JPS63132144A - Inspecting machine - Google Patents
Inspecting machineInfo
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- JPS63132144A JPS63132144A JP27788686A JP27788686A JPS63132144A JP S63132144 A JPS63132144 A JP S63132144A JP 27788686 A JP27788686 A JP 27788686A JP 27788686 A JP27788686 A JP 27788686A JP S63132144 A JPS63132144 A JP S63132144A
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- mask
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Landscapes
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業−1−の利用分野]
この発明は、被検査物の検査を行う検査機に関し、特に
、゛)1導体来積回路のホトリソグラフィ工程などに用
いられるマスクの基板(マスクブランクス)のピンホー
ル、異物付着などの欠陥を検査するマスク基板検査機に
関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of Application in Industry-1-] The present invention relates to an inspection machine that inspects an object to be inspected, and particularly relates to (a) a mask used in a photolithography process of a one-conductor integrated circuit; This invention relates to a mask substrate inspection machine that inspects defects such as pinholes and foreign matter adhesion on substrates (mask blanks).
[従来の技術]
従来のマスク基板検査機においては、検査すべきマスク
基板はカセット(容器)に多数枚収納された形で供給さ
れ、そのカセットからマスク基板が台ヒに順次取り出さ
れ、この台から搬送機構によって検査ステージへ搬送さ
れ、@査される。[Prior Art] In a conventional mask substrate inspection machine, a large number of mask substrates to be inspected are supplied in a cassette (container), and the mask substrates are sequentially taken out from the cassette to a stand. From there, it is transported to the inspection stage by the transport mechanism and inspected.
[解決しようとする問題点]
このようなマスク基板検査機は基本的には中種で使用さ
れることを前提としており、マスク基板の処理ラインと
接続して使用することは考慮していない。[Problems to be Solved] Such a mask substrate inspection machine is basically intended to be used for medium-sized inspection, and does not take into account use in connection with a mask substrate processing line.
勿論、このようなマスク基板検査機をマスク基板処理ラ
インの最終段に配置し、マスク基板処理ラインからマス
ク基板をマスク基板取り出し用の台に供給させることも
Hf能であろう。Of course, it would also be possible to arrange such a mask substrate inspection machine at the final stage of the mask substrate processing line and supply the mask substrates from the mask substrate processing line to a table for taking out the mask substrates.
しかし、従来のマスク基板検査機は、前記のようなマス
ク基板供給系が1系統しかなく、また、検査動作とマス
クJ、を板処理ラインからのマスク基板の搬入とは非同
期であるため、マスク基板処理ラインに組み込んで使用
した場合、マスク基板のオーバフローが発生しないよう
にマスク処理ラインからのマスク基板の搬入速度を制限
する7質があるが、マスク基板検査機の遊び時間が増大
するなどの問題がある。However, conventional mask substrate inspection machines have only one mask substrate supply system as described above, and the inspection operation and the mask J are asynchronous with the loading of the mask substrate from the plate processing line. When used in a substrate processing line, there are 7 qualities that limit the speed at which mask substrates are carried in from the mask processing line to prevent overflow of mask substrates. There's a problem.
「発明の(」的]
したがって、この発明の[1的は、そのような従来の問
題点を解消し、マスク基板処理ラインに組み込んで使用
する用途などに好適な検査機を提供することにある。``Object of the Invention'' Therefore, an object of the present invention is to solve such conventional problems and to provide an inspection machine suitable for use by being incorporated into a mask substrate processing line. .
[問題点を解決するための手段]
この発明にあっては、外部から搬入されるマスク基板な
どの被検査物を保持するための第1の保持手段と、カセ
ットから供給される被検査物を保持するための第2の保
持手段と、前記第1または第2の保持4段に保持されて
いる被検査物を検査ステージへ搬送する搬送手段とを具
備することにより、前記目的を達成するものである。[Means for Solving the Problems] The present invention includes a first holding means for holding an object to be inspected such as a mask substrate carried in from the outside, and a first holding means for holding an object to be inspected such as a mask substrate brought in from the outside, and a first holding means for holding an object to be inspected such as a mask substrate brought in from the outside. The above object is achieved by comprising a second holding means for holding the object and a transport means for transporting the object to be inspected held in the first or second four holding stages to the inspection stage. It is.
[0川]
このように、この発明の検査機は被検査物供給系を2系
統有するので、−・方の系統の第1の保持り段に例えば
マスク基板処理ラインからマスク基板(Mf検査物)を
搬入させるようにして、マスク基板処理ラインに組み込
んで使うことができる。[0 River] As described above, since the inspection machine of the present invention has two inspection object supply systems, the mask substrate (Mf inspection object) is supplied from the mask substrate processing line to the first holding stage of the one system. ) can be carried in and used by incorporating it into a mask substrate processing line.
そして、マスクツ、(板処理ラインからのマスク基板の
供給待ち時間に、カセットから第2の保持手段に供給さ
れたマスク基板をJoL査スデステージ送させることが
できるので、検査機の遊び時間を減らすことかできる。Then, while waiting for the supply of mask substrates from the plate processing line, the mask substrates supplied from the cassette to the second holding means can be transferred to the JoL inspection stage, reducing the idle time of the inspection machine. I can do it.
さらに、マスク基板処理ラインにトラブルが発生した場
合などでも、カセットからマスク基板を供給して検査動
作を行わせることができる。Furthermore, even if trouble occurs in the mask substrate processing line, mask substrates can be supplied from the cassette and inspected.
このように、この発明の検査機はマスク基板処理ライン
などに組み込んで使用することができ、しかも稼働率を
−1,げることかできる。In this manner, the inspection machine of the present invention can be used by being incorporated into a mask substrate processing line, and moreover, the operating rate can be increased by -1.
また、カセットからMlE物を供給することもできるの
で、従来のものと同様に中種でも使用できる。Furthermore, since the MlE material can be supplied from a cassette, it can also be used with medium-sized material as in the conventional method.
[実施例コ
以ド、図面を参照し、この発明の一実施例について説明
する。[Embodiment Code] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図は、この発明によるマスク基板検査機の一実施例
を簡略化して示す概略平面図である。FIG. 1 is a schematic plan view showing a simplified embodiment of a mask substrate inspection machine according to the present invention.
この図において、10は外部(例えばマスク基板処理ラ
イン)から供給されるマスク基板を載置保持するための
マスク基板保持台(第1の保持手段)である。このマス
ク基板保持台10に関連して、マスク基板の有無を検出
するためのセンサ12が設けられている。In this figure, reference numeral 10 denotes a mask substrate holding stand (first holding means) for mounting and holding a mask substrate supplied from the outside (for example, a mask substrate processing line). A sensor 12 for detecting the presence or absence of a mask substrate is provided in association with the mask substrate holding stand 10.
14はエレベータであり、そのエレベータ台16にはマ
スク基板を収納したカセット18が載置固定される。Reference numeral 14 denotes an elevator, and a cassette 18 containing mask substrates is placed and fixed on the elevator stand 16.
20はマスク基板出し入れ保持台(第2の保持手段)で
ある。このマスク基板出し入れ保持台20は、前後移動
および昇降が1−1工能であって(そのための駆動機構
は図示されていない)、それ自体の動きによってカセッ
ト18からマスク基板を取り出して載置保持したり、保
持しているマスク基板をカセット18に収納したりする
ものである。20 is a mask substrate loading/unloading holding stand (second holding means). This mask substrate loading and unloading holding table 20 has a 1-1 skill for moving back and forth and raising and lowering (the driving mechanism for this is not shown), and takes out the mask substrate from the cassette 18 and holds it there by its own movement. or store the held mask substrate in the cassette 18.
このマスクJ人板出し入れ保持台20に関連して、マス
ク基板の有無を検出するためのセンサ22が設けられて
いる。A sensor 22 for detecting the presence or absence of a mask substrate is provided in connection with the mask J board loading/unloading holding table 20.
なお、マスク基板11」シ入れ保持台20を静tl−し
た台とし、別の可動部材によってマスク基板をカセッ)
18から押し出して、その台に載置させたり、その台ト
のマスク基板をカセット18に押し込むように変更して
もよい。In addition, the mask substrate 11 is placed in the holding table 20 as a stationary stand, and the mask substrate is held in a cassette by another movable member.
The mask substrate may be pushed out from the cassette 18 and placed on the stand, or the mask substrate on the stand may be pushed into the cassette 18.
また、前記マスク基板保持台10およびマスク基板出し
入れ保持台20は、外部から搬入されるマスク基板また
はカセット18内のマスク基板を、爪伏のもので挟持す
るような構成のものに変更してもよい。Further, the mask substrate holding stand 10 and the mask substrate loading/unloading holding stand 20 may be modified to have a structure in which a mask substrate carried in from the outside or a mask substrate in the cassette 18 is held between the claws. good.
次に、マスク基板保持台10またはマスク基板出し入れ
保t1ン台20ヒに保持されているマスク基板を、検査
ステージに搬送するための搬入側搬送機構について説明
する。Next, the loading side transport mechanism for transporting the mask substrate held on the mask substrate holding stand 10 or the mask substrate loading/unloading stand 20 to the inspection stage will be described.
26はこの搬送機構のチャンキングユニットである。こ
のチャンキングユニット26は・対のアーム28.30
、それを開閉およびyI′降させるための駆動部32、
および駆動部32が取り付けられたスライド台34から
構成されている。26 is a chunking unit of this transport mechanism. This chunking unit 26 has a pair of arms 28.30
, a drive unit 32 for opening/closing and lowering it yI';
and a slide base 34 to which a drive unit 32 is attached.
これらのアーム28.30のそれぞれの先端部)側に一
対のローラが設けられており、アーム28.30をド降
させ、かつ閉じることにより、それらローラをマスク基
板の対向するコーナ部のエツジに係合させ、マスク基板
を挟持するようになっている。A pair of rollers are provided at the ends of each of these arms 28.30, and by lowering and closing the arms 28.30, the rollers are moved to the edges of opposite corners of the mask substrate. They are engaged to sandwich the mask substrate.
スライド台34は」−下に平行配設された一対のガイド
シャフト36に案内されて左右にスライド可能である。The slide table 34 is guided by a pair of guide shafts 36 arranged in parallel below and can slide left and right.
38はチャッキングユニット26を左右に移動させるた
めのモータである。このモータ38によって駆動される
プーリ40と回転自在のプーリ42との間にワイヤ44
が掛けられ、これはスライド台34に接続されている。38 is a motor for moving the chucking unit 26 left and right. A wire 44 is connected between a pulley 40 driven by this motor 38 and a rotatable pulley 42.
is hung, and this is connected to the slide stand 34.
さて、48は@査ステージであり、マスク基板を保持す
るためのマスク基板受は台50と、マスク基板の欠陥を
光学的に検出するための光学部(図小せず)をイ1′す
る。Now, 48 is a scanning stage, a mask substrate holder for holding the mask substrate is a stand 50, and an optical part (not shown in the figure) for optically detecting defects in the mask substrate is 1'. .
この光学部は、マスク基板受は台50に保持されたマス
ク基板の−L面をレーザ光ビームで走査し、その斜め方
向への散乱光をホトマルチプライヤなどによって電気信
号に変換し、その信号からマスク基板1ユ而の異物付着
、傷などを検出し、また、マスク基板のド面への透過光
をホトマルチプライヤなどで電気信号に変換し、その信
号からマスク基板のピンホールを検出するものである。In this optical section, the mask substrate holder scans the −L plane of the mask substrate held on the stand 50 with a laser beam, converts the scattered light in an oblique direction into an electrical signal using a photomultiplier, etc. It detects foreign matter adhesion, scratches, etc. on the mask substrate 1, and also converts the transmitted light to the surface of the mask substrate into an electrical signal using a photomultiplier, etc., and detects pinholes in the mask substrate from that signal. It is something.
なお、マスク基板受は台50は、前記走査のための11
i1後方向移動と、光学部とマスク基板との焦点合わせ
などのための上下移動が可能である。Incidentally, the mask substrate holder holder 50 has 11 parts for the scanning.
It is possible to move backward i1 and to move up and down for focusing between the optical section and the mask substrate.
次に検査済みマスク基板に関連した部分を説明する。5
4,58.58はエレベータであり、それぞれのエレベ
ータ台80.82.64には検査済みマスク基板を収納
するためのカセット66゜68.70が載置固定される
。Next, parts related to the inspected mask substrate will be explained. 5
Reference numerals 4, 58, and 58 are elevators, and cassettes 66°, 68, and 70 for storing inspected mask substrates are placed and fixed on the respective elevator stands 80, 82, and 64.
各エレベータ54.56.58の後ろ側に、中継台72
,74.78が配設されている。各中継台72.74.
78はそれぞれ昇降l−4f能であるが、そのための駆
動機構は図小されていない。At the back of each elevator 54, 56, 58, there is a relay stand 72.
, 74.78 are arranged. Each relay stand 72.74.
78 has the ability to move up and down 1-4f, but the drive mechanism for this is not shown in the figure.
各中継台72,74.76の両側に、同転+iJ能なロ
ーラ78が図示のように列設されている。各ローラ78
は、先端部(図中内端部)に向かって直径が漸減するよ
うな円錐吠ローラである。On both sides of each relay stand 72, 74, 76, rollers 78 capable of simultaneous rotation + iJ are arranged in rows as shown. Each roller 78
is a conical roller whose diameter gradually decreases toward the tip (inner end in the figure).
各中継台72,74.78に関連して、前後に移動可能
な押し込み金具80,82.84が配設されている。そ
れらの駆動機構は図中省略されている。In relation to each relay stand 72, 74.78, push fittings 80, 82.84 which are movable back and forth are arranged. Those drive mechanisms are omitted in the figure.
次に、検査ステージ48から検査済みマスク基板を搬出
するための搬送機構について説明する。Next, a transport mechanism for carrying out the inspected mask substrate from the inspection stage 48 will be explained.
90は搬入側搬送機構のチャッキングユニット26と同
様のチャッキングユニットである。このチャッキングユ
ニット90もガイドシャフト36に案内されて左右にス
ライド可能である。90 is a chucking unit similar to the chucking unit 26 of the carry-in side transport mechanism. This chucking unit 90 is also guided by the guide shaft 36 and can slide left and right.
92はチャッキングユニット90を左右に移動させるた
めのモータである。このモータ92によって駆動される
プーリ94と、回転自在のプーリ96との間にワイヤ9
8が掛けられ、これはチャッキングユニット90に接続
されている。92 is a motor for moving the chucking unit 90 left and right. A wire 9 is connected between a pulley 94 driven by this motor 92 and a rotatable pulley 96.
8 is connected to the chucking unit 90.
なお、カセット18が空または溝棒になったことを検出
するための手段、カセットee、es。In addition, means for detecting that the cassette 18 is empty or has become a groove bar, the cassette ee, es.
70が満杯になったことを検出するための手段があるが
、図中示されていない。There is a means for detecting when 70 is full, but it is not shown in the figure.
99は前記各部の動作制御などを行うための制御部であ
る。前記センサ12.22の検出信号、マスク基板処理
ラインからのマスク基板搬入要求信号などは、この制御
部99に入力される。また、この制御部99からマスク
基板処理ラインへの搬入禁11ユ信号などが出される。Reference numeral 99 denotes a control section for controlling the operations of the respective sections. Detection signals from the sensors 12 and 22, mask substrate carry-in request signals from the mask substrate processing line, and the like are input to this control section 99. In addition, the control unit 99 issues a signal such as 11 prohibition of carrying into the mask substrate processing line.
次に、このマスク基板検査機の動作について説明する。Next, the operation of this mask substrate inspection machine will be explained.
なお、以ドに説明する動作は飽くまで例であり、それ以
外の動作も可能であることは当然である。Note that the operations described below are merely examples, and other operations are of course possible.
第2図は、搬入側搬送機構に関連した動作を説明するた
めの概略フローチャートであり、以下の説明において、
これを適宜参照する。FIG. 2 is a schematic flowchart for explaining operations related to the carry-in side conveyance mechanism, and in the following explanation,
Please refer to this as appropriate.
まず、マスク基板保持台10に、外部のマスク基板処理
ラインから搬入されたマスク基板が載置保持されている
か104べられる(ステップ100)。First, it is checked whether a mask substrate carried in from an external mask substrate processing line is placed and held on the mask substrate holding table 10 (step 100).
マスク基板が保持されている場合は、ステップ゛102
の動作が行われる。チャッキングユニット26(マスク
基板出し入れ保持台20の位置にあり、アーム28.3
0は開状態で、Ljlている)が第1図に示す位置まで
移動させられ、アーム28.30が降下させられ、次に
閉じられることにより、マスク基板受は台101ユのマ
スク基板(鎖Ml 1)がアーム28.30に挟持され
る。そのままアーム28.30かに−Vfさせられ、チ
ャッキングユニット26はマスク基板出し入れ保持台2
0の位置まで移動させられる。If the mask substrate is held, step 102
The following actions are performed. Chucking unit 26 (located at the position of the mask substrate loading/unloading holder 20, arm 28.3
0 is in the open state, Ljl is moved to the position shown in FIG. Ml 1) is held between arms 28.30. As it is, the arm 28.
It is moved to the 0 position.
検査ステージ36のマスク基板受は台50にマスク基板
がなく、搬出用のチャッキングユニット90が検査ステ
ージ48の位置になく、マスク基板の搬入が可能な状態
(レディ状態)であるか調べられる(ステージ108)
。The mask substrate holder of the inspection stage 36 is checked to see if there is no mask substrate on the stand 50, the unloading chucking unit 90 is not in the position of the inspection stage 48, and whether the mask substrate can be loaded (ready state). Stage 108)
.
レディ状態であれば、ステップ110の動作に進む。ま
ず、チャッキングユニット26は検査ステージ48へ向
けて移動させられ、マスク基板受は台50の位置で停止
1・、させられる。アーム28゜30が降ドさせられ、
それに挟持されているマスク基板がマスク基板受は台5
0に位置決めa置され、マスク基板受は台50に負圧吸
着にって保持される。次に、アーム28.30は開かれ
、さらに+、シ]′、させられる。If it is in the ready state, the process proceeds to step 110. First, the chucking unit 26 is moved toward the inspection stage 48, and the mask substrate holder is stopped at the position of the table 50. Arm 28°30 is lowered,
The mask substrate sandwiched between the mask substrate holder and the mask substrate holder is the stand 5.
0, and the mask substrate holder is held on the stand 50 by negative pressure suction. Arms 28.30 are then opened and forced further.
次に、チャッキングユニット26はマスク基板出し入れ
保持台20の位置まで戻される(ステップ112)。Next, the chucking unit 26 is returned to the position of the mask substrate loading/unloading holder 20 (step 112).
他方、ステップ100においてマスク基板がマスク基板
保持台104上になければ、マスク基板出し入れ保持台
20上にマスク基板があるか調べられる(ステップ10
4)。On the other hand, if the mask substrate is not on the mask substrate holding stand 104 in step 100, it is checked whether there is a mask substrate on the mask substrate loading/unloading holding stand 20 (step 10).
4).
マスク基板出し入れ保持台20にマスク基板があれば、
そのマスク基板がチャッキングユニット26にチャッキ
ングされ(ステップ106Lステツプ108に進む。検
査ステージ48がレディ状態であれば、そのマスク基板
がマスク基板受は台50に搬入される(ステップ110
)。If there is a mask substrate on the mask substrate loading/unloading holder 20,
The mask substrate is chucked by the chucking unit 26 (Step 106L, and the process proceeds to Step 108. If the inspection stage 48 is in a ready state, the mask substrate is carried into the mask substrate holder 50 (Step 110).
).
ステップ104においてマスク基板がなければ、カセッ
ト18が空であるか調べられる(ステップ103)。カ
セット18にマスク基板が収納されていれば、マスク基
板出し入れ保持台20によるマスク基板の取り出し動作
が行われる(ステップ105)。If there is no mask substrate in step 104, it is checked whether the cassette 18 is empty (step 103). If a mask substrate is stored in the cassette 18, the mask substrate is removed by the mask substrate loading/unloading holder 20 (step 105).
この取り出し動作について説明すれば、マスク基板出し
入れ保持台20は降下させられ、rl′iI進せしめら
れ、カセット99内の取り出すべきマスク基板の下側に
侵入する。次にマスク基板出し入れ保持台20は上昇さ
せられ、その上にマスク基板を保持した状態にて第1図
の位置まで後退させられる。エレベータ14は、カセッ
ト18を1スロット分だけ下降させる。To explain this taking-out operation, the mask substrate loading/unloading holding table 20 is lowered, advanced rl'iI, and enters the lower side of the mask substrate to be taken out in the cassette 99. Next, the mask substrate loading/unloading holding table 20 is raised and retreated to the position shown in FIG. 1 with the mask substrate held thereon. The elevator 14 lowers the cassette 18 by one slot.
このようにして、マスク基板出し入れ保持台20にマス
ク基板が取り出され保持されると、チャッキングユニッ
ト26により、そのマスク基板がチャッキングされ(ス
テップ10B)、ステップ108に進む。When the mask substrate is taken out and held on the mask substrate loading/unloading holder 20 in this manner, the mask substrate is chucked by the chucking unit 26 (step 10B), and the process proceeds to step 108.
他方、カセット18が空の場合、オペレータに対しカセ
ット交換を要求する警報が発せられ(ステップ107)
、ステップ100に戻る。On the other hand, if the cassette 18 is empty, an alarm is issued requesting the operator to replace the cassette (step 107).
, return to step 100.
以十、の説明から明らかなように、マスク基板保持台1
0に外部から供給されたマスク基板が優先的に検査ステ
ップ48にロードされる。そして、マスク基板保持台1
0にマスク基板がない場合に、カセット18から供給さ
れるマスク基板がロードされる。As is clear from the explanation below, the mask substrate holding stand 1
Mask substrates supplied externally at 0 are preferentially loaded into the inspection step 48 . Then, the mask substrate holding stand 1
If there is no mask substrate in cassette 18, a mask substrate supplied from cassette 18 is loaded.
したがって、検査動作とは非同期に動作するマスク基板
処理ラインからのマスク基板の供給待ちによる検査機側
の遊び時間が減り、マスク基板検査機の稼働率が−Lが
る。Therefore, idle time on the inspection machine side due to waiting for supply of mask substrates from a mask substrate processing line that operates asynchronously with the inspection operation is reduced, and the operating rate of the mask substrate inspection machine is decreased by -L.
さて、ステップ108において、検査ステージ48がレ
ディ状態でない場合(ビジー状態の場合)、マスク基板
保持台10にマスク基板が搬入済みであるか調べられる
(ステップ114)。マスク基板がない間、ステップ1
08.114のチェックが繰り返され、マスク基板をチ
ャフキングした状態のまま検査ステージ48がレディ状
態となるのを待つ。Now, in step 108, if the inspection stage 48 is not in the ready state (in the case of the busy state), it is checked whether the mask substrate has been carried into the mask substrate holding table 10 (step 114). Step 1 while there is no mask substrate
The check at 08.114 is repeated, and the inspection stage 48 is kept in the chaffed state until the inspection stage 48 becomes ready.
他方、ステージ114においてマスク基板があると判定
されると、マスク基板処理ラインから次のマスク基板の
搬入要求があるか調べられる(ステップ116)。この
搬入要求がある場合、一定時間内にマスク基板がマスク
基板保持台10に搬入されるので、それまでにマスク基
板保持台10Lのマスク基板を移動させる必要がある。On the other hand, if it is determined on the stage 114 that there is a mask substrate, it is checked whether there is a request to carry in the next mask substrate from the mask substrate processing line (step 116). When this carry-in request is made, the mask substrate will be carried into the mask substrate holding stand 10 within a certain period of time, so it is necessary to move the mask substrate on the mask substrate holding stand 10L by then.
そこで、ステップ116でマスク基板搬入姿求があると
判定された場合、マスク基板出し入れ保持台20にマス
ク基板があるか調べられる(ステップ118)。Therefore, if it is determined in step 116 that there is a mask substrate loading position, it is checked whether there is a mask substrate on the mask substrate loading/unloading holding table 20 (step 118).
そこにマスク基板がなければ、ステップ120の動作が
行われる。まず、チャッキングユニット26のアーム2
8.30はF降させられ、そこに挟持されているマスク
基板がマスク基板出し入れ保持台20に載置される。次
に、アーム28,30は開かれ、次に1−昇させられる
。If there is no mask substrate there, the operation of step 120 is performed. First, arm 2 of the chucking unit 26
8.30 is lowered to F, and the mask substrate held there is placed on the mask substrate loading/unloading holder 20. Arms 28, 30 are then opened and then raised.
この後、ステップ100に戻り、マスク基板保持台10
.[−のマスク基板がチャッキングユニット26にチャ
フキングされ、マスク基板処理ラインからのマスク基板
の受は入れが可能となる。After that, the process returns to step 100, and the mask substrate holding stand 10
.. The negative mask substrate is chaffed by the chucking unit 26, and it becomes possible to receive the mask substrate from the mask substrate processing line.
ステップ118でマスク基板有りと判定された場合、ス
テップ122以降の動作に進む。If it is determined in step 118 that a mask substrate is present, the process proceeds to step 122 and subsequent steps.
まず、カセット18が溝棒であるか調べられる(ステッ
プ122)。First, the cassette 18 is checked to see if it is a slotted rod (step 122).
カセット18が溝棒でなければ、マスク基板出し入れ保
持台20」−のマスク基板のカセット18への収納動作
が行われる(ステップ124)。If the cassette 18 is not a grooved rod, the operation of storing the mask substrate into the cassette 18 of the mask substrate loading/unloading holder 20'' is performed (step 124).
この収納動作について説明すれば、エレベータ14によ
りカセット18が1スロット分だけ1−昇せしめられ、
マスク基板が収納されていないスロットがマスク基板出
し入れ高さに位置決めされる。To explain this storage operation, the cassette 18 is raised by one slot by the elevator 14,
A slot in which no mask substrate is stored is positioned at the mask substrate loading/unloading height.
その後、マスク基板出し入れ保持台20が上昇状態で前
進し、その上のマスク基板をカセット18の当該スロッ
トに押し込む。この押し込みが完了した後、マスク基板
出し入れ保持台20は下降させられて第1図の位置まで
後退せしめられ、その位置でLがさせられる。カセット
18は、1スロット分下げられる。Thereafter, the mask substrate loading/unloading holder 20 moves forward in a raised state, and the mask substrate thereon is pushed into the corresponding slot of the cassette 18. After this pushing is completed, the mask substrate loading/unloading holding table 20 is lowered and retreated to the position shown in FIG. 1, and at that position it is turned L. The cassette 18 is lowered by one slot.
このようにしてマスク基板が収納されると、検査ステー
ジ48がレディ状態であるか1凋べられ(ステップ12
6)、ビジー状態ならばチャッキングユニット26に挟
持されているマスク基板がマスク基板出し入れ保持台2
0に渡され(ステップ120)、ステップ100に戻る
。When the mask substrate is stored in this way, it is determined whether the inspection stage 48 is in a ready state or not (step 12).
6) If it is busy, the mask substrate held by the chucking unit 26 will be transferred to the mask substrate loading/unloading holder 2.
0 (step 120) and returns to step 100.
このように、チャッキングユニット26にマスク基板を
チャッキングしている状態で、検査ステップ48がビジ
ー状態であり、しかも、マスク基板保持台10からマス
ク基板を移動させる必要が生じた場合、チャッキングさ
れているマスク基板はマスク基板出し入れ保持台20に
一旦渡される。In this way, when the inspection step 48 is busy while the mask substrate is being chucked in the chucking unit 26, and it becomes necessary to move the mask substrate from the mask substrate holding stand 10, the chucking unit 26 The mask substrate being held is once transferred to the mask substrate loading/unloading holder 20.
つまり、マスク基板のバッファリングがなされる。In other words, the mask substrate is buffered.
そして、その時にマスク基板出し入れ保持台20に既に
マスク基板がある場合は、そのマスク基板をカセット1
8に収納した後(これもマスク基板のバッファリング)
、チャッキングユニット26からマスク基板がマスク基
板出し入れ保持台20に載せられる。At that time, if there is already a mask substrate in the mask substrate loading/unloading holder 20, the mask substrate is placed in the cassette 1.
After storing in 8 (this is also buffering of mask substrate)
, the mask substrate is placed on the mask substrate loading/unloading holder 20 from the chucking unit 26.
このようなバッファリング機能があるため、検査ステー
ジ48のトラブル、搬出側搬送機構のトラブル、検査済
みマスク基板を収納するためのカセットee、es、7
0の交換などによる検査済みマスク基板の搬出待ち、な
どが生じた場合にも、マスク基板処理ラインの動作を市
めずに対応できる。Because of this buffering function, troubles with the inspection stage 48, troubles with the transport mechanism on the unloading side, and problems with the cassettes ee, es, 7 for storing inspected mask substrates are avoided.
Even if there is a wait for unloading of inspected mask substrates due to replacement of zeros, etc., this can be handled without interrupting the operation of the mask substrate processing line.
また、ここまでの説明から明らかなように、マスク基板
保持台10にマスク基板を供給しなければ、カセット1
8から供給されたマスク基板が連続的に検査ステージ4
8へ搬入される。つまり、このマスク基板検査機は、単
独でも使用できる。Furthermore, as is clear from the explanation up to this point, if the mask substrate is not supplied to the mask substrate holding stand 10, the cassette 1
The mask substrates supplied from stage 8 are continuously passed through inspection stage 4.
8. In other words, this mask substrate inspection machine can be used alone.
なお、ステップ122においてカセット18が溝棒で空
きスロットがないと判定された場合、カセット18の交
換が必要である。そこで、この場合はオペレータへの筈
報が発せられ、また、マスク基板処理ラインに対してマ
スク基板搬入禁止が通知される(ステップ128)。そ
して、マスク基板検査機は動作を停市し、オペレータの
介入を待つ状態となる(ステップ130)。Note that if it is determined in step 122 that the cassette 18 is a grooved bar and there are no empty slots, the cassette 18 needs to be replaced. Therefore, in this case, a notification is issued to the operator, and the mask substrate processing line is notified that the mask substrate is prohibited (step 128). The mask substrate inspection machine then stops operating and waits for operator intervention (step 130).
次に、検査済みマスク基板の搬出に関連した動作を説明
する。検査ステージ48におけるマスク基板の検査が終
rすると、チャッキングユニ・ソト90がマスク愛は台
50の位置まで移動してマスク基板をチャッキングする
。Next, operations related to carrying out the inspected mask substrate will be explained. When the inspection of the mask substrate on the inspection stage 48 is completed, the chucking unit 90 moves to the position of the mask stand 50 and chucks the mask substrate.
次にチャッキングユニット90は、そのマスク基板の検
査結果が「倫」であれば中継台72の位置まで移動し、
その中継台72にマスク基板を載せる。Next, the chucking unit 90 moves to the position of the relay stand 72 if the inspection result of the mask substrate is "Run",
A mask substrate is placed on the relay stand 72.
この時、中継台72は−1: hlL/ているので、マ
スク基板は中継台72に支えられ、両側のローラ78に
は接触しない。なお、中継台72のL面は、その前後端
部が階段面とされており、その階段面とマスク基板の前
後端のエツジ部だけが接触するようになっている。At this time, since the relay table 72 is at -1:hlL/, the mask substrate is supported by the relay table 72 and does not contact the rollers 78 on both sides. Note that the front and rear ends of the L surface of the relay stand 72 are formed into step surfaces, and only the edge portions of the front and rear ends of the mask substrate are in contact with the step surfaces.
マスク基板を載せられた中継台72は下降し、そのマス
ク基板は両側のローラ78に載せられる。The relay table 72 on which the mask substrate is placed is lowered, and the mask substrate is placed on rollers 78 on both sides.
ここで、ローラ78は前記のような形状であるから、マ
スク基板の両側のエツジ部だけがローラ78と接触する
。Here, since the roller 78 has the above-described shape, only the edge portions on both sides of the mask substrate come into contact with the roller 78.
次に、押し込み金具80がマスク基板の後端を押しなが
ら前進し、マスク基板はローラ781−を送られ、最終
的にカセット66に収納される。Next, the pusher 80 moves forward while pushing the rear end of the mask substrate, and the mask substrate is sent through the rollers 781- and finally stored in the cassette 66.
この収納後、押し込み金具は図ノ1<位置まで後退する
とともに、カセット66を1スロット分だけド降または
」4シイさせるようにエレベータ60が作動する。After this storage, the push-in fitting is retracted to the position 1 in the figure, and the elevator 60 is operated to lower or move the cassette 66 by one slot.
検査を終了したマスク基板の検査結果が「良」の場合、
そのマスク基板は中継台74に運ばれ、それから同様の
動作によってカセット68に収納される。また、検査結
果が「不良」のマスク基板は同様にしてカセット70に
収納される。If the inspection result of the mask board that has been inspected is "good",
The mask substrate is carried to relay table 74, and then stored in cassette 68 by a similar operation. Further, mask substrates with a "defective" inspection result are stored in the cassette 70 in the same manner.
カセット88.68.70のいずれかが構体になった場
合、その交換を知らせるための?T報が発せられる。If any of the cassettes 88, 68, 70 becomes a structure, to notify its replacement? A T-sign is issued.
なお、この実施例においては、検査済みマスク基板を収
納するためのカセットを3個設けているが、マスク基板
の評価段階をさらに細かく分類する場合には、カセット
を増設すればよい。また、評価段階数よりも多いカセッ
トを設けてお(ことにより、カセット交換のための動作
停止1−を回避するようにしてもよい。In this embodiment, three cassettes are provided for storing inspected mask substrates, but if the evaluation stages of mask substrates are to be classified more finely, additional cassettes may be provided. Furthermore, more cassettes than the number of evaluation stages may be provided (thereby, the operation stop 1- for cassette replacement may be avoided).
以1・8、 ・実施例に関連して、この発明の詳細な
説明したが、この発明はその要旨を逸脱しない範囲内で
様々に変形して実施し得るものである。1.8. - Although this invention has been described in detail in connection with the embodiments, this invention can be implemented with various modifications within the scope of the gist thereof.
さらに、この発明は、マスク基板以外の被検査物を検査
するための同様の検査機にも適用し得るものである。Furthermore, the present invention can be applied to similar inspection machines for inspecting objects to be inspected other than mask substrates.
[発明の効果コ
以上の説明から明らかなように、この発明によれば、外
部から搬入されるマスク基板などの被検査物を保持する
ための第1の・保持手段と、カセットから供給される被
検査物を保持するための第2の保持手段と、前記第1ま
たは第2の保持手段に保持されている被検査物を検査ス
テージへ搬送する搬送手段とを具備し、マスク基板処理
ラインに組み込んで高稼働率で使用可能であり、また単
独でも使用可能な検査機を実現できる。[Effects of the Invention] As is clear from the above description, according to the present invention, a first holding means for holding an object to be inspected such as a mask substrate carried in from the outside, and a first holding means for holding an object to be inspected such as a mask substrate carried in from the outside, The mask substrate processing line includes a second holding means for holding an object to be inspected, and a conveyance means for conveying the object to be inspected held by the first or second holding means to an inspection stage. It is possible to create an inspection machine that can be incorporated and used at high operating rates, and can also be used independently.
第1図は、この発明によるマスク基板検査機の機構構成
を簡略化して示す概略平面図、第2図は同マスク基板検
査機の動作の−・例を説明するための概略フローチャー
トである。
10・・・マスク基板保持台、18・・・カセット、2
0・・・マスク基板出し入れ保持台、26・・・チャッ
キングユニット、48・・・検査ステージ。
第 2 図FIG. 1 is a schematic plan view showing a simplified mechanical configuration of a mask substrate inspection machine according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic flowchart for explaining an example of the operation of the mask substrate inspection machine. 10...Mask substrate holding stand, 18...Cassette, 2
0...Mask substrate loading/unloading holding stand, 26...Chucking unit, 48...Inspection stage. Figure 2
Claims (2)
おいて、外部から搬入される被検査物を保持するための
第1の保持手段と、カセットから供給される被検査物を
保持するための第2の保持手段と、前記第1または第2
の保持手段に保持されている被検査物板を検査ステージ
へ搬送する搬送手段とを有することを特徴とする検査機
。(1) In an inspection machine that inspects objects to be inspected such as mask substrates, there is a first holding means for holding the objects to be inspected brought in from the outside, and a first holding means for holding the objects to be inspected supplied from a cassette. a second holding means of the first or second holding means;
1. An inspection machine comprising: a conveyance means for conveying an inspection object plate held by the holding means to an inspection stage.
的に検査ステージへ搬送されることを特徴とする特許請
求の範囲第1項に記載の検査機。(2) The inspection machine according to claim 1, wherein the inspection object held by the first holding means is preferentially transported to the inspection stage.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27788686A JPS63132144A (en) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | Inspecting machine |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27788686A JPS63132144A (en) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | Inspecting machine |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63132144A true JPS63132144A (en) | 1988-06-04 |
Family
ID=17589655
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27788686A Pending JPS63132144A (en) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | Inspecting machine |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63132144A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5025680A (en) * | 1988-09-28 | 1991-06-25 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Torsional damper type flywheel device |
US5097721A (en) * | 1988-09-30 | 1992-03-24 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Torsional damper type flywheel device |
JP2008138885A (en) * | 1998-10-16 | 2008-06-19 | Aisin Seiki Co Ltd | Torque fluctuation absorber |
-
1986
- 1986-11-21 JP JP27788686A patent/JPS63132144A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5025680A (en) * | 1988-09-28 | 1991-06-25 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Torsional damper type flywheel device |
US5097721A (en) * | 1988-09-30 | 1992-03-24 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Torsional damper type flywheel device |
JP2008138885A (en) * | 1998-10-16 | 2008-06-19 | Aisin Seiki Co Ltd | Torque fluctuation absorber |
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