JPS6233186A - 新規セフアロスポリン誘導体 - Google Patents
新規セフアロスポリン誘導体Info
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- JPS6233186A JPS6233186A JP60171838A JP17183885A JPS6233186A JP S6233186 A JPS6233186 A JP S6233186A JP 60171838 A JP60171838 A JP 60171838A JP 17183885 A JP17183885 A JP 17183885A JP S6233186 A JPS6233186 A JP S6233186A
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- compound
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- Granted
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分解
本発明は新規セファロスポリン誘導体に関する。
β−ラクタム抗生物質は、細菌にのみ選択毒性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の予防並びに治
療に重要な役割を果たしている。特にセファ0スポリン
y、導体は一般にペニシリナーゼに対して安定であり、
その抗菌スペクトルが広く、細菌感染症の予防並びに治
療に供せられる頻度も多い。
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の予防並びに治
療に重要な役割を果たしている。特にセファ0スポリン
y、導体は一般にペニシリナーゼに対して安定であり、
その抗菌スペクトルが広く、細菌感染症の予防並びに治
療に供せられる頻度も多い。
従来技術
4級アンモニウム塩構造を有するセファロスポリン誘導
体の記載された公開技術としては、例えば、特開昭53
−53690号、同55−59196号、同58−17
4387号及び同58−198490号等が掲げられる
。
体の記載された公開技術としては、例えば、特開昭53
−53690号、同55−59196号、同58−17
4387号及び同58−198490号等が掲げられる
。
現在セフォタキシム(Cerotaxime)アンティ
マイクロビアル エイジェント アンド ケモテラビイ
(Ant1microbial八oents and
Cへemo−therai)V 、 14 749 (
1978))等、第三世代と呼ばれるセファロスポリン
誘導体はダラム陽性菌、ダラム陰性菌、特に腸内細菌群
に優れた抗菌力を示す。
マイクロビアル エイジェント アンド ケモテラビイ
(Ant1microbial八oents and
Cへemo−therai)V 、 14 749 (
1978))等、第三世代と呼ばれるセファロスポリン
誘導体はダラム陽性菌、ダラム陰性菌、特に腸内細菌群
に優れた抗菌力を示す。
セフタジブイム(CeHazidime )アンテイマ
イクロビアル エイジェント アンド ケモテラビイ〔
八ntimicrobial 八gcnts and
Chemotherat)y、 17 876 (19
80))は、シュードモナス・エルギノーザ(Pseu
domonas aeruginosa)及びアシネト
バクタ−(Ac1netobacter )に対して、
これまで知られている中で最も優れたセファロスポリン
誘導体である。
イクロビアル エイジェント アンド ケモテラビイ〔
八ntimicrobial 八gcnts and
Chemotherat)y、 17 876 (19
80))は、シュードモナス・エルギノーザ(Pseu
domonas aeruginosa)及びアシネト
バクタ−(Ac1netobacter )に対して、
これまで知られている中で最も優れたセファロスポリン
誘導体である。
発明が解決しようとする問題点
セファロスポリン誘導体は、種々の耐性の機構をもつ耐
性のぶどう球菌又は耐性のシュードモナス−エルギノー
ザ(Pseudomonas aerugin。
性のぶどう球菌又は耐性のシュードモナス−エルギノー
ザ(Pseudomonas aerugin。
Sa)、アシネトバクタ−・カルコアセティカス(八c
tnetobacter Ca1COaCetiCuS
) 、セラチア9マルセツセンス(Serratia
marcescens )等のぶどう糖部発酵ダラム
陰性桿菌に対する抗菌活性が低い。従って、これらの菌
による難治性感染症の治療のために、より強力で広範囲
のスペクトルをもつ新規セファロスポリン誘導体が求め
られている。
tnetobacter Ca1COaCetiCuS
) 、セラチア9マルセツセンス(Serratia
marcescens )等のぶどう糖部発酵ダラム
陰性桿菌に対する抗菌活性が低い。従って、これらの菌
による難治性感染症の治療のために、より強力で広範囲
のスペクトルをもつ新規セファロスポリン誘導体が求め
られている。
また、前掲のセフオタキシム等、第3世代と呼ばれるセ
ファロスポリン誘導体は、ダラム陽性菌、ダラム陰性菌
、特に腸内細菌群に優れた抗菌力を示すが、シュードモ
ナス(Pseudomonas )及びアシネトバクタ
−(ACinOtObaCtQr)に強力な抗菌作用を
示すものは稀である。従ってこれらの菌、あるいはこれ
らの菌と他の菌との混合感染による重篤な感染症の治療
に、もつと強力で有効な治ffl薬が望まれている。
ファロスポリン誘導体は、ダラム陽性菌、ダラム陰性菌
、特に腸内細菌群に優れた抗菌力を示すが、シュードモ
ナス(Pseudomonas )及びアシネトバクタ
−(ACinOtObaCtQr)に強力な抗菌作用を
示すものは稀である。従ってこれらの菌、あるいはこれ
らの菌と他の菌との混合感染による重篤な感染症の治療
に、もつと強力で有効な治ffl薬が望まれている。
問題を解決するための手段
本発明者らは、7位の側鎖として2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−ffi換オキシイミノアセチ
ル基を有し、3位に2−メチル−1,2,3,4−テト
ラヒドロ−置換イソキノリニウムメチルの置換した新規
セフェム化合物を合成し、この化合物が広範囲の強力な
抗菌スペクトルを有することを見出して本発明を完成し
た。
ゾール−4−イル)−2−ffi換オキシイミノアセチ
ル基を有し、3位に2−メチル−1,2,3,4−テト
ラヒドロ−置換イソキノリニウムメチルの置換した新規
セフェム化合物を合成し、この化合物が広範囲の強力な
抗菌スペクトルを有することを見出して本発明を完成し
た。
作 用
本発明は、一般式
(I)
(式中R1はカルボキシル基により置換されていてもよ
い環状の低級アルキル基、R2、[ン3及びR1は同一
でも異なってもよく、ぞれぞれ水素原子、水酸基、メト
キシ基又はアレ1〜キシ基を示ツー)で表わされる化合
物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのニスデルで
ある。
い環状の低級アルキル基、R2、[ン3及びR1は同一
でも異なってもよく、ぞれぞれ水素原子、水酸基、メト
キシ基又はアレ1〜キシ基を示ツー)で表わされる化合
物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのニスデルで
ある。
一般にオキシイミノ基にf3【プる置換はE又はZの幾
何異性の構造をとりうるが、式■の化合物の7位のアシ
ルアミノ部分に含まれるオキシイミノ基の置換はZの構
造を有している。式■の化合物の置換WR’においてカ
ルボキシル基により置換されていてもよい環状の低級ア
ルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロ
ブチル基、シクロペンデル基、シクロヘキシル基、1−
カルボキシ−1−シクロプロピル基、1−カルボキシ−
1−シクロブチル基、1−力ルボキシ−1−シクロペン
チル基または1−カルボキシ−1−シフヘキシル基等が
挙げられる。
何異性の構造をとりうるが、式■の化合物の7位のアシ
ルアミノ部分に含まれるオキシイミノ基の置換はZの構
造を有している。式■の化合物の置換WR’においてカ
ルボキシル基により置換されていてもよい環状の低級ア
ルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロ
ブチル基、シクロペンデル基、シクロヘキシル基、1−
カルボキシ−1−シクロプロピル基、1−カルボキシ−
1−シクロブチル基、1−力ルボキシ−1−シクロペン
チル基または1−カルボキシ−1−シフヘキシル基等が
挙げられる。
セフェム3位の2−メチル−1,2,3,4−テl〜ラ
ヒドロー置換イソキノリニウムメチルの置換イソキノリ
ン環としては、例えば、無置換イソキノリン、6−ヒド
ロキシイソキノリン、7−ヒドロキシイソキノリン、6
−アセトキシイソキノリン、l−アセトキシイソキノリ
ン、6−メトキシイソキノリン、7−メ1−キシインキ
ノリン、5.6−ジヒドロキシイソキノリン、6.7−
ジヒドロキシイソキノリン、7.8−ジヒドロキシイソ
キノリン、5.6−ジヒドロキシイソキノリン、G、7
−ジア1? ?−キシイソキノリン、1.8−シア廿1
−キシイソキノリン、5,6−ジメトキシイソキノリン
、6.7−ジメトキシイソキノリン、7.8−ジメトキ
シイソキノリン、5,6.7−1〜リヒドロキシインキ
ノリン、5,6.8−トリヒドロキシインキノリン、5
,7.8− t−ジヒドロキシイソキノリン、6,7.
8−トリヒドロキシイソキノリン、5.6.7−トリア
セトキシイソキノリン、5,6.8−1〜リアはトキシ
イソキノリン、5.7.8−1〜リアセ1−キシイソキ
ノリン、6.γ、8−1−リアt?I−キシイソキノリ
ン、5,6.7−トリメ1−キシイソキノリン、5,6
.8−t−ジメトキシイソキノリン、5.7.8−トリ
メ1〜キシイソキノリン、6,7.8−トリメトキシイ
ソキノリン、5.6−シヒドロキシー7−メ1−キシイ
ソキノリン、5.6〜ジヒドロキシ−8−メトキシイソ
キノリン、6.7−シヒドロキシー5−メトキシイソキ
ノリン、 6.7−シヒドロキシー8−メトキシイソ
キノリン、7.8−ジヒドロキシ−5−メトキシイソキ
ノリン、7.8−ジヒドロキシ−6−メ1−キシイソキ
ノリン、5.6−ジアセドキシー7−メ1ヘキシイソキ
ノリン、5.6−ジアセドキシー8−メトキシイソキノ
リン、6.7−ジアセhキシー5−メトキシイソキノリ
ン、6.7−ジアl〜キシ−8−メトキシイソキノリン
、7.8−ジアセトキシ−5−メトキシイソキノリンま
たは7.8−ジアセトキシ−6−メトキシイソキノリン
等が挙げられる。
ヒドロー置換イソキノリニウムメチルの置換イソキノリ
ン環としては、例えば、無置換イソキノリン、6−ヒド
ロキシイソキノリン、7−ヒドロキシイソキノリン、6
−アセトキシイソキノリン、l−アセトキシイソキノリ
ン、6−メトキシイソキノリン、7−メ1−キシインキ
ノリン、5.6−ジヒドロキシイソキノリン、6.7−
ジヒドロキシイソキノリン、7.8−ジヒドロキシイソ
キノリン、5.6−ジヒドロキシイソキノリン、G、7
−ジア1? ?−キシイソキノリン、1.8−シア廿1
−キシイソキノリン、5,6−ジメトキシイソキノリン
、6.7−ジメトキシイソキノリン、7.8−ジメトキ
シイソキノリン、5,6.7−1〜リヒドロキシインキ
ノリン、5,6.8−トリヒドロキシインキノリン、5
,7.8− t−ジヒドロキシイソキノリン、6,7.
8−トリヒドロキシイソキノリン、5.6.7−トリア
セトキシイソキノリン、5,6.8−1〜リアはトキシ
イソキノリン、5.7.8−1〜リアセ1−キシイソキ
ノリン、6.γ、8−1−リアt?I−キシイソキノリ
ン、5,6.7−トリメ1−キシイソキノリン、5,6
.8−t−ジメトキシイソキノリン、5.7.8−トリ
メ1〜キシイソキノリン、6,7.8−トリメトキシイ
ソキノリン、5.6−シヒドロキシー7−メ1−キシイ
ソキノリン、5.6〜ジヒドロキシ−8−メトキシイソ
キノリン、6.7−シヒドロキシー5−メトキシイソキ
ノリン、 6.7−シヒドロキシー8−メトキシイソ
キノリン、7.8−ジヒドロキシ−5−メトキシイソキ
ノリン、7.8−ジヒドロキシ−6−メ1−キシイソキ
ノリン、5.6−ジアセドキシー7−メ1ヘキシイソキ
ノリン、5.6−ジアセドキシー8−メトキシイソキノ
リン、6.7−ジアセhキシー5−メトキシイソキノリ
ン、6.7−ジアl〜キシ−8−メトキシイソキノリン
、7.8−ジアセトキシ−5−メトキシイソキノリンま
たは7.8−ジアセトキシ−6−メトキシイソキノリン
等が挙げられる。
式1の化合物は、下記の方法により製造できる。
一般式
(式中R5は水素原子又はアミン保護基、R6は水素原
子又はカルボキシル保護基、R7は保護されたカルボキ
シル基により置換されていてもよい環状の低級アルキル
基、Xはハロゲン原子又は脱離基、YはS又はSQを示
す)で表わされる化合物又はその塩を、一般式 (式中R8、R9及びR1は同一でも異なってもよく、
それぞれ水素原子、保護されていてもよい水酸基、メ[
〜キシ基又はアセトキシ基、R1+は水素原子又はメチ
ル基を示″9)で表わされるアミンと反応させて、一般
式 (式中R5、R6、R7、R8,R9、R1、R1+及
びYは前記の意味を有し、><eは陰イオンを示′il
l’ )で表わされる化合物となし、これを必要に応じ
メチル化及び/又は還元したのら、保護基を除去する(
A法)。
子又はカルボキシル保護基、R7は保護されたカルボキ
シル基により置換されていてもよい環状の低級アルキル
基、Xはハロゲン原子又は脱離基、YはS又はSQを示
す)で表わされる化合物又はその塩を、一般式 (式中R8、R9及びR1は同一でも異なってもよく、
それぞれ水素原子、保護されていてもよい水酸基、メ[
〜キシ基又はアセトキシ基、R1+は水素原子又はメチ
ル基を示″9)で表わされるアミンと反応させて、一般
式 (式中R5、R6、R7、R8,R9、R1、R1+及
びYは前記の意味を有し、><eは陰イオンを示′il
l’ )で表わされる化合物となし、これを必要に応じ
メチル化及び/又は還元したのら、保護基を除去する(
A法)。
一般式
(式中R6、−1R9、R1及びXOは前記の意味を右
する)で表わされる化合物、その塩又はそのシリル化合
物を、一般式 (式中R5及びR7は前記の意味を有する)で表わされ
るカルボン酸の反応性誘導体によりアシル化して、一般
式 C式中R5,1<6、]ゼ、1<8、[で9、R”及ヒ
Xe ハ前記(7)意味を右する)で表わされる化合物
となし、次いで保護基を除去する(13法)。
する)で表わされる化合物、その塩又はそのシリル化合
物を、一般式 (式中R5及びR7は前記の意味を有する)で表わされ
るカルボン酸の反応性誘導体によりアシル化して、一般
式 C式中R5,1<6、]ゼ、1<8、[で9、R”及ヒ
Xe ハ前記(7)意味を右する)で表わされる化合物
となし、次いで保護基を除去する(13法)。
式■の化合物及び式Vtのカルボン酸の置換基1<5の
ためのアミン保13としては、例えば1〜リヂル基、ホ
ルミル基、クロロアレチル基、トリフルオロアセデル基
、t−ブl〜キシカルボニル基、1〜リメヂルシリル基
、t−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。酸処理
によって容易に除去できる[ヘリデル基が特に好ましい
。
ためのアミン保13としては、例えば1〜リヂル基、ホ
ルミル基、クロロアレチル基、トリフルオロアセデル基
、t−ブl〜キシカルボニル基、1〜リメヂルシリル基
、t−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。酸処理
によって容易に除去できる[ヘリデル基が特に好ましい
。
置換基R6及びR1のためのカルボキシル保15どして
は例えば下記の保冷基が挙げられる。低級アルキル基例
えばt−ブチル基、ハロアルキル基例えば2,2.2−
トリクロロエチル基、アルカノイルオキシアルキル基
例えばアセトキシエチル基、プロピオニルオキシメチル
基、ピバロイルオキシメチル基、2−アセトキシエチル
基、2−プロピオニルオキシメチル基等、アルカンスル
ホニルアルキル基例えばメシルエチル基、2−メシルエ
チル基等、アラルキル基例えばベンジル基、4−メトキ
シベンジル基、4−ニトロベンジル基、フェネチル基、
トリチル基、ベンツヒドリル基、ビス(メトキシフェニ
ル)メチル基、3.4−ツメ1−キシベンジル基等、ア
ルキルシリル基例えばトリメチルシリル基など。
は例えば下記の保冷基が挙げられる。低級アルキル基例
えばt−ブチル基、ハロアルキル基例えば2,2.2−
トリクロロエチル基、アルカノイルオキシアルキル基
例えばアセトキシエチル基、プロピオニルオキシメチル
基、ピバロイルオキシメチル基、2−アセトキシエチル
基、2−プロピオニルオキシメチル基等、アルカンスル
ホニルアルキル基例えばメシルエチル基、2−メシルエ
チル基等、アラルキル基例えばベンジル基、4−メトキ
シベンジル基、4−ニトロベンジル基、フェネチル基、
トリチル基、ベンツヒドリル基、ビス(メトキシフェニ
ル)メチル基、3.4−ツメ1−キシベンジル基等、ア
ルキルシリル基例えばトリメチルシリル基など。
酸処理によって容易に除去できるペンツヒドリル基又は
t−ブチル基が特に好ましい。式■の化合物の置換基X
のためのハロゲン原子としては、例えば塩素、臭素、沃
素等、J152離基としては例えばアセトキシ基、i〜
リフルオロアセトキシ基、メタンスルホニルオキシ基、
トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、フェニルスル
ボニルオキシ基、p−トリルスルホニルオキシ基等が挙
げられる。特に臭素又は沃素が好ましい。
t−ブチル基が特に好ましい。式■の化合物の置換基X
のためのハロゲン原子としては、例えば塩素、臭素、沃
素等、J152離基としては例えばアセトキシ基、i〜
リフルオロアセトキシ基、メタンスルホニルオキシ基、
トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、フェニルスル
ボニルオキシ基、p−トリルスルホニルオキシ基等が挙
げられる。特に臭素又は沃素が好ましい。
式Vlのカルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酸
ハロゲン化物、混合酸無水物、活性エステル等が用いら
れる。式VIのカルボン酸の酸ハロゲン化物は、カルボ
ンM (VI )をハロゲン化剤と反応させることによ
り得られる。この酸ハライド形成反応は、不活性溶媒例
えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン、ベ
ンゼン、トルエン等及びこれらの混合物中で行われる。
ハロゲン化物、混合酸無水物、活性エステル等が用いら
れる。式VIのカルボン酸の酸ハロゲン化物は、カルボ
ンM (VI )をハロゲン化剤と反応させることによ
り得られる。この酸ハライド形成反応は、不活性溶媒例
えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン、ベ
ンゼン、トルエン等及びこれらの混合物中で行われる。
ハロゲン化剤としては例えば塩化チオニル、三塩化燐、
オキシ塩化燐、五塩化燐、三臭化燐、オキザリルクロラ
イド、ホスゲン等が用いられる。ハロゲン化剤の使用量
は、カルボンM(Vl)1モルに対し、1〜10モル好
ましくは1〜1.5モルである。 反応温度は−40〜
+100℃好ましくは一20〜+20℃である。
オキシ塩化燐、五塩化燐、三臭化燐、オキザリルクロラ
イド、ホスゲン等が用いられる。ハロゲン化剤の使用量
は、カルボンM(Vl)1モルに対し、1〜10モル好
ましくは1〜1.5モルである。 反応温度は−40〜
+100℃好ましくは一20〜+20℃である。
式■Iのカルボン酸の混合酸無水物は、カルボン酸(V
l)をクロル炭酸アルキル、脂肪族カルボン酸クロライ
ド等と反応させることにより得られる。反応は不活性溶
媒例えばアレトン、ジオキサン、アセトニトリル、テト
ラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンピ
ン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド等又はこれらの
混合物の中で行われる。本反応は三級アミン例えばトリ
エチルアミン、N−メチルモルホリン等の存在下に行う
ことが好ましい。反応温度は−30〜+20℃好ましく
は一15〜O℃である。
l)をクロル炭酸アルキル、脂肪族カルボン酸クロライ
ド等と反応させることにより得られる。反応は不活性溶
媒例えばアレトン、ジオキサン、アセトニトリル、テト
ラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンピ
ン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド等又はこれらの
混合物の中で行われる。本反応は三級アミン例えばトリ
エチルアミン、N−メチルモルホリン等の存在下に行う
ことが好ましい。反応温度は−30〜+20℃好ましく
は一15〜O℃である。
式Vlのカルボン酸の活性ニスデルは、カルボン酸(V
l)を好ましくは1〜1.2モルのN−ヒドロキシ化合
物又はフェノール化合物と反応させることにより得られ
る。反応は不活性溶媒例えばアセトン、ジオキサン、ア
tit−二トリル、テトラヒドロフラン、塩化メヂレン
、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド等
又はこれらの混合物の中で行われる。N−ヒドロキシ化
合物としては例えばN−ヒドロキシスクシンイミド、N
−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシベンズトリ
アゾール等、フェノール化合物としては例えば4−ニト
ロフェノール、2.4−ジニトロフェノール、トリクロ
ロフェノール、ペンタクロロフェノール等が用いられる
。この反応は縮合剤例えばN、N’ −ジシクロへキシ
ルカルボジイミドの存在下に行うことが好ましい。反応
温度は−30〜+40℃好ましくは一10〜+25℃、
反応時間は30〜120分である。
l)を好ましくは1〜1.2モルのN−ヒドロキシ化合
物又はフェノール化合物と反応させることにより得られ
る。反応は不活性溶媒例えばアセトン、ジオキサン、ア
tit−二トリル、テトラヒドロフラン、塩化メヂレン
、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド等
又はこれらの混合物の中で行われる。N−ヒドロキシ化
合物としては例えばN−ヒドロキシスクシンイミド、N
−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシベンズトリ
アゾール等、フェノール化合物としては例えば4−ニト
ロフェノール、2.4−ジニトロフェノール、トリクロ
ロフェノール、ペンタクロロフェノール等が用いられる
。この反応は縮合剤例えばN、N’ −ジシクロへキシ
ルカルボジイミドの存在下に行うことが好ましい。反応
温度は−30〜+40℃好ましくは一10〜+25℃、
反応時間は30〜120分である。
基Y ffi Sである式■の化合物は、一般式(式中
R6及びXは前記の意味を有し、Zは水素原子又はアシ
ル基を示す)で表わされる化合物を式Vlのカルボン酸
の反応性誘導体を用いてアシル化することにより得られ
る。また基YがSOである式■の化合物は、基YがSで
ある式■の化合物を酸化することにより得られる。置換
基Xが沃素である式■の化合物は、X Ifi塩素であ
る式■の化合物を沃化ナトリウムと反応ざVて¥Haす
ることが好ましい。
R6及びXは前記の意味を有し、Zは水素原子又はアシ
ル基を示す)で表わされる化合物を式Vlのカルボン酸
の反応性誘導体を用いてアシル化することにより得られ
る。また基YがSOである式■の化合物は、基YがSで
ある式■の化合物を酸化することにより得られる。置換
基Xが沃素である式■の化合物は、X Ifi塩素であ
る式■の化合物を沃化ナトリウムと反応ざVて¥Haす
ることが好ましい。
式Vの化合物は、Zがアシル基である式■の化合物を1
テ1がメチル基である弐■のアミンと反応させたのち、
脱アシル化することにより1がられる。
テ1がメチル基である弐■のアミンと反応させたのち、
脱アシル化することにより1がられる。
式■の化合物は、一般式
(式中Rs及び2は前記の意味を有する)で表わされる
化合物から容易に製造することができる。
化合物から容易に製造することができる。
A法により式1の化合物を製造するに際しては、まず溶
媒中で式■の化合物を弐■の遊離アミン又はアミン塩と
反応させる。アミン塩として塩化水素酸塩、臭化水素酸
塩、WtM塩及び酢酸塩等を用いる場合は、中和量の3
級アミン例えばトリエチルアミン等の存在下に反応を行
う。
媒中で式■の化合物を弐■の遊離アミン又はアミン塩と
反応させる。アミン塩として塩化水素酸塩、臭化水素酸
塩、WtM塩及び酢酸塩等を用いる場合は、中和量の3
級アミン例えばトリエチルアミン等の存在下に反応を行
う。
溶媒としては例えば塩化メチレン、クロロホルム、エー
テル、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン、
アセ1〜ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキサイド等の非水有機溶媒又はこれらの混合物が用
いられる。式■のアミンは前記溶媒中で、N、O−ビス
トリメチルシリルアセトアミド等のシリル化剤でシリル
化して使用することもできる。式■のアミンの使用量は
、式■の化合物1モルに対し、1〜2モルである。反応
温度は0〜35℃で、反応は0.5〜5時間で終了する
。
テル、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン、
アセ1〜ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキサイド等の非水有機溶媒又はこれらの混合物が用
いられる。式■のアミンは前記溶媒中で、N、O−ビス
トリメチルシリルアセトアミド等のシリル化剤でシリル
化して使用することもできる。式■のアミンの使用量は
、式■の化合物1モルに対し、1〜2モルである。反応
温度は0〜35℃で、反応は0.5〜5時間で終了する
。
置換基RI+が水素原子である式■の2級アミンを用い
る場合には、その生成物(IV )を単離することなく
反応溶液のまま、あるいはその生成。
る場合には、その生成物(IV )を単離することなく
反応溶液のまま、あるいはその生成。
物(IV ’)を分離精製して、沃化メチルと反応させ
、アンモニオ化合物(IV)とする。このメチル化反応
を前記の非水有機溶媒中で行う場合、沃化メチルの使用
量は生成分(IV)1モルに対し、1〜30モル好まし
くは3〜15モルで、反応温度は一30〜+35℃、反
応は数時間ないし数日で終了する。また溶媒の不在下に
生成物(IV)に過剰の沃化メチルを10〜35℃で、
5〜20時間反応させることによってもアンモニオ化合
物(IV ’)が得られる。
、アンモニオ化合物(IV)とする。このメチル化反応
を前記の非水有機溶媒中で行う場合、沃化メチルの使用
量は生成分(IV)1モルに対し、1〜30モル好まし
くは3〜15モルで、反応温度は一30〜+35℃、反
応は数時間ないし数日で終了する。また溶媒の不在下に
生成物(IV)に過剰の沃化メチルを10〜35℃で、
5〜20時間反応させることによってもアンモニオ化合
物(IV ’)が得られる。
基Yが>S−Oである式■の化合物を用いる場合には、
アンモニオ(IV )を公知の方法、例えばジャーナル
オブ オーガニック ケミストリー(Journal
or’ Organic Chemistry)35
巻2430 (1970) 、シンセシス(Synth
esis ) 58 (1979)又はジャーナルオブ
ケミカル リサーチ(Journal or Che
micat Re5earch) 341 (1979
)等に記載の方法により還元する。例えば生成物(IV
)を不活性有機溶媒例えばアセトン、塩化メチレン、
クロロホルム、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等に溶
解し、沃化カリウム又は沃化ナトリウムを加え、−40
〜O℃でアセチルクロライドを滴下し、−20〜−10
℃で1〜5時間反応させることにより還元できる。沃化
物の使用量は、生成物(IV)1モルに対し、3.5〜
10モル、アセチルクロライドの使用量は、1.5〜5
モルである。こうして得られた化合物から保護基を除去
すると式Iの化合物が得られる。
アンモニオ(IV )を公知の方法、例えばジャーナル
オブ オーガニック ケミストリー(Journal
or’ Organic Chemistry)35
巻2430 (1970) 、シンセシス(Synth
esis ) 58 (1979)又はジャーナルオブ
ケミカル リサーチ(Journal or Che
micat Re5earch) 341 (1979
)等に記載の方法により還元する。例えば生成物(IV
)を不活性有機溶媒例えばアセトン、塩化メチレン、
クロロホルム、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等に溶
解し、沃化カリウム又は沃化ナトリウムを加え、−40
〜O℃でアセチルクロライドを滴下し、−20〜−10
℃で1〜5時間反応させることにより還元できる。沃化
物の使用量は、生成物(IV)1モルに対し、3.5〜
10モル、アセチルクロライドの使用量は、1.5〜5
モルである。こうして得られた化合物から保護基を除去
すると式Iの化合物が得られる。
保護基の除去方法はその保護基の種類に応じて常用の方
法を適宜選択して行うことができる。
法を適宜選択して行うことができる。
酸による方法が好ましく、酸としては例えば義酸、トリ
フルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、p−1−ルエンス
ルボン酸、塩酸等の無機もしくは有機酸等があげられ、
トリフルオロ酢酸が好ましい。な13Fmとしてトリフ
ルオロ酢酸を用いる場合には、アニソールを添加するこ
とにより反応が促進される。またこの反応は不活性溶媒
、例えば塩化メチレン、塩化エチレン、ベンゼン等の有
機溶媒あるいはこれらの混合溶媒の中で、好ましくは塩
化メチレン中で行うこともできる。反応時間は特に限定
されず、原料化合物及び反応生成物の化学的性質、保護
基の種類、除去方法等の種類に応じて適宜選択するが、
冷却下ないし加温程度の緩和な条件で行うのが好ましい
。
フルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、p−1−ルエンス
ルボン酸、塩酸等の無機もしくは有機酸等があげられ、
トリフルオロ酢酸が好ましい。な13Fmとしてトリフ
ルオロ酢酸を用いる場合には、アニソールを添加するこ
とにより反応が促進される。またこの反応は不活性溶媒
、例えば塩化メチレン、塩化エチレン、ベンゼン等の有
機溶媒あるいはこれらの混合溶媒の中で、好ましくは塩
化メチレン中で行うこともできる。反応時間は特に限定
されず、原料化合物及び反応生成物の化学的性質、保護
基の種類、除去方法等の種類に応じて適宜選択するが、
冷却下ないし加温程度の緩和な条件で行うのが好ましい
。
方法により式1の化合物を製造するに際しては、まず溶
媒中で式Vの化合物を式Vlのカルボン酸の反応性誘導
体と反応させる。反応は不活性溶媒例えば水、アセトン
、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、
塩化メチレン、クロロホルム、ベンビン、酢酸エチル、
ジメチルボルムアミド等又はこれらの混合物の中で行わ
れる。カルボン酸(Vl )の反応性誘導体の使用量は
、式Vの化合物1モルに対し、1〜1.5モルである。
媒中で式Vの化合物を式Vlのカルボン酸の反応性誘導
体と反応させる。反応は不活性溶媒例えば水、アセトン
、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、
塩化メチレン、クロロホルム、ベンビン、酢酸エチル、
ジメチルボルムアミド等又はこれらの混合物の中で行わ
れる。カルボン酸(Vl )の反応性誘導体の使用量は
、式Vの化合物1モルに対し、1〜1.5モルである。
反応温度は−40〜+40℃好ましくは一20〜+30
℃である。カルボンN(Vl)の酸クロライド又は混合
酸無水物を用いる場合は、炭酸アルカリ金属又は有機ア
ミン例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N−
メチルモルホリン等の存在下に反応させることが好まし
い。
℃である。カルボンN(Vl)の酸クロライド又は混合
酸無水物を用いる場合は、炭酸アルカリ金属又は有機ア
ミン例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N−
メチルモルホリン等の存在下に反応させることが好まし
い。
反応終了模、生成物(vl)を分離しA法と同様に保護
基を除去すると、式1の化合物が得られる。
基を除去すると、式1の化合物が得られる。
式■の化合物は常法により塩又は生理的に加水分解可能
なエステルとすることができる。
なエステルとすることができる。
式■の化合物の塩としては医療上許容される慣用的なも
の、例えばナトリウム、カリウム等のアリカリ金属、カ
ルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、N、N
’ −ジベンジルエチレンジアミン、プロ力イン等の有
機アミン、塩酸、燐酸、硫酸、硝酸、過クロル酸、臭化
水素酸等の無(ff酸、酢酸、乳酸、プロピオン酸、マ
レイン酸、フマール酸、りんご酸、酒石酸、くえん酸等
の有機酸、メタンスルホン酸、イセチオン酸、p−トル
エンスルホン酸等の有機スルホン酸、アスパラギン酸、
グルタミン酸等のアミノ酸の塩が挙げられる。生理的に
加水分解可能なエステルとしては、例えばアセトキシメ
チルエステル、ピバロイルオキシメチル等のアセトキシ
アルキルエステル類、1−(エトキシカルボニルオキシ
)−1−エチル等のアルコキシカルボニルオキシアルキ
ルエステル類、1−フタリジルエステル、5−メチル−
2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イルメチル等
の5−置換−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−
イルメチルエステル類等が好ましい。
の、例えばナトリウム、カリウム等のアリカリ金属、カ
ルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、N、N
’ −ジベンジルエチレンジアミン、プロ力イン等の有
機アミン、塩酸、燐酸、硫酸、硝酸、過クロル酸、臭化
水素酸等の無(ff酸、酢酸、乳酸、プロピオン酸、マ
レイン酸、フマール酸、りんご酸、酒石酸、くえん酸等
の有機酸、メタンスルホン酸、イセチオン酸、p−トル
エンスルホン酸等の有機スルホン酸、アスパラギン酸、
グルタミン酸等のアミノ酸の塩が挙げられる。生理的に
加水分解可能なエステルとしては、例えばアセトキシメ
チルエステル、ピバロイルオキシメチル等のアセトキシ
アルキルエステル類、1−(エトキシカルボニルオキシ
)−1−エチル等のアルコキシカルボニルオキシアルキ
ルエステル類、1−フタリジルエステル、5−メチル−
2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イルメチル等
の5−置換−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−
イルメチルエステル類等が好ましい。
本発明の化合物の種々の細菌に対する最小阻止濃度(H
IC:μg/ml)を、セフオタキシム(Cerota
xime)及びセフタジブイム(CeftaZidim
e )を比較化合物として、センシティビティ ディス
ク アガールにツスイ) (5ensitivity
Disk Aoar(Nissui))を用いて寒天平
板希釈法で測定した(菌数: l Q6CFU/d)。
IC:μg/ml)を、セフオタキシム(Cerota
xime)及びセフタジブイム(CeftaZidim
e )を比較化合物として、センシティビティ ディス
ク アガールにツスイ) (5ensitivity
Disk Aoar(Nissui))を用いて寒天平
板希釈法で測定した(菌数: l Q6CFU/d)。
その結果を下記表に示す。
本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陽性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス−エルギノー
ザ(PSeudOmOnaS aerugin。
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス−エルギノー
ザ(PSeudOmOnaS aerugin。
Sa)、シーム−トモナス・セパシア(Pscudom
onascepacia ) 、アシネトバクタ−・カ
ルコアセディカス(Acinetobacter ca
lcoaccticus )等に強い抗菌力を示した。
onascepacia ) 、アシネトバクタ−・カ
ルコアセディカス(Acinetobacter ca
lcoaccticus )等に強い抗菌力を示した。
したがって本発明はさらに、式■の化合物、その塩又は
生理的に加水分解可能なそのエステルを有効成分として
含有する抗菌剤として有用である。
生理的に加水分解可能なそのエステルを有効成分として
含有する抗菌剤として有用である。
本発明の化合物は、固体又は液体の試形剤の担体と混合
し、経口投与、非経口投与又は外部役勾に適した医薬製
剤の形で使用することができる。医薬製剤としては注射
剤、シロップ剤、乳剤等の液剤、錠剤・カプセル剤、顆
粒剤等の固形剤、軟膏、坐剤等の外用剤等が挙げられる
。
し、経口投与、非経口投与又は外部役勾に適した医薬製
剤の形で使用することができる。医薬製剤としては注射
剤、シロップ剤、乳剤等の液剤、錠剤・カプセル剤、顆
粒剤等の固形剤、軟膏、坐剤等の外用剤等が挙げられる
。
前記の製剤には助剤、安定剤、湿潤剤、乳化剤等の通常
使用される添加剤が含まれていてもよい。例えば注射剤
には注射用蒸溜水、生理食塩水、リンゲル液等の溶解液
、パラオキシ安息香酸メチル、バラオキシ安息香酸プロ
ピル等の保存剤等の添加剤を含有してもよい。シロップ
剤、乳剤等の液剤には、ンルビ1−−ルシロップ、メチ
ルセルロース、グルコース、しょ糖シロップ、ゼラチン
、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、ステアリン酸アルミニウムゲル、食用油、扁桃
浦、ココナツ油、油性エステル、ソルビタンモノオレエ
ート、プロピレングリコール、グリセリン、エチルアル
コール、水等のほか、アラビアゴム、ゼラチン、レシチ
ン等の乳化剤、ツイーン、スパン等の界面活性剤等を含
有してもよい。固形剤としては乳糖、しょ糖、とうもろ
こし殿粉、燐酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム
、タルク、珪酸、アラビアゴム、ゼラチン、ソルビトー
ル、トラガント、ポリビニルピロリドン、ポリエチレン
グリコール、ラウリル硫酸ナトリウム等が用いられる。
使用される添加剤が含まれていてもよい。例えば注射剤
には注射用蒸溜水、生理食塩水、リンゲル液等の溶解液
、パラオキシ安息香酸メチル、バラオキシ安息香酸プロ
ピル等の保存剤等の添加剤を含有してもよい。シロップ
剤、乳剤等の液剤には、ンルビ1−−ルシロップ、メチ
ルセルロース、グルコース、しょ糖シロップ、ゼラチン
、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、ステアリン酸アルミニウムゲル、食用油、扁桃
浦、ココナツ油、油性エステル、ソルビタンモノオレエ
ート、プロピレングリコール、グリセリン、エチルアル
コール、水等のほか、アラビアゴム、ゼラチン、レシチ
ン等の乳化剤、ツイーン、スパン等の界面活性剤等を含
有してもよい。固形剤としては乳糖、しょ糖、とうもろ
こし殿粉、燐酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム
、タルク、珪酸、アラビアゴム、ゼラチン、ソルビトー
ル、トラガント、ポリビニルピロリドン、ポリエチレン
グリコール、ラウリル硫酸ナトリウム等が用いられる。
軟膏、坐剤の基剤としては例えばカカオ脂、グリセリド
類、ポリエチレングリコール類、白色ワセリン等が用い
られる。必要に応じて界面活性剤や吸収促進剤を含有し
てもよい。
類、ポリエチレングリコール類、白色ワセリン等が用い
られる。必要に応じて界面活性剤や吸収促進剤を含有し
てもよい。
本発明化合物(I)は細菌感染症例えば呼吸器感染症、
尿路感染症、産婦人科感染症、化膿性疾患、外科感染症
等の治療及び予防に用いることができる。投与量は患者
の年齢及び状態によって異なり、通常は1日当り1〜1
00my/3yの範囲で使用され、1日当り5〜30r
Rg/Kgで2〜4回に分けて投与することが好ましい
。
尿路感染症、産婦人科感染症、化膿性疾患、外科感染症
等の治療及び予防に用いることができる。投与量は患者
の年齢及び状態によって異なり、通常は1日当り1〜1
00my/3yの範囲で使用され、1日当り5〜30r
Rg/Kgで2〜4回に分けて投与することが好ましい
。
次に実施例を挙げて本発明を更に詳説するが本発明はこ
れに限定されるものではない。
れに限定されるものではない。
実施例
実施例 1
(八)ベンツヒドリル 7− ((Z)−2−シクロペ
ンチルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド) −3−(6,7−シ
ヒドロキシー1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリ
ン−2−イル)−3−セフェム−4−カルボキシレート
1−オキサイド ベンツヒドリル 3−ヨードメチル−7−((Z)−2
−シクロペンチルオキシイミノ−S’−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕 −3−
セフェム−4−カルボキシレート3.5g(3,49ミ
リモル)をジメチルホルムアミド15dに溶解し6.7
−シヒドロキシー1.2,3.4−テトラヒドロイソキ
ノリン・臭化水素酸塩1.28 g(5,2ミリモル)
及びトリエチルアミン0.73 d(5,2ミリモル)
を室温で加えた。反応溶液を1時間撹拌したのら、減圧
下にジメチルボルムアミドを留去した。残漬に水及びク
ロロホルムを加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無
水硫酸ナトリウムで脱水したのら、減圧下に濃縮して得
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(2〜5
%メタノール・クロロホルム)に付し、標記化合物3g
(収率82.6%)を得た。
ンチルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド) −3−(6,7−シ
ヒドロキシー1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリ
ン−2−イル)−3−セフェム−4−カルボキシレート
1−オキサイド ベンツヒドリル 3−ヨードメチル−7−((Z)−2
−シクロペンチルオキシイミノ−S’−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕 −3−
セフェム−4−カルボキシレート3.5g(3,49ミ
リモル)をジメチルホルムアミド15dに溶解し6.7
−シヒドロキシー1.2,3.4−テトラヒドロイソキ
ノリン・臭化水素酸塩1.28 g(5,2ミリモル)
及びトリエチルアミン0.73 d(5,2ミリモル)
を室温で加えた。反応溶液を1時間撹拌したのら、減圧
下にジメチルボルムアミドを留去した。残漬に水及びク
ロロホルムを加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無
水硫酸ナトリウムで脱水したのら、減圧下に濃縮して得
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(2〜5
%メタノール・クロロホルム)に付し、標記化合物3g
(収率82.6%)を得た。
IR(にBr) : 1810.1730.1660
.1620.1530cm−INHrl(0830−d
6’)δ: 1.4〜1.9(811,m)。
.1620.1530cm−INHrl(0830−d
6’)δ: 1.4〜1.9(811,m)。
2.3〜3.4(1011,m) 、 4.65(1
11,m) 。
11,m) 。
5.07(Ill、d、J=4.511Z) 、 5
.85(111,dd。
.85(111,dd。
J−4,5及び711z) 、 6.31(111,
s) 。
s) 。
6.42(111,s) 、 6.77 (11
1,s)。
1,s)。
6.97(ill、s) 、 7.15〜7.5
(2511゜brs) 、 8.4〜8.8(31
1,m)CB)ペンツヒドリル 7− ((Z)−2−
シクロペンチルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド) −3−(6
,7−シヒドロキシー2−メチル−1,2,3,4−テ
トラヒドロ −2−イソキノリニウム)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド・ヨー
ド塩 (八)で得た化合物3g(2,3ミリモル)をヨウ化メ
チル20ad! (321ミリモル)に溶解し、空温で
19時間撹拌した。反応溶液を減圧下に濃縮して冑た残
渣にエーテルを加え、粉末上の標記化合物2.5g(収
率73.3%)を冑だ。
(2511゜brs) 、 8.4〜8.8(31
1,m)CB)ペンツヒドリル 7− ((Z)−2−
シクロペンチルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド) −3−(6
,7−シヒドロキシー2−メチル−1,2,3,4−テ
トラヒドロ −2−イソキノリニウム)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド・ヨー
ド塩 (八)で得た化合物3g(2,3ミリモル)をヨウ化メ
チル20ad! (321ミリモル)に溶解し、空温で
19時間撹拌した。反応溶液を減圧下に濃縮して冑た残
渣にエーテルを加え、粉末上の標記化合物2.5g(収
率73.3%)を冑だ。
NHR(DH3O−66)δ: 1.4〜1.9(8
11,m)。
11,m)。
2.6〜4.4(1311,m) 、 4.63 (
III、m)。
III、m)。
5.13(Ill、m) 、 5.93(ill、m
) 。
) 。
6.43(Ill、S) 、 6.60(III、S
) 。
) 。
6.18(III、S) 、 γ、12(Ill、
S) 。
S) 。
7.3〜7.5(2511,brs) 、 8.8
0(211,m)(C)ペンツヒドリル ?−((Z)
−2−シクロペンチルオキシイミノ−2−(2−トリチ
ルアミンチアゾール−4−イル)アセトアミド) −3
−(6,7−シヒドロキシー2−メチル−1,2,3,
4−テトラヒドロ−2−イソキノリニウム)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩(B)で
得た化合物2.5g(2,1ミリモル)をアセトン50
dに溶解し、ヨウ化カリウム3,5g(21ミリモル)
を加えたのち、−20℃でアセチルクロライド0.75
d (10,5ミリモル)を滴下した。反応溶液を一
10℃で5時間撹拌した。反応溶液を2%メタ重亜硫酸
ナトリウム水溶液に注ぎ、析出物を濾取した。析出物を
クロロホルムに溶解し、飽和食塩水で洗浄したのち、有
機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。減圧下に溶媒を
留去し、標記化合物2.2g(89%)を得た。
0(211,m)(C)ペンツヒドリル ?−((Z)
−2−シクロペンチルオキシイミノ−2−(2−トリチ
ルアミンチアゾール−4−イル)アセトアミド) −3
−(6,7−シヒドロキシー2−メチル−1,2,3,
4−テトラヒドロ−2−イソキノリニウム)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩(B)で
得た化合物2.5g(2,1ミリモル)をアセトン50
dに溶解し、ヨウ化カリウム3,5g(21ミリモル)
を加えたのち、−20℃でアセチルクロライド0.75
d (10,5ミリモル)を滴下した。反応溶液を一
10℃で5時間撹拌した。反応溶液を2%メタ重亜硫酸
ナトリウム水溶液に注ぎ、析出物を濾取した。析出物を
クロロホルムに溶解し、飽和食塩水で洗浄したのち、有
機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。減圧下に溶媒を
留去し、標記化合物2.2g(89%)を得た。
IR(KBr) : 1800,1730,168
0,1620,1530゜1450.1360ロー1 NHR(DH3O−d6) 6 : 1.2〜2.0
(811,m)。
0,1620,1530゜1450.1360ロー1 NHR(DH3O−d6) 6 : 1.2〜2.0
(811,m)。
5.43(III、m) 、 5.90(11t、
m) 、 6.50(ill、S)、 8.63
(111,S) 、 6.77(111,S)
。
m) 、 6.50(ill、S)、 8.63
(111,S) 、 6.77(111,S)
。
6.95(111,s) 、 7.0〜7.7(2
5tl、brs) 。
5tl、brs) 。
9.55(111,m)
(D) 7− ((z)−2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−シクロペンチルオキシイミノアセト
アミド) −3−(6,7−シヒドロキシー2−メチル
″−1,2,3,4−テトラヒドロ−2−イソキノリニ
ウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート (C)で冑だ化合物2.1g(1,8ミリモル)を塩化
メチレン10d及びアニソール2dに溶解し、冷却下ト
リフルオロ酸M16meを滴下したのち、同温度で2時
間撹拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、残渣にエーテル
を加え沈殿物を集めた。
−4−イル)−2−シクロペンチルオキシイミノアセト
アミド) −3−(6,7−シヒドロキシー2−メチル
″−1,2,3,4−テトラヒドロ−2−イソキノリニ
ウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート (C)で冑だ化合物2.1g(1,8ミリモル)を塩化
メチレン10d及びアニソール2dに溶解し、冷却下ト
リフルオロ酸M16meを滴下したのち、同温度で2時
間撹拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、残渣にエーテル
を加え沈殿物を集めた。
この沈殿物に水2007を加え不溶物を除去したのちそ
の重液を逆相カラムクロマトグラフィー(Waters
PrePack 500/C−18:15〜40%メ
タノール・水)で精製し、目的物を含む分画を集め凍結
乾燥により標記化合物220rIT!(収率19.5%
)を得た。
の重液を逆相カラムクロマトグラフィー(Waters
PrePack 500/C−18:15〜40%メ
タノール・水)で精製し、目的物を含む分画を集め凍結
乾燥により標記化合物220rIT!(収率19.5%
)を得た。
融 点= 178℃ (分解)
IR(にBr) : 1780,1670.1B2
0,1540,1390゜1360cm−1 NHR(DH3O−d6’)δ: 1.3〜1.9(
811,m)。
0,1540,1390゜1360cm−1 NHR(DH3O−d6’)δ: 1.3〜1.9(
811,m)。
2.90(311,brs) 、 3.0〜4.8(
1011,m) 。
1011,m) 。
4.65(Ill、m) 、 5.17(111,d
、J−4,511Z)。
、J−4,511Z)。
5.65(Ill、dd、J=4.5及び911z)
。
。
6.51(Ill、s) 、 6.62(111,s
)。
)。
6.68(ill、S)
実施例 2
(八)ペンツヒドリル 7− ((z)−2−(1−t
ar−ブトキシカルボニル− ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド)−3−ヨードメチル−3−セフェム−
4−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7− ((Z)−2−(1−ter−
ブトキシカルボニル−1−シクロプロキシイミノ)−2
−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセト
アミド〕−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カル
ボキシレート14.2g(14,7ミリモル)を塩化メ
チレン280dに溶解し、水冷下メタクロル過安息香酸
2.98 g (14,7ミリモル)を加え10分間撹
拌した。反応溶液に10%チオ硫酸ナトリウム水溶液6
0dを加えたのち、この溶液を5%炭酸水素ナトリウム
水溶液中に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、無水硫酸ナト
リウムで脱水した。
ar−ブトキシカルボニル− ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド)−3−ヨードメチル−3−セフェム−
4−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7− ((Z)−2−(1−ter−
ブトキシカルボニル−1−シクロプロキシイミノ)−2
−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセト
アミド〕−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カル
ボキシレート14.2g(14,7ミリモル)を塩化メ
チレン280dに溶解し、水冷下メタクロル過安息香酸
2.98 g (14,7ミリモル)を加え10分間撹
拌した。反応溶液に10%チオ硫酸ナトリウム水溶液6
0dを加えたのち、この溶液を5%炭酸水素ナトリウム
水溶液中に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、無水硫酸ナト
リウムで脱水した。
減圧濃縮して得た残渣をアセトン300dに溶解したの
ら、0℃でヨウ化ナトリウム4.4g(29゜4ミリモ
ル)を加え、室温で15分間撹拌した。反応溶液をチオ
硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄したのち有機
溶媒層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。減圧濃縮で得
た残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル二〇−ヘキサン=1:2)に付し、標記
化合物9.52 g(収率60%)を得た。
ら、0℃でヨウ化ナトリウム4.4g(29゜4ミリモ
ル)を加え、室温で15分間撹拌した。反応溶液をチオ
硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄したのち有機
溶媒層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。減圧濃縮で得
た残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル二〇−ヘキサン=1:2)に付し、標記
化合物9.52 g(収率60%)を得た。
(B)ペンツヒドリル 7− ((z)−2−(1−t
er−7トキシカルボニルー1−シクロプロポキシイミ
ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド)−3−(6,7−シヒドロキシー1.
2,3.4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート1−オキサ
イド (A)で得た化合物3.0g(2,8ミリモル)をジメ
チルホルム7ミド30成に溶解し、6.1−ジヒドロキ
シ−1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン・臭化
水素酸塩0.85 g(3,3ミリモル)及びトリエチ
ルアミン0.93 d(6,6ミリモル)を加え、室温
で2時間撹拌した。減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲル
フラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル二〇
−ヘキサン−3:1)に付し無晶形の標記化合物3.8
8 g(ジメチルホルムアミドを含む)を得た。
er−7トキシカルボニルー1−シクロプロポキシイミ
ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド)−3−(6,7−シヒドロキシー1.
2,3.4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート1−オキサ
イド (A)で得た化合物3.0g(2,8ミリモル)をジメ
チルホルム7ミド30成に溶解し、6.1−ジヒドロキ
シ−1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン・臭化
水素酸塩0.85 g(3,3ミリモル)及びトリエチ
ルアミン0.93 d(6,6ミリモル)を加え、室温
で2時間撹拌した。減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲル
フラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル二〇
−ヘキサン−3:1)に付し無晶形の標記化合物3.8
8 g(ジメチルホルムアミドを含む)を得た。
Ml(R(D)180−d6)δ: 1.40(13
11,m)、 5.08(11i、d、J−4hZ)
、 5.90(IN、Q、J−4,8) 。
11,m)、 5.08(11i、d、J−4hZ)
、 5.90(IN、Q、J−4,8) 。
6.32(III、brs) 、 6.42(II
I、brs) 。
I、brs) 。
6.84(IH,S) 、 6.97(IH,5)
(C)ペンツヒドリル 7− ((z)−2−(1−t
ar−ブトキシカルボニル−1−シクロプロポキシイミ
ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド) −3−(6,7−シヒドロキシー2
−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ −2−イソ
キノリニウム)メチル−3−セフェム−4カルボキシレ
ート 1−オキサイド・ヨード塩 CB)で得た化合物3.88 (jをヨウ化メチル3h
te (610ミリモル)に溶解し、室温で12時間放
置した。減圧下、過剰のヨウ化メチルを留去したのち、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(5%メタ
ノール・塩化メチレン)にて精製し、無晶形の標記化合
物3.2gCB工程からの収率73%)を得た。
(C)ペンツヒドリル 7− ((z)−2−(1−t
ar−ブトキシカルボニル−1−シクロプロポキシイミ
ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド) −3−(6,7−シヒドロキシー2
−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ −2−イソ
キノリニウム)メチル−3−セフェム−4カルボキシレ
ート 1−オキサイド・ヨード塩 CB)で得た化合物3.88 (jをヨウ化メチル3h
te (610ミリモル)に溶解し、室温で12時間放
置した。減圧下、過剰のヨウ化メチルを留去したのち、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(5%メタ
ノール・塩化メチレン)にて精製し、無晶形の標記化合
物3.2gCB工程からの収率73%)を得た。
NHR(DH3O−66)δ: 1.40(13+1
.III)、 2.80(311,brs)、 5
.18(ill、brd) 、 6.95(tll
、m)、 6.43(ill、brs) 、 6
.58 (111゜brs)、 6.85(1!l
、s) 。
.III)、 2.80(311,brs)、 5
.18(ill、brd) 、 6.95(tll
、m)、 6.43(ill、brs) 、 6
.58 (111゜brs)、 6.85(1!l
、s) 。
(0)ペンツヒドリル 7− ((z)−2−(1−t
er−ブトキシカルボニル−1−シクロプロポキシイミ
ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド) −3−(6,γ−ジヒドロキシー2
−メチルー1.2,3.4−テトラヒドロ−2−イソキ
ノリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート・ヨード塩 (C)で得た化合物3.2g(2,54ミリモル)をア
セトン32dに溶解し、ヨウ化カリウム1.68g(1
0,1ミリモル)を加え、−5℃でアセチルクロライド
0.36 d(5,07ミリモル)を滴下し、1時間撹
拌した。反応溶液を10%メタ重亜硫酸ナトリウム水溶
液170 mQ中に注いだのち、酢酸エチルで抽出した
。抽出液を無水硫酸ナトリウムで脱水したのち、減圧下
に溶媒を留去し、標記化合物を含む残渣を得、精製する
ことなく次の反応に用いた。
er−ブトキシカルボニル−1−シクロプロポキシイミ
ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド) −3−(6,γ−ジヒドロキシー2
−メチルー1.2,3.4−テトラヒドロ−2−イソキ
ノリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート・ヨード塩 (C)で得た化合物3.2g(2,54ミリモル)をア
セトン32dに溶解し、ヨウ化カリウム1.68g(1
0,1ミリモル)を加え、−5℃でアセチルクロライド
0.36 d(5,07ミリモル)を滴下し、1時間撹
拌した。反応溶液を10%メタ重亜硫酸ナトリウム水溶
液170 mQ中に注いだのち、酢酸エチルで抽出した
。抽出液を無水硫酸ナトリウムで脱水したのち、減圧下
に溶媒を留去し、標記化合物を含む残渣を得、精製する
ことなく次の反応に用いた。
(E) 7− ((z)−2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−(1−カルボキシ−1−シクロプロ
ポキシイミノ)アセトアミド) −3−(6,7−シヒ
ドロキシー2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
−2−イソキノリニウム)メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレート (D)で得た残渣を塩化メチレン6d及びアニソール6
dに溶解したのち、0℃でトリフルオロ酢酸15rd、
を加え1時間撹拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、残漬
に酢酸エチル及び水を加え、水層を分取したのち、再び
有機層を2回水で抽出した。水層を合わせ濃縮したのち
、逆相カラムクロマトグラフィー(ODS;LC−3o
rb)により精製し、標記化合物131mg (ジアス
テレオマーA、Bの混合物、(D)からの収率8%)を
得た。
−4−イル)−2−(1−カルボキシ−1−シクロプロ
ポキシイミノ)アセトアミド) −3−(6,7−シヒ
ドロキシー2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
−2−イソキノリニウム)メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレート (D)で得た残渣を塩化メチレン6d及びアニソール6
dに溶解したのち、0℃でトリフルオロ酢酸15rd、
を加え1時間撹拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、残漬
に酢酸エチル及び水を加え、水層を分取したのち、再び
有機層を2回水で抽出した。水層を合わせ濃縮したのち
、逆相カラムクロマトグラフィー(ODS;LC−3o
rb)により精製し、標記化合物131mg (ジアス
テレオマーA、Bの混合物、(D)からの収率8%)を
得た。
融 点: 156℃ (分解)
IR(KBr) : 3420.1780.1620
cm−1NHR(DH3O−d6)δ: 1.32(
411,m) 、 2.80(311,brs)
、 4.95(Ill、m) 、 5.40(i
ll、m)、 6.2〜6.3(III、m)、
6.35(III、s) 、 6.84(lft、
s) 、 8.04(lli、m)実施例 3 (A)ベンツヒドリル 7− ((2)−2−(1−ベ
ンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチルオ
キシイミノ) −2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド)−3−クロロメチル−3−
ロフエムー4−カルボキシレート (Z)−2−(1−ベンツヒドリルオキシカルボニル−
1−シクロペンチルオキシイミノ) −2−(2−トリ
デルアミノチアゾール−4−イル)酢112.129(
3ミリモル)及びペンツヒドリル 7−アミノ−3−ク
ロロメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート1.
24 g(3ミリモル)を塩化メチレン50dに溶解し
、水冷下N、N−ジメヂルアニリン1.2m (9,6
ミリモル)を加えたのら、オキシ塩化リン0.29 m
(! (3,15ミリモル)を滴下し、同温度で4時間
撹拌した。反応溶液にクロロホルム3〇−及び水30d
を加え有機層を水及び飽和食塩水で洗浄したのら、無水
硫酸ナトリウムで脱水、濃縮して標記化合物残渣を得、
精製することなく次′の反応に用いた。
cm−1NHR(DH3O−d6)δ: 1.32(
411,m) 、 2.80(311,brs)
、 4.95(Ill、m) 、 5.40(i
ll、m)、 6.2〜6.3(III、m)、
6.35(III、s) 、 6.84(lft、
s) 、 8.04(lli、m)実施例 3 (A)ベンツヒドリル 7− ((2)−2−(1−ベ
ンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチルオ
キシイミノ) −2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド)−3−クロロメチル−3−
ロフエムー4−カルボキシレート (Z)−2−(1−ベンツヒドリルオキシカルボニル−
1−シクロペンチルオキシイミノ) −2−(2−トリ
デルアミノチアゾール−4−イル)酢112.129(
3ミリモル)及びペンツヒドリル 7−アミノ−3−ク
ロロメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート1.
24 g(3ミリモル)を塩化メチレン50dに溶解し
、水冷下N、N−ジメヂルアニリン1.2m (9,6
ミリモル)を加えたのら、オキシ塩化リン0.29 m
(! (3,15ミリモル)を滴下し、同温度で4時間
撹拌した。反応溶液にクロロホルム3〇−及び水30d
を加え有機層を水及び飽和食塩水で洗浄したのら、無水
硫酸ナトリウムで脱水、濃縮して標記化合物残渣を得、
精製することなく次′の反応に用いた。
(B)ペンツヒドリル 7− ((Z)−2−(1−ベ
ンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチルオ
キシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド)−3−クロロメチル−3−セ
ファム−4−カルボキシレート 1−オキサイド (A)で得た残渣を塩化メチレン50dに溶解し、水冷
下にメタクロロ過安息香酸く純度80%)710Itg
(3,3ミリモル)加え20分間撹拌した。反応溶液に
塩化メチレン30 IILe及び5%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液40dを加えたのち、有機層を分液し、水及び
飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで
脱水したのち濃縮して標記化合物残渣を得、精製するこ
となく次の反応に用いた。
ンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチルオ
キシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド)−3−クロロメチル−3−セ
ファム−4−カルボキシレート 1−オキサイド (A)で得た残渣を塩化メチレン50dに溶解し、水冷
下にメタクロロ過安息香酸く純度80%)710Itg
(3,3ミリモル)加え20分間撹拌した。反応溶液に
塩化メチレン30 IILe及び5%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液40dを加えたのち、有機層を分液し、水及び
飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで
脱水したのち濃縮して標記化合物残渣を得、精製するこ
となく次の反応に用いた。
(C)ペンツヒドリル 7− ((Z)−2−(1−ベ
ンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチルオ
キシイミノ) −2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミドシー3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルホキシレー1へ 1−オキシイド (8)で1また残漬をアセトン40dに溶解し、ヨウ、
化ナトリウム990mg(6,6ミリモル)を加え、室
温で30分撹拌した。反応溶液に酢酸エチル120d及
び5%ヂチオ酸ナトリウム水溶液20蔵を加え分液した
。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸
ナトリウムで脱水し濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル二〇−
ヘキサン= 1:2)にイリシ、目的物を含む分画を集
め、減圧濃縮し、残漬にイソプロピルエーテルを加え粉
末状の標記化合物2.92 g(Aからの収率80.3
%)を19だ。
ンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチルオ
キシイミノ) −2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミドシー3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルホキシレー1へ 1−オキシイド (8)で1また残漬をアセトン40dに溶解し、ヨウ、
化ナトリウム990mg(6,6ミリモル)を加え、室
温で30分撹拌した。反応溶液に酢酸エチル120d及
び5%ヂチオ酸ナトリウム水溶液20蔵を加え分液した
。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸
ナトリウムで脱水し濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル二〇−
ヘキサン= 1:2)にイリシ、目的物を含む分画を集
め、減圧濃縮し、残漬にイソプロピルエーテルを加え粉
末状の標記化合物2.92 g(Aからの収率80.3
%)を19だ。
?4MR(DH3O−d6) : 1.80 (41
1,m)、 2.1(411,m)。
1,m)、 2.1(411,m)。
3.9(2tl、m)、 4.4(211,m)、
5.10(11I、d、J=5tlz) 、 5
.95(ill、dd、J=5及び9Hz)、 6.
77(ltl、s) 、 6.80(111,s)、
7.35(3511,m)、 8.5(Ill、
d。
5.10(11I、d、J=5tlz) 、 5
.95(ill、dd、J=5及び9Hz)、 6.
77(ltl、s) 、 6.80(111,s)、
7.35(3511,m)、 8.5(Ill、
d。
J=9111)、 8.8(ill、 brs)(D
)ペンツヒドリル 7− ((Z)−2−(1−ベンツ
ヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチルオキシ
イミノ)−2−(2−トリチルアミノデアゾール−4−
イル)アセトアミド) −3−(6゜7−シヒドロキシ
ー1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリン−2−イ
ル)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 (C)で得た化合物39 (2,47ミリモル)をジメ
チルボルムアミド307に溶解し、6.7−シヒドロキ
シー1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリン臭化水
素Fi塩913mg(3,71ミリモル)及びトリエチ
ルアミン17(7,17ミリモル)を室温で加えた。反
応溶液を40分間撹拌したのら、減圧下たジメチルホル
ムアミドを留去した。残漬に塩化メチレン80d及び水
407を加え、有V3層を無水硫酸ナトリウムで脱水し
たのら、減圧下に濃縮した。残留物をシリカゲルフラッ
シュカラムクロマトグラフィー(10〜30%アセトン
・塩化メチレン)にて分離精製し、粉末状の標記化合物
3g(若干ジメチルホルムアミドを含む)を得た。
)ペンツヒドリル 7− ((Z)−2−(1−ベンツ
ヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチルオキシ
イミノ)−2−(2−トリチルアミノデアゾール−4−
イル)アセトアミド) −3−(6゜7−シヒドロキシ
ー1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリン−2−イ
ル)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 (C)で得た化合物39 (2,47ミリモル)をジメ
チルボルムアミド307に溶解し、6.7−シヒドロキ
シー1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリン臭化水
素Fi塩913mg(3,71ミリモル)及びトリエチ
ルアミン17(7,17ミリモル)を室温で加えた。反
応溶液を40分間撹拌したのら、減圧下たジメチルホル
ムアミドを留去した。残漬に塩化メチレン80d及び水
407を加え、有V3層を無水硫酸ナトリウムで脱水し
たのら、減圧下に濃縮した。残留物をシリカゲルフラッ
シュカラムクロマトグラフィー(10〜30%アセトン
・塩化メチレン)にて分離精製し、粉末状の標記化合物
3g(若干ジメチルホルムアミドを含む)を得た。
IR(KBr) : 1800,1730,167
0,1530.1500゜1450、 t390.12
80.1180cm−1゜(E)ペンツヒドリル 7−
((Z)−2−(1−ベンツヒドリルオキシカルボニ
ル− ルオキシイミノ)−2−(2− トリチルアミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド) −3−(6。
0,1530.1500゜1450、 t390.12
80.1180cm−1゜(E)ペンツヒドリル 7−
((Z)−2−(1−ベンツヒドリルオキシカルボニ
ル− ルオキシイミノ)−2−(2− トリチルアミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド) −3−(6。
7−シヒドロキシー2−メチル−1.2,3.4−テト
ラヒドロ−2−イソキノリニウム)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート 1−オキサイド・ヨード塩 (D)で)qた化合物3!7をヨウ化メチル6−( 9
6. 3ミリモル)に溶解し、室温で1晩放置した。反
応溶液を減圧下に濃縮したのら,残渣にクロロホルム4
0d加えた。溶解後濃縮して標記化合物を得、精製する
ことなく次の反応に用いた。
ラヒドロ−2−イソキノリニウム)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート 1−オキサイド・ヨード塩 (D)で)qた化合物3!7をヨウ化メチル6−( 9
6. 3ミリモル)に溶解し、室温で1晩放置した。反
応溶液を減圧下に濃縮したのら,残渣にクロロホルム4
0d加えた。溶解後濃縮して標記化合物を得、精製する
ことなく次の反応に用いた。
(F)ペンツヒドリル 7− ( (z)−2−(1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチル
オキシイミノ) −2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド) −3−(6。
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチル
オキシイミノ) −2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド) −3−(6。
1−ジヒドロキシ−2−メチル−1.2,3.4−テト
ラヒドロ−2−イソキノリニウム)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート・ヨード塩 (E)で得た残漬をアセトン667!に溶解し、ヨウ化
カリウム2.05 g(12.3ミリモル)を加え、−
20℃でアセチルクロライド0.44 d (、 6.
19ミリモル)を滴下し、−10℃で1時間撹拌した。
ラヒドロ−2−イソキノリニウム)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート・ヨード塩 (E)で得た残漬をアセトン667!に溶解し、ヨウ化
カリウム2.05 g(12.3ミリモル)を加え、−
20℃でアセチルクロライド0.44 d (、 6.
19ミリモル)を滴下し、−10℃で1時間撹拌した。
再び一20℃としたのちヨウ化カリウム2.05 (j
(12.3ミリモル)及びアセチルクロライド0.44
dを加え一10℃で1時間撹拌、この操作を2回繰返し
た。反応液にクロロボルム240d及び水60−を加え
、有機層を水洗したのち、無水硫酸す1〜リウムで脱水
し、濃縮乾固して標記化合物の残渣を得た(精製するこ
となく次の反応に用いた)。
(12.3ミリモル)及びアセチルクロライド0.44
dを加え一10℃で1時間撹拌、この操作を2回繰返し
た。反応液にクロロボルム240d及び水60−を加え
、有機層を水洗したのち、無水硫酸す1〜リウムで脱水
し、濃縮乾固して標記化合物の残渣を得た(精製するこ
となく次の反応に用いた)。
(G) 7− ( (Z)−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−(1−カルボキシ−1−シクロペ
ンチルオキシイミノ)アセトアミド) −3−(6.7
−シヒドロキシー2−メチル−1.2,3.4−テトラ
ヒドロ−2−イソキノリニウム)メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレート (F)で得た残渣を塩化メチレン15d及びアニソール
1.5−に溶解したのち、水冷下、トリフルオロ酢M
15dを滴下した。同温で2時間撹拌したのら、減圧下
に溶媒を留去した。残留液にエーテル80dを加え沈澱
物を濾取した。この沈澱物を水300−に加え30分撹
拌したのち、不溶物を濾別した。濾液を逆相シリカゲル
カラムクロマ1−グラフィー(ODS, 100m 、
4%テトラヒドロフラン−水)にて分離精製し、凍結
乾燥して標記化合物290■(ジアステレオマーA,B
の混合物、(D)からの収率17.4%)を得た。
ル−4−イル)−2−(1−カルボキシ−1−シクロペ
ンチルオキシイミノ)アセトアミド) −3−(6.7
−シヒドロキシー2−メチル−1.2,3.4−テトラ
ヒドロ−2−イソキノリニウム)メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレート (F)で得た残渣を塩化メチレン15d及びアニソール
1.5−に溶解したのち、水冷下、トリフルオロ酢M
15dを滴下した。同温で2時間撹拌したのら、減圧下
に溶媒を留去した。残留液にエーテル80dを加え沈澱
物を濾取した。この沈澱物を水300−に加え30分撹
拌したのち、不溶物を濾別した。濾液を逆相シリカゲル
カラムクロマ1−グラフィー(ODS, 100m 、
4%テトラヒドロフラン−水)にて分離精製し、凍結
乾燥して標記化合物290■(ジアステレオマーA,B
の混合物、(D)からの収率17.4%)を得た。
融点: 181℃ (分解)
IR(にBr) : 1780,1660,162
0,1580,1400゜1360cm−1゜ NMR(DH3O−d6+ TFA)δ: 1.75(
4ft、brs) 。
0,1580,1400゜1360cm−1゜ NMR(DH3O−d6+ TFA)δ: 1.75(
4ft、brs) 。
2.1(4H,brs)、 3.0(3H,brs)
、 2.9〜4.8(1011,m) 、 5.4
(111,d、J−511z)。
、 2.9〜4.8(1011,m) 、 5.4
(111,d、J−511z)。
5.95(111,dd、J−5及び811Z)、
6.4(IH。
6.4(IH。
brs)、 6.65(111,s) 、 7.1
7(111,s)実施例 4 実施例3に記載した方法と同様な方法で7−((z)−
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(1−
カルボキシ−1−シクロブトキシイミノ)アセトアミド
)−3−(6,7−シヒドロキシー2−メチル−1,2
,3,4−デトラヒドロ −2−イソキノリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレートを得た。
7(111,s)実施例 4 実施例3に記載した方法と同様な方法で7−((z)−
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(1−
カルボキシ−1−シクロブトキシイミノ)アセトアミド
)−3−(6,7−シヒドロキシー2−メチル−1,2
,3,4−デトラヒドロ −2−イソキノリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレートを得た。
融点: 182℃ (分解)
IR(KBr) : 1780,1670,162
0,1530,1390゜1350、1280cm−1
゜ N)IR(0830−d6)δ: t、90(21−1
,m) 、 2.4(4It、m)、 2.95(
311,brs) 、 3.3〜5.2(1011
,m) 、 5.25 (111,d、J=51
1z)、 5.8(E、dd、J= 5及びallz
)、 6.55(111,brs)6.65(ill
、s) 、 6.8(Ill、s) 、 9.
7(111、d、J−8112) 発明の効果 本発明の化合物はグラム陰性菌、特にぶどう糖非発酵性
のシノードモナス・エルギノーザ、アシネトバクタ−・
カルコアセティカス等に有効であり、広範囲の抗菌スペ
クトルを有する。
0,1530,1390゜1350、1280cm−1
゜ N)IR(0830−d6)δ: t、90(21−1
,m) 、 2.4(4It、m)、 2.95(
311,brs) 、 3.3〜5.2(1011
,m) 、 5.25 (111,d、J=51
1z)、 5.8(E、dd、J= 5及びallz
)、 6.55(111,brs)6.65(ill
、s) 、 6.8(Ill、s) 、 9.
7(111、d、J−8112) 発明の効果 本発明の化合物はグラム陰性菌、特にぶどう糖非発酵性
のシノードモナス・エルギノーザ、アシネトバクタ−・
カルコアセティカス等に有効であり、広範囲の抗菌スペ
クトルを有する。
従って、これらの細菌感染症治療薬として期待される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はカルボキシル基により置換されていても
よい環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4
は同一でも異なつてもよく、それぞれ水素原子、水酸基
、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R^5は水素原子又はアミノ保護基、R^6は水
素原子又はカルボキシル保護基、R^7は保護されたカ
ルボキシル基により置換されていてもよい環状の低級ア
ルキル基、Xはハロゲン原子又は脱離基、YはS又はS
Oを示す)で表わされる化合物又はその塩を、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R^8、R^9及びR^1^0は同一でも異なつ
てもよく、それぞれ水素原子、保護されていてもよい水
酸基、メトキシ基又はアセトキシ基、R^1^1は水素
原子又はメチル基を示す)で表わされるアミンと反応さ
せて、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中R^5、R^6、R^7、R^8、R^9、R^
1^0、R^1^1及びYは前記の意味を有し、X^■
は陰イオンを示す)で表わされる化合物となし、これを
必要に応じ、メチル化及び/又は還元したのち、保護基
を除去することを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はカルボキシル基により置換されていても
よい環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4
は同一でも異なつてもよく、それぞれ水素原子、水酸基
、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
の製法。 3、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中R^6は水素原子又はカルボキシル保護基、R^
8、R^9及びR^1^1は同一でも異なつてもよく、
それぞれ水素原子、保護されていてもよい水酸基、メト
キシ基又はアセトキシ基、X^■は陰イオンを示す)で
表わされる化合物、その塩又はそのシリル化合物を、一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中R^5は水素原子又はアミノ保護基、R^7は保
護されたカルボキシル基により置換されていてもよい環
状の低級アルキル基を示す)で表わされるカルボン酸の
反応性誘導体によりアシル化して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中R^5、R^6、R^7、R^8、R^9、R^
1^0及びX^■は前記の意味を有する)で表わされる
化合物となし、次いで保護基を除去することを特徴とす
る、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はカルボキシル基により置換されていても
よい環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4
は同一でも異なつてもよく、それぞれ水素原子、水酸基
、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
の製法。 4、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はカルボキシル基により置換されていても
よい環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4
は同一でも異なつてもよく、それぞれ水素原子、水酸基
、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
を有効成分として含有する抗菌剤。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60171838A JPH06102668B2 (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 新規セフアロスポリン誘導体 |
DE8585114172T DE3581891D1 (de) | 1984-11-12 | 1985-11-07 | Cephalosporinderivate. |
AT85114172T ATE61058T1 (de) | 1984-11-12 | 1985-11-07 | Cephalosporinderivate. |
EP85114172A EP0182210B1 (en) | 1984-11-12 | 1985-11-07 | Cephalosporin derivatives |
CA000494936A CA1276140C (en) | 1984-11-12 | 1985-11-08 | Cephalosporin derivatives |
US06/796,187 US4742053A (en) | 1984-11-12 | 1985-11-08 | 3-Isoquinoliniomethyl cephalosporin derivatives |
CN85109545A CN1008738B (zh) | 1984-11-12 | 1985-11-11 | 头孢菌素衍生物的制备方法 |
ES548774A ES8705453A1 (es) | 1984-11-12 | 1985-11-11 | Un procedimiento para la preparacion de derivados de cefalosporina. |
KR1019850008449A KR930005588B1 (ko) | 1984-11-12 | 1985-11-12 | 세팔로스포린 유도체의 제조방법 |
ES556786A ES8707541A1 (es) | 1984-11-12 | 1986-06-25 | Un procedimiento para la preparacion de derivados de cefalosporina |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60171838A JPH06102668B2 (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 新規セフアロスポリン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6233186A true JPS6233186A (ja) | 1987-02-13 |
JPH06102668B2 JPH06102668B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=15930691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60171838A Expired - Lifetime JPH06102668B2 (ja) | 1984-11-12 | 1985-08-06 | 新規セフアロスポリン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06102668B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5353690A (en) * | 1976-10-01 | 1978-05-16 | Glaxo Lab Ltd | Production of antiibacterial compound |
JPS58174387A (ja) * | 1982-03-04 | 1983-10-13 | Bristol Mayers Kenkyusho Kk | 化学化合物 |
-
1985
- 1985-08-06 JP JP60171838A patent/JPH06102668B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5353690A (en) * | 1976-10-01 | 1978-05-16 | Glaxo Lab Ltd | Production of antiibacterial compound |
JPS58174387A (ja) * | 1982-03-04 | 1983-10-13 | Bristol Mayers Kenkyusho Kk | 化学化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06102668B2 (ja) | 1994-12-14 |
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