JPS63107705A - マイクロフィルタホイルの支持装置 - Google Patents
マイクロフィルタホイルの支持装置Info
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- JPS63107705A JPS63107705A JP62265189A JP26518987A JPS63107705A JP S63107705 A JPS63107705 A JP S63107705A JP 62265189 A JP62265189 A JP 62265189A JP 26518987 A JP26518987 A JP 26518987A JP S63107705 A JPS63107705 A JP S63107705A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く工業上の利用分野〉
本発明は金属マイクロフィルタホイルを支持する装置に
関するものである。
関するものである。
〈従来の技術〉
この種のマイクロフィルタホイルは面フィルタまたはろ
過スクリーンと叶ばれており、横IWi流ろ過に適する
フィルタ媒体である。このろ過ブOセスはフィルタケー
キがフィルタ媒体に付着しないので連続的である。マイ
クロフィルタホイルの微小細孔(licrol)OrO
3)はバクテリアよりも小さく、そのセルリ°イズは少
なくとも0.2ミクロンであり、従って連続脱菌ろ過が
可能である。
過スクリーンと叶ばれており、横IWi流ろ過に適する
フィルタ媒体である。このろ過ブOセスはフィルタケー
キがフィルタ媒体に付着しないので連続的である。マイ
クロフィルタホイルの微小細孔(licrol)OrO
3)はバクテリアよりも小さく、そのセルリ°イズは少
なくとも0.2ミクロンであり、従って連続脱菌ろ過が
可能である。
上記マイクロフィルタホイルの製*haの一例が、ホト
リソグラフィ工程を変形したものとしてスイス特許出願
第02945/86号に開示されている。レーザー光線
が干渉パターンを形成し格子状の面構造を有する感光性
上塗り層が形成される。さらに2つの工程すなわら陰極
微粒化及び研磨により規則的な孔を有する薄い金属箔が
形成される。
リソグラフィ工程を変形したものとしてスイス特許出願
第02945/86号に開示されている。レーザー光線
が干渉パターンを形成し格子状の面構造を有する感光性
上塗り層が形成される。さらに2つの工程すなわら陰極
微粒化及び研磨により規則的な孔を有する薄い金属箔が
形成される。
ホイルは例えば金、ニッケル、チタニウムまたは適当な
合金例えば金とパラジウムの合金からなる。
合金例えば金とパラジウムの合金からなる。
これらのマイクロフィルタホイルは非常にこわれやすい
構造を有しているので、ホイルがフィルタ支持部材にお
かれ、フィルタ装置に挿入される前に支持構造により補
強されなければならない。
構造を有しているので、ホイルがフィルタ支持部材にお
かれ、フィルタ装置に挿入される前に支持構造により補
強されなければならない。
〈発明の目的〉
本発明の目的はマイクロフィルタホイルの大部分を透過
性で非常に安定させたマイクロフィルタホイルの支持構
造を提供することである。
性で非常に安定させたマイクロフィルタホイルの支持構
造を提供することである。
く問題点を解決する手段〉
電気メッキによる補強構造を形成するため支持構造が電
極(陰極)に形成されている。前述のスイス特許出願第
02945/86号に開示されたようなマイクロフィル
タホイルの場合マイクロフィルタホイルはグラスプレー
トとホイルとの間に感光性上塗り層を有し、基盤すなわ
ちグラスプレート上に設けられる。金属粉末を有する電
導性上塗り層はマイクロフィルタホイル面に付着される
。
極(陰極)に形成されている。前述のスイス特許出願第
02945/86号に開示されたようなマイクロフィル
タホイルの場合マイクロフィルタホイルはグラスプレー
トとホイルとの間に感光性上塗り層を有し、基盤すなわ
ちグラスプレート上に設けられる。金属粉末を有する電
導性上塗り層はマイクロフィルタホイル面に付着される
。
このように電導性上塗、り層を補強したあと、マイクロ
フィルタホイルはml性上塗り層の多孔層を介して選択
的に溶媒を発散させ感光性上塗り層を溶解させYi電導
性上塗層を残すことにより、グラスプレートから取りは
ずされる。そのような溶媒は感光性上塗り層の現像液で
ある。
フィルタホイルはml性上塗り層の多孔層を介して選択
的に溶媒を発散させ感光性上塗り層を溶解させYi電導
性上塗層を残すことにより、グラスプレートから取りは
ずされる。そのような溶媒は感光性上塗り層の現像液で
ある。
感光性上塗り層が溶けた後マイクロフィルタホイルは金
属電導基盤に移され、金属伝導性基盤はグラスプレート
上でマイクロフィルタホイル状におかれる。グラスプレ
ートが長手方向に引き取られるとマイクロホイルの露出
された裏側すなわち表側が基盤に支持される。
属電導基盤に移され、金属伝導性基盤はグラスプレート
上でマイクロフィルタホイル状におかれる。グラスプレ
ートが長手方向に引き取られるとマイクロホイルの露出
された裏側すなわち表側が基盤に支持される。
その後マイクロホイルが吸引され、負圧により基盤に固
定され、ホイルは基lIA向上に一様に位置する。
定され、ホイルは基lIA向上に一様に位置する。
マイクロフィルタホイルの露出された裏面は、感光性上
塗り層で被覆され第1の層を形成する。
塗り層で被覆され第1の層を形成する。
上塗りコーディングは、電気メッキの問マイクロフィル
タホイル上に第1の層を成長させるための接点を形成し
得るよう6被覆状態の領域を残す。
タホイル上に第1の層を成長させるための接点を形成し
得るよう6被覆状態の領域を残す。
接点のパターンは対応するマスクを用いて形成される。
マスクは、光を通さない層、例えば、りロムでコーティ
ングされた面を部分的に有するグラスプレートでもよい
。
ングされた面を部分的に有するグラスプレートでもよい
。
露光後、プレートは公知の方法で現像され、フォトレジ
ストは接点に対応して露光部で溶解する。
ストは接点に対応して露光部で溶解する。
ここで電鋳プロセスが例えば金を被覆材として用いて開
始される。
始される。
材料が接点に固着されコーティング期間に応じてFシl
!部(隆起部)が形成され、上畔tjSム支柱またはウ
ェブ状に形成されその上部は接点の上までわずかに延在
する。
!部(隆起部)が形成され、上畔tjSム支柱またはウ
ェブ状に形成されその上部は接点の上までわずかに延在
する。
第1及び第2の層は二段階プロセスで形成される場合コ
ーティング時間は、隣接する上背部が癒むされ平坦な連
続la造を形成するのに十分な長さとする。しかしなが
ら開孔が上昇部に残る状態で樹脂メッキプロセスが停止
されなければならない。
ーティング時間は、隣接する上背部が癒むされ平坦な連
続la造を形成するのに十分な長さとする。しかしなが
ら開孔が上昇部に残る状態で樹脂メッキプロセスが停止
されなければならない。
支持構造の開孔はマイクロフィルタホイルの孔すなわち
6孔よりかなり大きくなければならない。
6孔よりかなり大きくなければならない。
マイクロフィルタホイルの20%以下を被覆する接点は
独立した点状または連続したストリップ状に形成される
。点状接点パターンはストリップ状またはネット状のパ
ターンよりもより多孔性の支持構造を提供できるが、ネ
ット状パターンはより引張り9瓜に優れている。従って
これらのパターンの組合「が特に有効である。
独立した点状または連続したストリップ状に形成される
。点状接点パターンはストリップ状またはネット状のパ
ターンよりもより多孔性の支持構造を提供できるが、ネ
ット状パターンはより引張り9瓜に優れている。従って
これらのパターンの組合「が特に有効である。
yJ造方法の利点として第−及び第二の層が2つのステ
ップで形成される。
ップで形成される。
第一の層は上述の方法により形成される。金等の金属が
第一の層に真空蒸着され、全体を電導性にする。第二の
上塗り層がマスクを介した露光及び現像後に形成され第
二の層が付着される部分を露出する。多孔部を形成する
部分がフォトレジスト層により被覆される。第二の層は
メッキにより形成される。第二の層が金属であり、拡散
溶接により最終的に支持構造が固着される接点を形成す
る。
第一の層に真空蒸着され、全体を電導性にする。第二の
上塗り層がマスクを介した露光及び現像後に形成され第
二の層が付着される部分を露出する。多孔部を形成する
部分がフォトレジスト層により被覆される。第二の層は
メッキにより形成される。第二の層が金属であり、拡散
溶接により最終的に支持構造が固着される接点を形成す
る。
〈実施例〉
は、マスクを介して露光された俵マイクロフィル状の独
立した上昇部(隆起部)4が接点のすぐ近成される。ス
トーク5は第1の層0を形成し、きのこ状の上昇部ずな
わちキャップ部4は第2の層(2)を形成する。
立した上昇部(隆起部)4が接点のすぐ近成される。ス
トーク5は第1の層0を形成し、きのこ状の上昇部ずな
わちキャップ部4は第2の層(2)を形成する。
支持m造が形成された後、フォトレジスト層が従来の方
法により溶解される。
法により溶解される。
第2図は接点ストリップ7のネット状のパターンを示す
第2の実施例の平面図である。接点スト成される。その
結果、形成された孔9はをゼ本状パターンに形成される
。
第2の実施例の平面図である。接点スト成される。その
結果、形成された孔9はをゼ本状パターンに形成される
。
第3図は、接点ストリップ10のネットワークと接点ス
トリップの間に直交するように配置された円形接点11
とを有する実施例を示している。
トリップの間に直交するように配置された円形接点11
とを有する実施例を示している。
メッキ層の形成中に、きのこ状部12が形成され、きの
こ状?JI12が互いに連続しかつ接点ストリップ10
のウェブ状14部(隆起部)13と連続し、点15が形
成されており、きのこ状の上背部16いては第3図に対
応する部材は同一符号で示されている。
こ状?JI12が互いに連続しかつ接点ストリップ10
のウェブ状14部(隆起部)13と連続し、点15が形
成されており、きのこ状の上背部16いては第3図に対
応する部材は同一符号で示されている。
この実施例において、2層の支持構造を上昇部16にお
ける拡散溶接により支持構造(図示Vず)と同じである
。この支持M4造により、はんだ付けによりフィルタ基
板(図示せず)への固定が可能になる。はんだはペース
ト状でシルクスクリーン工程により接合部に供給される
。
ける拡散溶接により支持構造(図示Vず)と同じである
。この支持M4造により、はんだ付けによりフィルタ基
板(図示せず)への固定が可能になる。はんだはペース
ト状でシルクスクリーン工程により接合部に供給される
。
はんだ工程中、はんだは溶融し、トロイダル状の上貸部
18内に保持され、はんだ付は部のまわりのはんだ流に
よりマイクロフィルタホイルの孔面図及び二層支持構T
i(ハ)、ゆにより被覆されたマイクロホイル20を示
す図である。上層@は所定パターンのマスクを用いて形
成される。ろ適用の連通孔は下1i[の特性に係わらず
、比較的大きな絶倒よりも必要な金属間が少ないという
利点を有している。
18内に保持され、はんだ付は部のまわりのはんだ流に
よりマイクロフィルタホイルの孔面図及び二層支持構T
i(ハ)、ゆにより被覆されたマイクロホイル20を示
す図である。上層@は所定パターンのマスクを用いて形
成される。ろ適用の連通孔は下1i[の特性に係わらず
、比較的大きな絶倒よりも必要な金属間が少ないという
利点を有している。
この実施例において接点23は図示しない支持構造を固
定するように第2の層(へ)に設けられている。図示し
ない支持41造は先端が鋭利な上ツ1部を有しており上
昇部は接点23に正確に対応して求められる。マイクロ
フィルタホイルの支持構造は発散溶接により図示しない
支持構造に接続されている。本発明の場合、接点23は
花型に設けられており、狭い金属ウェブ24が花弁の間
に設けられ花型の中心に指向している。この実施例の利
点として、発散溶接中に必要な高旺が、ウェブ24の間
の接点の面積が少ないことと支持構造の先端との関係に
より比較的低い力により達成可能となる。
定するように第2の層(へ)に設けられている。図示し
ない支持41造は先端が鋭利な上ツ1部を有しており上
昇部は接点23に正確に対応して求められる。マイクロ
フィルタホイルの支持構造は発散溶接により図示しない
支持構造に接続されている。本発明の場合、接点23は
花型に設けられており、狭い金属ウェブ24が花弁の間
に設けられ花型の中心に指向している。この実施例の利
点として、発散溶接中に必要な高旺が、ウェブ24の間
の接点の面積が少ないことと支持構造の先端との関係に
より比較的低い力により達成可能となる。
別の利点として図示しない支持構造が正確に同じ高さを
有する必要がない。先端部の闇の高さの相巽はウェブ2
4を対応させて変形させることにより補正できる。
有する必要がない。先端部の闇の高さの相巽はウェブ2
4を対応させて変形させることにより補正できる。
上l!(へ)のパターンに合わせて対応するマスクパタ
ーンを下?1ゆを形成1″るのに用いる。上端において
わずかに厚くなった支柱状の上昇部25.2(A” )
、(B’ )から(B” )及び(C′)から(C”)
で示されている。
ーンを下?1ゆを形成1″るのに用いる。上端において
わずかに厚くなった支柱状の上昇部25.2(A” )
、(B’ )から(B” )及び(C′)から(C”)
で示されている。
タホイルを示す図、第1’ll Nはマイクロフィルタ
そのマイク[lフィルタホイル及び支持ll3aを示す
断面図である。 1・・・上塗り層、2・・・円形接点、3・・・マイク
ロフィルタホイル、4・・・上昇部、5・・・ストーク
、6・・・開孔、7・・・接点ストリップ、8・・・ウ
ェブ状上昇部、9・・・fil孔、10・・・接点スト
リップ、11・・・円形接点、12・・・きのこ状部、
13・・・ウェブ状上昇部、14・・・開化、15・・
・接点、16・・・ぎのこ状上胃部、17・・・接点、
18・・・環状−ヒシフ′NS、20・・・マイクロホ
イル、21・・・金属層、22・・・孔、23・・・接
点、24・・・金属ウェブ、25.26・・・支柱状上
昇部。
そのマイク[lフィルタホイル及び支持ll3aを示す
断面図である。 1・・・上塗り層、2・・・円形接点、3・・・マイク
ロフィルタホイル、4・・・上昇部、5・・・ストーク
、6・・・開孔、7・・・接点ストリップ、8・・・ウ
ェブ状上昇部、9・・・fil孔、10・・・接点スト
リップ、11・・・円形接点、12・・・きのこ状部、
13・・・ウェブ状上昇部、14・・・開化、15・・
・接点、16・・・ぎのこ状上胃部、17・・・接点、
18・・・環状−ヒシフ′NS、20・・・マイクロホ
イル、21・・・金属層、22・・・孔、23・・・接
点、24・・・金属ウェブ、25.26・・・支柱状上
昇部。
Claims (11)
- (1)マイクロフィルタホイルの微小細孔よりもかなり
大きな孔を有するメッキされた開孔支持構造である金属
マイクロフィルタホイルの支持装置において、支持構造
が前記マイクロフィルタホイルの裏側に設けられる少な
くとも2つの多孔層を有し、前記マイクロフィルタホイ
ルの裏側に直接設けられる第1の層が第2の層に前記マ
イクロフィルタホイルを接続する個別の接続要素を有し
ており、前記接続要素の接触面が前記マイクロフィルタ
ホイルの大部分を被覆しない状態で残しており、前記第
2の層が開口されたマクロ孔を有する連続構造であるこ
とを特徴とするマイクロフィルタホイルの支持装置。 - (2)前記層を形成する接続要素が支柱状部及びウェブ
状の隆起部のうちの少なくともいずれか一方からなるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のマイクロフ
ィルタホイルの支持装置。 - (3)前記隆起部の上端が全面にわたつて拡がつており
、互いに連続して開口されたマクロ孔を有する平坦構造
を形成し、前記第2の層を形成していることを特徴とす
る特許請求の範囲第2項記載のマイクロフィルタホイル
の支持装置。 - (4)前記第2の層が別々に前記第1の層に付着され、
前記第2の層が前記隆起部の複数の上端部の間に継ぎ目
のない横断連結部を形成していることを特徴とする特許
請求の範囲第2項記載のマイクロフィルタホイルの支持
装置。 - (5)前記第2の層が別の支持構造用に接点を有してい
ることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載のマイク
ロフィルタホイルの支持装置。 - (6)前記第1の層の隆起部が前記接点において他の部
分におけるよりもより互いに近づいていることを特徴と
する特許請求の範囲第5項記載のマイクロフィルタホイ
ルの支持装置。 - (7)前記第2の層が前記接点の近くで幅のせまいウェ
ブを有し、その中心に指向していることを特徴とする特
許請求の範囲第5項記載のマイクロフィルタホイルの支
持装置。 - (8)前記第1の層の接点が格子状に設けられているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項記載のマイクロフ
ィルタホイルの支持装置。 - (9)前記第1の層がウェブ状の隆起部の網目構造と該
網目内に設けられた支柱状隆起部とを有することを特徴
とする特許請求の範囲第3項記載のマイクロフィルタホ
イル支持装置。 - (10)他の隆起部分よりも大きい隆起部が前記網目の
接合部に設けられていることを特徴とする特許請求の範
囲第9項記載のマイクロフィルタホイルの支持装置。 - (11)環状の隆起部が前記網目の接合部に設けられて
いることを特徴とする特許請求の範囲第9項記載のマイ
クロフィルタホイルの支持装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH04226/86-5 | 1986-10-23 | ||
CH422686 | 1986-10-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63107705A true JPS63107705A (ja) | 1988-05-12 |
Family
ID=4272157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62265189A Pending JPS63107705A (ja) | 1986-10-23 | 1987-10-20 | マイクロフィルタホイルの支持装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4812236A (ja) |
EP (1) | EP0264594B1 (ja) |
JP (1) | JPS63107705A (ja) |
AT (1) | ATE71558T1 (ja) |
DE (1) | DE3776068D1 (ja) |
DK (1) | DK441587A (ja) |
FI (1) | FI874241A7 (ja) |
NO (1) | NO874410L (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017141609A1 (ja) * | 2016-02-15 | 2017-08-24 | 株式会社村田製作所 | 濾過フィルタ及び濾過フィルタデバイス |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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