JPS63121148A - 光磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔Ｍ業上の利用分野〕 本発明は光磁気記録媒体に係り、特に両面記録が行なえ
るようにした光磁気記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

両面記録用の光磁気記録媒体として１例えば特願昭５４
−１３０９０２号に示されるものがある。

ここに示される光磁気記録媒体は、第３図に示すように
、ガラス、合成樹脂等の基板１１ａの片面にトラッキン
グ用のグループ及びアドレス用のプリピットを形成し、
この形成面に下地層１２ａを介して光磁気配＠１ｌ１３
ａを形成する。さらに。

光磁気配＠ｒ１４１３　ａの表面に保１１１１１４ａを
形成し１片面分の記録媒体が完成する。

同様に、基板１１ｂに下地層１２ｂ、光磁気配ｆｉ＋！
！１３ｂ及び保護膜１４ｂを順次形成することによって
、きらに片面分の記録媒体が完成する。

２枚の記録媒体は、基板１１ａ及びｌｌｂが表側を向く
ようにして接着剤１５によって接着することにより１両
面記録用光磁気記録媒体が得られる。

記録に際しては、基板の１１ａ、１１ｂの片側から一定
強さの磁界をかけた状態で光磁気記録膜１３ａ（１３ｂ
）に記録情報に応じて光変調したレーザ光を照射すると
、その部分の光磁気記録膜１３ａ（１３ｂ）が加熱され
、この加熱部分の磁化の方向のみが他の部分に対して反
転し、記録情報に応じた小さい反転磁区が残される。こ
の反転磁区は温度が周０温度に戻された後でも保持され
、情報が磁化の方向の形で記録される。

一方、読出しは、直線偏向のレーザ光を上記基板１１　
ａ（１ｌ　ｂ）を介して光磁気記録ｌｌ１１３　ａ（１
３ｂ）に入射させる。レーザ光の光磁気記録膜１３ａ（
１３ｂ）からの反射光を検出することにより、そのカー
効果あるいはファラデー効果を利用して光の偏向面の回
転から情報を判別する。

ところ′で、上記２枚の記録媒体を貼り合せる接着剤１
５としては、不透明な光磁気記録膜１３ａ。

１３ｂの内側を接着するものであるため、迅速に硬化し
てしかも上記光磁気配＠［［１３ａ、　　１３　ｂを侵
すことがない光硬化性樹脂を用いることができず１例え
ば熱硬化性接着剤や溶剤型接着剤などが用いられている
。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、従来用いられている接着剤のうち熱硬化性接着
剤は、上記記録媒体を加熱しなくてはならないので、基
板１１ａ、ｌｌｂに熱変形等の悪影響を与えたり、ある
いは基板１１ａ、ｌｌｂと光磁気記録膜１３ａ、Ｌ３ｂ
との熱膨張率の差に起因する熱応力によって光磁気記録
１ｇ　１３　ａ　ｅ１３ｂを破損する等の問題があり、
さらには硬化時間が長いため光磁気記録媒体の生産性が
悪いという問題がある。

また、溶剤型接着剤には、基板の熱変形という開運はな
いが、溶剤が光磁気記録１１１１３ａ、１３ｂを侵すた
め情報の保存安定性が悪い、あるいは環境を汚染すると
いった問題がある。

この発明は、上記従来技術の実情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、生産性及び情報の保存安
定性に優れた光磁気記録媒体を提供するにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記問題点を解決するため２本発明は１面面記録方式の
光磁気記録媒体において、１枚の基板の表裏開面に信号
パターンを同心状に形成し、該基板の上記信号パターン
上に少なくとも光磁気記録膜を含む所望の薄膜層を形成
し、該薄膜層の外面に透明な保護カバーを被着したもの
である。

また、表裏両面に所望の信号パターンが同心状に形成さ
れた基板を作製し、該基板の上記信号パターン面に光磁
気記録膜を含む所望の薄膜層を形成したのち、該薄膜層
の外面に光硬化性樹脂を介して保護カバーを接着するよ
うにしたことを製造上の特徴とするものである。

〔作用〕

上記手段によると、薄膜層の外面が透明な保護カバーに
て構成されるため、薄膜層と保護カバーの接着剤として
光硬化性樹脂を用いることが可能になり、基板等の熱変
形及び光磁気記録膜の損傷が未然に防止され、かつ光磁
気記録媒体の生産性を向上することができる。

〔実施例〕

以下０本発明の一実施例を第１図に基づいて説明する。

基板ｌは射出成形に適したポリカーボネイト。

ＰＭＭＡなどの合成樹脂を用いて円板状に作られ。

両表面にグループ、プリピット等の信号パターン７が形
成される。この基板１の両表面に下地膜２ａ、２ｂが設
けられる。下地膜２ａ、２ｂの表面には光磁気記録膜３
ａ、３ｂが形成される。下地ｇ２ａ、２ｂは、光磁気記
録膜３ａ、３ｂの腐蝕を防止し、記録再生特性の劣化を
防止するために設けられるものであり、還元性のＳｌＯ
等が適している。

光磁気記録膜３ａ、３ｂは、磁気光学効果を有する希土
類−遷移金属系の材料１例えば、ＴｂＦｅＣｏ等が好適
である。光磁気記録膜３ａ、３ｂの表面には干渉層４ｍ
、４ｂが形成きれる。干渉層４ａ、４ｂは、見掛上のカ
ー回転角を大きくすると共に、保護ならびに酸化防止の
効果を目的として設けられる。干渉層４ａ、４ｂの材料
としては。

透明誘電体であるＳｉｎ、ＳｉＮ等が適している。

干渉層４ａ、４ｂの表面には接着層５ａ、５ｂを介して
透明な保護カバー６ａ、６ｂが設けられる。

上記接着層５ａ＋５ｂに用いる接着剤としては。

透明な光硬化性樹脂が特に好適であるが、嫌気性樹脂を
用いることもできる。

保護カバー６ａ、６ｂは、透明にして光学ひずみの小さ
い材料によって平板状に形成される。特にガラスが好適
であるが、４ｉ１脂材料を用いることもできる。この保
護カバー５　ａ　＋　６　ｂを設けることによって、記
録層３ａ＊３ｂ、干渉層４ａ、４ｂ等に直埃の付着や傷
の付くのが防止できる。尚。

図中の符号８は中央孔を示す。

以上の構成において、記録、再生時には、レーザ光を保
ｖＩＩ膜６ａ又は６ｂ側より記録層３ａ又は３ｂに入射
される。途中には光学特性に優れた保護カバー６ａ、６
ｂ、接着層５ａ、５ｂ、及び干渉層４ａ、４ｂが存在す
るのみであるため、光学特性の劣化が生ぜず、再生特性
の低下を招くことが無い。

次に、具体的実施例について説明する。

（実施例１） まず、固定金型及び可動金型の対向面にそれぞれ所望の
スタンパが取り付けられた金型内にポリカーボネイトを
射出し、約０．８ｍ■厚の基板の表裏両面に所望の信号
パターン７が同心状に転写された基板ｌを作製する。

次いで、この基板１の表裏両面にＳｉＯの下地膜２ａ、
２ｂと、　Ｔ　ｂ　Ｆ　ｅ　Ｃｏの光磁気記録ｆｆｉ　
３　ａ　。

３ｂと、　ＳｉＯの干渉層４ａ、４ｂとを開面同時スパ
ッタによって順次積層する。このとき、下地膜２ａ、２
ｂの膜厚は約５０ｎｍ、光磁気記録膜３ａ、３ｂの膜厚
は約１１００ｎ、干渉Ｊ！！Ｆ４　ａ　。

４ｂの膜厚は約１１００ｎとする。

さらに、上記干渉層４ａ、４ｂの外面に透明な光硬化性
樹脂を塗布し、これを　１．２ｍｍ厚のガラスＦ１ｍの
保護カバー〇ａ、６ｂにて均一な厚さに展伸する。

最後に、保護カバー６ａ、６ｂの外面より樹脂硬化光を
照射し、干渉層４ａ、４ｂに保護カバー６ａ、６ｂを接
着固定する。

（実施例２） 保護カバー６ａ＋６ｂとして　１．２ｍ■厚のアクリル
板を用い、上記第１実施例と同様の手順によって光磁気
記録媒体を作製した。

（従来例） 厚さ　１．２■曽のポリカーボネイトを材料とする基板
にＳｉｎ、ＴｂＦｅＣｏ、ＳｉＯの層を順次膜厚１１０
０ｎ、１１００ｎ、５０ｎｍにスパッタした単一ディス
クを、第３図のように基板が外側になるように貼り合せ
た。

以上３例の光磁気記録媒体のカー回転角θに、゛保持力
Ｈｃ及びＣ／Ｎの比較を第１表に示す。

第１表 第１表より明らかなように、読出し光の入射側に光学特
性に優れた材料を用いた本発明の光磁気記録媒体によれ
ば、θｋ及びＣ／Ｎに顕著な改善が見られ、再生特性の
向上していることがわかる。

次いで、第２図に第１表に示す各構成例のカーヒステリ
シスループを示す、このグラフから明らかなように、従
来例が垂れた特性となっているのに対し１本発明による
各実施例は角形のループを、成し、良好なカーヒステリ
シスが得られている。

したがって再生特性が向上していることが判る。

尚、上記実施例においては、薄膜層を下地膜２ａ、２ｂ
と光磁気配＠１１１３　ａ　、　３　ｂと干渉層４ａ。

４ｂの三層構造とした場合についてのみ説明したが１本
発明の要旨はこれに限定されるものではなく、少なくと
も光磁気記録膜を備えれば足りる。

また、上記実施例においては、薄膜層と保護カバー６ａ
、６ｂとを接着層５ａ、ｓｂを介して全面的に接着した
場合について説明したが、本発明の要旨はこれに限定さ
れるものではなく、薄膜層と保護カバーの内周及び外周
のみを接着し、その中間領域に光磁気記録媒体の記録領
域よりも広い空隙’ｉ−Ｂけることもできる。かかる構
造にすると。

直線偏光のレーザ光が接着層によって屈折、散乱等され
るということがなく、より再生特性を向上することがで
きる。

〔発明の効果〕

以上より明らかな通り、本発明によれば、薄膜層の外面
が透明な保護カバーにて構成されるため。

薄膜層と保護カバーの接着剤として光硬化性樹脂を用い
ることが可能になり、基板等の熱変形及び光磁気記録膜
の損傷が未然に防止され、かつ光磁気記録媒体の生産性
を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は本発
明による実施例と従来例の各カーヒステリシスループを
示す特性図、第３図は従来の光磁気記録媒体を示す断面
図である。 １・・・・・・基板、２ａ、２ｂ・・・・・・地下層、
３ａ。 ３ｂ・・・・・・光磁気記録層、４ａ、４ｂ・・・・・
・干渉層。 ５ａ＋５ｂ・・・・・・スペーサ、６ａ、６ｂ・・・・
・・保護カバー。 第１図 １・基板 ２ａ　２ｂ・１本１ ３ａ　、３ｂ　・ｆＪｈ’ＴＣｔ１４ｆｔｋ４ａ、　１
４ｂ＋＋　９４ ｓａ、ｓｂ［−Ｊ、！ ６ａ、６ｂ：　ｔＭＲｎハ゛− 第２図

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）両面記録方式の光磁気記録媒体において、１枚の
   基板の表裏両面に所望の信号パターンを同心状に形成し
   、該基板の上記信号パターン上に少なくとも光磁気記録
   膜を含む薄膜層を形成し、該薄膜層の外面に透明な保護
   カバーを被着したことを特徴とする光磁気記録媒体。
2. （２）上記基板と上記光磁気記録膜との間に下地膜を形
   成したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光
   磁気記録媒体。
3. （３）上記光磁気記録膜と上記保護カバーとの間に透明
   誘電体による干渉層を配設したことを特徴とする特許請
   求の範囲第１項及び第２項記載の光磁気記録媒体。
4. （４）上記薄膜層と上記保護カバーとを透明な光硬化性
   樹脂にて接着したことを特徴とする特許請求の範囲第１
   項乃至第３項記載の光磁気記録媒体。
5. （５）上記薄膜層と上記保護カバーの内周及び外周を接
   着し、その内周領域に当該光磁気記録媒体の記録領域よ
   りも広い空隙を設けたことを特徴とする特許請求の範囲
   第１項乃至第３項記載の光磁気記録媒体。
6. （６）上記保護カバーとして、透明ガラス製のものを用
   いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第５項
   記載の光磁気記録媒体。
7. （７）上記保護カバーとして、透明樹脂製のものを用い
   たことを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第５項記
   載の光磁気記録媒体。
8. （８）表裏両面に所望の信号パターンが同心状に形成さ
   れた基板を作製し、該基板の上記信号パターン面に少な
   くとも光磁気記録膜を含む所望の薄膜層を形成したのち
   、上記薄膜層の外面に透明な光硬化性樹脂を介して透明
   な保護カバーを接着するようにしたことを特徴とする光
   磁気記録媒体の製造方法。