JPS6256599B2 - - Google Patents
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- JPS6256599B2 JPS6256599B2 JP54086927A JP8692779A JPS6256599B2 JP S6256599 B2 JPS6256599 B2 JP S6256599B2 JP 54086927 A JP54086927 A JP 54086927A JP 8692779 A JP8692779 A JP 8692779A JP S6256599 B2 JPS6256599 B2 JP S6256599B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、互いに異なる電位を保持する一対の
データ線の電位状態を、第1の電位状態から第2
の電位状態に移行させるデータ線電位設定回路及
びそれを用いたMISメモリ回路に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention changes the potential state of a pair of data lines holding different potentials from a first potential state to a second potential state.
The present invention relates to a data line potential setting circuit for transitioning to a potential state of , and an MIS memory circuit using the same.
一般に、一対のコモンデータ線を介して書き込
み及び読み出しが行われるような絶縁ゲート型ト
ランジスタメモリ回路(以下単にMISメモリ回路
と称する。)においては、書き込み時に生じたコ
モンデータ線の電位状態(第1の電位状態)を読
み出し時に必要な電位状態(第2の電位状態)に
移行させる必要があり、その時間を短かくするた
めにデータ線電位設定回路が用いられている。 In general, in an insulated gate transistor memory circuit (hereinafter simply referred to as an MIS memory circuit) in which writing and reading are performed via a pair of common data lines, the potential state of the common data line (first It is necessary to shift the potential state (potential state) to the potential state (second potential state) required at the time of reading, and a data line potential setting circuit is used to shorten the time.
このようなデータ線電位設定回路を用いたMIS
メモリ回路について第1図に従つて説明する。 MIS using such a data line potential setting circuit
The memory circuit will be explained with reference to FIG.
同図において、1はメモリ・セルMS11〜MSno
をm行n列に配列したメモリマトリツクスであ
る。2はメモリマトリツクスの各行を行アドレス
信号W1〜Wnにて選択する行選択アドレスデコー
ダである。3は各列に配列された一対のデジツト
線D01,D11〜Dpo,D1oを共通のコモンデータ線
CD0〜CD1に接続するためのカラムゲート手段で
あり、各列に対して一対のカラムゲートスイツチ
ング素子Q5,Q6〜Q5′,Q6′を有する。4は前記
一対のカラムゲートスイツチング素子Q5,Q6〜
Q5′,Q6′をカラムゲート信号CL1〜CLoにて選択
する列選択アドレスデコーダである。5は各列の
一対のデジツト線D01,D11〜D0o,D1oに電流を
供給する負荷手段であり、各列において一対の
MISFETQ7,Q8〜Q7′,Q8′からなる。6はCSX
信号、WED信号、WE′信号によつて制御され、
入出力端子I/Oからの書き込みデータを増幅し
て前記一対のコモンデータ線に伝送するための書
き込み回路である。7はCSX信号、WE信号、
″信号によつて制御され、コモンデータ線
CD0,CD1に読み出されたデータを増幅して入出
力端子I/Oに伝送する読み出し回路である。8
は一対のコモンデータ線に接続されたデータ線電
位設定回路であり、コモンデータ線CD0とバイア
ス源VCCとの間にMISFETQ9′,Q9が接続され、
かつコモンデータ線CD1とバイアス源VCCとの間
にMISFETQ10′,Q10が接続された回路構成をし
ており、前記MISFETQ9,Q10は″信号にて制
御されている。なお、各メモリ・セルはMS11,
MSnoに示すように交叉接続されたMISFETQ3,
Q4,Q3′,Q4′と、その交叉接続点A,B,A′,
B′とデジツト線D01,D11,D0o,D1oとの間に接
続され、かつ行アドレス信号W1〜Wnが印加され
るMISFETQ1,Q2,Q1′,Q2′と、バイアス源VC
Cと前記交叉接続点A,B,A′,B′との間に接続
された負荷素子R1,R2,R1′,R2′とによつて構成
されており、一方の交叉接点に高レベル(以下、
Hレベルと称する。)が他方の交叉接続点に低レ
ベル(以下、Lレベルと称する。)が生ずるよう
にスタチツク的にデータを記憶、保持する機能を
有する。また、書き込み回路6は第2図に示すよ
うにMISFETQ42,Q43,Q49,Q50,Q56よりなる
プツシユプル増幅段と、前記プツシユプル増幅手
段と一対のコモンデータ線CD0,CD1の間に接続
されたMISFETQ42′,Q49′とよりなる伝送手段
と、MISFETQ44,Q45,Q51,Q52,Q57よりなる
第1のインバータ波形整手段と、MISFETQ46,
Q47,Q53,Q54,Q58よりなる第2インバータ波
形整形手段と、MISFETQ48,Q55,Q59よりなる
入力バツフア手段によつて構成され、前記伝送手
段WE′信号で、前記プツシユプル増幅手段を
WED信号で、また前記第1および第2インバー
タ波形整形手段及び入力バツフア手段をCSX信
号で各々制御することにより、入出力端子からの
書き込みデータを増幅して一対のコモンデータ線
CD0,CD1に印加する。 In the same figure, 1 is a memory cell MS 11 ~ MS no
This is a memory matrix in which data is arranged in m rows and n columns. Reference numeral 2 denotes a row selection address decoder which selects each row of the memory matrix using row address signals W 1 to W n . 3 connects a pair of digital lines D 01 , D 11 to D po , D 1o arranged in each column to a common common data line.
It is a column gate means for connecting to CD 0 -CD 1 and has a pair of column gate switching elements Q 5 , Q 6 -Q 5 ', Q 6 ' for each column. 4 is the pair of column gate switching elements Q 5 , Q 6 .
This is a column selection address decoder that selects Q 5 ′ and Q 6 ′ using column gate signals CL 1 to CL o . 5 is a load means for supplying current to a pair of digit lines D 01 , D 11 to D 0o , D 1o in each column;
It consists of MISFETQ 7 , Q 8 to Q 7 ′, and Q 8 ′. 6 is CSX
signal, WED signal, WE′ signal,
This is a write circuit for amplifying write data from the input/output terminal I/O and transmitting the amplified data to the pair of common data lines. 7 is CSX signal, WE signal,
”Controlled by signal, common data line
This is a readout circuit that amplifies the data read out to CD 0 and CD 1 and transmits it to the input/output terminal I/O. 8
is a data line potential setting circuit connected to a pair of common data lines, and MISFETQ 9 ′, Q 9 are connected between the common data line CD 0 and the bias source V CC ,
The circuit has a circuit configuration in which MISFETQ 10 ′ and Q 10 are connected between the common data line CD 1 and the bias source V CC , and the MISFETQ 9 and Q 10 are controlled by the ″ signal. Each memory cell is MS 11 ,
MISFETQ 3 cross-connected as shown in MS no .
Q 4 , Q 3 ′, Q 4 ′ and their cross connection points A, B, A′,
MISFETs Q 1 , Q 2 , Q 1 ' , Q 2 ' are connected between B' and the digital lines D 01 , D 11 , D 0o , D 1o and to which row address signals W 1 to W n are applied. , bias source V C
C and the load elements R 1 , R 2 , R 1 ', R 2 ' connected between the cross connection points A, B, A ' , B', and one of the cross connection points to a high level (hereinafter,
It is called H level. ) has a function of statically storing and holding data so that a low level (hereinafter referred to as L level) is generated at the other cross-connection point. Further, as shown in FIG. 2, the write circuit 6 includes a push-pull amplification stage consisting of MISFETs Q 42 , Q 43 , Q 49 , Q 50 , and Q 56 , the push-pull amplification means, and a pair of common data lines CD 0 and CD 1 . A transmission means consisting of MISFETQ 42 ′ and Q 49 ′ connected between them, a first inverter waveform shaping means consisting of MISFETQ 44 , Q 45 , Q 51 , Q 52 , Q 57 , and MISFETQ 46 ,
The second inverter waveform shaping means includes Q 47 , Q 53 , Q 54 , and Q 58 , and the input buffer means includes MISFETs Q 48 , Q 55 , and Q 59 . amplification means
By controlling the WED signal and the first and second inverter waveform shaping means and input buffer means using the CSX signal, write data from the input/output terminals is amplified and transferred to the pair of common data lines.
Apply to CD 0 and CD 1 .
なお、前記コモンデータ線に伝送させる書き込
みデータのレベルはバイアス源VCCが4.5Vの
時、一方が3.8Vの“H”レベルであり、他方が
0.3Vの“L”レベルである。また、前記
MISFETQ44〜Q48はデプレツシヨン型であり、
他はエンフアンスメント型である。 Note that when the bias source V CC is 4.5V, the level of the write data transmitted to the common data line is 3.8V (H) level, and the other is 3.8V (H) level.
This is the “L” level of 0.3V. Also, the above
MISFETQ 44 ~ Q 48 are depletion type,
Others are enhancement types.
さらに、前記読み出し回路7は第3図に示すよ
うにMISFETQ60,Q61,Q72,Q75よりなる第1
の差動増幅手段と、MISFETQ62,Q63,Q76より
なる第1の差動増幅手段駆動用コントロール手段
と、MISFETQ64,Q65,Q77,Q78,Q79,Q80よ
りなる第2の差動増幅手段と、MISFETQ66,
Q67,Q81よりなる第2の差動増幅駆動用レベル
コントロール手段と、MISFETQ82,Q84,Q68,
Q83,Q85よりなる第1のプツシユプル増幅手段
と、MISFETQ86,Q70,Q87,Q71よりなる第2
のプツシユプル増幅手段と、MISFETQ90,Q91
よりなるTTL信号レベル駆動インバータ手段
と、MISFETQ89,Q89′よりなるトライステート
手段とによつて構成されており、第1,2の差動
増幅手段及び第1,2の差動増幅手段駆動用のレ
ベルコントロール手段をCSX信号で、第1,2
のプツシユプル増幅手段″信号で、トライス
テート手段をWE1信号で各々制御することによ
り、コモンデータ線CD0,CD1に読み出されたデ
ータを増幅して入出力端子に取り出す。 Further , as shown in FIG . 3, the readout circuit 7 has a first
a first differential amplifying means drive control means consisting of MISFETQ 62 , Q 63 , and Q 76 ; 2 differential amplification means and MISFETQ 66 ,
A second differential amplification drive level control means consisting of Q 67 , Q 81 and MISFETQ 82 , Q 84 , Q 68 ,
A first push-pull amplification means consisting of Q83 , Q85, and a second push-pull amplification means consisting of MISFETQ86 , Q70 , Q87 , Q71 .
Push-pull amplification means, MISFETQ 90 , Q 91
It is composed of a TTL signal level driving inverter means consisting of a TTL signal level drive inverter means and a tri-state means consisting of MISFETQ 89 and Q 89 ', and a first and second differential amplification means and a first and second differential amplification means drive The level control means for the first and second
By controlling the push-pull amplifying means ``signal'' and the tri-state means using the WE1 signal, the data read out to the common data lines CD 0 and CD 1 is amplified and taken out to the input/output terminal.
なお、第1の差動増幅段に印加する信号の最適
レベルは、バイアス源VCCを4.5Vとした場合、
一方が3.8Vの“H”レベルであり、他方が3.5V
の“L”レベルであり、そのレベル差は0.3V程
度である。また、上記MISFETQ60〜Q71はデプ
レツシヨン型であり、その他のMISFETはエン
フアンスメント型である。 Note that the optimal level of the signal applied to the first differential amplification stage is when the bias source V CC is 4.5V.
One is 3.8V “H” level, the other is 3.5V
is at the "L" level, and the level difference is about 0.3V. Furthermore, the above MISFETs Q 60 to Q 71 are of the depletion type, and the other MISFETs are of the enhancement type.
上記構成よりなる第1図のMISメモリ回路にお
いて、メモリセルMS11にデータを書き込み、そ
の直後同一チツプ内のメモリセルMSnoからデー
タを読み出す場合を例にとり、一対のコモンデー
タ線CD0,CD1の書き込み時の電位状態(第1の
電位状態)が読み出し時に必要な電位状態(第2
の電位状態)にいかに移行されるかを第4図のタ
イミングチヤートを参照し説明する。 In the MIS memory circuit shown in FIG. 1 having the above configuration, suppose that data is written to the memory cell MS 11 and immediately thereafter data is read from the memory cell MS no in the same chip . The potential state (first potential state) when writing 1 is the potential state (second potential state) required during reading.
How the voltage is shifted to the potential state) will be explained with reference to the timing chart of FIG.
なお、同図において、信号、信号、Ai
信号、Din/DOUTはICチツプ外部から印加され
たものであり、その他の信号はICチツプ内部で
形成されたものである。 In addition, in the same figure, signal, signal, Ai
The signal, Din/D OUT , is applied from outside the IC chip, and the other signals are generated inside the IC chip.
タイシングt1において信号が“L”レベル
になることによつて、チツプ選択状態となり、外
部からのアドレス信号Aiが1行及び列選択アド
レスデコーダに印加される。それによつてメモリ
セルMS11が選択され、デジツト線D01,D11がカ
ラムゲートスイツチング素子Q5,Q6を介して一
対のコモンデータ線CD0,CD1に接続される。ま
たMISFETQ1,Q2もONしているから交叉接続点
A,Bは前記一対のデジツト線D01,D11に接続さ
れる。 When the signal becomes "L" level at timing t1 , the chip is selected, and an external address signal Ai is applied to the 1st row and column selection address decoders. Thereby, memory cell MS11 is selected, and digital lines D01 and D11 are connected to a pair of common data lines CD0 and CD1 via column gate switching elements Q5 and Q6 . Furthermore, since MISFETQ 1 and Q 2 are also ON, the cross-connection points A and B are connected to the pair of digital lines D 01 and D 11 .
タイミングt2において、WE′信号が“L”レベ
ルのため、第2図の書き込み回路6はWED信号
が“H”レベルに、CSX信号が“H”レベルに
なつているためプツシユプル増幅手段、第1,2
のインバータ波形整形手段及び入力バツフア手段
は各々動作しており、それによつて入出力端子か
ら印加された書き込みデータDiNを増幅して一対
のコモンデータ線CD0,CD1に伝送する。 At timing t2 , since the WE' signal is at the "L" level, the write circuit 6 in FIG. 1,2
The inverter waveform shaping means and the input buffer means are each in operation, thereby amplifying the write data DiN applied from the input/output terminal and transmitting the amplified data to the pair of common data lines CD 0 and CD 1 .
今、DiNを“H”レベルとすると、前記コモン
データ線CD0の電位はVCD0は約3.8Vの“H”レ
ベル(V1H)になり、前記コモンデータ線CD1の
電位VCD1は約0.3Vの“L”レベル(V1L)にな
る。このV1H,V1Lのレベルが第1の電位状態を
示している。 Now, when DiN is set to "H" level, the potential of the common data line CD 0 becomes "H" level (V 1H ) of about 3.8V, and the potential of the common data line CD 1 becomes about 3.8V (V 1H ). It becomes “L” level (V 1L ) of 0.3V. The levels of V 1H and V 1L indicate the first potential state.
前記一対のコモンデータ線CD0,CD1の第1の
電位状態V1H,V1Lはカラムスイツチング手段
Q5,Q6及び一対のデジツト線D01,D11及び
MISFETQ1,Q2を介してメモリセルMS11の交叉
接続点A,Bにも伝送される。 The first potential states V 1H and V 1L of the pair of common data lines CD 0 and CD 1 are column switching means.
Q 5 , Q 6 and a pair of digit wires D 01 , D 11 and
It is also transmitted to the cross-connection points A and B of the memory cell MS 11 via the MISFETs Q 1 and Q 2 .
今、メモリセルMS11の負荷手段MISFETQ7,
Q8及び負荷抵抗素子R1,R2の電流駆動能力は書
き込み回路6のプツシユプル増幅手段の電流駆動
能力よりも小さいので、前記交叉接続点A,Bの
レベルはV1H,V1Lとなる。また、この時点にお
いては、コモンデータ線CD0,CD1に存在する寄
生容量C0,C1にも前記V1H,V1Lが蓄積される。
なお、複数の一対のデジツト線D01,D11〜D0o,
D1oに対してコモンデータ線CD0,CD1を共通に
使用しているため、その線長は長いものとなつて
おり、そのため前記寄生容量C0,C1は非常に大
きい。 Now the load means of memory cell MS 11 MISFETQ 7 ,
Since the current driving ability of Q 8 and the load resistance elements R 1 and R 2 is smaller than the current driving ability of the push-pull amplification means of the write circuit 6, the levels of the cross-connection points A and B become V 1H and V 1L . Furthermore, at this point, the V 1H and V 1L are also accumulated in the parasitic capacitances C 0 and C 1 existing on the common data lines CD 0 and CD 1 .
Note that a plurality of pairs of digit lines D 01 , D 11 to D 0o ,
Since the common data lines CD 0 and CD 1 are commonly used for D 1o , their line lengths are long, and therefore the parasitic capacitances C 0 and C 1 are very large.
タイミングt3において、書き込み回路6の伝送
手段にWE′信号の“L”レベルが印加されるた
め、コモンデータ線CD0,CD1は書き込み回路6
から電気的に切り離されるけれども、前記容量
C0,C1によつてそのレベルは第1の電位状態に
保持されている。 At timing t3 , the "L" level of the WE' signal is applied to the transmission means of the write circuit 6, so the common data lines CD0 and CD1 are connected to the write circuit 6.
Although electrically disconnected from the capacitance
The level is maintained at the first potential state by C 0 and C 1 .
この時点において、負荷手段Q7,Q8、及び負
荷抵抗素子R1,R2は上記書き込み回路6のプツ
シユプル増幅手段に制約されずに、交叉接続点
A,Bにバイアスを供給することが可能となる。
また、″が“H”レベルになることによつて
データ線電位設定回路8も動作を開始する。 At this point, the load means Q 7 , Q 8 and the load resistance elements R 1 , R 2 can supply bias to the cross-connection points A and B without being restricted by the push-pull amplification means of the write circuit 6. becomes.
In addition, when the signal " becomes "H" level, the data line potential setting circuit 8 also starts operating.
上記データ線電位設定回路8のうち
MISFETQ9′,Q9はコモンデータ線CD0がV1Hで
あるため、そのゲート−ソース間の電位差がしき
い値電圧(約0.7V)以下なので各々offしてい
る。又MISFETQ10′,Q10はコモンデータ線CD1
がV1Lであるためそのゲート−ソース間の電位差
がしきい値電位(約0.7V)以上なので各々onす
る。それによつて、MISFETQ10′,Q10を介して
容量C1に電荷を充電し、コモンデータ線CD1のレ
ベルを徐々に立上げる。 Of the data line potential setting circuit 8
Since the common data line CD0 of MISFETQ9 ' and Q9 is V1H , the potential difference between their gates and sources is less than the threshold voltage (approximately 0.7V), so they are each turned off. Also, MISFETQ 10 ′, Q 10 is the common data line CD 1
Since the voltage is V 1L , the potential difference between the gate and source is higher than the threshold potential (approximately 0.7V), so each of them is turned on. As a result, the capacitor C1 is charged via MISFETQ10 ' and Q10 , and the level of the common data line CD1 is gradually raised.
また一方メモリセルMS11の交叉接続点Aは上
記V1Lから負荷手段Q7、MISFETQ1,Q3で決定
されるレベル、V2Hになるようにし動作する。ま
た交叉接続点Bは書き込み時のV2Hのままであ
る。 On the other hand, the cross-connection point A of the memory cell MS 11 operates so as to change from the above V 1L to V 2H , a level determined by the load means Q 7 and the MISFETs Q 1 and Q 3 . Further, the cross-connection point B remains at V 2H at the time of writing.
また、メモリセルMS11の負荷手段Q7,Q8の電
流駆動能力は前記データ線電位設定回路8のそれ
よりも大きいので、コモンデータ線のレベルはメ
モリセルMS11の交叉接続点A,Bで決定される
レベルに固定される。それによつて、第4図にて
T1で示す期間にコモンデータ線CD1のレベルVCD
1はV1LからV2L、コモンデータ線CD0のレベルは
V1Hから実質的に同電位のV2Hとなり、そのレベ
ル差は約0.3V程度となる。 Further, since the current driving capability of the load means Q 7 and Q 8 of the memory cell MS 11 is larger than that of the data line potential setting circuit 8, the level of the common data line is set at the cross connection points A and B of the memory cell MS 11 . It is fixed at the level determined by . Accordingly, in Figure 4
During the period indicated by T1 , the level of common data line CD1 is VCD.
1 changes from V 1L to V 2L , and the level of the common data line CD 0 changes from V 1H to V 2H , which is substantially the same potential, and the level difference is about 0.3V.
上記コモンデータ線のレベル差が0.3V程度と
なつた時点でアドレス信号Aiを切り換えて次の
メモリセルMSnoを選択するようにすればよいの
であるが、実際は弱干遅れ、タイミングt5で切り
換えられる。タイミングt4からタイミングt5まで
は、コモンデータ線CD0,CD1のレベルはそれぞ
れ第2の電位状態に保持されている。 It would be possible to switch the address signal Ai to select the next memory cell MS no when the level difference of the common data lines reaches about 0.3V, but in reality there is a slight delay and the switch is switched at timing t5. It will be done. From timing t4 to timing t5 , the levels of the common data lines CD0 and CD1 are each held at the second potential state.
タイミングt5において、アドレス信号Aiが切り
換わると、メモリセルMSnoが選択され、それに
よつてコモンデータ線CD0,CD1がカラムゲート
スイツチング素子Q5′,Q6′を介して一対のデジツ
ト線D0o,D1oの方に接続される。今、メモリセ
ルMSnoの交叉接続点A′には負荷手段Q7′、
MISFETQ1′,Q3′によつて決定された電位V2H
が、またB′には負荷手段Q8′、MISFETQ2′,
Q4′によつて決定された電位V2Lが存在してお
り、メモリセルMS11に書き込んだデータとは逆
のデータが記憶保持されている。したがつてメモ
リセルMSnoはコモンデータ線CD0,CD1のレベル
をV2H,V2LからV2L,V2Hに逆転させる。 At timing t5 , when address signal Ai switches, memory cell MS no is selected, thereby causing common data lines CD0 and CD1 to be connected to a pair of data lines through column gate switching elements Q5 ' and Q6 '. It is connected to the digital lines D 0o and D 1o . Now, at the cross-connection point A′ of the memory cell MS no , there is a load means Q 7 ′,
Potential V 2H determined by MISFETQ 1 ′, Q 3 ′
However, B′ also has load means Q 8 ′, MISFETQ 2 ′,
A potential V 2L determined by Q 4 ' exists, and data opposite to the data written in the memory cell MS 11 is stored and held. Therefore, memory cell MS no inverts the levels of common data lines CD 0 and CD 1 from V 2H and V 2L to V 2L and V 2H .
タイミングt3において、コモンデータ線CD0,
CD1にメモリセルMSnoのデータを読み出しに必
要な電位状態V2L,V2H、すなわちV2Lが3.5V,
V2Hが3.8となつた時、読み出し回路7でコモン
データ線CD0,CD1のレベル差0.3Vを最適の状態
で増幅して入出力端子I/Oから読み出しデータ
DOUTを読み出す。この場合、読み出しデータDO
UTは“L”レベルである。なお、タイミングt6に
おいて、読み出し回路7はCSX信号が“H”レ
ベル、WE1信号が“L”レベルとなつているた
め動作可能となつている。 At timing t 3 , common data lines CD 0 ,
The potential states V 2L and V 2H necessary to read the data of memory cell MS no to CD 1 , that is, V 2L is 3.5V,
When V 2H reaches 3.8, the read circuit 7 amplifies the level difference of 0.3 V between the common data lines CD 0 and CD 1 in an optimal state, and reads read data D OUT from the input/output terminal I/O. In this case, read data D O
UT is at "L" level. Note that at timing t6 , the readout circuit 7 is operational because the CSX signal is at the "H" level and the WE1 signal is at the "L" level.
以上、第1図のMISメモリ回路の動作を説明し
たが、同図において、データ線電位設定回路8を
用いることによつて、ライトリカバリー時間を短
かくすることができる。しかしながら、現状にお
いては、さらに上記ライトリカバリー時間を短か
くすることが市場において要求されてきており、
その仕様を満足する必要が生じている。 The operation of the MIS memory circuit shown in FIG. 1 has been described above, and by using the data line potential setting circuit 8 in the same drawing, the write recovery time can be shortened. However, at present, there is a demand in the market to further shorten the write recovery time.
It has become necessary to satisfy the specifications.
したがつて、本発明の目的は第2の電位状態の
レベル差をさらに急速に得ることができるデータ
線電位設定回路を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a data line potential setting circuit that can more rapidly obtain a level difference between second potential states.
また、本発明の目的は第2の電位状態のレベル
差を第2の電位状態により近い位置で得ることが
できるデータ線電位設定回路を提供することにあ
る。 Another object of the present invention is to provide a data line potential setting circuit that can obtain a level difference between the second potential state at a position closer to the second potential state.
さらにまた、本発明の目的は一対のデータ線の
電位状態が第2の電位状態付近になると電流供給
をしないデータ線電位設定回路を得ることにあ
る。 Furthermore, it is an object of the present invention to provide a data line potential setting circuit that does not supply current when the potential state of a pair of data lines approaches the second potential state.
さらにまた、本発明の目的は一対のデータ線の
電位状態が第2の電位状態付近になると第2の電
位状態付近にそのレベルをクランプすることがで
きるデータ線電位設定回路を提供することにあ
る。 Furthermore, it is an object of the present invention to provide a data line potential setting circuit that can clamp the level of a pair of data lines near the second potential state when the potential state of the pair of data lines approaches the second potential state. .
本発明の基本的な構成要件は特許請求の範囲に
記載された通りであるが、以下実施例に従つて本
発明を詳細に説明する。 Although the basic constituent elements of the present invention are as described in the claims, the present invention will be explained in detail below with reference to Examples.
第5図には、本発明に係るデータ線電位設定回
路9を用いたMISメモリ回路が示されているが、
データ線電位設定回路8のかわりに本発明に係る
データ線電位設定回路9を用い、かつライトリカ
バリー信号発生回路10を追加した点以外は第1
図に示すMIS回路とその構成は同じである。第1
図と共通する部分には同じ番号、及び同じ記号を
用いた。またこれら共通する部分の説明はすでに
上述したので、ここでは省略する。 FIG. 5 shows an MIS memory circuit using the data line potential setting circuit 9 according to the present invention.
The first example except that a data line potential setting circuit 9 according to the present invention is used instead of the data line potential setting circuit 8, and a write recovery signal generating circuit 10 is added.
Its configuration is the same as the MIS circuit shown in the figure. 1st
The same numbers and symbols are used for parts common to the figures. Further, since the explanation of these common parts has already been mentioned above, the explanation will be omitted here.
なお、第5図において、読み出し回路7′は第
1図のMISメモリ回路に用いられている読み出し
回路7と回路構成は同じであるが、後述するよう
に第1の差動増幅手段に印加される読み出しレベ
ル“H”レベル、“L”レベルが従来の場合によ
り低い値である。(例えば、バイアス源が4.5Vの
場合“H”レベル、“L”レベルの最適値は
2.8V,2.5Vである。)
また、各メモリセルの各交叉接続点は記憶状態
で読み出しの最適レベルに一致した方が“H”レ
ベル、他方が“L”レベルである。 In FIG. 5, the readout circuit 7' has the same circuit configuration as the readout circuit 7 used in the MIS memory circuit of FIG. 1, but as will be described later, the readout circuit 7' is The readout levels "H" level and "L" level are lower values than in the conventional case. (For example, if the bias source is 4.5V, the optimal values for “H” level and “L” level are
2.8V, 2.5V. ) Further, each cross-connection point of each memory cell is at the "H" level when it matches the optimum level for reading in the storage state, and the other is at the "L" level.
上記第5図において、本発明に係るデータ線電
位設定回路9はコモンデータ線間に接続された
MISFETQ11よりなるスイツチング手段9′と、
バイアス源VCCと各コモンデータ線間に接続され
たMISFETQ9,Q10よりなる電流供給手段9″
と、デプレツシヨン型MISFETQ12,Q13とエン
フアンスメント型MISFETQ14〜Q20よりなるク
ランプ手段9とで構成されている。 In FIG. 5 above, the data line potential setting circuit 9 according to the present invention is connected between the common data lines.
switching means 9' consisting of MISFETQ 11 ;
Current supply means 9″ consisting of MISFETQ 9 and Q 10 connected between bias source V CC and each common data line
and a clamping means 9 consisting of depletion type MISFETs Q 12 and Q 13 and enhancement type MISFETs Q 14 to Q 20 .
ライトリカバリー信号発生回路10は第7図の
タイミングチヤート図に示されたCSA1及びWED
信号によつて制御されることにより、第1のライ
トリカバリー信号φWR1、及び第2のライトリカ
バリー信号φWR2を発生する。 The write recovery signal generation circuit 10 includes CSA 1 and WED shown in the timing chart of FIG.
A first write recovery signal φ WR1 and a second write recovery signal φ WR2 are generated by being controlled by the signal.
上記スイツチング手段9′は上記第1のライト
リカバリー信号φWR1によつて制御され、その
MISFETQ11は非飽和領域で動作する。 The switching means 9' is controlled by the first write recovery signal φWR1 .
MISFETQ 11 operates in the non-saturation region.
上記電流供給手段9″は上記第2のライトリカ
バリー信号φWR2によつて制御され、
MISFETQ9,Q10は飽和領域で動作する。 The current supply means 9'' is controlled by the second write recovery signal φWR2 ,
MISFETQ 9 and Q 10 operate in the saturation region.
上記クランプ手段9において、MISFETQ18
は第7図のタイミングチヤート図に示すWE信号
によつて、MISFETQ19はCSA2信号によつて
各々制御されており、MISFETQ20はバイアス源
VCCに接続されているため、MISFETQ18〜Q20
からなる手段はバイアス源VCCをレベル変換し、
その電圧をMISFETQ16〜Q17に印加する。
MISFETQ13,Q14は各々前記WE′信号によつて
制御されている。そのためMISFETQ13,Q15,
Q17からなる手段及びMISFETQ12,Q14,Q16か
らなる手段は各々コモンデータ線CD0,CD1を第
2の電位状態のV2L,V2Hの中間レベルにする。 In the clamping means 9, MISFETQ 18
are controlled by the WE signal shown in the timing chart of FIG. 7, MISFETQ 19 is controlled by the CSA 2 signal, and MISFETQ 20 is connected to the bias source V CC , so MISFETQ 18 to Q 20
means converts the level of the bias source V CC ,
Apply that voltage to MISFETQ16 - Q17 .
MISFETQ 13 and Q 14 are each controlled by the WE' signal. Therefore, MISFETQ 13 , Q 15 ,
The means consisting of Q 17 and the means consisting of MISFETs Q 12 , Q 14 and Q 16 respectively bring the common data lines CD 0 and CD 1 to the intermediate level of the second potential state of V 2L and V 2H .
なお、第6図には、上記ライトリカバリー信号
発生回路10の具体的な回路図が示されている。 Note that FIG. 6 shows a specific circuit diagram of the write recovery signal generation circuit 10.
同図において、MISFETQ21〜Q27はデプレツ
シヨン型MISFETであり、MISFETQ28〜Q41及
びQ29′,Q30′は各々エンフアンスメント型
MISFETである。 In the figure, MISFETQ 21 to Q 27 are depletion type MISFETs, and MISFETQ 28 to Q 41 and Q 29 ′, Q 30 ′ are enhancement type MISFETs.
It is MISFET.
MISFETQ21,Q23は第1のインバータであ
り、その入力にWED信号が印加され、出力はP1
である。MISFETQ29′,Q22,Q20は第2のインバ
ータであり、その入力にはP1が印加され、出力は
P2である。 MISFETQ 21 , Q 23 is the first inverter, the WED signal is applied to its input, and the output is P 1
It is. MISFETQ 29 ′, Q 22 , Q 20 is the second inverter, to whose input P 1 is applied, and the output is
It is P2 .
なお、MISFETQ29′にはCSA1をMISFETQ25,
Q34でインバートした信号P5が印加されている。
MISFETQ30′,Q23,Q30は第3のインバータであ
り、この入力にはP2が印加され、出力はP3であ
る。 In addition, for MISFETQ 29 ′, CSA 1 is used for MISFETQ 25 ,
A signal P 5 inverted at Q 34 is applied.
MISFETQ 30 ′, Q 23 , Q 30 is a third inverter to which P 2 is applied and the output is P 3 .
なお、MISFETQ30′にはCSA1をMISFETQ25,
Q34でインバートした信号P5が印加されている。 In addition, for MISFETQ 30 ′, CSA 1 is used for MISFETQ 25 ,
A signal P 5 inverted at Q 34 is applied.
MISFETQ24,Q32は第4のインバータであ
り、その入力は前記P3の信号とCSA1信号を受け
るMISFETQ31の出力とによつて決定され、その
出力はP4であり、第2のライトリカバリー信号φ
WR2の出力端子に接続されている。 MISFETQ 24 , Q 32 is a fourth inverter, the input of which is determined by the signal of P 3 and the output of MISFETQ 31 receiving the CSA 1 signal, the output of which is P 4 and the second inverter Recovery signal φ
Connected to the output terminal of WR2 .
なお、前記P4はWED信号を受けるMISFETQ33
によつても制御されている。 Note that P 4 is MISFETQ 33 that receives the WED signal.
It is also controlled by.
MISFETQ26,Q35は第1の遅延手段であり、
その入力にはP3が印加され、その出力はP6であ
る。 MISFETQ 26 and Q 35 are the first delay means,
P 3 is applied to its input and its output is P 6 .
MISFETQ36,Q37は第2の遅延手段であり、
MISFETQ36には前記P6が、MISFETQ37にはP3
の信号が各々印加され、その出力はP7である。前
記P7はWED信号を受けるMISFETQ36によつても
制御されている。 MISFETQ 36 and Q 37 are second delay means,
MISFETQ 36 has the above P 6 , MISFETQ 37 has P 3
are applied respectively, and the output is P7 . Said P7 is also controlled by MISFETQ 36 which receives the WED signal.
MISFETQ27,Q39は第5のインバータであ
り、その入力としてP7を受け、出力はP8である。 MISFETQ 27 , Q 39 is the fifth inverter, which receives P 7 as its input and has P 8 as its output.
MISFETQ40,Q41及び容量CBはブーストラツ
プ手段であり、MISFETQ41にはP8が印加され
る。また、MISFETQ40のゲートーソース間には
ブーストラツプ用の容量CBが接続されており、
一方の電荷にはP7が、他方の電極には
MISFETQ41を介してアースレベルが、あるいは
MISFETQ40を介してVCCが印加される。そし
て、容量CBの一方の電極から第1のライトリカ
バリー信号φWR1が取り出されている。 MISFETQ40 , Q41 and capacitor CB are boost strap means, and P8 is applied to MISFETQ41 . In addition, a bootstrap capacitor CB is connected between the gate and source of MISFETQ 40 .
P 7 on one charge and on the other electrode
Earth level via MISFETQ 41 or
V CC is applied through MISFETQ40 . A first write recovery signal φWR1 is taken out from one electrode of the capacitor CB.
上記ライトリカバリー信号発生回路10の動作
を簡単に説明する。 The operation of the write recovery signal generation circuit 10 will be briefly explained.
まず、CSA1が“H”レベル、WEDが“H”レ
ベルにある時には、P1が“L”レベル、P2がオー
ブン状態、P3が“L”レベル、P4が“L”レベル
となるため、第2のライトリカバリー信号は
“L”レベルとなつており、またP6が“H”レベ
ル、P7が“L”レベル、P8が“H”レベル、P9が
“L”レベルとなつているため第1のライトリカ
バリー信号も“L”レベルとなつている。 First, when CSA 1 is at the "H" level and WED is at the "H" level, P1 is at the "L" level, P2 is in the oven state, P3 is at the "L" level, and P4 is at the "L" level. Therefore, the second write recovery signal is at "L" level, P6 is at "H" level, P7 is at "L" level, P8 is at "H" level, and P9 is at "L" level. Since the first write recovery signal is at the "L" level, the first write recovery signal is also at the "L" level.
次に、CSA1が“L”レベルに、WEDが“H”
レベルにある時には、P1は“L”レベル、P2が
“H”レベル、P3が“L”レベル、P4が“L”レ
ベルとなるため第2のライトリカバリー信号φWR
2は“L”レベルである。また、P6が“H”レベ
ル、P7が“L”レベル、P8が“H”レベル、P9が
“L”レベルにあるため第1のライトリカバリー
信号φWR1も“L”レベルである。 Next, CSA 1 goes to “L” level and WED goes to “H”
When P1 is at the "L" level, P2 is at the "H" level, P3 is at the "L" level, and P4 is at the "L" level, so the second write recovery signal φ WR
2 is the "L" level. Also, since P6 is at the "H" level, P7 is at the "L" level, P8 is at the "H" level, and P9 is at the "L" level, the first write recovery signal φWR1 is also at the "L" level. be.
さらに、CSA1が、“L”レベル、WEDが
“L”レベルになつた時には、P1が“H”レベ
ル、P2が“L”レベル、P3が“H”レベル、P4が
“L”レベルとなるがWED信号が第1,2,3の
インバータによつて遅延されるためP4のレベルは
初期においては“H”レベルとなつており、第2
のライトリカバリー信号φWR2が約VCCのレベル
を発生する。 Furthermore, when CSA 1 becomes "L" level and WED becomes "L" level, P 1 becomes "H" level, P 2 becomes "L" level, P 3 becomes "H" level, and P 4 becomes " However, since the WED signal is delayed by the first, second, and third inverters, the level of P4 is initially “H” level, and the second
The write recovery signal φ WR2 generates a level of approximately V CC .
P3のレベルが“H”レベルとなつた時P4のレベ
ルは“L”レベルとされるため、その時点におい
て第2のライトリカバリーφWR2信号は“L”レ
ベルにかえる。すなわち、WEDが“L”レベル
となつた時点で第2のライトリカバリー信号φWR
2はワンシヨツトの“H”レベルを発生すること
になる。 When the level of P 3 becomes "H" level, the level of P 4 becomes "L" level, so at that point, the second write recovery φ WR2 signal changes to "L" level. That is, at the time when WED becomes "L" level, the second write recovery signal φ WR
2 generates a one-shot "H" level.
上記P3がまだ“L”レベルにある時、R6は
“H”レベル、P7は“H”レベルにある。P8はP7
をうけて“L”レベルになるが、その時間は少し
遅れるからMISFETQ36、容量CB,MISFETQ41
を介して電流が流れ、前記容量CBに電荷が供給
される。 When P3 is still at the "L" level, R6 is at the "H" level and P7 is at the "H" level. P8 is P7
It goes to “L” level in response to
A current flows through the capacitor CB, and charge is supplied to the capacitor CB.
次いで、P3が完全に“L”レベルとなつた時
MISFETQ41がoffするためP9のレベルがVCCとな
る。それによつて容量CBはブーストラツプさ
れ、一方の電極に約2・VCC−Vthの高い“H”
レベルを第1のライトリカバリー信号φWR1とし
て発生する。 Next, when P 3 becomes completely "L" level
Since MISFETQ 41 is turned off, the level of P9 becomes V CC . As a result, the capacitance CB is bootstrapped, and one electrode has a high “H” of approximately 2·V CC −V th .
level as the first write recovery signal φWR1 .
次に、前記P3のレベルが完全に“H”レベルと
なることによつて、P6が“L”レベル、P7が
“L”レベルとなるため、第1のライトリカバリ
ー信号φWR1は“L”レベルになる。 Next, when the level of P 3 becomes completely "H" level, P 6 becomes "L" level and P 7 becomes "L" level, so that the first write recovery signal φ WR1 becomes It becomes “L” level.
したがつて、第1のライトリカバリー信号φWR
1はWED信号が“L”レベルとなつた時点からワ
ンシヨツトの“H”レベルを出すことになる。 Therefore, the first write recovery signal φ WR
1 outputs a one-shot "H" level from the time the WED signal becomes "L" level.
以上、第5図のMISメモリ回路における本発明
に係わるデータ線電位設定回路9及びライトリカ
バリー信号発生回路10の構成につき説明した
が、次に本発明に係わるデータ線電位設定回路9
を用いた場合、書き込み時の第1の電位状態が、
読み出し時に必要な第2の電位状態にいかに速く
移行されるか、その動作説明を第7図のタイミン
グチヤート図を参照して説明する。 The configurations of the data line potential setting circuit 9 and the write recovery signal generating circuit 10 according to the present invention in the MIS memory circuit shown in FIG. 5 have been explained above.
When using , the first potential state at the time of writing is
The operation of how quickly the second potential state necessary for reading is made will be explained with reference to the timing chart of FIG. 7.
なお、第5図のMISメモリ回路では、まずメモ
リセルMS11にDiNの“H”レベルを書き込み、そ
の直後同一チツプ内のメモリセルMSnoからDOUT
として“L”レベルを読み出すものとする。 In the MIS memory circuit shown in FIG. 5, first, the "H" level of D iN is written to the memory cell MS 11 , and immediately after that, D OUT is written from the memory cell MS no in the same chip.
Assume that the "L" level is read out.
そのため、第1図のMISメモリ回路と条件は同
じであるので第7図のタイミングチヤート図にお
いて、タイミングt3から説明することにする。な
お、第7図において、CS信号、WE信号、Ai信
号、及びDIN/DOUTは各々ICチツプ外部から取
り込んだ信号、あるいは外部に取り出す信号を示
しており、その他の信号はICチツプ内部で形成
されたものである。 Therefore, since the conditions are the same as those of the MIS memory circuit of FIG. 1, the explanation will be given from timing t3 in the timing chart of FIG. 7. In Fig. 7, the CS signal, WE signal, Ai signal, and D IN /D OUT each indicate a signal taken in from outside the IC chip or a signal taken out to the outside, and other signals are internal to the IC chip. It was formed.
タイミングt3において、WE′信号が“L”レベ
ルになることによつて書き込み回路6がコモンデ
ータ線CD0,CD1から電気的に切り離される。し
かしながら、コモンデータ線CD0,CD1の容量
C0,C1には各々書き込み時の電位状態、すなわ
ちV1H,V1Lが存在することとなる。 At timing t3 , the WE' signal goes to "L" level, so that the write circuit 6 is electrically disconnected from the common data lines CD0 and CD1 . However, the capacitance of common data lines CD 0 and CD 1
C 0 and C 1 have respective potential states at the time of writing, that is, V 1H and V 1L .
この時点において、CSA2、WED信号が共に
“L”レベルとなつているから、ライトリカバリ
ー信号発生回路10から約バイアス源VCCの電位
を有する(第7図において、V〓WR2で示してい
る。)第2のライトリカバリー信号φWR2及び約
2・Vcc−Vthの電圧を有する(第7図におい
て、V〓WR1で示している。)第1のライトリカバ
リー信号φWR1を各々発生する。 At this point, since the CSA2 and WED signals are both at the "L" level, the write recovery signal generating circuit 10 has a potential of approximately the bias source V CC (indicated by V WR2 in FIG. 7). ) a second write recovery signal φ WR2 and a first write recovery signal φ WR1 having a voltage of about 2·Vcc−V th (indicated by V WR1 in FIG. 7), respectively.
それによつて、まずスイツチング手段9′の
MISFETQ11はコモンデータ線CD0,CD1を電気
的に接続するため、容量C0の電荷はMISFETQ11
を介して容量C1に放電され、互いに電荷分散を
生ずる。それによつてコモンデータ線CD0のレベ
ルは下がり、コモンデータ線CD1のレベルは上が
る。なお、この立上がりと立下がりはほぼ同程度
の特性で行なわれている。 Thereby, first of all, the switching means 9'
MISFETQ 11 electrically connects common data lines CD 0 and CD 1 , so the charge of capacitor C 0 is
are discharged to the capacitor C1 through the capacitor C1 , causing charge dispersion with each other. As a result, the level of the common data line CD 0 decreases, and the level of the common data line CD 1 increases. Note that this rise and fall are performed with almost the same characteristics.
また、MISFETQ11は第1のライトリカバリー
信号φWR1が2・Vcc−Vth、約8.3Vとなつている
ため、第12図に示すMISFETの出力電圧−出
力電流特性においてZ1で示す非飽和領域で動作し
ているため、その動作抵抗は非常に小さいものと
なつている。 In addition, since the first write recovery signal φ WR1 of MISFETQ 11 is 2·V cc −V th , approximately 8.3V, the non-conformity indicated by Z 1 in the output voltage-output current characteristics of MISFET shown in FIG. Since it operates in the saturation region, its operating resistance is extremely small.
したがつて、上記コモンデータ線CD0のレベル
の立下りと、コモンデータ線CD1のレベルの立下
りが急峻なものとなつており、コモンデータ線
CD0,CD1は第1の電位状態から第2の電位状態
付近に高速に近づく。 Therefore, the fall of the level of the common data line CD 0 and the fall of the level of the common data line CD 1 are steep, and the common data line
CD 0 and CD 1 rapidly approach near the second potential state from the first potential state.
また、電流供給手段9″には第2のライトリカ
バリー信号φWR2が印加されるため、MISFETQ10
はONし、MISFETQ9はコモンデータ線CD0が
3.8VのV1Hにあるためoffしている。MISFETQ10
から容量C1に対して電荷が供給されているか
ら、スイツチング手段9′によるコモンデータ線
CD1に対するレベルの立上げを助けることにな
る。 Furthermore, since the second write recovery signal φ WR2 is applied to the current supply means 9″, the MISFETQ 10
is ON, and MISFETQ 9 is connected to the common data line CD 0 .
It is off because it is at V 1H of 3.8V. MISFETQ 10
Since charge is supplied to the capacitor C1 from the common data line by the switching means 9',
It will help you build up your level for CD 1 .
よつて、第2の電位状態のレベル差がその分だ
け早く得られる。 Therefore, the level difference in the second potential state can be obtained earlier.
したがつて、タイミングt4においては、コモン
データ線CD0,CD1は第1の電位状態V1H,V1L
から第2の電位状態付近のV2H′,V2L′となり、
(この第2の電位状態においては、V2H′,V2L′
とも従来の場合に比べて低い値となる。)そのレ
ベル差も約0.3V程度となつている。 Therefore, at timing t4 , the common data lines CD 0 and CD 1 are in the first potential state V 1H and V 1L
to V 2H ′, V 2L ′ near the second potential state,
(In this second potential state, V 2H ′, V 2L ′
Both values are lower than in the conventional case. ) The level difference is also about 0.3V.
この時点で第1のライトリカバリー信号及び第
2のライトリカバリー信号φWR1,φWR2を各々
“L”レベルとすれば理想的であるが、弱干遅れ
て“L”レベルとなるため、タイミングt5までに
上記電流供給手段9″によつてV2L′をV2L″に、
V2H′をV2H″にする。 At this point, it would be ideal if the first write recovery signal and the second write recovery signals φ WR1 and φ WR2 were set to the "L" level, respectively, but since they become "L" level with a slight delay, the timing t V 2L ′ to V 2L ″ by the current supply means 9 ″ by 5 ,
Set V 2H ′ to V 2H ″.
タイミングt5になつた時点からクランプ手段9
が実質的に動作を開始し始める。すなわち、ク
ランプ手段9はWE′の信号をインバートした
WE′信号が“H”レベル、CSA2信号が“H”レ
ベルとなる時点ですでに動作しているのである
が、電流供給手段9″よりも電流駆動能力が低い
ためである。 From the time when timing t 5 is reached, the clamping means 9
begins to operate substantially. That is, the clamping means 9 inverts the signal of WE'.
This is because the current driving capability is lower than that of the current supply means 9'', although it is already operating when the WE' signal reaches the "H" level and the CSA2 signal reaches the "H" level.
このクランプ手段9によつてコモンデータ線
CD0,CD1のV2H″,V2L″をV2H,V2Lにより近
い状態V2H,V2Hにもつていく。 By this clamping means 9, the common data line
V 2H ″ and V 2L ″ of CD 0 and CD 1 are brought to states V 2H and V 2H that are closer to V 2H and V 2L .
すなわち、クランプ手段9はコモンデータ線
CD0,CD1のレベルを第2の電位状態V2H,V2L
の中間のレベルV0付近にバイアスし、そのレベ
ルにクランプするように働く。 That is, the clamping means 9 is connected to the common data line.
The levels of CD 0 and CD 1 are set to the second potential states V 2H and V 2L
It works to bias around the intermediate level of V 0 and clamp it to that level.
したがつて、もし第1,2のライトリカバリー
信号φWR1,φWR2が第2の電位状態のレベル差
0.3Vが得られる以前に“L”レベルとなつても
そのレベルをクランプ手段9にあつて保償し、
0.3Vまでもつていくこともできる。 Therefore, if the first and second write recovery signals φ WR1 and φ WR2 have a level difference in the second potential state,
Even if it becomes "L" level before 0.3V is obtained, that level is guaranteed by the clamping means 9,
It can even go down to 0.3V.
タイミングt6でアドレス信号Aiを切り換えるこ
とによつてメモリセルMSnoが選択される。 Memory cell MS no is selected by switching address signal Ai at timing t6 .
メモリセルMSnoはその交叉接続点A′に負荷手
段Q7′、MISFETQ1′,Q3′で決定される電位V2H
が、交叉接続点B′に負荷手段Q3′、MISFETQ2′,
Q4′で決定される電位V2Lが各々記憶保持されて
いる。 The memory cell MS no has a potential V 2H determined by the load means Q 7 ′, MISFETQ 1 ′, Q 3 ′ at its cross-connection point A′.
However, the load means Q 3 ′, MISFETQ 2 ′,
The potential V 2L determined by Q 4 ' is stored and held.
したがつて、コモンデータ線CD0,CD1と全く
逆の状態になつている。 Therefore, the state is completely opposite to that of the common data lines CD 0 and CD 1 .
コモンデータ線CD0,CD1のV2H,V2Lを
メモリセルMSnoでV2H,V2Lとし、かつそれを
反転させてV2L,V2Hとする。 The V 2H and V 2L of the common data lines CD 0 and CD 1 are set to V 2H and V 2L in the memory cell MS no , and are inverted to V 2L and V 2H .
なお、上記V2H,V2LはV2H,V2Lとほぼ
等しくなつているからメモリセルMSnoにおいて
のレベル修正は第1図のMISメモリ回路のそれよ
りも早い。 Incidentally, since the above-mentioned V 2H and V 2L are almost equal to V 2H and V 2L , the level correction in the memory cell MS no is faster than that in the MIS memory circuit shown in FIG.
タイミングt7において、コモンデータ線CD0,
CD1にメモリセルMSnoの読み出しデータとして
V2L,V2Hが得られているので、読み出し回路
7′にて増幅し、入出力端子I/Oから読み出し
データとして“L”レベルのDOUTを出力する。 At timing t 7 , the common data lines CD 0 ,
Since V 2L and V 2H are obtained as the read data of the memory cell MS no in CD 1 , it is amplified by the read circuit 7' and the “L” level D OUT is output as the read data from the input/output terminal I/O. Output.
なお、本発明の読み出し回路では、例えばバイ
アス源VCCを4.5Vとした場合、V2L,V2Hとして
それぞれ2.5V,2.8Vが得られるので、読み出し
回路からのTTL論理レベル出力が容易に得られ
る。 In addition, in the readout circuit of the present invention, when the bias source V CC is set to 4.5V, for example, 2.5V and 2.8V are obtained as V 2L and V 2H , respectively, so a TTL logic level output from the readout circuit can be easily obtained. It will be done.
以上本発明に係わるデータ線電位設定回路9を
用いたMISメモリ回路の動作を説明したが、以下
の理由により、本発明の目的を達成することがで
きる。 The operation of the MIS memory circuit using the data line potential setting circuit 9 according to the present invention has been described above, and the object of the present invention can be achieved for the following reasons.
1 コモンデータ線間にスイツチング手段9′を
接続し、前記スイツチング手段9′を介して一
方のコモンデータ線の容量の電荷を他方のコモ
ンデータ線の容量に放電させるようにしたた
め、一方のコモンデータ線のレベルの立下げと
立上げとによつて両者のレベル差を近づけてい
る。(従来の回路によれば、他方のコモンデー
タ線に対するレベルの立上げのみを行なうこと
によつて両コモンデータ線のレベルを近づけて
いる。)また、スイツチング手段9′は第1のラ
イトリカバリー信号φWR1によつてそのゲート
に2・Vcc−Vthの電位が印加されているため
非飽和で動作しており、その動作抵抗も小さい
ため、上記立上りと立下りが急峻なものとなつ
ている。さらに、電流供給手段9″によつて他
方のコモンデータ線の容量に電荷を供給してい
るため他方のコモンデータ線のレベルの立上り
がスイツチング手段9′のそれとあいまつて速
くなり、結果として両コモンデータ線間のレベ
ルがその分だけ早く近づくことになる。1. Switching means 9' is connected between the common data lines, and the charge of the capacitance of one common data line is discharged to the capacitance of the other common data line via the switching means 9'. By lowering and raising the line level, the difference in level between the two is brought closer. (According to the conventional circuit, the levels of both common data lines are brought close to each other by only raising the level of the other common data line.) Furthermore, the switching means 9' outputs the first write recovery signal. Since a potential of 2·V cc −V th is applied to its gate by φ WR1 , it operates in a non-saturated state, and its operating resistance is also small, so the rise and fall mentioned above are steep. There is. Furthermore, since charge is supplied to the capacitance of the other common data line by the current supply means 9'', the rise of the level of the other common data line becomes faster together with that of the switching means 9', and as a result, both common data lines The levels between the data lines will approach that much faster.
以上のことから、従来のデータ線電位設定回
路よりも速く第2の電位状態時のレベル差を得
ることができる。 From the above, the level difference in the second potential state can be obtained faster than the conventional data line potential setting circuit.
2 コモンデータ線間にスイツチング手段9′を
接続し、前記スイツチング手段9′を介して一
方のコモンデータ線の容量の電荷を他方のコモ
ンデータ線の容量に放電させるようにし、かつ
スイツチング手段9′を非飽和で動作させるよ
うにしたため、一方のコモンデータ線の立下り
特性と他方のコモンデータ線の立上り特性とを
ほぼ同一とすることができ、結果として第2の
電位状態のレベル差がほぼ第2の電位状態付近
で得られる。2. A switching means 9' is connected between the common data lines, and the charge of the capacitance of one common data line is discharged to the capacitance of the other common data line via the switching means 9', and the switching means 9' Because it operates in a non-saturated state, the falling characteristics of one common data line and the rising characteristics of the other common data line can be made almost the same, and as a result, the level difference in the second potential state is almost the same. obtained near the second potential state.
このため、メモリセルで第2の電位状態にす
る時間を短かくすることができる。 Therefore, the time required to bring the memory cell into the second potential state can be shortened.
3 スイツチング手段9′及び電流供給手段9″は
コモンデータ線間のレベルが第2の電位状態付
近になると第1,2のライトリカバリー信号φ
WR1,φWR2が“L”レベルとなるため、動作し
ていず、コモンデータ線のレベルは第2の電位
状態よりさらに高いレベルまで上がることはな
い。3 The switching means 9' and the current supply means 9'' output the first and second write recovery signals φ when the level between the common data lines approaches the second potential state.
Since WR1 and φWR2 are at the "L" level, they are not operating, and the level of the common data line does not rise to a level higher than the second potential state.
4 スイツチング手段9′及び電流供給手段9″が
第2の電位状態以上にコモンデータ線のレベル
を上げて動作を停止した後、前記レベルを第2
の電位状態付近まで下げるクランプ手段9を
有するようにしたため、メモリセル自身でその
レベルを下げる必要はなくなり、結果として第
2の電位状態を得るので早くなる。4 After the switching means 9' and the current supply means 9'' raise the level of the common data line above the second potential state and stop the operation, the switching means 9' and the current supply means 9'' raise the level to the second potential state.
Since the clamping means 9 is provided to lower the potential level to around the potential state of the memory cell, there is no need to lower the level of the memory cell itself, and as a result, the second potential state is obtained quickly.
本発明の他の実施例として、第8図〜第10図
に示すデータ線電位設定回路が考えられる。 As another embodiment of the present invention, data line potential setting circuits shown in FIGS. 8 to 10 can be considered.
第8図a〜fに示す実施例はスイツチング手段
9′及び電流供給手段9″のみを用いてデータ線電
位設定回路を構成したものである。 In the embodiment shown in FIGS. 8a to 8f, a data line potential setting circuit is constructed using only switching means 9' and current supply means 9''.
第8図aのデータ線電位設定回路は第5図のデ
ータ線電位設定回路9からクランプ手段9を除
いたものであるが、クランプ手段9を用いなく
ても、上記1〜3の理由により第1図の従来のデ
ータ線電位設定回路よりも急速に第2の電位状態
を得ることができる。 The data line potential setting circuit of FIG. 8a is obtained by removing the clamping means 9 from the data line potential setting circuit 9 of FIG. The second potential state can be obtained more quickly than the conventional data line potential setting circuit shown in FIG.
第8図bのデータ線電位設定回路は電流供給手
段に接続するバイアス源の値を第2の電位状態の
V2HのレベルがV2Lのレベル、あるいはその中間
のレベルにMISFETのしきい値電圧(約0.7V)
を加えたものとほぼ等しくしたものである。な
お、MISFETQ9,Q10はエンフアンスメント型
MISFETであり、かつ飽和領域で動作している
ものとすると、コモンデータ線のレベルは第2の
電位状態以上には上がらない。したがつて、この
場合にはクランプ手段9を用いなくてもよい。 The data line potential setting circuit of FIG. 8b sets the value of the bias source connected to the current supply means so that the level of V 2H in the second potential state is the level of V 2L , or the threshold voltage of the MISFET. (approx. 0.7V)
It is approximately equal to the sum of Note that MISFETQ 9 and Q 10 are enhancement types.
Assuming that it is a MISFET and is operating in the saturation region, the level of the common data line will not rise above the second potential state. Therefore, it is not necessary to use the clamping means 9 in this case.
第8図cのデータ線電位設定回路はスイツチ手
段9′と電流供給手段9とに第1のライトリカ
バリー信号φWR1を印加するようにしたものであ
り、電流供給手段9″のMISFETQ9,Q10を非飽
和領遮で動作させることにより、一方のコモンデ
ータ線に対する充電をスイツチング手段9′とと
もに急速に行なうようにしたものである。 The data line potential setting circuit shown in FIG. 8c is configured to apply the first write recovery signal φ WR1 to the switch means 9' and the current supply means 9, and MISFETQ 9 , Q of the current supply means 9''. By operating the common data line 10 in a non-saturated state, charging of one common data line is rapidly performed together with the switching means 9'.
第8図dのデータ線電位設定回路は第8図cの
データ線電位設定回路のバイアス源をVcc″とし
たもであり、Vcc″の値は第2の電位状態のV2H
のレベル、V2Lのレベルか、あるいはその中間の
レベルとほぼ等しくしたものであり、コモンデー
タ線のレベルが第2の電位状態のレベル以上に上
がらないようにしたものであり、この回路の場合
もクランプ手段9も特に用いなくてもよい。 The data line potential setting circuit shown in FIG. 8d is similar to the data line potential setting circuit shown in FIG .
The level of the common data line is set to be approximately equal to the level of V2L , or a level in between, and the level of the common data line is prevented from rising above the level of the second potential state.In this circuit, Neither the clamping means 9 nor the clamping means 9 need be used.
第8図eのデータ線電位設定回路は電流手段9
のバイアス源を第1あるいは第2のライトリカ
バリー信号φWR1,φWR2としたものであり、この
場合も第8図a〜dと同等の効果が得られる。 The data line potential setting circuit in FIG. 8e is a current means 9.
The bias source is the first or second write recovery signal φ WR1 , φ WR2 , and in this case as well, the same effects as in FIGS. 8 a to 8 d can be obtained.
第8図fのデータ線電位設定回路は電流手段
9″を常時動作させるようにしたものであるが、
この場合もスイツチング手段9′の作用により従
来のデータ線電位設定回路よりは第2の電位状態
を得るのが速い。ただし、この回路の場合、電流
供給手段の駆動能力はデータ線を第1の電位状態
とする回路手段(例えば書き込み回路6)よりも
小さくする必要がある。 The data line potential setting circuit shown in FIG. 8f is such that the current means 9'' is always operated.
In this case as well, the second potential state can be obtained faster than in the conventional data line potential setting circuit due to the action of the switching means 9'. However, in the case of this circuit, the driving ability of the current supply means needs to be smaller than that of the circuit means (for example, the write circuit 6) that brings the data line to the first potential state.
上記第8図c,dのデータ線電位設定回路に用
いられているバイアス源Vcc′,Vcc″は例えば第
11図に示すようなMISFETQ93〜Q97で構成さ
れた電位変換回路を用いて得ることができる。 The bias sources V cc ′ and V cc ″ used in the data line potential setting circuits shown in FIGS. You can get it.
第9図に示すデータ線電位設定回路はスイツチ
ング手段9′、電流供給手段9″、クランプ手段
9″からなる場合の他の実施例であり、スイツチ
ング手段9′、及び電流供給手段9″を第8図cの
回路としたものであり、実質的に第5図に示すデ
ータ線電位設定回路と同等の効果を得ることがで
きる。また、この種の組合せにおいて、第8図
b,d、及びeの回路にクランプ手段を付加して
データ線電位設定回路を構成することも当然考え
得る。 The data line potential setting circuit shown in FIG. 9 is another embodiment in which the switching means 9', the current supply means 9'', and the clamp means 9'' are arranged. The circuit shown in FIG. 8c is used, and it is possible to obtain substantially the same effect as the data line potential setting circuit shown in FIG. Of course, it is also conceivable to add a clamp means to the circuit e to configure a data line potential setting circuit.
第10図に示すデータ線電位設定回路は、スイ
ツチング手段9′、とクランプ手段9″のみで構成
するようにしたものであり、この場合、第7図で
示すT2′の期間、電流供給手段9″によつてデータ
線の電位レベルが不所望に上がるのを防止でき
る。 The data line potential setting circuit shown in FIG. 10 is constructed of only switching means 9' and clamping means 9''. In this case, during the period T 2 ' shown in FIG. 9'' can prevent the potential level of the data line from rising undesirably.
なお、上記スイツチング手段9′はMISFETが
用いられているが、バイポーラ型のトランジスタ
でもよい。またコモンデータ線間に形成される素
子の数も1個に限定されず、複数の論理回路を有
するものであつてもよい。 Note that although MISFET is used as the switching means 9', a bipolar transistor may also be used. Further, the number of elements formed between the common data lines is not limited to one, but may include a plurality of logic circuits.
上記電流供給手段9″はエンフアンスメント型
のMISFETで構成されているがデプレツシヨン
型を用いてもよい。さらに、MISFET以外のバ
イポーラトランジスタ、ダイオード、抵抗等の電
流供給手段であつてもよい。またバイアス源とデ
ータ線の間に複数の素子を接続したものを含み得
る。 The current supply means 9'' is composed of an enhancement type MISFET, but a depletion type may also be used.Furthermore, it may be a current supply means such as a bipolar transistor, a diode, a resistor, etc. other than the MISFET. It may include a plurality of elements connected between the bias source and the data line.
さらに、上記クランプ手段9は、第5図に示
すものに限定されず、同一機能をもつ種々の変形
回路が考えられる。 Further, the clamping means 9 is not limited to the one shown in FIG. 5, and various modified circuits having the same function can be considered.
第1図はデータ線電位設定回路を用いた概略
MISメモリ回路図、第2図はMISメモリ回路に用
いられている書き込み回路図、第3図はMISメモ
リ回路に用いられている読み出し回路図、第4図
は第1図のMISメモリ回路のタイミングチヤート
図、第5図は本発明に係るデータ線電位設定回路
を用いた概略MISメモリ回路図、第6図はライト
リカバリー信号発生回路図、第7図は第5図の
MISメモリ回路のタイミングチヤート図、第8図
a,b,c,d,e,f、第9図、及び第10図
は本発明の他の実施例によるデータ線電位設定回
路図、第11図は電圧変換回路図、第12は
MISFETの出力電圧(VDS)−出力電流(IDS)
特性を示す特性図である。
1……メモリマトリツクス、2……行選択アド
レスデコーダ、3……カラムゲート手段、4……
列選択アドレスコーダ、5……負荷手段、6……
書き込み回路、7′,7……読み出し回路、8…
…従来のデータ線電位設定回路、9……本発明に
係るデータ線電位設定回路、10……ライトリカ
バリー信号発生回路、11……電位変換回路。
Figure 1 is a schematic diagram using the data line potential setting circuit.
MIS memory circuit diagram, Figure 2 is a write circuit diagram used in the MIS memory circuit, Figure 3 is a read circuit diagram used in the MIS memory circuit, Figure 4 is the timing of the MIS memory circuit in Figure 1. Chart diagram, FIG. 5 is a schematic MIS memory circuit diagram using the data line potential setting circuit according to the present invention, FIG. 6 is a write recovery signal generation circuit diagram, and FIG. 7 is a diagram of the write recovery signal generation circuit.
Timing chart diagrams of the MIS memory circuit, FIGS. 8a, b, c, d, e, f, FIGS. 9 and 10 are data line potential setting circuit diagrams according to other embodiments of the present invention, and FIG. 11 is the voltage conversion circuit diagram, the 12th is
MISFET output voltage (V DS ) - output current (I DS )
FIG. 3 is a characteristic diagram showing characteristics. 1...Memory matrix, 2...Row selection address decoder, 3...Column gate means, 4...
Column selection address coder, 5... Load means, 6...
Write circuit, 7', 7... Read circuit, 8...
...Conventional data line potential setting circuit, 9...Data line potential setting circuit according to the present invention, 10...Write recovery signal generation circuit, 11... Potential conversion circuit.
Claims (1)
小さい値のバイアス電圧を形成するバイアス回路
と、相補データ信号が与えられるべき一対のデー
タ線と上記バイアス回路の出力との間に設けられ
上記一対のデータ線の電位状態が1つの状態から
他の状態に移行されるとき動作状態にされ動作状
態において上記一対のデータ線の電位を上記相補
データ信号のハイレベルとロウレベルとの中間の
レベルに強制せしめるスイツチング手段とを備え
てなることを特徴とするデータ線電位設定回路。 2 上記スイツチング手段は、上記バイアス回路
の出力と上記一対のデータ線との間に設けられた
第1スイツチングMISFETと、上記一対のデー
タ線間に設けられた第2スイツチングMISFET
とからなることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のデータ線電位設定回路。 3 相補データ信号が与えられる一対のデータ線
に電源端子からの電流を供給せしめる電流供給手
段と、上記一対のデータ線から電流を回路の接地
点に流出せしめるスイツチング手段とを備えてな
り、上記スイツチング手段を動作せしめることに
よつて相補データ信号が与えられる前の上記一対
のデータ線の電位を上記相補データ信号のハイレ
ベルとロウレベルの中間のレベルでありかつ上記
電流供給手段と上記スイツチング手段との共動に
よつてもたらされるレベルに強制するように成し
てなることを特徴とするデータ線電位設定回路。 4 上記電流供給手段は、上記一対のデータ線間
に設けられた第1スイツチング素子と、上記デー
タ線のそれぞれと上記電源端子との間に設けられ
た複数の第2スイツチング素子とからなることを
特徴とする特許請求の範囲第3項記載のデータ線
電位設定回路。 5 上記第1、第2スイツチング素子及び上記ス
イツチング手段はMISFETから成ることを特徴
とする特許請求の範囲第4項記載のデータ線電位
設定回路。 6 メモリマトリツクスと、カラムゲート手段
と、上記カラムゲート手段を介して上記メモリマ
トリツクスに結合される一対のコモンデータ線
と、上記一対のコモンデータ線に結合された入力
端子を持つ差動増幅回路と、電位設定回路とを備
えてなり、上記電位設定回路は、回路の電源電圧
を受けかかる回路の電源電圧よりも低い値のバイ
アス電圧を形成するバイアス回路と、かかるバイ
アス回路の出力と上記一対のコモンデータ線との
間に設けられ上記一対のコモンデータ線の電位状
態が1つの状態から他の状態に移行されるとき動
作状態にされ動作状態において上記一対のコモン
データ線の電位を上記バイアス回路の出力電圧に
よつて上記一対のコモンデータ線に与えられる相
補データ信号のハイレベルとロウレベルとの中間
のレベルに強制するスイツチング手段とからなる
ことを特徴とするMISメモリ回路。 7 上記スイツチ手段は、上記バイアス回路の出
力と上記一対のコモンデータ線との間に設けられ
た一対の第1スイツチングMISFETと、上記一
対のコモンデータ線間に設けられ上記第1スイツ
チングMISFETとともに動作される第2スイツ
チングMISFETとからなることを特徴とする特
許請求の範囲第6項記載のMISメモリ回路。 8 メモリマトリツクスと、カラムゲート手段
と、上記カラムゲート手段を介して上記メモリマ
トリツクスに結合される一対のコモンデータ線
と、上記一対のコモンデータ線に結合された入力
端子を持つ差動増幅回路と、電位設定回路とを備
えてなり、上記電位設定回路は、上記一対のコモ
ンデータ線に電源端子からの電流を供給せしめる
電流供給手段と上記一対のコモンデータ線から電
流を回路の接地点に流出せしめるスイツチング手
段とを備え上記スイツチング手段の動作によつて
上記一対のコモンデータ線の電位を上記一対のコ
モンデータ線に与えられる相補データ信号のハイ
レベルとロウレベルとの中間のレベルでありかつ
上記電流供給手段と上記スイツチング手段との共
動によつてもたらされるレベルに強制するように
成してなることを特徴とするMISメモリ回路。 9 上記電流供給手段及びスイツチング手段が
MISFETからなる特許請求の範囲第8項記載の
MISメモリ回路。 10 上記電流供給手段が上記電源端子と上記一
対のコモンデータ線との間に直列に設けられかつ
少なくとも上記スイツチング手段の動作と重なつ
た動作期間を持つようにスイツチング制御される
スイツチングMISFETを備えてなることを特徴
とする特許請求の範囲第9項記載のMISメモリ回
路。 11 上記メモリマトリツクスは、スタテイツク
型の複数のメモリセルからなることを特徴とする
特許請求の範囲第8項ないし第10項のうちの1
に記載のMISメモリ回路。[Claims] 1. A bias circuit that receives a power supply voltage of the circuit and forms a bias voltage smaller than the applied power supply voltage, and between a pair of data lines to which complementary data signals are to be applied and the output of the bias circuit. is set to an operating state when the potential state of the pair of data lines is transferred from one state to another state, and in the operating state, the potential of the pair of data lines is set to be the same as the high level and low level of the complementary data signal. 1. A data line potential setting circuit comprising: switching means for forcing an intermediate level. 2 The switching means includes a first switching MISFET provided between the output of the bias circuit and the pair of data lines, and a second switching MISFET provided between the pair of data lines.
Claim 1 consisting of
The data line potential setting circuit described in . 3. Current supply means for supplying current from a power supply terminal to a pair of data lines to which complementary data signals are applied, and switching means for causing current to flow from the pair of data lines to a grounding point of the circuit, By operating the means, the potential of the pair of data lines before the complementary data signal is applied is at a level intermediate between the high level and the low level of the complementary data signal, and the current supply means and the switching means are connected to each other. A data line potential setting circuit configured to force a level brought about by co-operation. 4. The current supply means includes a first switching element provided between the pair of data lines, and a plurality of second switching elements provided between each of the data lines and the power supply terminal. A data line potential setting circuit according to claim 3, characterized in that: 5. The data line potential setting circuit according to claim 4, wherein the first and second switching elements and the switching means are MISFETs. 6. A differential amplifier having a memory matrix, a column gate means, a pair of common data lines coupled to the memory matrix via the column gate means, and an input terminal coupled to the pair of common data lines. and a potential setting circuit, wherein the potential setting circuit includes a bias circuit that receives the power supply voltage of the circuit and forms a bias voltage lower than the power supply voltage of the circuit to which it is applied, and an output of the bias circuit and the potential setting circuit. When the potential state of the pair of common data lines is transferred from one state to another state, the potential state of the pair of common data lines is set to the operating state, and in the operating state, the potential of the pair of common data lines is set to the above level. 1. A MIS memory circuit comprising switching means for forcing a complementary data signal applied to the pair of common data lines to an intermediate level between a high level and a low level using an output voltage of a bias circuit. 7 The switching means operates together with a pair of first switching MISFETs provided between the output of the bias circuit and the pair of common data lines, and the first switching MISFET provided between the pair of common data lines. 7. The MIS memory circuit according to claim 6, comprising a second switching MISFET. 8. A differential amplifier having a memory matrix, a column gate means, a pair of common data lines coupled to the memory matrix via the column gate means, and an input terminal coupled to the pair of common data lines. and a potential setting circuit, the potential setting circuit includes a current supply means for supplying current from a power supply terminal to the pair of common data lines, and a current supply means for supplying current from the pair of common data lines to a grounding point of the circuit. and switching means for causing the potential of the pair of common data lines to flow to a level intermediate between the high level and the low level of the complementary data signal applied to the pair of common data lines by the operation of the switching means. An MIS memory circuit configured to force the current to a level brought about by cooperation between the current supply means and the switching means. 9 The above current supply means and switching means are
Claim 8 consisting of MISFET
MIS memory circuit. 10 The current supply means is provided in series between the power supply terminal and the pair of common data lines, and includes a switching MISFET that is controlled to have an operation period that overlaps with at least the operation of the switching means. The MIS memory circuit according to claim 9, characterized in that: 11. One of claims 8 to 10, characterized in that the memory matrix is composed of a plurality of static type memory cells.
MIS memory circuit described in.
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- 1979-07-11 JP JP8692779A patent/JPS5613584A/en active Granted
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Also Published As
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