JPS63109021A - Method and apparatus for immersion molding - Google Patents
Method and apparatus for immersion moldingInfo
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- JPS63109021A JPS63109021A JP61256298A JP25629886A JPS63109021A JP S63109021 A JPS63109021 A JP S63109021A JP 61256298 A JP61256298 A JP 61256298A JP 25629886 A JP25629886 A JP 25629886A JP S63109021 A JPS63109021 A JP S63109021A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は浸漬成形法及びその装置、更に詳しくは溶液中
に製造型を浸漬して型の周面に溶液を付着させた後、乾
燥させて製造型から剥離させることによって製品を得る
製造装置において、溶液中に製造型を浸漬させて溶液を
付着させるための効率良い浸漬成形法と、その成形法に
直接使用する浸漬製造装置に関するものであり、特にゾ
ル状の塩化ビニールペーストを溶液とした場合のビニル
手袋の製造、あるいはゴムラテックス系の溶液を用いた
場合のゴム手袋、コンドーム、氷嚢、血圧計用のゴム袋
等の製造に適した浸漬成形法及びその装置に関するもの
である。Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application] The present invention relates to a dip molding method and an apparatus thereof, and more specifically, to a method in which a production mold is immersed in a solution to adhere the solution to the peripheral surface of the mold, and then dried. This article relates to an efficient dip molding method for immersing a production mold in a solution to make the solution adhere to a manufacturing device that obtains a product by peeling it off from a production mold, and an immersion manufacturing device that can be used directly in that molding method. Yes, especially suitable for manufacturing vinyl gloves when using sol-form vinyl chloride paste as a solution, or rubber gloves, condoms, ice packs, rubber bags for blood pressure monitors, etc. when using rubber latex solutions. This invention relates to an immersion molding method and its apparatus.
[従来の技術]
従来から浸漬成形法を用いた製品の製造は数多く行なわ
れていた。[Prior Art] Conventionally, many products have been manufactured using the dip molding method.
この浸漬成形法による製品の製造は、第7因に示すよう
に、製造型の溶液中への浸漬工程と、溶液に浸漬した結
果、製造型に付着する溶液の乾燥工程と、乾燥した溶液
によって形成される膜状の製品の剥離工程とから形成さ
れるものであった。As shown in factor 7, the production of products by this dip molding method involves the steps of immersing the production mold in a solution, drying the solution that adheres to the production mold as a result of being immersed in the solution, and drying the solution that adheres to the production mold. It was formed from a peeling process of the formed film-like product.
このような従来の製造において、浸漬工程は、第8図に
示すように形成されていた。In such conventional manufacturing, the dipping step was performed as shown in FIG.
即ち、コンベア20に付設した製造型10を。That is, the manufacturing mold 10 attached to the conveyor 20.
溶液31を入れた浸漬槽30中に浸漬させて溶液31中
を移動させ、所定距離の移動を行なった後に溶液31中
から取り出すように形成されていたものであった。It was designed to be immersed in a dipping tank 30 containing a solution 31, moved through the solution 31, and taken out from the solution 31 after moving a predetermined distance.
しかしながらこのような従来の浸漬成形装置によると、
以下のような問題点があった。However, according to such conventional dip molding equipment,
There were the following problems.
■浸漬槽30のほぼ中央を製造型10が移動するために
、製造型10が移動する浸漬槽30の中央部分と、製造
型lOの移動しない浸漬槽30の壁面付近とでは溶液3
1の特性が変化してしまうこととなっていた。■Since the production mold 10 moves approximately in the center of the immersion tank 30, the solution 3
The characteristics of 1 were to change.
このことは、溶液31が塩化ビニールペーストである場
合には粘度及び降伏値が変化することとなり、溶液31
がゴムラテックスである場合には添加剤分散の不均一を
招くこととなっていた。This means that if the solution 31 is a vinyl chloride paste, the viscosity and yield value will change;
When rubber latex is used, non-uniform dispersion of additives is caused.
■使用を開始する時に、溶液31の液面に張った膜を除
去すると共に、溶液31の均一化を図る意味から、溶液
31を攪拌しなければならないものの、この攪拌時には
浸漬作業を中止しなければならず、更には攪拌によって
生じた気泡がなくなるまで使用できないこととなってい
た。■When starting to use the solution 31, the solution 31 must be stirred in order to remove the film on the surface of the solution 31 and to make the solution 31 homogeneous, but the dipping operation must be stopped during this stirring. Moreover, it could not be used until the air bubbles generated by stirring disappeared.
■溶液31を補給する際、あるいは粘度、添加剤等の調
整のための補給の際に、補給部に近い浸漬槽30部分と
遠い浸漬槽30部分とでは粘度及び降伏値あるいは添加
剤分散等が不均一となってしまう。■When replenishing the solution 31 or when replenishing to adjust the viscosity, additives, etc., the viscosity, yield value, additive dispersion, etc. may differ between the parts of the immersion tank 30 near the replenishment part and the part of the immersion tank 30 far away. This results in unevenness.
このような不均一を防止するためには、浸漬槽30内部
の溶液31を攪拌すれば良いものの、攪拌した場合には
、発生した気泡がなくなるまで使用できないために、ロ
スタイムが長いこととなっていた。In order to prevent such non-uniformity, it is sufficient to stir the solution 31 inside the immersion tank 30, but if the solution is stirred, the solution cannot be used until the generated air bubbles disappear, resulting in a long loss time. Ta.
また攪拌しない場合であっても、浸漬槽30全域にわた
るように溶液31の補給口を移動させることによって溶
液31の均一化を図ることができるものの、溶液31の
液面を荒らすこととなるので、好ましいものではなかっ
た。Even when stirring is not performed, it is possible to make the solution 31 uniform by moving the supply port for the solution 31 over the entire area of the immersion tank 30, but the surface of the solution 31 will be roughened. It wasn't a good thing.
■溶液31に混入したゴミ等の除去は、浸漬作業を中止
して、行なわなければならないだけでなく、ゴミ等の除
去を行なのだ後に、溶液31に混入した気泡がなくなる
まで浸漬作業を中止しなければならないこととなってい
た。■Removal of dust etc. mixed into the solution 31 not only has to be carried out after stopping the dipping operation, but also after removing the dust etc., the dipping work must be stopped until the air bubbles mixed into the solution 31 are gone. It was something that had to be done.
■浸漬時間によってコンベア20の速度が決定されるも
のの、あまり速い速度にすると製造型10と溶液31と
の抵抗が大きくなり膜厚の均一化が図れないこととなっ
ていた。(2) Although the speed of the conveyor 20 is determined by the dipping time, if the speed is too high, the resistance between the production mold 10 and the solution 31 increases, making it impossible to achieve uniform film thickness.
そこで次に、従来の装置の問題点の内で主として溶液3
1の不均一を解決する目的で、第9図に示すような浸漬
装置が提供された。Next, among the problems of conventional devices, the main problem is
In order to solve the non-uniformity of 1, an immersion device as shown in FIG. 9 was provided.
この浸漬装置は、第8図に示した浸漬装置の底面付近に
循環装2132を付設し、浸漬槽30の内部で溶液31
の循環を行なわせることによって、溶液31の粘度ある
いは添加剤分散の均−化及び表面の造膜防止を図ったも
のである。This immersion device is equipped with a circulation system 2132 near the bottom of the immersion device shown in FIG.
By circulating the solution 31, the viscosity of the solution 31 or the dispersion of the additives is made uniform and film formation on the surface is prevented.
[発明が解決しようとする問題点]
この第9図に示した浸漬装置を使用すると、浸漬463
0内部の溶液31の均一性はある程度担保できると共に
、攪拌が自動的に行なわれるので気泡の発生がなく、か
つ溶液31?I給時の溶液31の均一性もすみやかに行
なわれるものであった。[Problems to be Solved by the Invention] When the immersion device shown in FIG. 9 is used, the immersion 463
The uniformity of the solution 31 inside the solution 31 can be guaranteed to some extent, and since stirring is performed automatically, there is no generation of bubbles, and the solution 31? The uniformity of the solution 31 during I feeding was also quickly achieved.
しかしながらこの浸漬装置は、装置全体が大型化、特に
長いものとなってしまうだけでなく。However, with this immersion device, not only does the entire device become large, especially long.
粘性がある溶液31に一定速度の流れを加えるために、
浸漬槽30の中央部分と壁面付近とでは溶液31の流速
に差が生じてしまい、製造型10の移動方向中央部分と
移動方向両側とでは、できた製品の成分の不一致及び肉
厚の不一致等を生じることとなっていた。また更に、溶
液31自体がかなりの粘性を有すので、溶液31の流速
管理が非常に困難であると共に、使用によって生じる粘
性の変化に対応することも困難なものとなっていた。To apply a constant velocity flow to the viscous solution 31,
There is a difference in the flow rate of the solution 31 between the central part of the immersion tank 30 and the vicinity of the wall surface, which may cause mismatches in components and wall thicknesses of the produced products between the central part in the moving direction of the manufacturing mold 10 and both sides in the moving direction. was to occur. Furthermore, since the solution 31 itself has a considerable viscosity, it is extremely difficult to control the flow rate of the solution 31, and it is also difficult to respond to changes in viscosity caused by use.
[問題点を解決するための手段]
そこで本発明は、前述した問題点を解決するために、浸
漬槽を環状に形成し、この浸漬槽全体を一定の角速度で
回転させると共に、この浸漬槽に沿って配置したコンベ
アに製造型を付設して、コンベア自体も移動させて浸漬
作業を行なうように形成することによって、浸漬槽の回
転方向に直角な断面をとった時に、どの位nでも溶液が
一定速度で循環していると同様にして製品の均一化を図
ると共に1回転の角速度をコントロールすることによっ
て、みかけの流速を確実に制御することができるように
した。浸漬成形法及びその浸漬成形装置を提供すること
を目的とする。[Means for Solving the Problems] Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, the present invention forms an immersion tank in an annular shape, rotates the entire immersion tank at a constant angular velocity, and rotates the entire immersion tank at a constant angular velocity. By attaching a production mold to a conveyor placed along the conveyor and forming the conveyor itself so that it can move and perform the dipping operation, the solution can be By trying to make the product uniform in the same manner as when circulating at a constant speed, and by controlling the angular velocity of one revolution, it is possible to reliably control the apparent flow velocity. The object of the present invention is to provide a dip molding method and a dip molding device.
本発明は、前記目的を達成するために、回転自在な浸漬
槽を設け、この浸漬槽に沿って移動可能なコンベアに製
造型を設けると共に、このコンベアに沿って移動する製
造型を、回転している浸漬槽の一部で溶液中に漬け、所
定距離だけ浸漬した後、取り出すことを特徴とする浸漬
成形法と、環状に形成した浸漬槽を回転自在に形成し、
この浸漬槽の回転方向に沿って移動可能なコンベアを配
し、このコンベアに製造型を設けると共に、コンベアに
固定した製造型を、製造型の浸漬槽の溶液中への浸漬及
び取り出しが行なえるように上下方向に移動自在に形成
したことを特徴とする浸漬成形装置とを、その要旨とす
るものである。In order to achieve the above object, the present invention provides a rotatable dipping tank, provides a production mold on a conveyor that can move along the dipping tank, and rotates the manufacturing mold that moves along the conveyor. A dip molding method is characterized in that a part of a dipping tank is immersed in a solution, immersed for a predetermined distance, and then taken out.
A conveyor movable along the rotational direction of the dipping tank is arranged, a manufacturing mold is provided on this conveyor, and the manufacturing mold fixed to the conveyor can be dipped into and taken out of the solution of the manufacturing mold in the dipping tank. The gist thereof is an immersion molding apparatus characterized in that it is formed so as to be movable in the vertical direction.
[実施例]
以下、本発明の実施例を、第1図乃至第6図に示した浸
漬成形装置の説明に従って説明する。[Example] Examples of the present invention will be described below in accordance with the explanation of the dip molding apparatus shown in FIGS. 1 to 6.
第1図は浸漬成形装置の平面図であり、第2図は第1図
のA−A線断面図、第3図は攪拌板33を示した断面図
、第4図はろ網34を示した断面図、第5図は仕切り板
35を示した平面図。FIG. 1 is a plan view of the dip molding apparatus, FIG. 2 is a sectional view taken along the line A-A in FIG. 1, FIG. 3 is a sectional view showing the stirring plate 33, and FIG. A cross-sectional view, and FIG. 5 is a plan view showing the partition plate 35.
第6図は同断面図である。−
第1図及び゛第2図において、本発明に係る浸漬成形装
置は、床面41上に回転自在に固定されたターンテーブ
ル40上に環状の浸漬槽30が固定されていると共に、
この環状の浸漬槽30に沿って移動自在なコンベア20
が設は形成されている。FIG. 6 is a sectional view of the same. - In FIGS. 1 and 2, the dip molding apparatus according to the present invention has an annular dip bath 30 fixed on a turntable 40 rotatably fixed on a floor surface 41, and
A conveyor 20 that is movable along this annular dipping tank 30
The establishment is being formed.
浸漬槽30は、ゾル状の塩化ビニールペーストあるいは
ゴムラテックス系の溶液31が入っている。この溶液3
1は、例えばビニル手袋を製造する場合には塩化ビニー
ルペーストを使用し、ゴム手袋、コンドーム、氷嚢、血
圧計用のゴム袋等を製造する場合にはゴムラテックス系
のものを使用するものである。The dipping tank 30 contains a sol-like vinyl chloride paste or rubber latex solution 31. This solution 3
1, for example, when manufacturing vinyl gloves, vinyl chloride paste is used, and when manufacturing rubber gloves, condoms, ice packs, rubber bags for blood pressure monitors, etc., rubber latex type products are used. .
また図示例にあっては、ターンテーブル40上には、浸
漬槽30をはさむように保温液36としてのお湯等を入
れた液温調整槽37が固定しである。この液温調整槽3
7は、浸漬槽30の外壁からの伝導熱によって、浸漬槽
30中の溶液31の温度を設定温度に保つためのもので
ある。Further, in the illustrated example, a liquid temperature adjustment tank 37 containing hot water or the like as a heat insulating liquid 36 is fixed on the turntable 40 so as to sandwich the immersion tank 30 therebetween. This liquid temperature adjustment tank 3
7 is for maintaining the temperature of the solution 31 in the immersion tank 30 at a set temperature by conductive heat from the outer wall of the immersion tank 30.
なおこの液温調整槽37は、図示を省略するが、ヒータ
ー等による加熱手段、あるいは温水循環手段等によって
内部の保温液36の温度を一定に保つことによって、溶
液31の液温を一定にするものである。Although not shown in the drawings, this liquid temperature adjustment tank 37 keeps the temperature of the solution 31 constant by keeping the temperature of the internal heat-retaining liquid 36 constant using heating means such as a heater or hot water circulation means. It is something.
更にこの浸漬槽30は、製造型10の浸漬を開始する開
始部50と、浸漬を終了する取り出し部60とがある。Furthermore, this dipping tank 30 has a starting part 50 where the production mold 10 starts dipping, and a take-out part 60 where the dipping ends.
またこの開始部50と取り出し部60との間の浸漬槽3
0には、取り出し部60側から順次、溶液31中のゴミ
等を除去するためのろ網34及び溶液31を攪拌するた
めの攪拌板33が位置させである。ろ網34は、はぼ浸
漬槽30の内寸に一致する横巾を有するものであり、図
示は省略する手段によって床面41に固定されているも
のである。また攪拌板33も、図示を省略する手段によ
って床面41に固定されている。Also, the immersion tank 3 between the starting part 50 and the take-out part 60
0, a filter screen 34 for removing dust and the like from the solution 31 and a stirring plate 33 for stirring the solution 31 are positioned sequentially from the take-out part 60 side. The filter screen 34 has a width that matches the inner dimensions of the crab soaking tank 30, and is fixed to the floor surface 41 by means not shown. The stirring plate 33 is also fixed to the floor surface 41 by means not shown.
従って、ターンテーブル40を回転させることによって
浸漬槽30が回転しても、ろ網34及び攪拌板33は回
転しないので、溶液31中のゴミ等はろ網34に引っ掛
かるし、このろ網34を通過した溶液31は攪拌板33
によって攪拌されることとなる。Therefore, even if the immersion tank 30 is rotated by rotating the turntable 40, the filter screen 34 and the stirring plate 33 do not rotate, so that the dirt in the solution 31 gets caught on the filter screen 34 and passes through the filter screen 34. The solution 31 is stirred on a stirring plate 33.
It will be stirred by.
更にろ網34と攪拌板33との間には、溶液31の補給
口38が位ごさせである。この補給口38は、溶液31
が所定量よりも減少した時に浸漬槽30内部に溶液31
を補充するためのちのである。Furthermore, a replenishment port 38 for the solution 31 is provided between the filter screen 34 and the stirring plate 33. This supply port 38 is connected to the solution 31
When the amount decreases below a predetermined amount, the solution 31 is added to the inside of the dipping tank 30.
This is later to replenish.
コンベア20には、一定ピツチで多数突設させた支持杆
21を介して製造型10が固定しである。The manufacturing mold 10 is fixed to the conveyor 20 via a plurality of support rods 21 protruding at a constant pitch.
またコンベア20は、このコンベア20に固定された製
造型10が、浸vi槽30の開始部50から溶液31中
に浸漬させ、取り出し部60から取り出せるように、開
始部50に相当する位置から取り出し部60に相当する
位置の間は、製造型10が下降するように形成されてい
る。具体的には1図示例のようにコンベア20の軌道を
下降させることもできるし1図示は省略するが製造型1
0が下降するように支持杆21を折り曲げるように形成
することもできる。Further, the conveyor 20 is configured to take out the manufacturing mold 10 from a position corresponding to the starting part 50 so that the manufacturing mold 10 fixed to the conveyor 20 can be immersed in the solution 31 from the starting part 50 of the VI immersion tank 30 and taken out from the taking out part 60. Between the positions corresponding to the portions 60, the manufacturing mold 10 is formed to descend. Specifically, the trajectory of the conveyor 20 can be lowered as shown in the example shown in Figure 1.
The support rod 21 can also be formed so as to be bent so that 0 is lowered.
またこのコンベア20は、浸漬槽30への浸漬を開始す
る開始部50の前では、支持杆21に設けたローラー2
2が前軌道23に乗って回転し、同時に製造型lOも回
転するように形成されている。In addition, this conveyor 20 has a roller 2 provided on a support rod 21 in front of a starting part 50 where immersion into the immersion tank 30 is started.
2 rotates on the front track 23, and the production mold 10 also rotates at the same time.
更に浸漬槽30での浸漬が終了した後の取り出し部60
の後には、支持杆21に設けたローラー22が後軌道2
4に乗って回転し、同時に製造型10も回転するように
形成されている。なおこのようにして浸漬を終了して取
り出し部6oから出た製造型lOには、溶液31が付着
膜7oとなって付着しているものである。Further, a take-out section 60 after immersion in the immersion tank 30 is completed.
After that, a roller 22 provided on the support rod 21 moves the rear track 2.
4 and rotates, and the manufacturing mold 10 is also rotated at the same time. It should be noted that the solution 31 is attached as an adhesion film 7o to the production mold 1O that comes out from the take-out part 6o after the immersion is completed in this way.
この後軌道24は、図示を省略するが乾燥工程及び製品
の剥離工程に連続するものである。Although not shown, the subsequent track 24 continues to a drying process and a product peeling process.
次に本発明に係る浸漬成形法について、前述した浸漬成
形装置の使用と共に説明する。Next, the dip molding method according to the present invention will be explained along with the use of the dip molding apparatus described above.
まず最初に、浸ffl槽30に所定成分の溶液31を入
れると共に、液温調整槽37の温度を調整して、浸漬槽
30中の溶液31の温度が所定温度となるようにする。First, a solution 31 of predetermined components is put into the immersion ffl tank 30, and the temperature of the liquid temperature adjustment tank 37 is adjusted so that the temperature of the solution 31 in the immersion tank 30 becomes a predetermined temperature.
次いで、あるいは溶液31を浸漬槽30に入れる以前に
、コンベア20の支持杆21先端に所定形状の製造型l
Oを固定する。Next, or before putting the solution 31 into the dipping tank 30, a manufacturing mold l having a predetermined shape is attached to the tip of the support rod 21 of the conveyor 20.
Fix O.
その後、ターンテーブル40を所定速度で回転させると
共に、コンベア20をも所定速度で移動させる。この両
者の速度は、ターンテーブル40速度に比べて1.コン
ベア20速度のほうがやや速い程度が好ましいが、同一
の速度あるいは逆にターンテーブル40速度に比べて、
コンベア20速度のほうをやや遅くした場合であっても
支障はない。Thereafter, the turntable 40 is rotated at a predetermined speed, and the conveyor 20 is also moved at a predetermined speed. Both speeds are 1. It is preferable that the conveyor at 20 speed is slightly faster, but compared to the same speed or conversely, the turntable at 40 speed.
There is no problem even if the conveyor 20 speed is made slightly slower.
すると、コンベア20に支持杆21を介して固定した製
造型10が、開始部50付近で降下して浸漬槽30の溶
液31内部に浸漬され、取り出し部60で上昇して浸漬
槽30の溶液31から出るまでの間に、tA造型10の
周囲に溶液31を61膜状の付着膜70として付着させ
る。またこの時に、製造型lOが図示例のように手袋で
ある場合には、手のひらの側を前にして溶液31槽中を
移動させることが望ましい。Then, the manufacturing mold 10 fixed to the conveyor 20 via the support rod 21 descends near the starting part 50 and is immersed in the solution 31 in the dipping tank 30, and rises at the take-out part 60 to drain the solution 31 in the dipping tank 30. The solution 31 is deposited around the tA molding 10 in the form of a 61 film-like adhesive film 70. Furthermore, at this time, if the manufacturing type IO is a glove as shown in the illustrated example, it is desirable to move it through the solution 31 tank with the palm side facing forward.
このようにして5!造型10の周囲に付着した付着膜7
0は、乾燥工程及び剥は工程を経て製品となるものであ
る。5 in this way! Adhesive film 7 attached around the mold 10
0 is a product that has undergone a drying process and a peeling process.
なお溶液31中にゴミ5が混入した時であっても、ろ網
34によって除去が連続的に行なえるものである。Note that even when dirt 5 is mixed into the solution 31, it can be continuously removed by the filter screen 34.
また更に、攪拌板33を付設すると、製造型10に付着
した溶液31によって若干変化する溶液31の濃度分布
を、均一なものに戻すことが連続的に行なえる。Furthermore, by adding the stirring plate 33, the concentration distribution of the solution 31, which changes slightly due to the solution 31 adhering to the production mold 10, can be continuously returned to a uniform one.
更にろ網34と攪拌板33との間に、溶液31の補給口
38を位置させると、浸漬作業を続けながら溶液31補
給が行なえるだけでなく、この溶液31の濃度も均一に
することができる。Furthermore, by positioning the replenishment port 38 for the solution 31 between the filter screen 34 and the stirring plate 33, it is possible not only to replenish the solution 31 while continuing the dipping operation, but also to make the concentration of the solution 31 uniform. can.
このように、環状に形成した回転自在な浸漬槽30と、
この浸漬槽30に沿って移動可能であると共に製造型1
0を固定したコンベア20とを設けると共に、コンベア
20に沿って移動する製造型10を回転している浸漬4
630の一部で溶液31中に漬け、所定距離だけ浸漬し
た後、取り出すような浸漬成形法をとると、浸漬作業中
は常に浸漬槽30自体が回転していることとなる。In this way, the rotatable dipping tank 30 formed in an annular shape,
The manufacturing mold 1 is movable along this dipping tank 30 and
0 is fixed on a conveyor 20, and the production mold 10 that moves along the conveyor 20 is rotated.
If a dip molding method is used in which a part of the tube 630 is immersed in the solution 31, immersed for a predetermined distance, and then taken out, the dipping tank 30 itself will always be rotating during the dipping operation.
このように浸漬槽30を回転させると、溶液31に粘性
があるために、溶液31は制止している床面41に対し
て浸漬槽30と同一速度で回転していることとなり、静
止している床面41に対して、浸漬槽30中の溶液31
は流れていると同様にa簡することとなる。またその流
れは、浸漬槽30の回転方向に直角な断面をとった時に
、どの位置でも一定速度となるので、溶液31の成分等
も均一なものとなる。それ故、本発明に係る侵vi成形
法を用いると、できた製品の成分及び厚さ等も均一なも
のとすることができる。When the immersion tank 30 is rotated in this way, since the solution 31 has viscosity, the solution 31 is rotating at the same speed as the immersion tank 30 relative to the restrained floor surface 41, and the solution 31 remains stationary. The solution 31 in the immersion tank 30
If it is flowing, it will be a simple. Further, since the flow has a constant speed at any position when a cross section is taken perpendicular to the rotational direction of the dipping tank 30, the components of the solution 31 are also uniform. Therefore, by using the invasive molding method according to the present invention, the composition and thickness of the product can be made uniform.
また更に、浸漬槽30の回転速度を変えるだけで前述し
た床面41に対する回転速度を自由に変更することがで
きるので、溶液31あるいは製造型10の形状に応じて
、所定厚の製品を得ることができる。Furthermore, simply by changing the rotation speed of the dipping tank 30, the rotation speed with respect to the floor surface 41 described above can be freely changed, so that a product with a predetermined thickness can be obtained depending on the shape of the solution 31 or the manufacturing mold 10. Can be done.
また本発明に係る浸漬成形装置を用いると、製品の均一
化が図れると共に、浸漬槽30の回転速度及びコンベア
20の移動速度を制御するだけで付着膜70の厚さを設
定できるので、所望の厚さの製品を得ることかできる。Furthermore, by using the dip molding apparatus according to the present invention, the product can be made uniform, and the thickness of the adhered film 70 can be set by simply controlling the rotation speed of the dip tank 30 and the moving speed of the conveyor 20, so that the desired thickness can be obtained. How thick can you get the product?
更に浸漬槽30を環状に形成したので、全体をコンパク
トな装置とすることかできる。Furthermore, since the dipping tank 30 is formed in an annular shape, the entire device can be made compact.
なお浸漬槽30中にろ網34を位置させると。Note that a filter screen 34 is placed in the dipping tank 30.
溶液31中にゴミ等が混入した時であっても。Even when dirt or the like gets mixed into the solution 31.
浸漬作業を行ないながら、同時にゴミの除去をも連続的
に行なえるので便利である。It is convenient because it is possible to continuously remove dust while performing the immersion work.
更に、浸漬槽30中に攪拌板33を付設すると、製造型
lOに付着した溶液31によって若干変化する溶液31
の濃度分布を、均一なものに戻すことが連続的に行なえ
るので便利である。Furthermore, when a stirring plate 33 is attached to the immersion tank 30, the solution 31 changes slightly depending on the solution 31 attached to the production mold IO.
This is convenient because the concentration distribution can be returned to a uniform one continuously.
更にろ網34と攪拌板33との間に、溶液31の補給口
38を位置させると、浸漬作業を続けながら溶液31補
給が行なえるので便利なだけでなく、単一の補給口38
であっても浸漬槽30が回転しているので、補給しなが
ら溶液31の均一化を図ることもできる。Furthermore, if the replenishment port 38 for the solution 31 is located between the filter screen 34 and the stirring plate 33, it is not only convenient because the solution 31 can be replenished while continuing the dipping operation, but also a single replenishment port 38 is provided.
However, since the immersion tank 30 is rotating, the solution 31 can be made uniform while being replenished.
なお図示例では、製造型10を手袋に模したものとして
示したが、この形状に限定されるものではない。In the illustrated example, the manufacturing mold 10 is shown as a glove-like model, but the shape is not limited to this.
また第5図及び第6図に示したように、溶液31の液面
付近に仕切り板35を設けると、溶液31の均一性が一
層向上すると共に、特に溶液31の表面に張る液膜を除
去できる。Further, as shown in FIGS. 5 and 6, if a partition plate 35 is provided near the liquid surface of the solution 31, the uniformity of the solution 31 will be further improved, and in particular, a liquid film formed on the surface of the solution 31 will be removed. can.
[発明の効果]
以上説明したように、本発明は、製品の成分及び厚さ等
を均一にすることができるだけでなく、特に所望の厚さ
とすることが容易なだけでなく、全体がコンパクトなも
のである。[Effects of the Invention] As explained above, the present invention not only makes it possible to make the components and thickness of the product uniform, but also makes it easy to achieve the desired thickness, and also allows the product to be compact as a whole. It is something.
図面は本発明に係る装この実施例を示したものであって
、第1図は平面図、第2図は第1図のA−A線断面図、
第3図は攪拌板を示した断面図、第4図はる網を示した
断面図、第5図は仕切り板を示した平面図、第6図は同
断面図、第7図は製品の製造工程を示すためのブロック
図、第8図及び第9図は各々異なった従来例を示すため
の概略図である。The drawings show an embodiment of the device according to the present invention, in which FIG. 1 is a plan view, FIG. 2 is a sectional view taken along line A-A in FIG. 1, and FIG.
Figure 3 is a sectional view showing the stirring plate, Figure 4 is a sectional view showing the mesh, Figure 5 is a plan view showing the partition plate, Figure 6 is the same sectional view, and Figure 7 is the cross-sectional view of the product. A block diagram showing the manufacturing process, and FIGS. 8 and 9 are schematic diagrams showing different conventional examples.
Claims (1)
可能なコンベアに製造型を設けると共に、このコンベア
に沿って移動する製造型を、回転している浸漬槽の一部
で溶液中に漬け、所定距離だけ浸漬した後、取り出すこ
とを特徴とする浸漬成形法。 2、環状に形成した浸漬槽を回転自在に形成し、この浸
漬槽の回転方向に沿って移動可能なコンベアを配し、こ
のコンベアに製造型を設けると共に、コンベアに固定し
た製造型を、製造型の浸漬槽の溶液中への浸漬及び取り
出しが行なえるように上下方向に移動自在に形成したこ
とを特徴とする浸漬成形装置。 3、浸漬槽を、回転自在なターンテーブル上に固定した
特許請求の範囲第2項記載の浸漬成形装置。[Claims] 1. A rotatable dipping tank is provided, a production mold is provided on a conveyor that can move along the dipping tank, and the manufacturing mold that moves along the conveyor is connected to the rotating dipping tank. A dip molding method characterized by immersing a portion of the liquid in a solution and removing it after being immersed for a predetermined distance. 2. A dipping tank formed in an annular shape is rotatably formed, a conveyor movable along the rotational direction of the dipping tank is arranged, a manufacturing mold is provided on this conveyor, and the manufacturing mold fixed to the conveyor is used for manufacturing. An immersion molding apparatus characterized in that the immersion molding apparatus is formed to be movable in the vertical direction so that the immersion tank of the mold can be immersed in and taken out from the solution. 3. The dip molding apparatus according to claim 2, wherein the dip bath is fixed on a rotatable turntable.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61256298A JPS63109021A (en) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | Method and apparatus for immersion molding |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61256298A JPS63109021A (en) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | Method and apparatus for immersion molding |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63109021A true JPS63109021A (en) | 1988-05-13 |
Family
ID=17290714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61256298A Pending JPS63109021A (en) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | Method and apparatus for immersion molding |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63109021A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04289203A (en) * | 1991-01-18 | 1992-10-14 | Towa Corp:Kk | Glove and production thereof |
WO2009118922A1 (en) * | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 小松精練株式会社 | Method and device for manufacturing glove |
-
1986
- 1986-10-28 JP JP61256298A patent/JPS63109021A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04289203A (en) * | 1991-01-18 | 1992-10-14 | Towa Corp:Kk | Glove and production thereof |
WO2009118922A1 (en) * | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 小松精練株式会社 | Method and device for manufacturing glove |
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