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JPS6238422A - Electrode plate for color display device - Google Patents

Electrode plate for color display device

Info

Publication number
JPS6238422A
JPS6238422A JP17821485A JP17821485A JPS6238422A JP S6238422 A JPS6238422 A JP S6238422A JP 17821485 A JP17821485 A JP 17821485A JP 17821485 A JP17821485 A JP 17821485A JP S6238422 A JPS6238422 A JP S6238422A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
display device
color
pattern
electrode plate
color display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17821485A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenzo Fukuyoshi
健蔵 福吉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP17821485A priority Critical patent/JPS6238422A/en
Publication of JPS6238422A publication Critical patent/JPS6238422A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明“は、少なくとも2種以上の色?用(・て表示す
る表示装置に用いられるカラー表示装置用電極板に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an electrode plate for a color display device used in a display device displaying at least two or more colors.

(従来の技術) 従来の技#?、−従来例とその平面図を示す第2図を用
いて説明する。
(Conventional technique) Conventional technique #? , - This will be explained using a conventional example and FIG. 2 showing its plan view.

厚さ1〜1.1−のガラス板(1)上の有効表示部に於
いては透明電極(2)が一定ピツチで帯状にバタンニン
グされ、該透明型ボ上にカラーフィルターtR)。
In the effective display area on the glass plate (1) having a thickness of 1 to 1.1 mm, transparent electrodes (2) are stamped in a band shape at a constant pitch, and a color filter (tR) is placed on the transparent plate.

(G、+Bl b″−積層されている。(G, +Bl b″-Laminated.

また、非有効表示部においては、ガラス基板(2)上に
透明成極(2)のみめ!−単に帯状に延設されて端子部
[3)となっている。
In addition, in the non-effective display area, there is only a transparent polarization (2) on the glass substrate (2)! - It is simply extended in a band shape to form the terminal part [3].

(発明が解決しようとする間頓点〕 カラー表示装置が液晶用の場合に即して説明すると、通
常のモノクロe、晶等のドツトマトリクスディスプレイ
は駆動条件と光の透過率の点から液晶の厚みが8μrr
L@後に4王化されている。しかし、内面にカラーフィ
ルターを持つ液晶のドツトマトリクスの構成では、絶縁
体とみなしうろカラーフィルタ自身が上下・成極間にか
かる実効屯i五乞下げろ介在物となる間頂点があり、適
正厚みの設定?困難にしていた。
(Intermediate point to be solved by the invention) To explain the case where the color display device is for liquid crystal, ordinary monochrome dot matrix displays such as e and crystal are different from liquid crystal in terms of driving conditions and light transmittance. Thickness is 8μrr
L@ later became the 4 kings. However, in the structure of a liquid crystal dot matrix that has a color filter on its inner surface, the color filter itself is considered to be an insulator, and there is a vertex between the upper and lower ends and the polarization, and the effective depth between the two ends becomes an inclusion. setting? It was making it difficult.

また、この様なドツトマトリクスデススプレィでカラー
テレビ並の表示?得ろためにドノトザイズの微細化と透
明電極のピンチの微細化の必要があり、特に100μm
〜400μm ピンチでの端子の接続は従来技術では対
応が困難であった。
Also, is this kind of dot matrix death spray display comparable to a color TV? In order to achieve this, it is necessary to miniaturize the donot size and the pinch of the transparent electrode, especially at 100 μm.
~400 μm It was difficult to connect terminals in a pinch using conventional technology.

この様な問題に対し実開昭58−77324号公報で示
した様な考案もあった/ll”−1それでも不足であっ
た。
In order to solve this problem, there was an idea as shown in Japanese Utility Model Application Laid-Open No. 58-77324/ll"-1, but it was still insufficient.

また、液晶等によるカラーディスプレイでの表示の情報
密度を上げるには上述した様にパターンの微細化が必要
であるが、こうした微細化は走査線数馨増やし高デーー
テス(駆動をとることになるが、特にカラーフィルター
の液晶等によるディスプレイでは、場合によって1〜2
μmの厚みのあるカラーフィルター自身の凹凸や段差に
よる表示ムラや液晶の寿命低F?招くことがあった。こ
のため、より高度の表示品質?求める事り一困難であっ
た。
In addition, in order to increase the information density displayed on a color display using a liquid crystal display, it is necessary to make the pattern finer as described above, but such a finer pattern requires an increase in the number of scanning lines and a high data rate (drive). , especially for displays using color filters such as liquid crystals, depending on the case, 1 to 2
Display unevenness due to unevenness and steps of the micrometer-thick color filter itself, or low F LCD life? I was invited. Because of this, more advanced display quality? It was the most difficult thing to ask for.

(間榎?解決する為の手段) 本発明は、透明基板上の有効表示部の透明電極より非有
効表示部の金属薄膜パターンへ延設もしくは電気的接続
?施したカラー表示装置用酸極より非有効表示部の金属
Illパターンb′−各々の色毎の並びの列に配列した
端子部と、有効表示部内の透明電極?繋ぐリード部より
なり、かつ前記リード部の少なくとも一部分?オーバー
コートで覆った事を特徴とするカラー表示装置用電極板
である。
(Maeno?Means for solving the problem) Does the present invention provide an extension or electrical connection from the transparent electrode of the effective display area on the transparent substrate to the metal thin film pattern of the non-effective display area? From the applied acid electrode for a color display device, the metal Ill pattern b' in the non-effective display area - the terminal parts arranged in rows for each color, and the transparent electrode in the active display area? consisting of a lead portion to be connected, and at least a portion of the lead portion? This is an electrode plate for a color display device characterized by being covered with an overcoat.

(作 用] 色数に対応して端子2列ごとに配列した為に、端子部の
面+tr v増JiF丁事6”−可能となり、これによ
りヒートシール、ハンダ付は等地の接着方法においても
接着導通部の面+fが増えたことは確実な眠気的接続に
寄与している。また、リード部の他の端子部の周縁に当
る部分へオーバーコートを施して覆った事により、誤っ
た端子への接着導通が減り、接着導通工程が容易になっ
た。
(Function) Since the terminals are arranged every two rows according to the number of colors, it is possible to increase the surface of the terminal part + trv by 6", which makes heat sealing and soldering possible in the same bonding method. The increase in surface +f of the adhesive conductive part also contributes to a reliable connection.Also, by applying an overcoat to cover the part of the lead part that corresponds to the periphery of the other terminal part, The amount of adhesive conduction to the terminal has been reduced, making the adhesive conduction process easier.

(発明の詳細な 説明?第1図を用いて詳細に説明する。(Details of the invention explanation? This will be explained in detail using FIG.

透明基板であるガラス板11)上に最初にニッケル等?
バタンニングして透明電極(2)、リード部(4)、端
子部(3)とし、その後順欠Rパターン、Gバター7、
Bパターンとカラーフィルター1ll() iG iB
l ’aj 形、’fflする。次にオーバーコートパ
ターンをカラーフィルター+R(G(Bおよびリード部
(4)上に積層して、カラーフィルター上ではカラーフ
ィルターの平滑化。
First put nickel etc. on the glass plate 11) which is a transparent substrate?
The transparent electrode (2), the lead part (4), and the terminal part (3) are formed by stamping, and then the sequential R pattern, G butter 7,
B pattern and color filter 1ll () iG iB
l 'aj form, 'ffl. Next, an overcoat pattern is layered on the color filter +R (G (B) and the lead part (4), and the color filter is smoothed on the color filter.

レベリングの役目?果し、リード部(4)上ではコネク
ション時の隣接部との短絡を防ぎ製品としての収率及び
信頼性を向上させる役目を担うものである。
What is the role of leveling? Furthermore, the lead portion (4) plays the role of preventing short circuits with adjacent portions during connection and improving the yield and reliability of the product.

リード部(4)上のオーバーコート(5)は0.3〜3
μmの高さ?持たせることにより、樹脂フィルム上に1
00〜500μm幅で厚み1〜10μm前後で印刷もし
くはメッキにより導帯形成されたフレシプルコネクター
の位置合わせがその凹凸の嵌合により容易となり、また
コネクトの信頼度が向上する。また、シールm t61
にはオーバーコート(5)乞設けない。
The overcoat (5) on the lead part (4) is 0.3 to 3
Height in μm? 1 on the resin film by holding it.
The flexible connector, which has a conductive band formed by printing or plating with a width of 00 to 500 μm and a thickness of about 1 to 10 μm, can be easily aligned by fitting the concavities and convexities, and the reliability of the connection is improved. In addition, the seal m t61
Do not wear an overcoat (5).

このことにより透湿によって素子のシール部近傍の寿命
低下を未然に防止できる。なお、このときのオーバーコ
ート材料としては、平滑化と絶縁性の目的乞果たすこと
?主眼におく場合が多く、ポリエステル、ポリアミド、
ゼラチン、エポキシ等の4重々の樹脂?用いることbζ
可能である。
This makes it possible to prevent a reduction in the life of the element near the sealing portion due to moisture permeation. In this case, the overcoat material should serve the purpose of smoothing and insulation. The focus is often on polyester, polyamide,
Quadruple resin such as gelatin and epoxy? to usebζ
It is possible.

また、リード部(4)および端子部(3)よりなる金属
薄膜は、リード部(4)上の端部でかつ有効表示部の近
くで透明電極(2)と重畳して設げられることによりお
互い導通している。このときのリード部(4)と端子部
13)はNi  にノケル)?主材料とするが。
In addition, the metal thin film consisting of the lead part (4) and the terminal part (3) is provided at the end of the lead part (4) and near the effective display part so as to overlap with the transparent electrode (2). They communicate with each other. At this time, the lead part (4) and the terminal part 13) are made of Ni? Although it is the main material.

ガラス基板+11との接着力?向上させるためCo (
コバルト) 、’Cr (クロム)等他元素を加えるこ
とも多く、また、下引き層としてC「を設けて接着性は
更に向上させることもある。また、ICの直付ボンディ
ングやフィルムキャリア方式でのガラス基板や駆動回路
を一体化させるという事?考慮する場合、Au(金)、
A−gc銀)、SnC錫)、CuC銅〕、At  (ア
ルミニウム)、半田〔鉛−錫合金〕等な端子部+31 
Kメッキしても良い。さら[、透明基板には必要に応じ
て5i02(酸化硅素)等のアンターコーティングな施
しても、オーツく一コートの更に上面に5i02を積層
してイオン阻止層としてもよい。
Adhesion strength with glass substrate +11? To improve Co (
Other elements such as Cobalt (cobalt) and Cr (Chromium) are often added, and C is sometimes added as an undercoat layer to further improve adhesion. What do you mean by integrating the glass substrate and drive circuit?When considering, Au (gold),
Terminal parts such as A-gc silver), SnC tin), CuC copper], At (aluminum), solder [lead-tin alloy], etc. +31
It may be K-plated. Furthermore, if necessary, an undercoating of 5i02 (silicon oxide) or the like may be applied to the transparent substrate, or 5i02 may be further laminated on the top surface of the oat coating to form an ion-blocking layer.

また、金属薄膜パターン?透明電極を延設することによ
り設けてもよい。
Also, a metal thin film pattern? It may also be provided by extending the transparent electrode.

また1本説明においては主に液晶の場合liMして説明
したが、液晶材料としてゲストホスト、ツイストネマテ
ィツクスーパーツイステノドネマティノク、ダイナミッ
クスキセンタリング1強、誘電性液晶等何れも使用可能
であり、また1本発明は液晶表示装置以外にも発光タイ
プのエレクトロルミネッセンスディスプレイにも応用可
能である事は当然である。
In addition, in this explanation, we mainly used liM in the case of liquid crystal, but guest host, twisted nematic, super twisted nematic, dynamic centering, dielectric liquid crystal, etc. can all be used as liquid crystal materials. Naturally, the present invention can be applied not only to liquid crystal display devices but also to light-emitting type electroluminescent displays.

その池1本発明は本発明の要旨を変更しない限りにおい
て種々変形実施可能な事は当然である。
It goes without saying that the present invention can be modified in various ways as long as the gist of the invention is not changed.

以下実施例に基づいてさらに詳細に説明する。A more detailed explanation will be given below based on examples.

〔実施例1〕 大きさ250mX 200m、厚さ1.1−のフロート
ガラス板上に真空蒸着にてクロム7500λ。
[Example 1] Chromium 7500λ was deposited on a float glass plate having a size of 250 m x 200 m and a thickness of 1.1 mm by vacuum deposition.

ニッケル24oooM嗅付けし、膜付後公知のフ第1・
リソ;・ζよろレジストバタンニングとエッチ779行
い、金属薄膜パターン?形成した。
After sniffing nickel 24oooM and attaching a film, the first
Litho; ζ wobbling resist battanning and etching 779, metal thin film pattern? Formed.

次に290μm線巾で300μmピッチのストライブパ
ターンのR,G、BのカラーフィルターをトータルでX
1lfffl方向に720本バタンニングシタ。
Next, we applied R, G, and B color filters with a stripe pattern of 290 μm line width and 300 μm pitch in total.
720 slams in the 1lfffl direction.

また、カラーフィルターはゼラチン馨材料とし、公知の
方法で形成したものである。同じ材料(ゼラチン)?用
いて1μm厚みでオーバーコートパターン?形成した。
Further, the color filter is made of gelatin material and is formed by a known method. Same material (gelatin)? An overcoat pattern with a thickness of 1 μm? Formed.

次に当カラーフィルター基板上に透明電極?99、99
%のインジウム及び、スズを用い−C2元蒸着方式で基
板温度?室温、酸素分圧4X10 ’ torr、高周
波電圧3 kVにして膜厚1100λ、透過率81%5
面積抵抗値65Ω/口のITO膜?成膜した。この様に
して成膜されたITO模中の酸化スズはおよそ10モル
%であった。次VC270μmの線巾で300μmピッ
チでカラーフィルター上にストライプにてITOtバタ
ンニングした。また。
Next, transparent electrodes on the color filter substrate? 99, 99
% of indium and tin using -C binary evaporation method at substrate temperature? Room temperature, oxygen partial pressure 4X10' torr, high frequency voltage 3 kV, film thickness 1100λ, transmittance 81%5
Area resistance value 65Ω/ITO membrane at the mouth? A film was formed. The tin oxide in the ITO model formed in this manner was about 10 mol %. Next, ITOt was battened in stripes on the color filter with a line width of 270 μm and a pitch of 300 μm. Also.

バタンニングは上記と同じフォトリソ法を用い、エツチ
ングは5%塩酸水溶液にて3分間実施した。
Battanning was performed using the same photolithography method as above, and etching was performed for 3 minutes using a 5% aqueous hydrochloric acid solution.

次にニッケルの端子とITOストライプは0.5順長さ
が重なるようバタンニングし、ニッケル端子端面はニッ
ケルそのままの表面とした。基板乾燥後、日立化成工業
株のポリイミド配向膜材料HL−11002ニッケル端
子部とシール部?除いて塗布し150C1hr乾燥し6
00にの配向膜な形成し、配向膜?付加したカラー表示
装置用電砿板とした。
Next, the nickel terminal and the ITO stripe were stamped so that they overlapped by 0.5 length, and the end face of the nickel terminal was left as a nickel surface. After drying the substrate, apply Hitachi Chemical Co., Ltd.'s polyimide alignment film material HL-11002 nickel terminal part and seal part. Remove and apply and dry for 150C1hr 6
Form an alignment film on 00 and form an alignment film? It was added as an electric wire plate for a color display device.

〔実施例2〕 大きさ5インチ角、厚さ1.1 wrsのフロートガラ
ス板上にスパッタリングにて5102(酸化硅素)’f
:500 ;y、ニッケル?j000A、i付けした。
[Example 2] 5102 (silicon oxide)'f was sputtered onto a float glass plate with a size of 5 inches square and a thickness of 1.1 wrs.
:500 ;y, nickel? j000A, i added.

さらに金メッキを行うニッケル端子端部?除いてほぼ全
面にフォトレジストでバタンニングし、マスクバタン?
形成したあと、400077厚みの金メッキ3行った。
Nickel terminal ends to be further plated with gold? Almost the entire surface was covered with photoresist, and the mask was slammed?
After forming, gold plating with a thickness of 400077 mm was performed.

金メッキは公知技術であるシアン化金浴にて行った。マ
スクパターン?アルカリで溶解除去したあと、実施例1
と同じフォリン法により、ニッケル?バタンニングして
金属薄膜パターンとした。
Gold plating was performed using a cyanide gold bath, which is a known technique. Mask pattern? After dissolving and removing with alkali, Example 1
By the same Folin method, nickel? It was battened to form a metal thin film pattern.

次にゼラチン?用いてドツトサイズ190μm×590
μmのカラーフィルター?X方向(190μmの方向ン
に200μmピッチでR%G、B交互に480ケ、Y方
向に600ttmピッチで128ケ並べてカラーフィル
ターパターンとした。同じ材料で0.5μm厚みとなる
ようコートし、ニッケル端子部とシール部?除いてカラ
ーフィルター上をほぼ覆うように露光・現像しオーバー
コートパターンとした。
Next is gelatin? Dot size 190 μm x 590
μm color filter? A color filter pattern was created by arranging 480 pieces of R%G and B alternately at a pitch of 200 μm in the X direction (190 μm direction) and 128 pieces arranged at a pitch of 600 ttm in the Y direction. Coated with the same material to a thickness of 0.5 μm and coated with nickel. An overcoat pattern was created by exposing and developing the color filter to almost cover it, except for the terminals and seals.

次にスパッタ装置、5重量%酸化スズ2含む酸化インジ
ウムターゲット?用い、アルゴン流量sosccM、高
周波実効電力300W、酸素分圧lX10  torr
にてスパッタリングし膜厚1200λのITO模?成模
した。このときの基板温度は室温である。これで成膜さ
れたITO膜の透過率は83%、抵抗値は42Ω/口で
あった。
Next is the sputtering equipment, an indium oxide target containing 5% by weight tin oxide2? Argon flow rate sosccM, high frequency effective power 300W, oxygen partial pressure lX10 torr
An ITO model sputtered with a film thickness of 1200λ? It was imitated. The substrate temperature at this time is room temperature. The ITO film thus formed had a transmittance of 83% and a resistance value of 42Ω/hole.

次に実施例1と同じフォトリソ法で線巾1−70μm、
ピッチ200μmのITOストライプとバタンニングし
、透明電極パターンとした。ただし。
Next, the line width was 1-70 μm using the same photolithography method as in Example 1.
It was stamped with ITO stripes with a pitch of 200 μm to form a transparent electrode pattern. however.

ストライブは中央部で上下に分割したパターンとした。The stripe has a pattern that is divided into upper and lower parts in the center.

(発明の効果) 本発明により、従来は金属薄膜パターンの端子部の幅が
狭かった為にコネクトには精度が必要であり、またスト
ライプのピッチが100μmオーダーになると、コネク
トは容易でなく、正確に導電画素ピッチを狭めることb
;可能になり1分解能bζ向上する。
(Effects of the Invention) According to the present invention, since the width of the terminal portion of the metal thin film pattern was conventionally narrow, precision was required for connection, and when the pitch of the stripes was on the order of 100 μm, connection was difficult and accurate. Narrowing the conductive pixel pitch b
;It becomes possible and the resolution bζ is improved by 1.

実施例@−ケ示す部分平面←吟會尋→肴→図であり第2
図は、従来のカラー表示装置用成体板?示す部分乎面←
←÷曲→→→図である。
Example @- Partial plane shown ← Ginkaihiro → Appetizer → Fig. 2
Is the figure a conventional solid plate for color display devices? The part shown←
←÷Song→→→Figure.

(1)・・・ガラス板    (2)・・・透明電極(
(支)f(El (Bl・・・カラーフィルター   
(3)・・・端子部(4)・・・リード部    (5
)・・・オーバーコート(6)・・・シール部
(1)...Glass plate (2)...Transparent electrode (
(support) f(El (Bl...color filter)
(3)...Terminal part (4)...Lead part (5
)...Overcoat (6)...Seal part

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1)透明基板上の有効表示部の透明電極より非有効表示
部の金属薄膜パターンへ延設もしくは電気的接続を施し
たカラー表示装置用電極板に於いて、該金属薄膜パター
ンが各々の色毎の並びの列に配列した端子部と、有効表
示部内の透明電極を繋ぐリード部よりなり、かつ前記リ
ード部の少なくとも一部分をオーバーコートで覆った事
を特徴とするカラー表示装置用電極板。
1) In an electrode plate for a color display device in which a transparent electrode in an effective display area on a transparent substrate is extended or electrically connected to a metal thin film pattern in an ineffective display area, the metal thin film pattern is different for each color. What is claimed is: 1. An electrode plate for a color display device, comprising terminal portions arranged in a row and a lead portion connecting transparent electrodes in an effective display portion, and at least a portion of the lead portion being covered with an overcoat.
JP17821485A 1985-08-13 1985-08-13 Electrode plate for color display device Pending JPS6238422A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5420708A (en) * 1990-08-31 1995-05-30 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Color filters, including taking out electrodes or post-ito layer
US5969780A (en) * 1997-09-03 1999-10-19 Ricoh Company, Ltd. Plastic color filter manufacturing method and color filter manufactured in the manufacturing method

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5371862A (en) * 1976-12-08 1978-06-26 Seiko Instr & Electronics Ltd Circuit block and liquid crystal panel of electronic watch

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5371862A (en) * 1976-12-08 1978-06-26 Seiko Instr & Electronics Ltd Circuit block and liquid crystal panel of electronic watch

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5420708A (en) * 1990-08-31 1995-05-30 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Color filters, including taking out electrodes or post-ito layer
US5969780A (en) * 1997-09-03 1999-10-19 Ricoh Company, Ltd. Plastic color filter manufacturing method and color filter manufactured in the manufacturing method

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