンゼン(はりビス
フェノールDと同じ:例3) 、1.1−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−1−フェニル−エタン(例4)
、ビス−(2−ヒドロキシ−3−シクロへキシル−5−
メチル−フェニル)−メタン(例5) 、1.1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロドデカン(例6
)、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−エーテル(例
7)、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−スルフィド
(例8)、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−スルホ
ン(例9)、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)−メ
タン(は奮′ロイコオーリン(Laukoaurin)
に同じ:例10)および1.3.5− )リス−(4−
ヒドロキシフェニル−イソプロピリデン)−ベンゼン(
例11)を触媒量の水酸化ナトリウムの存在下にエチレ
ンオキサイドと反応させる。この場合ビス−あるいはト
リス−(4−あるいは2−ヒドロキシフェニル)−化合
物をジエチレングリコールジメチルエーテルに溶解した
溶液を、出発化合物の1モルの水酸基当たり各1モルの
エチレンオキサイドが吸収されるまで加圧下にエチレン
オキサイドと反応させる。冷却、用いた触媒の当量の酢
酸での中和および溶剤の全部または一部の除去の後に、
□場合によっては0°Cで長時間放置した後に□結晶沈
澱物が生じる。この粗生成物を適当な溶剤、一般にメタ
ノール、エタノールまたはエーテルで再結晶処理する。
多くの場合、第■表に融点を記載した無色の結晶が得ら
れる。第■表には収量および溶剤についても記載しであ
る。これらの個々の化合物は未知の化合物であり、その
構造および純度は使用する前に’H−NMR−スペクト
ルで検査する。
れる。第■表には収量および溶剤についても記載しであ
る。これらの個々の化合物は未知の化合物であり、その
構造および純度は使用する前に’H−NMR−スペクト
ルで検査する。
班肥ユ災音貫と
一ビスー 4′−2′−ヒ゛ロキシエ キシ−フェニル
−シクロヘキサンのビス−3−(3゜例1に記載の方
法に従って、例2に従って製造された1、1−ビス−(
4’−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル〕−シク
ロヘキサン0.25モル(89,1g)をナトリウムメ
チラート0.044モル(2゜35g)の存在下に3−
(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−
プロピオン酸メチルエステル0.53モル(155g)
にて6.5時間の間に110°Cでエステル交換する。
−シクロヘキサンのビス−3−(3゜例1に記載の方
法に従って、例2に従って製造された1、1−ビス−(
4’−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル〕−シク
ロヘキサン0.25モル(89,1g)をナトリウムメ
チラート0.044モル(2゜35g)の存在下に3−
(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−
プロピオン酸メチルエステル0.53モル(155g)
にて6.5時間の間に110°Cでエステル交換する。
後処理および未反応のあるいは過剰の原料の減圧下での
除去の後にガラス様残渣が得られる。ブタノールでの再
結晶処理によって本発明のビス−エステルが生じる。
除去の後にガラス様残渣が得られる。ブタノールでの再
結晶処理によって本発明のビス−エステルが生じる。
牧@: 156.6gのビスエステル(理論値の71.
4χ)融点=128〜131°C 純度:約95χ(NMRによる) この化合物の構造は’H−NMR−スペクトルの吸収ス
ペクトル線の状態および強度によって確認される(詳し
くは第1表参照)。
4χ)融点=128〜131°C 純度:約95χ(NMRによる) この化合物の構造は’H−NMR−スペクトルの吸収ス
ペクトル線の状態および強度によって確認される(詳し
くは第1表参照)。
■1L工実淘Iわ−
裂 、遣
例1に記載の方法に従って、例3に従って製造されたα
、α°−ビス−[4−(2’−ヒドロキシエトキシ)−
フェニルLp−ジイソプロピルベンゼン0.21モル(
91,3g)をナトリウムメチラート0.076モル(
4,1g)の存在下に3−(3,5−ジ第三ブチルー4
−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル
0.45モル(131,6g)にて8.5時間の間11
0°Cでエステル交換する。後処理および未反応のある
いは過剰の原料の減圧下での除去の後に粘性油が得られ
る。これは、50°Cに冷却しそして僅かのエタノール
を添加することによって固化する。エタノールでの再結
晶処理によって本発明のビス−エステルが生じる。
、α°−ビス−[4−(2’−ヒドロキシエトキシ)−
フェニルLp−ジイソプロピルベンゼン0.21モル(
91,3g)をナトリウムメチラート0.076モル(
4,1g)の存在下に3−(3,5−ジ第三ブチルー4
−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル
0.45モル(131,6g)にて8.5時間の間11
0°Cでエステル交換する。後処理および未反応のある
いは過剰の原料の減圧下での除去の後に粘性油が得られ
る。これは、50°Cに冷却しそして僅かのエタノール
を添加することによって固化する。エタノールでの再結
晶処理によって本発明のビス−エステルが生じる。
投置: 152.4gのビスエステル(理論値の72.
8χ)融点=127〜128°C 純度:約88χ(LTCによる) この化合物の構造は’II−NMR−スペクトルの吸収
スペクトル線の状態および強度によって確認される(第
1表参照)。
8χ)融点=127〜128°C 純度:約88χ(LTCによる) この化合物の構造は’II−NMR−スペクトルの吸収
スペクトル線の状態および強度によって確認される(第
1表参照)。
例1に記載の方法に従って、例4に従って製造された1
、1−ビス−(4’−(2”−ヒドロキシエトキシ)−
フェニル〕l−フェニルエタン0.23モル(87g)
をチタンテトラブチラード0.01モル(3゜5g)の
存在下に3−(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシ
フェニル)−プロピオン酸メチルエステル0.49モル
(143,3g)にて8時間の間に115°Cでエステ
ル交換する。同様な後処理にて粗生成物が生じる。この
ものから再結晶処理後に本発明のビス−エステルが得ら
れる。
、1−ビス−(4’−(2”−ヒドロキシエトキシ)−
フェニル〕l−フェニルエタン0.23モル(87g)
をチタンテトラブチラード0.01モル(3゜5g)の
存在下に3−(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシ
フェニル)−プロピオン酸メチルエステル0.49モル
(143,3g)にて8時間の間に115°Cでエステ
ル交換する。同様な後処理にて粗生成物が生じる。この
ものから再結晶処理後に本発明のビス−エステルが得ら
れる。
+1&ffi: 183.6gのビスエステル(理論値
の88χ)融点:83〜85°C 純度:≧952(NMRニヨル) この化合物の構造は’II−NMR−スペクトルの吸収
スペクトル線の状態および強度によって確認される(第
1表参照)。
の88χ)融点:83〜85°C 純度:≧952(NMRニヨル) この化合物の構造は’II−NMR−スペクトルの吸収
スペクトル線の状態および強度によって確認される(第
1表参照)。
遣
例5に従って製造されたビス−(2−(2”−ヒドロキ
シエトキシ)−3−シクロへキシル−5−メチルフェニ
ル〕−メタン0.2モル(94,9g)をナトリウムメ
チラート0.076モル(4,1g)の存在下に3−(
3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−プ
ロピオン酸メチルエステル0.43モル(125,7g
)にて例1に記載の方法に従ってエステル交換する。同
様な後処理(および未反応のあるいは過剰の原料の除去
)の後に粘性物質が得られる。
シエトキシ)−3−シクロへキシル−5−メチルフェニ
ル〕−メタン0.2モル(94,9g)をナトリウムメ
チラート0.076モル(4,1g)の存在下に3−(
3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−プ
ロピオン酸メチルエステル0.43モル(125,7g
)にて例1に記載の方法に従ってエステル交換する。同
様な後処理(および未反応のあるいは過剰の原料の除去
)の後に粘性物質が得られる。
これから長時間後に結晶質の粗生成物が分離される。メ
タノールでの再結晶処理によって本発明の純粋なビス−
エステルが生じる。
タノールでの再結晶処理によって本発明の純粋なビス−
エステルが生じる。
投置: 141.1g (理論値の71.7χ)融点:
113〜117°C 純度:96χ(LTCによる) このビス−エステルの構造は’II−NMR−スペクト
ルの吸収スペクトル線の状態および強度によって確認さ
れる(第1表参照)。
113〜117°C 純度:96χ(LTCによる) このビス−エステルの構造は’II−NMR−スペクト
ルの吸収スペクトル線の状態および強度によって確認さ
れる(第1表参照)。
例1に記載の方法に従って、例6(本発明に属さない)
に従って製造された1、1−ビス−〔4゛−(2−ヒド
ロキシエトキシ)−フェニル〕−シクロドデカン0.2
1モル(95,5g)をチタンテトラブチラード0.0
1モル(3,5g)の添加下に3−(3,5−ジ第三ブ
チルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチル
エステル0.45モル(131,6g)にて7.5時間
の間に125°Cでエステル交換する。同様な後処理お
よび減圧下での未反応のあるいは過剰の原料の除去後に
粘性の生成物が生じる。
に従って製造された1、1−ビス−〔4゛−(2−ヒド
ロキシエトキシ)−フェニル〕−シクロドデカン0.2
1モル(95,5g)をチタンテトラブチラード0.0
1モル(3,5g)の添加下に3−(3,5−ジ第三ブ
チルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチル
エステル0.45モル(131,6g)にて7.5時間
の間に125°Cでエステル交換する。同様な後処理お
よび減圧下での未反応のあるいは過剰の原料の除去後に
粘性の生成物が生じる。
このものは冷却した際に固化する。このガラス様残渣は
本発明のビス−エステルより成る。
本発明のビス−エステルより成る。
’!kl: 194.8gのビスエステル(理論値の9
5χ)純度:≧95χ(’H−NMRによる)融点=7
2〜78°に の化合物の構造は’ H−NMR−スペクトルのシグナ
ルの状態および強度によって確認される(第1表参照)
。
5χ)純度:≧95χ(’H−NMRによる)融点=7
2〜78°に の化合物の構造は’ H−NMR−スペクトルのシグナ
ルの状態および強度によって確認される(第1表参照)
。
例7に従って得られたビス−(4−(2’−ヒドロキシ
エトキシ)−フェニル〕−エーテル0.45モル(12
9,3g)をナトリウムメチラート0.076モル(4
゜Ig)の添加下に3−(3,5−ジ第三ブチルー4−
ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル0
.72モル(210,5g)にて110°Cで6時間に
渡って例1に記載の方法に従ってエステル交換する。
エトキシ)−フェニル〕−エーテル0.45モル(12
9,3g)をナトリウムメチラート0.076モル(4
゜Ig)の添加下に3−(3,5−ジ第三ブチルー4−
ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル0
.72モル(210,5g)にて110°Cで6時間に
渡って例1に記載の方法に従ってエステル交換する。
同様な後処理にて、未反応のあるいは過剰の原料を減圧
下で除いた後粘性油が生じる。20″Cで長時間放置し
そして若干のメチル−第三ブチル−エーテルを添加した
後に、メタノールで再結晶させそして本発明のビス−エ
ステルである結晶が得られる。このものの構造は’H−
NMR−スペクトルによって実証される(第1表参照)
。
下で除いた後粘性油が生じる。20″Cで長時間放置し
そして若干のメチル−第三ブチル−エーテルを添加した
後に、メタノールで再結晶させそして本発明のビス−エ
ステルである結晶が得られる。このものの構造は’H−
NMR−スペクトルによって実証される(第1表参照)
。
投置: 104.3g (理論値の35.7χ)融点:
80〜81°C 純度: 97.5Z(LTCニヨル) −エスールの一11′@ 例8に従って製造されたビス−(4−(2’−ヒドロキ
シエトキシ)−フェニル〕−スルフィド0.24モル(
73,5g)をナトリウムメチラート0.076モル(
4,1g)の存在下に3−(3,5−ジ第三ブチルー4
−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル
0.51モル(149,1g)にて115°Cで5.7
5時間に渡って例1に記載の方法に従ってエステル交換
する。同様な後処理および減圧下での未反応原料の除去
後にガラス様残留物が得られる。この粗生成物をトルエ
ンで再結晶処理した後に本発明のビスエステルが生じる
。
80〜81°C 純度: 97.5Z(LTCニヨル) −エスールの一11′@ 例8に従って製造されたビス−(4−(2’−ヒドロキ
シエトキシ)−フェニル〕−スルフィド0.24モル(
73,5g)をナトリウムメチラート0.076モル(
4,1g)の存在下に3−(3,5−ジ第三ブチルー4
−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル
0.51モル(149,1g)にて115°Cで5.7
5時間に渡って例1に記載の方法に従ってエステル交換
する。同様な後処理および減圧下での未反応原料の除去
後にガラス様残留物が得られる。この粗生成物をトルエ
ンで再結晶処理した後に本発明のビスエステルが生じる
。
投置: 169.5g (理論値の85.4χ)融点=
80〜82°C 純度:92χ(LTCによる) 本発明のこのビス−エステルの構造は’H−NMR−ス
ペクトルの吸収スペクトル線の状態および強度によって
確認される(詳しくは第1表参照)。
80〜82°C 純度:92χ(LTCによる) 本発明のこのビス−エステルの構造は’H−NMR−ス
ペクトルの吸収スペクトル線の状態および強度によって
確認される(詳しくは第1表参照)。
ル −スルホンのビス−3−35−シアー、三ブチルー
4−ヒドロキシフェニル−プロピオン例1に記載の方法
に従って、例9に従って製造されたビス−(4−(2”
−ヒドロキシエトキシ)−フェニル〕−スルホン0.2
5モル(84,6g)をナトリウムメチラート0.07
6モル(4,1g)の存在下に3−(3,5−ジ第三ブ
チルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチル
エステル0.53モル(155゜6g)にて5.5時間
の間に130〜140°Cでエステル交換する。例1と
同様な後処理を減圧下での未反応のあるいは過剰の原料
の除去後に行い、油を得る。この油は若干のメタノール
の添加および20での長時間の放置の後に固化する。こ
の粗生成物からはメタノールでの再結晶処理の後に本発
明のビス−エステルが生じる。これの構造は’H−NM
R−スペクトルで実証される(第1表参照)。
4−ヒドロキシフェニル−プロピオン例1に記載の方法
に従って、例9に従って製造されたビス−(4−(2”
−ヒドロキシエトキシ)−フェニル〕−スルホン0.2
5モル(84,6g)をナトリウムメチラート0.07
6モル(4,1g)の存在下に3−(3,5−ジ第三ブ
チルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチル
エステル0.53モル(155゜6g)にて5.5時間
の間に130〜140°Cでエステル交換する。例1と
同様な後処理を減圧下での未反応のあるいは過剰の原料
の除去後に行い、油を得る。この油は若干のメタノール
の添加および20での長時間の放置の後に固化する。こ
の粗生成物からはメタノールでの再結晶処理の後に本発
明のビス−エステルが生じる。これの構造は’H−NM
R−スペクトルで実証される(第1表参照)。
軟量: 139.4g(理論値の65χ)融点:129
〜131°C 純度:91χ(TLCによる) 進運L(実jI℃ユ 本発明に属さない例10に従って得られたトリス−(4
−(2”−ヒドロキシエトキシ)−フェニルゴーメタン
0.17モル(72,2g)をチタンテトラブチラード
0.01モル(3,5g)の存在下に3−(3,5−ジ
第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸
メチルエステル0.54モル(157,9g)にて12
0°Cで5時間に渡って例1に記載の方法に従ってエス
テル交換する。同様な後処理および減圧下での未反応の
あるいは過剰の原料の除去後にガラス様物質が得られる
。このものからイソプロパツールでの再結晶後に所望の
トリス−エステルが純粋な形で分離される。このものの
構造は’II−NMR−スペクトルによって実証される
(第1表参照)。
〜131°C 純度:91χ(TLCによる) 進運L(実jI℃ユ 本発明に属さない例10に従って得られたトリス−(4
−(2”−ヒドロキシエトキシ)−フェニルゴーメタン
0.17モル(72,2g)をチタンテトラブチラード
0.01モル(3,5g)の存在下に3−(3,5−ジ
第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸
メチルエステル0.54モル(157,9g)にて12
0°Cで5時間に渡って例1に記載の方法に従ってエス
テル交換する。同様な後処理および減圧下での未反応の
あるいは過剰の原料の除去後にガラス様物質が得られる
。このものからイソプロパツールでの再結晶後に所望の
トリス−エステルが純粋な形で分離される。このものの
構造は’II−NMR−スペクトルによって実証される
(第1表参照)。
牧童: 145.8g (理論値の71χ)融点:53
〜56°C 純度:≧952(NMRニよる) 例11に従って製造された1、3.5−1−リス−〔1
−メチル−H4’−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェ
ニル)−エチル〕−ベンゼン0.15モル(91,92
g)をチタンテトラブチラー) 0.01モル(3,5
g)の存在下に3−(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒド
ロキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル0.4
8モル(131,5g)にて10時間に渡って例1に記
載の方法に従ってエステル交換する。後処理および減圧
下での未反応のあるいは過剰の原料の除去後に粘性の油
がが得られる。このものは冷却すると固化する。この粉
末化可能なガラス様物質は本発明のトリス−エステルで
ある。このものの構造は’H−NMR−スペクトルによ
って実証される(詳細には第1表参照)。
〜56°C 純度:≧952(NMRニよる) 例11に従って製造された1、3.5−1−リス−〔1
−メチル−H4’−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェ
ニル)−エチル〕−ベンゼン0.15モル(91,92
g)をチタンテトラブチラー) 0.01モル(3,5
g)の存在下に3−(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒド
ロキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル0.4
8モル(131,5g)にて10時間に渡って例1に記
載の方法に従ってエステル交換する。後処理および減圧
下での未反応のあるいは過剰の原料の除去後に粘性の油
がが得られる。このものは冷却すると固化する。この粉
末化可能なガラス様物質は本発明のトリス−エステルで
ある。このものの構造は’H−NMR−スペクトルによ
って実証される(詳細には第1表参照)。
牧童: 193g (理論値の92.3χ)融点=58
〜61”C 純度:約95χ(’H−NMRによる)貫録二η 2kgのポリプロピレン粉末を第■表に挙げた量の安定
剤(例22〜27の本発明のエステルあるいは例28〜
32(比較例)の従来技術の安定剤)、加工助剤として
のステアリン酸カルシウム0゜1重量χ並びにビス−(
オクタデシル)−チオジプロピオン酸エステルおよび場
合によってはトリス−(2,4−ジ第三ブチルフェニル
)−ホスフィツトと混合しそして混合装置(例えばPa
penmeier社の流動式混合機)において室温で短
時間(約1分)混合する。得られる粉末混合物を100
回転ノ分で最高230°Cで押出機で押出成形しくTr
oester社、直径3(1mm、長さ直径の20倍)
、次いで顆粒化する。この顆粒を1lIIIlの厚さの
板状物にプレス成形し、そしてI X 10 X 10
0nueの寸法のこのポリオレフィン板状物から打抜く
。これを適当な装置で145°Cの温度で空気導入下に
空気循環式乾燥器において、生じる脆弱化の証拠として
試験体の粉々な崩壊あるいは試験体のヒビ割れ形成が観
察できるまでの間装置貯蔵する。
〜61”C 純度:約95χ(’H−NMRによる)貫録二η 2kgのポリプロピレン粉末を第■表に挙げた量の安定
剤(例22〜27の本発明のエステルあるいは例28〜
32(比較例)の従来技術の安定剤)、加工助剤として
のステアリン酸カルシウム0゜1重量χ並びにビス−(
オクタデシル)−チオジプロピオン酸エステルおよび場
合によってはトリス−(2,4−ジ第三ブチルフェニル
)−ホスフィツトと混合しそして混合装置(例えばPa
penmeier社の流動式混合機)において室温で短
時間(約1分)混合する。得られる粉末混合物を100
回転ノ分で最高230°Cで押出機で押出成形しくTr
oester社、直径3(1mm、長さ直径の20倍)
、次いで顆粒化する。この顆粒を1lIIIlの厚さの
板状物にプレス成形し、そしてI X 10 X 10
0nueの寸法のこのポリオレフィン板状物から打抜く
。これを適当な装置で145°Cの温度で空気導入下に
空気循環式乾燥器において、生じる脆弱化の証拠として
試験体の粉々な崩壊あるいは試験体のヒビ割れ形成が観
察できるまでの間装置貯蔵する。
第■表に結果を示す。
145°Cで測定される安定化ポリプロピレン試料の安
定性については、本発明に従い混入するエステルの効果
は、従来技術に従う安定剤を添加した場合の試料水準に
達しているかまたはそれを凌駕していることが判る。
定性については、本発明に従い混入するエステルの効果
は、従来技術に従う安定剤を添加した場合の試料水準に
達しているかまたはそれを凌駕していることが判る。
例22〜27に従って製造される本発明の安定剤および
場合によっては他の添加物を含有するポリプロピレン顆
粒のそれぞれを4 X 10 X 100an+の寸法
の板状物に210°Cでプレス成形する。これを100
°Cで4週間貯蔵した後に場合によって生じる変色に関
して熱負荷を掛けてない試料と比較しそして本発明の安
定剤(例37〜39)を含有する同様に100°Cで老
化処理した試料と比較評価する。後記の第■表に視覚的
に測定した色濃度を示しである。それらの試料はペンタ
エリスリットの(例38:例31に従って製造されたも
の”) 、2.2−ビス−〔4”−(2″−ヒドロキシ
エトキシ)−フェニル〕−プロパンの(例37:例28
に従って製造されたもの)あるいは千オシエタノールの
(例39:例32に従って製造されたもの)テトラ−あ
るいはジー[3−(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロ
キシフェニル)−プロピオン酸〕−エステルを含有する
同様に老化処理した比較用試料を用いる。
場合によっては他の添加物を含有するポリプロピレン顆
粒のそれぞれを4 X 10 X 100an+の寸法
の板状物に210°Cでプレス成形する。これを100
°Cで4週間貯蔵した後に場合によって生じる変色に関
して熱負荷を掛けてない試料と比較しそして本発明の安
定剤(例37〜39)を含有する同様に100°Cで老
化処理した試料と比較評価する。後記の第■表に視覚的
に測定した色濃度を示しである。それらの試料はペンタ
エリスリットの(例38:例31に従って製造されたも
の”) 、2.2−ビス−〔4”−(2″−ヒドロキシ
エトキシ)−フェニル〕−プロパンの(例37:例28
に従って製造されたもの)あるいは千オシエタノールの
(例39:例32に従って製造されたもの)テトラ−あ
るいはジー[3−(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロ
キシフェニル)−プロピオン酸〕−エステルを含有する
同様に老化処理した比較用試料を用いる。
第■表および第■表に示した試験結果から、本発明に従
って安定化することで従来技術に達していることが判る
。何故ならば、一部のものは同様な長期間安定化試験に
おいて従来技術の安定剤よりも僅かしか変色が認められ
ないからである。
って安定化することで従来技術に達していることが判る
。何故ならば、一部のものは同様な長期間安定化試験に
おいて従来技術の安定剤よりも僅かしか変色が認められ
ないからである。
、 1 ・ ゛
ロ こ t゛い例22.23
.25および27並びに28および31に従って製造し
た安定化ポリプロピレンを押出機(Brabender
社:直径19IIIIIl、長さは直径の20倍)で複
数回押出成形する(30回転/分および最高270°C
の温度)。加工安定剤として用いる安定剤の適性は、生
じる分子量分解の程度を知ることができる190°Cで
測定する■、−値によって試験する。第V表には、本発
明の安定剤(例12.13.17および19)あるいは
従来技術の二種類の安定剤−2,2−ビス−(4’−(
2”−ヒドキシエトキシ)−フェニル〕−プロパンの(
例44)およびペンタエリスリットの(例45)ビス−
あるいはテトラ−(3−(3’、5”−ジ第三ブチルー
4°−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸〕−エステ
ル□の存在下に多数回押出成形した評価を示す測定値が
記載されている。
ロ こ t゛い例22.23
.25および27並びに28および31に従って製造し
た安定化ポリプロピレンを押出機(Brabender
社:直径19IIIIIl、長さは直径の20倍)で複
数回押出成形する(30回転/分および最高270°C
の温度)。加工安定剤として用いる安定剤の適性は、生
じる分子量分解の程度を知ることができる190°Cで
測定する■、−値によって試験する。第V表には、本発
明の安定剤(例12.13.17および19)あるいは
従来技術の二種類の安定剤−2,2−ビス−(4’−(
2”−ヒドキシエトキシ)−フェニル〕−プロパンの(
例44)およびペンタエリスリットの(例45)ビス−
あるいはテトラ−(3−(3’、5”−ジ第三ブチルー
4°−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸〕−エステ
ル□の存在下に多数回押出成形した評価を示す測定値が
記載されている。
本発明の安定剤にて多くの場合、殊に僅かな量の協力剤
を添加した場合に従来技術に達することが判る。
を添加した場合に従来技術に達することが判る。
146〜50(48〜50は ■に ない例24.
26.29および31におけるのと同様にそれぞれ0.
1重量%の安定剤および0.1重量%のステアリン酸カ
ルシウム並びに場合によって追加的に0.1重量%のビ
ス−(オクタデシル)−チオジプロピオン酸エステル(
Sと略す)および0.1重量%のトリス−(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)−ホスフィンI−(Pと略す)に
て安定化したポリプロピレン粉末を、最高270℃のも
とで押出成形試験器(Goepfert社:直径20m
a+、長さが直径の20倍、回転数30回転)分、工程
深度比(Gangtiefenverhaeltnis
) 1:3)で数回押出成形する。得られる顆粒につい
て190°Cで測定した■、−値を第■表に総括掲載す
る。
26.29および31におけるのと同様にそれぞれ0.
1重量%の安定剤および0.1重量%のステアリン酸カ
ルシウム並びに場合によって追加的に0.1重量%のビ
ス−(オクタデシル)−チオジプロピオン酸エステル(
Sと略す)および0.1重量%のトリス−(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)−ホスフィンI−(Pと略す)に
て安定化したポリプロピレン粉末を、最高270℃のも
とで押出成形試験器(Goepfert社:直径20m
a+、長さが直径の20倍、回転数30回転)分、工程
深度比(Gangtiefenverhaeltnis
) 1:3)で数回押出成形する。得られる顆粒につい
て190°Cで測定した■、−値を第■表に総括掲載す
る。
これらの一連の試験においても本発明安定剤(例15お
よび18のもの)は殊に協力剤の存在下に、(例48お
よび49で用いる)従来技術の安定剤(例48:3−(
3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−プ
ロピオン酸のオクタデシルエステル、例49:ベンタエ
リスリットの同じ酸のテトラエステル)と同様にポリプ
ロピレンの良好な加工安定性をもたらす。対照試験とし
て押出成形した安定化してないポリプロピレン(例50
参照)は安定化された全ての試料よりも分子ヱ分解が著
しい。
よび18のもの)は殊に協力剤の存在下に、(例48お
よび49で用いる)従来技術の安定剤(例48:3−(
3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−プ
ロピオン酸のオクタデシルエステル、例49:ベンタエ
リスリットの同じ酸のテトラエステル)と同様にポリプ
ロピレンの良好な加工安定性をもたらす。対照試験とし
て押出成形した安定化してないポリプロピレン(例50
参照)は安定化された全ての試料よりも分子ヱ分解が著
しい。
51〜5453および54は ■に・しない )例2
4.26.29および31と同様にして製造され且つ安
定化されたポリプロピレン試料を例33〜39と同様に
28日間の100℃での老化試験に委ねそして次いで場
合によって生じる変色の視覚的評価をすると、例24に
従う本発明に従って安定化された試料は従来技術の試料
29および31と同様に良好であると評価でき、一方硫
黄含有安定剤を含有する本発明の試料26は他の試料の
水準に全く達していない(評価については第■表参照)
。
4.26.29および31と同様にして製造され且つ安
定化されたポリプロピレン試料を例33〜39と同様に
28日間の100℃での老化試験に委ねそして次いで場
合によって生じる変色の視覚的評価をすると、例24に
従う本発明に従って安定化された試料は従来技術の試料
29および31と同様に良好であると評価でき、一方硫
黄含有安定剤を含有する本発明の試料26は他の試料の
水準に全く達していない(評価については第■表参照)
。
h o= O+:、eo
。
。
C目
本略号:A・0.1重量%の安定剤添加X = 3−(
3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロタデシル)−チオジ
プロピオン酸エステル0.14−ジ第三ブチルーフヱニ
ル)−ホスフィツト0.1キシフエニル)−プロピオン
酸エステル■に表: toooCでポリプロピレンを4
週間老化試験した後に視覚的に測定した色濃度 型A・0.1重量%の酸化防止剤添加 率8・八と同じで且つ追加的に0.1重量%のビス−(
オクタデシル)−チオジプロピオン酸添加IC= 8と
同じで且つ追加的に0.1重量%のトリス−(2,4−
ジ第三ブチルフェノール)ホスフィト添加本本 標記は
それぞれ同じ添加物を含有する例38の比較実験を基準
としている。
3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロタデシル)−チオジ
プロピオン酸エステル0.14−ジ第三ブチルーフヱニ
ル)−ホスフィツト0.1キシフエニル)−プロピオン
酸エステル■に表: toooCでポリプロピレンを4
週間老化試験した後に視覚的に測定した色濃度 型A・0.1重量%の酸化防止剤添加 率8・八と同じで且つ追加的に0.1重量%のビス−(
オクタデシル)−チオジプロピオン酸添加IC= 8と
同じで且つ追加的に0.1重量%のトリス−(2,4−
ジ第三ブチルフェノール)ホスフィト添加本本 標記は
それぞれ同じ添加物を含有する例38の比較実験を基準
としている。
評価: 0 例38の安定化と同程度に良好(+)例3
8の安定化より若干良好/若干悪い÷ 例38の安定化
より良好 +十 例38の安定化より非常に良好 (−)例3Bの安定化より若干悪い −例38の安定化より悪い −例38の安定化より非常に悪い 第7表の説明: 市略号:A=0.1重量%の安定剤含有B = 0.1
重量2の安定剤および0.1重量%のビス−(オクタデ
シル)−チオ−。
8の安定化より若干良好/若干悪い÷ 例38の安定化
より良好 +十 例38の安定化より非常に良好 (−)例3Bの安定化より若干悪い −例38の安定化より悪い −例38の安定化より非常に悪い 第7表の説明: 市略号:A=0.1重量%の安定剤含有B = 0.1
重量2の安定剤および0.1重量%のビス−(オクタデ
シル)−チオ−。
ジプロピオン酸エステル(略号S)
含を
C=t+と同じで且つ追加的に0.1重量%のトリス−
(2,4−ジ第三ブチル−フェニル)−ホスフィツト(
略号P)含 55〜60(日に しない 例2〜11と同様に1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−
3−メチル−フェニル)−シクロドデカン(例55)
、1.1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−第三ブチルフ
ェニル)−シクロドデカン(例56) 、1.1−ビス
−(4−ヒドロキシ−3−第三プチル−フェニル)−シ
クロヘキサン(例57) 、2.2−ビス−(4−ヒド
ロキシ−3−第三ブチル−フェニル)−プロパン(例5
8)、α、α゛−ビス−(4−ヒドロキシ−フェニル)
−m=ジイソプロピルベンゼン(例59)および1.1
.1−)IJスス−4−ヒドロキシフェニル)−エタン
(例60)をオキシエチル化によって相応するビス−あ
るいはトリス−(モノオキシエチラート)□即ち、ビス
−あるいはトリス−(4−(2”−ヒドロキシエトキシ
)−フェニル化合物−に転化する。これらのニーあるい
は三官能性アルコールの構造は’H−NMR−スペクト
ルの共鳴スペクトル線の状態および強さによって確かめ
られる。
(2,4−ジ第三ブチル−フェニル)−ホスフィツト(
略号P)含 55〜60(日に しない 例2〜11と同様に1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−
3−メチル−フェニル)−シクロドデカン(例55)
、1.1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−第三ブチルフ
ェニル)−シクロドデカン(例56) 、1.1−ビス
−(4−ヒドロキシ−3−第三プチル−フェニル)−シ
クロヘキサン(例57) 、2.2−ビス−(4−ヒド
ロキシ−3−第三ブチル−フェニル)−プロパン(例5
8)、α、α゛−ビス−(4−ヒドロキシ−フェニル)
−m=ジイソプロピルベンゼン(例59)および1.1
.1−)IJスス−4−ヒドロキシフェニル)−エタン
(例60)をオキシエチル化によって相応するビス−あ
るいはトリス−(モノオキシエチラート)□即ち、ビス
−あるいはトリス−(4−(2”−ヒドロキシエトキシ
)−フェニル化合物−に転化する。これらのニーあるい
は三官能性アルコールの構造は’H−NMR−スペクト
ルの共鳴スペクトル線の状態および強さによって確かめ
られる。
これらの化合物は場合によってはエタノールで再結晶処
理した後に次の融点を示す: 例55: 168〜170 ’C例58: 122〜1
24°C例56: 189〜190°C例59: 76
〜77.5 °C例57: 63〜67℃ 例60
: 106〜108℃例1並びに12〜21で用いた方
法によって、例55〜60で製造された多価アルコール
をチタン−テトラブチラードの存在下に120°C程度
の温度のもとて過剰の3−(3,5−ジ第三ブチルー4
−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル
にてエステル交換する。反応時間は5〜10時間である
。後処理および未反応のあるいは過剰の原料の除去を前
述の例と同様に行う。ここで得られた未知のエステルの
構造も適当な溶剤で再結晶処理した後に’H−NMR−
スペクトルのシグナルの状態および強さによって確かめ
られる。
理した後に次の融点を示す: 例55: 168〜170 ’C例58: 122〜1
24°C例56: 189〜190°C例59: 76
〜77.5 °C例57: 63〜67℃ 例60
: 106〜108℃例1並びに12〜21で用いた方
法によって、例55〜60で製造された多価アルコール
をチタン−テトラブチラードの存在下に120°C程度
の温度のもとて過剰の3−(3,5−ジ第三ブチルー4
−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸メチルエステル
にてエステル交換する。反応時間は5〜10時間である
。後処理および未反応のあるいは過剰の原料の除去を前
述の例と同様に行う。ここで得られた未知のエステルの
構造も適当な溶剤で再結晶処理した後に’H−NMR−
スペクトルのシグナルの状態および強さによって確かめ
られる。
■旦
1.1−ビス−(4−(2’−ヒドロキシエトキシ−)
3−メチル−フェニル)−シクロドデカンのビスエステ
ル 収率:理論値の71χ 融点:99〜102°C(エタノールで処理)胆 1.1−ビス−(4−(2’−ヒドロキシエトキシ−)
3−第三ブチルフェニル)−シクロドデカンのビスエス
テル 収率:理論値の54.1χ 融点:86〜90°C(石油エーテルで処理)純度:≧
95χ(’H−NMRによる)梱 1.1−ビス−(4−(2’−ヒドロキシエトキシ)−
3−第三ブチル−フェニル)−シクロヘキサンのビスエ
ステル 収率:理論値の85χ 融点=42〜50℃ 純度:≧90χ(’H−NMRによる)■且 2.2−ビス−(4−(2”−ヒドロキシエトキシ)−
3−第三ブチル−フェニル)−プロパンのビスエステル
牧率:理論値の48χ 融点:113〜115℃(エタノールで処理)純度:≧
95χ(’H−NMRによる)皿匝 α、α°−ビス−(4−(2’−ヒドロキシエトキシ)
−フェニル〕−−−ジイソプロピルベンゼンのビスエス
テル 収率:理論値の82.8χ 融点:53〜57゛C 純度: ≧95Z (’H−NMRニよる)■銭 1、1.1−トリス−(4−(2“−ヒドロキシエトキ
シ)−フェニル)−エタンのトリスエステル 牧率:理論値の76χ 融点:58〜65°C 純度:約90χ(’H−NMRによる)開立ヒビは 本発明の安定剤(例67〜70)にておよび従来技術の
安定剤(例71:比較例)にてポリプロピレンを安定化
する。
3−メチル−フェニル)−シクロドデカンのビスエステ
ル 収率:理論値の71χ 融点:99〜102°C(エタノールで処理)胆 1.1−ビス−(4−(2’−ヒドロキシエトキシ−)
3−第三ブチルフェニル)−シクロドデカンのビスエス
テル 収率:理論値の54.1χ 融点:86〜90°C(石油エーテルで処理)純度:≧
95χ(’H−NMRによる)梱 1.1−ビス−(4−(2’−ヒドロキシエトキシ)−
3−第三ブチル−フェニル)−シクロヘキサンのビスエ
ステル 収率:理論値の85χ 融点=42〜50℃ 純度:≧90χ(’H−NMRによる)■且 2.2−ビス−(4−(2”−ヒドロキシエトキシ)−
3−第三ブチル−フェニル)−プロパンのビスエステル
牧率:理論値の48χ 融点:113〜115℃(エタノールで処理)純度:≧
95χ(’H−NMRによる)皿匝 α、α°−ビス−(4−(2’−ヒドロキシエトキシ)
−フェニル〕−−−ジイソプロピルベンゼンのビスエス
テル 収率:理論値の82.8χ 融点:53〜57゛C 純度: ≧95Z (’H−NMRニよる)■銭 1、1.1−トリス−(4−(2“−ヒドロキシエトキ
シ)−フェニル)−エタンのトリスエステル 牧率:理論値の76χ 融点:58〜65°C 純度:約90χ(’H−NMRによる)開立ヒビは 本発明の安定剤(例67〜70)にておよび従来技術の
安定剤(例71:比較例)にてポリプロピレンを安定化
する。
例22〜32と同様の方法で、ポリプロピレン粉末を例
14.16.20および21に従って製造された本発明
の安定剤0.1重量%あるいは従来技術の安定剤□ペン
タエリスリットのテトラ−〔3−(3,5−ジ第三ブチ
ルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸〕−エス
テル□とそして加工助剤としてステアリン酸カルシウム
0.1重量%並びに場合によっては追加的にビス−(オ
クタデシル)−チオジプロピオン酸エステル(Sと略す
)0゜1重Iχおよびトリス−(2,4−ジ第三ブチル
フェニル)−ホスフィツト(Pと略す)0.1重量%と
混合する。この粉末混合物から得られるプレス成形板状
物を、145°Cでの空気循環式乾燥器における老化試
験に委ねるポリオレフィン帯状物を製造する為に利用す
る。第4表に結果を示す。
14.16.20および21に従って製造された本発明
の安定剤0.1重量%あるいは従来技術の安定剤□ペン
タエリスリットのテトラ−〔3−(3,5−ジ第三ブチ
ルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸〕−エス
テル□とそして加工助剤としてステアリン酸カルシウム
0.1重量%並びに場合によっては追加的にビス−(オ
クタデシル)−チオジプロピオン酸エステル(Sと略す
)0゜1重Iχおよびトリス−(2,4−ジ第三ブチル
フェニル)−ホスフィツト(Pと略す)0.1重量%と
混合する。この粉末混合物から得られるプレス成形板状
物を、145°Cでの空気循環式乾燥器における老化試
験に委ねるポリオレフィン帯状物を製造する為に利用す
る。第4表に結果を示す。
安定化したポリプロピレン試料の145℃で測定した安
定性についてz本発明に従って混入したエステルの能力
は、従来技術の安定剤を利用した試料の水準に達してい
るかまたはそれを凌駕していることが判る。
定性についてz本発明に従って混入したエステルの能力
は、従来技術の安定剤を利用した試料の水準に達してい
るかまたはそれを凌駕していることが判る。
例14.1G、20および21に従って製造された本発
明の安定剤0.1重itx <例72〜75)あるいは
比較例71でも用いた(従来技術)の安定剤0.1重量
2並びにステアリン酸カルシウム0.1重量%をポリエ
チレン粉末に混入しそしてこれらから製造さた顆粒を2
10℃でプレス成形して4×10 X 100+aa+
の寸法の板を得る。これらについて100℃で四週間の
老化試験をした後に視覚的に確認できる変色を評価する
。
明の安定剤0.1重itx <例72〜75)あるいは
比較例71でも用いた(従来技術)の安定剤0.1重量
2並びにステアリン酸カルシウム0.1重量%をポリエ
チレン粉末に混入しそしてこれらから製造さた顆粒を2
10℃でプレス成形して4×10 X 100+aa+
の寸法の板を得る。これらについて100℃で四週間の
老化試験をした後に視覚的に確認できる変色を評価する
。
試験結果は、本発明に従って安定化さポリエチレン板(
例72〜75)が、従来技術に従って安定化されたもの
(例76:比較例)よりも強く変色することがないこと
を示している。変色の程度は全ての試料が僅かであった
。
例72〜75)が、従来技術に従って安定化されたもの
(例76:比較例)よりも強く変色することがないこと
を示している。変色の程度は全ての試料が僅かであった
。
L
例67〜71に従って製造された安定化ポリプロピレン
粉末を例46〜50と同様に最高270°Cで押出検査
器(Goefert社製:直径20+nn+ 、長さは
直径の20倍、回転数30回転/分、工程深度比l:3
)で多数回押出成形する。得られた顆粒について190
°Cで測定される■、−値(MFI)を第4表に掲載す
る。
粉末を例46〜50と同様に最高270°Cで押出検査
器(Goefert社製:直径20+nn+ 、長さは
直径の20倍、回転数30回転/分、工程深度比l:3
)で多数回押出成形する。得られた顆粒について190
°Cで測定される■、−値(MFI)を第4表に掲載す
る。
例77〜80で用いた(例14.16.20および21
で製造された)本発明の安定剤では殊に協力剤の存在下
にポリプロピレンを、(例81で代表され゛る)従来技
術によるのと同等に良好に安定化することが判る。
で製造された)本発明の安定剤では殊に協力剤の存在下
にポリプロピレンを、(例81で代表され゛る)従来技
術によるのと同等に良好に安定化することが判る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R_1は−C(CH_3)_3であり、 R_2はH、炭素原子数1〜4のアルキル基、 殊に−C(CH_3)_3であり、 mは0〜4、殊に2である。〕 で表される3−第三ブチル−あるいは3−第三ブチル−
5−アルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)
カルボン酸と 下記式IIのビス−(4−あるいは2−ヒドロキシフェニ
ル)−アルカン類、−オキシド類、スルフィド類および
−スルホン類のオキシエチラート、殊にビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−アルカン類、−オキシド類、スル
フィド類およびスルホン類のオキシエチラート、下記式
IIIaのトリス−(4−ヒドロキフェニル)−アルカン
類のオキシエチラートまたは下記式IIIbの1,3,5
−トリス−(4−ヒドロキシフェニル−イソプロピリデ
ン)−アリーレンのオキシエチラート: ▲数式、化学式、表等があります▼(II)▲数式、化学
式、表等があります▼(IIIa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIIb) 〔式II、IIIaおよびIIIb中、Aは−CR_3R_4−
、炭素原子数2〜12のアルカンジイル−、−O−、−
OCH_2CH_2O−、−S−、SCH_2CH_2
S−、−SO_2、−SO_2CH_2CH_2SO_
2−、ビス−イソプロピリデン−アリール残基(ほゞ1
,4−あるいは1,3−ビス−1−メチル−エチルアリ
ール残基)であり、 R_3、R_4はH、炭素原子数1〜8アルキル基、ア
リ−ル基、4−〔(4−ヒドロキシフェニル)−イソプ
ロピリデン〕−フェニル(ほゞ4〔1−(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−メチルエチル〕−フェニル基)、炭
素原子数5〜12のシクロアルキル基、殊にアルキル基
であり、但しR_3およびR_4はR_5およびR_6
がHである場合にはCH_3ではなく、 その際、R_3、R_4がアルキル基であればこれら置
換基は閉環して、場合によってはアルキル置換された炭
素原子数12以下の環を形成してもよく(即ち、−CR
_3R_4−=シクロアルキリデン基)、 R_5、R_6はH、炭素原子数1〜4アルキル基、炭
素原子数5〜12のシクロアルキル基、炭素原子数1〜
4のアルコキシ基、殊にHであり、 その際R_5、R_6が式IIにおいてHでない場合には
両方の置換基はフェノ−ル性水酸基に対してo−あるい
はo′−位に位置してはならず、 R_7はH、炭素原子数1〜8のアルキル基である。〕 −オキシエチレラートは最高3つのアルキレンオキサイ
ド単位、殊にエチレンオキサイド単位を含有していても
よい−とのエステル。 2)一般式 I a ▲数式、化学式、表等があります▼ I a で表される3−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−プロピオン酸と一般式IIのビス−(4
−あるいは2−ヒドロキシフェニル)−アルカン類、−
オキシド類、スルフィド類および−スルホン類のオキシ
エチラート、殊にビス−(4−ヒドロキシフェニル)−
アルカン類、−オキシド類、スルフィド類およびスルホ
ン類、特にAが−CR_3R_4−、−O−、−S−、
−SO_2−、ビス−イソプロピリデン−フェニル残基
でありそしてR_3、R_4がH、CH_3(但し、R
_5、R_6はHでない)あるいは−CR_3R_4−
が1,1−シクロヘキシリデン、1,1−シクロドデシ
ルデシであるもののオキシエチラート、式IIIaのトリ
ス−(4−ヒドロキフェニル)−アルカン類の、殊にR
_5がHであるもののオキシエチラートまたは式IIIb
の1,3,5−トリス−(4−ヒドロキシフェニル−イ
ソプロピリデン)−アリーレンのオキシエチラートとの
エステルで、その際オキシエチラートが最高三つのアル
キレンオキサイド単位、殊にエチレンオキサイド単位を
含有している特許請求の範囲第1項記載のエステル。 3)特に好ましくは(2−ヒドロキシエトキシ基として
)エチレンオキサイド単位を式IIあるいはIIIの化合物
の水酸基の替わりに含有している、式IIあるいはIIIa
のビス−あるいはトリス−(4−ヒドロキシフェニル)
−アルカン類、−オキシド類、スルフィド類およびスル
ホン類並びに式IIIbの1,3,5−トリス−(4−ヒ
ドロキシフェニル−イソプロピリデン)−アリーレンの
オキシエチラートとの特許請求の範囲第1項または第2
項記載のエステル。 4)α,α′−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−p
−あるいは−m−ジイソプロピルベンゼンの、1,1−
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサンの
、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロ
ドデカンの、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−フ
ェニル)−シクロドデカンの、1,1−ビス−(4−ヒ
ドロキシ−3−第三ブチルフェニル)−シクロドデカン
の、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−1−
フェニルエタンの、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−
3−第三ブチルフェニル)−プロパンの、ビス−(2−
ヒドロキシ−3−シクロヘキシル−5−メチルフェニル
)−メタンの、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−エ
ーテルの、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−スルフ
ィドの、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−スルホン
のビス−(モノオキシエチラート)とのおよびトリス−
(4−ヒドロキシフェニル)−メタンの、1,1,1−
トリス−(4−ヒドロキシフェニル)−エタンのおよび
1,3,5−トリス−(4−ヒドロキシフェニル−イソ
プロピリデン)−ベンゼンのトリス−(モノオキシエチ
ラート)との特許請求の範囲第1項または第2項記載の
エステル。 5)一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R_1は−C(CH_3)_3であり、R_2
はH、炭素原子数1〜4のアルキル基、殊に−C(CH
_3)_3であり、 mは0〜4、殊に2である。〕 で表される3−第三ブチル−あるいは3−第三ブチル−
5−アルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)
カルボン酸と下記式IIのビス−(4−あるいは2−ヒド
ロキシフェニル)−アルカン類、−オキシド類、スルフ
ィド類および−スルホン類のオキシエチラート、殊にビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)−アルカン類、−オキ
シド類、スルフィド類およびスルホン類のオキシエチラ
ート、下記式IIIaのトリス−(4−ヒドロキフェニル
)−アルカン類のオキシエチラートまたは下記式IIIb
の1,3,5−トリス−(4−ヒドロキシフェニル−イ
ソプロピリデン)−アリーレンのオキシエチラート: ▲数式、化学式、表等があります▼(II)▲数式、化学
式、表等があります▼(IIIa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIIb) 〔式II、IIIaおよびIIIb中、Aは−CR_3R_4−
、炭素原子数2〜12のアルカンジイル−、−O−、−
OCH_2CH_2O−、−S−、SCH_2CH_2
S−、−SO_2−、−SO_2CH_2CH_2SO
_2、ビス−イソプロピリデン−アリール残基(ほゞ1
,4−あるいは1,3−ビス−1−メチル−エチルアリ
ール残基)であり、 R_3、R_4はH、炭素原子数1〜8アルキル基、ア
リール基、4−〔(4−ヒドロキシフェニル)−イソプ
ロピリデン〕−フェニル(ほゞ4〔1−(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−メチルエチル〕−フェニル基)、炭
素原子数5〜12のシクロアルキル基、殊にアルキル基
であり、但しR_3およびR_4はR_5およびR_6
がHである場合にはCH_3ではなく、その際、R_3
、R_4がアルキル基であればこれら置換基は閉環して
場合によってはアルキル置換された炭素原子数12以下
の環を形成してもよく(即ち、−CR_3R_4−=シ
クロアルキリデン基)、 R_5、R_6はH、炭素原子数1〜4のアルキル基、
炭素原子数5〜12のシクロアルキル基、炭素原子数1
〜4のアルコキシ基、殊にHであり、 その際R_5、R_6が式IIにおいてHでない場合には
両方の置換基はフェノール性水酸基に対してo−あるい
はo′−位に位置してはならず、 R_7はH、炭素原子数1〜8のアルキル基である。〕 −オキシエチレラートは最高3つのアルキレンオキサイ
ド単位、殊にエチレンオキサイド単位を含有していても
よい−とのエステルを製造するに当たって、3−第三ブ
チル−あるいは3−第三ブチル−5−アルキル−4−ヒ
ドロキシフェニル−(アルカン)−カルボン酸あるいは
その誘導体とビス−(4−あるいは2−ヒドロキシフェ
ニル)−アルカン類、−オキシド類、−スルフィド類お
よび−スルホン類の並びにトリス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−アルカン類のおよび1,3,5−トリス−(
4−ヒドロキシフェニル−イソプロピリデン)−アリー
レンのオキシエチラートと、公知の触媒、殊に塩基性ま
たは中性の触媒の存在下にエステル化あるいはエステル
交換することを特徴とする、上記エステルの製造方法。 6)一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R_1は−C(CH_3)_3であり、 R_2はH、炭素原子数1〜4のアルキル基、 殊に−C(CH_3)_3であり、 mは0〜4、殊に2である。〕 で表される3−第三ブチル−あるいは3−第三ブチル−
5−アルキル−4−ヒドロキシフェニル−(アルカン)
カルボン酸と下記式IIのビス−(4−あるいは2−ヒド
ロキシフェニル)−アルカン類、−オキシド類、スルフ
ィド類および−スルホン類のオキシエチラート、殊にビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)−アルカン類、−オキ
シド類、スルフィド類およびスルホン類のオキシエチラ
ート、下記式IIIaのトリス−(4−ヒドロキフェニル
)−アルカン類のオキシエチラートまたは下記式IIIb
の1,3,5−トリス−(4−ヒドロキシフェニル−イ
ソプロピリデン)−アリーレンのオキシエチラート: ▲数式、化学式、表等があります▼(II)▲数式、化学
式、表等があります▼(IIIa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIIb) 〔式II、IIIaおよびIIIb中、Aは−CR_3R_4−
、炭素原子数2〜12のアルカンジイル−、−O−、−
OCH_2CH_2O−、−S−、SCH_2CH_2
S−、−SO_2−、−SO_2CH_2CH_2SO
_2−、ビス−イソプロピリデン−アリール残基(ほゞ
1,4−あるいは1,3−ビス−1−メチル−エチルア
リール残基)であり、 R_3、R_4はH、炭素原子数1〜8アルキル基、ア
リール基、4−〔(4−ヒドロキシフェニル)−イソプ
ロピリデン]−フェニル(ほゞ4〔1−(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−メチルエチル〕−フェニル基)、炭
素原子数5〜12のシクロアルキル基、殊にアルキル基
であり、但しR_3およびR_4はR_5およびR_6
がHである場合にはCH_3ではなく、 その際、R_3、R_4がアルキル基であればこれら置
換基は閉環して場合によってはアルキル置換された炭素
原子数12以下の環を形成してもよく(即ち、−CR_
3R_4−=シクロアルキリデン基)、 R_5、R_6はH、炭素原子数1〜4のアルキル基、
炭素原子数5〜12のシクロアルキル基、炭素原子数1
〜4のアルコキシ基、殊にHであり、 その際R_5、R_6が式IIにおいてHでない場合には
両方の置換基はフェノール性水酸基に対してo−あるい
はo′−位に位置してはならず、 R_7はH、炭素原子数1〜8のアルキル基である。〕 −オキシエチレラートは最高3つのアルキレンオキサイ
ド単位、殊にエチレンオキサイド単位を含有していても
よい−とのエステルより成る、重合体用安定剤。 7)重合体がポリオレフィンである特許請求の範囲第6
項記載の安定剤。 8)ポリオレフィンがポリエチレンおよびポリプロピレ
ンである特許請求の範囲第7項記載の安定剤。 9)重合体を基準として0.02〜3重量%、殊に0.
05〜2重量%の濃度で用いる特許請求の範囲第6項記
載の安定剤。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3639374.6 | 1986-11-18 | ||
DE19863639374 DE3639374A1 (de) | 1986-11-18 | 1986-11-18 | Ester von 3-tert.-butyl- bzw. 3-tert.-butyl-5-alkyl-4-hydroxyphenyl-(alkan)-carbonsaeuren mit oxethylaten von bis-(4- bzw. 2-hydroxyphenyl)-alkanen, -oxiden, -sulfiden und -sulfonen von tris-(4-hydroxyphenyl)-alkanen und von 1,3,5-tris-(4-hydroxyphenyl-isopropyliden)-arylen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als stabilisatoren |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63135358A true JPS63135358A (ja) | 1988-06-07 |
Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62290461A Pending JPS63135358A (ja) | 1986-11-18 | 1987-11-17 | 3‐第三ブチル‐ あるいは 3‐ 第三ブチル‐5‐ アルキル‐4‐ ヒドロキシフエニル‐(アルカン)‐ カルボン酸とビス‐(4‐あるは2‐ヒドロキシフエニル)‐アルカン類、‐オキシド類、‐スルフイド類および‐ スルホン類の、トリス‐(4‐ヒドロキシフエニル) ‐ アルカンのおよび1,3,5‐トリス‐(4‐ヒドロキシフエニル‐イソプロピリデン)‐アリーレンのオキシエチラートとのエステル、その製造方法および安定剤としてのその用途 |
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---|---|
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---|---|---|---|---|
JP2020537018A (ja) * | 2017-10-12 | 2020-12-17 | ミリケン・アンド・カンパニーMilliken & Company | ロイコ化合物およびロイコ化合物を含む組成物 |
JP2020537008A (ja) * | 2017-10-12 | 2020-12-17 | ミリケン・アンド・カンパニーMilliken & Company | トリアリールメタンロイコ化合物およびロイコ化合物を含む組成物 |
JP2020537011A (ja) * | 2017-10-12 | 2020-12-17 | ミリケン・アンド・カンパニーMilliken & Company | ロイコ着色剤および組成物 |
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CH549407A (de) * | 1970-07-06 | 1974-05-31 | Ciba Geigy Ag | Verwendung sterisch gehinderter phenolestern von glykolen als stabilisatoren. |
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US4594444A (en) * | 1983-12-22 | 1986-06-10 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of sterically hindered hydroxyphenylcarboxylic acid esters |
IT1177022B (it) * | 1984-10-24 | 1987-08-26 | Anic Spa | Composizione stabilizzanti per polimeri organici e composizioni polimeriche stabilizzate che li contengono |
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- 1987-11-18 US US07/123,425 patent/US4912249A/en not_active Expired - Fee Related
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JP2020537008A (ja) * | 2017-10-12 | 2020-12-17 | ミリケン・アンド・カンパニーMilliken & Company | トリアリールメタンロイコ化合物およびロイコ化合物を含む組成物 |
JP2020537011A (ja) * | 2017-10-12 | 2020-12-17 | ミリケン・アンド・カンパニーMilliken & Company | ロイコ着色剤および組成物 |
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EP0271649A3 (en) | 1989-05-31 |
DE3773865D1 (de) | 1991-11-21 |
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US4912249A (en) | 1990-03-27 |
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