JPS6232761A - Contact type image sensor - Google Patents
Contact type image sensorInfo
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- JPS6232761A JPS6232761A JP60172678A JP17267885A JPS6232761A JP S6232761 A JPS6232761 A JP S6232761A JP 60172678 A JP60172678 A JP 60172678A JP 17267885 A JP17267885 A JP 17267885A JP S6232761 A JPS6232761 A JP S6232761A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ファクシミリ、光学文字認識および複写機等
の光電変換デバイスとして用いられる密着形イメージセ
ンサに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a contact image sensor used as a photoelectric conversion device in facsimiles, optical character recognition, copying machines, and the like.
(従来技術とその問題点)
密着形イメージセンサは、MO8型ICイメージセンサ
やCCDイメージセンサ等と比較して、レンズによる縮
小光学系を用いないため、ファクシミリ装置等を小型に
実現でき経済性に優れている。(Prior art and its problems) Compared to MO8 type IC image sensors, CCD image sensors, etc., contact type image sensors do not use a reduction optical system using lenses, so facsimile machines etc. can be made smaller and more economical. Are better.
この密着形イメージセンサの光電変換素子材料としては
、可視光領域で光感度が高く、大面積形成が容易なアモ
ルファスシリコン(以下a−8i ト記す。)が、最近
よく使われている。As a photoelectric conversion element material for this contact type image sensor, amorphous silicon (hereinafter referred to as a-8i), which has high photosensitivity in the visible light region and can be easily formed in a large area, has recently been frequently used.
このa−8iは、比抵抗が高く、CCDイメージセンサ
やMOS型イメージセンサと同様に、W、荷蓄積モード
動作に適している。この場合5通常その素子構造として
は、a−8iを上下IKでサンドイッ千した構造が用ら
れるが、この様なサンドイノ千構造を採用することによ
り、素子の光応答速度も、0.1 m5ec以下という
高速性が実現でき。This a-8i has a high specific resistance and is suitable for W, load accumulation mode operation like a CCD image sensor or a MOS image sensor. In this case5, the element structure is usually a structure in which a-8i is sandwiched between upper and lower IKs, but by adopting such a sandwich structure, the optical response speed of the element is also 0.1 m5ec or less. This high speed can be achieved.
高速読み取り装置に適するイメージセンサが得られる。An image sensor suitable for high-speed reading devices can be obtained.
このa−8i光電変換素子で発生した光信号電荷を高速
で効率よく高感度に読み取ることができる、駆動回路と
して、特願昭59−143020 「苫着形イメージセ
ンサとその駆動方法」に示されるCCD駆動回路がある
。この回路を用いた密着形イメージセンサの構成は、第
3図により示される。この図を簡単に説明すると、CC
Dシフトレジスタ21゜トランスファーゲート列22.
およびフローティングゲートアンプ23から少なくとも
構成された駆動用CCD20の入力端子列24と例えば
ガラス基板26上に形成されたa−8t光電変換素子2
5の個別電極端子例27が、ボンデングワイヤー28で
1対1に対応して接続されている。A drive circuit that can read the optical signal charges generated by this A-8i photoelectric conversion element at high speed, efficiency, and high sensitivity is shown in Japanese Patent Application No. 59-143020, ``Fixed type image sensor and its driving method.'' There is a CCD drive circuit. The structure of a contact type image sensor using this circuit is shown in FIG. To briefly explain this diagram, CC
D shift register 21° transfer gate row 22.
and an input terminal row 24 of the driving CCD 20 which includes at least a floating gate amplifier 23 and an A-8T photoelectric conversion element 2 formed on a glass substrate 26, for example.
Five individual electrode terminal examples 27 are connected in a one-to-one correspondence with bonding wires 28.
a−8t光電変換素子25で発生した光信号電荷が、ト
ランスファーゲート22を通してccDシフトレジスタ
21に送られた後、転送用クロックφ1.φ2により順
次時系列に転送され、70−テイングゲートアンブ23
を通して出方される。After the optical signal charge generated by the a-8t photoelectric conversion element 25 is sent to the CCD shift register 21 through the transfer gate 22, the transfer clock φ1. Transferred sequentially in chronological order by φ2,
It will be released through.
この駆動用CCDチップ2oは、その歩留まり等から考
慮して、普通64ビツト/千ツブあるいは128ビツト
/チツプ等から構成されてなる。This driving CCD chip 2o is usually composed of 64 bits/1,000 chips or 128 bits/chip, considering its yield and the like.
密着形イメージセンサは、A4判あるいは84判等で数
千ビットあるいはそれ以上の多数の素子からなる。従っ
て、第3図に示した構成例は、駆動用CCDチップ20
の1個だけの例であるが実際には復数個並ぶ。例えば、
128ビツト/チツプCCDJk動千ツブによりA4判
、8累子/簿舅の密着形イメージセンサを動作させる場
合、14個のチップが必要である。この14個は、通常
第3図に示した1個の例と同様に同一ガラス基板上にハ
イブリッド的に実装される〇
また、駆動上必要な各チップ毎のクロック端子や出力端
子等の入出力端子列29は、信頼性の面から及び外部接
続を簡略化する意味から、特願昭59−164445r
密着形イメージセンサとその駆動方法」に示される様に
共通に接続している。The contact type image sensor is A4 size or 84 size, etc., and consists of a large number of elements of several thousand bits or more. Therefore, the configuration example shown in FIG.
This is an example of only one item, but in reality, several items are lined up. for example,
If a 128-bit/chip CCDJk moving block is used to operate an A4-size, 8-fold, close-contact type image sensor, 14 chips are required. These 14 chips are usually mounted in a hybrid manner on the same glass substrate, similar to the example shown in Figure 3.In addition, the clock terminals and output terminals of each chip necessary for driving are input/output. The terminal row 29 is designed in accordance with Japanese Patent Application No. 59-164445R from the viewpoint of reliability and to simplify external connections.
They are commonly connected as shown in "Contact Image Sensor and Its Driving Method".
ところが、これらの駆動用CCDチップ2oが。However, these driving CCD chips 2o.
無差別に選択されて搭載された場合、チップ間でのフロ
ーティングゲートアンプの特性のばらつきにより直流オ
フセットレベルが、約1v程度ばらつくのは普通である
。ところで、通常のCCD設計においては、明出力を約
1v程度に設定する。When randomly selected and mounted, the DC offset level usually varies by about 1 V due to variations in characteristics of floating gate amplifiers between chips. By the way, in a normal CCD design, the bright output is set to about 1V.
従って、第4図に示す様に、密着形イメージセンサ全体
の出力波形は、チップ間の直流オフセットの違いにより
、段差を持った波形となり、とても二値化あるいは中間
調読み取り等の信号処理は行なえない。Therefore, as shown in Figure 4, the output waveform of the entire contact type image sensor becomes a waveform with steps due to the difference in DC offset between chips, making it difficult to perform signal processing such as binarization or halftone reading. do not have.
メモリーで直流オフセット分を考慮して、波形処理を行
なうこともできるが、波形は、各デバイスによって、ま
ちまちである事やメモリー等の余分な回路を必要とする
ので、小型化、低コスト化は達成できなくなる。It is possible to process waveforms using memory, taking DC offset into account, but the waveforms vary depending on each device, and extra circuits such as memory are required, so it is difficult to reduce size and cost. become unattainable.
さらに、この様なハイブリッドCCD駆動型では、どう
しても、その素子容量が大きくなるため生ずる残像が問
題となる。この残像を効果的に抑圧する方法として、以
前に特願昭59−164445[密着、形イメージセン
サとその駆動方法]に示した様にバイアス電荷を注入す
る方法を提案していた。この方法では、信号出方にバイ
アス電荷分も混入するために、一種の直流オフセットを
形成する。例えば、この電荷量も明出力に匹敵する場合
がある。一定の電荷量を注入しても各チップ間でのフロ
ーティングゲートアンプのゲインのばらつきを考慮する
と、例えば1v程度の信号出力に対して0.3 V程度
はばらついてしまう。Furthermore, in such a hybrid CCD drive type, the element capacitance becomes large, so that afterimages occur, which becomes a problem. As a method for effectively suppressing this afterimage, a method of injecting a bias charge was previously proposed as shown in Japanese Patent Application No. 164445/1983 [Contact image sensor and its driving method]. In this method, a type of DC offset is formed because a bias charge is also mixed into the signal output side. For example, this amount of charge may also be comparable to bright output. Even if a fixed amount of charge is injected, considering the variation in the gain of the floating gate amplifier between chips, the signal output will vary by about 0.3 V for a signal output of about 1 V, for example.
以上の様に、ハイブリッドCCD駆動型では、出力信号
として直流オフセットのばらつきとバイアス電荷に相当
するバイアス出方のばらつきが発生し、そのままでは使
用できないあるいは1周辺回路を非常に複雑Iこする等
大きな問題があった。As mentioned above, in the hybrid CCD drive type, variations in the DC offset and variations in the bias output corresponding to the bias charge occur in the output signal, and it may not be possible to use it as is, or it may cause a large amount of damage, such as causing extremely complicated damage to one peripheral circuit. There was a problem.
(発明の目的)
本発明の目的は、この様な欠点を取り除き1周辺の信号
処理回路に負担をかけることなく a−8i光電変換素
子とCCD駆動ICを用いた高性能な密着形イメージセ
ンサを提供することにある。(Object of the Invention) The object of the present invention is to eliminate such drawbacks and to provide a high-performance contact type image sensor using an A-8I photoelectric conversion element and a CCD drive IC without placing a burden on the peripheral signal processing circuit. It is about providing.
(発明の植成)
本発明によれば、複数個からなる光電変換素子列と、ト
ランスファーゲート、CCDシフトレジスタ、出力アン
プ、スイッチング回路および電荷を注入する入力機構と
から少なくとも構成された1個以上の駆動集積回路絶縁
性基板上にを少なくとも備えてなる密着形イメージセン
サにおいて、前記駆動集積回路内に、複数段のトランス
ファーゲートとこのmA段のトランスファーゲートに接
続されてなる複数段のCCDシフトレジスタとこの複数
段のCCDシフトレジスタに接続されてなる出力アンプ
とこの出力アンプの後段に設けてなるスイッチング回路
および前記複数段のCCDシフトレジスタの初段に電気
的に電荷を注入する入力機構とから少なくとも構成され
た主および副CCD駆動回路を設けてなり、前記主CC
D駆動回路の前記複数段のトランスファーゲートの入力
が前記複数個の光電変換素子列に接続されてなり、さら
に前記絶縁性基板上に前記主および副CCD駆動回路の
前記スイッチング回路からの出力をそれぞれ取出す主お
よび副出力線とを少なくとも備えてなることを特徴とし
ている。(Embedding of the Invention) According to the present invention, one or more photoelectric conversion element arrays each including at least a plurality of photoelectric conversion element arrays, a transfer gate, a CCD shift register, an output amplifier, a switching circuit, and an input mechanism for injecting charge. A contact image sensor comprising at least a driving integrated circuit on an insulating substrate, wherein the driving integrated circuit includes a plurality of stages of transfer gates and a plurality of stages of CCD shift registers connected to the mA stage transfer gate. At least an output amplifier connected to the plurality of stages of CCD shift registers, a switching circuit provided after the output amplifier, and an input mechanism for electrically injecting charge into the first stage of the plurality of stages of CCD shift registers. main and sub-CCD drive circuits configured,
The inputs of the plurality of stages of transfer gates of the D drive circuit are connected to the plurality of photoelectric conversion element arrays, and the outputs from the switching circuits of the main and sub CCD drive circuits are connected to the insulating substrate, respectively. It is characterized in that it comprises at least main and sub-output lines to be taken out.
(発明の作用、原U)
本発明では、1個以上とりわけ実用的にはM数個の駆動
CCD千ツブを使用した密着形イメージセンサにおいて
、11*、オフセットレベルやバイアス出力を差動消去
するための副CCDt’?に勤回路を各CCDチノプブ
σに内蔵する構成をとっている。(Operation of the invention, original U) In the present invention, in a close-contact image sensor using one or more driving CCDs, particularly practically M several, 11*, offset levels and bias outputs are differentially canceled. Secondary CCDt'? Each CCD tinopub σ has a built-in circuit.
上記構成では、同チップ内、しかも近辺に内蔵可能なた
め、主CCD駆勃回路と副CCD駆動回路間のばらつき
がほとんど無く、上述したオフセットやバイアス出力そ
れにCCDシフトレジスタ内で発生する暗電流や雑音等
の値に差がない。In the above configuration, since it can be built in the same chip and close to each other, there is almost no variation between the main CCD drive circuit and the sub CCD drive circuit, and the dark current generated in the offset, bias output, and CCD shift register is eliminated. There is no difference in the values of noise, etc.
従って、これらの差動をとることにより各千ノブ間のば
らつきはなくなり、密着形イメージセンサ全体の出力波
形は、オフセットの無いグランドからの絶対値としての
純粋な明出力が得られる。Therefore, by making these differentials, variations between the 1,000 knobs are eliminated, and the output waveform of the entire contact type image sensor is a pure bright output as an absolute value from the ground without offset.
また、IF+f出力も水力抑圧できCCDICイメージ
センサと変わることのない高性能な¥M電着形メージセ
ンサを達成できる。Furthermore, the IF+f output can also be hydraulically suppressed, making it possible to achieve a high-performance ¥M electrodeposition type image sensor that is no different from a CCDIC image sensor.
(実施例) 以下、本発明を図面により詳細に説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.
第1図は、不発明の一実施例による密着形イメージセン
サの構成を示すものである。各駆動CCDチップ1は1
例えば128段のCCDシフトレジスタ2の転送段より
構成されている。この128段の 続接続されたCCD
シフトレジスタ2は、例えば転送効率の誦い皿込みチャ
ネルCC1)シフトレジスタ(以下単にCCDシフトレ
ジスタと呼ぶ)で構成されている。各段には1対11こ
同以段のトランスファーゲート3が接続さイt、その入
力側には1例えばガラス基板4上に形敗さ2tたa−8
i光電変挨素子5がボンディングワイヤー6により1対
1に接続されている。このa−8i九旺変快素子5は、
Au等の個別電極7とIndium Tin 0xi
de(以下ITOと呼ぶ)等からなる透明共通電極8で
はさまれたa−8t薄膜から構成されている。FIG. 1 shows the structure of a contact type image sensor according to an embodiment of the invention. Each driving CCD chip 1 is 1
For example, it is composed of transfer stages of a 128-stage CCD shift register 2. These 128 stages of CCDs are connected in series.
The shift register 2 is composed of, for example, a transfer efficiency channel CC1 shift register (hereinafter simply referred to as a CCD shift register). Transfer gates 3 of 1 to 11 or more stages are connected to each stage, and on the input side thereof, 1, for example, a 2t a-8 is mounted on a glass substrate 4.
The i-photoelectric transformation elements 5 are connected one-to-one by bonding wires 6. This a-8i nine-way change element 5 is,
Individual electrodes 7 made of Au etc. and Indium Tin 0xi
It is composed of an A-8T thin film sandwiched between transparent common electrodes 8 made of DE (hereinafter referred to as ITO) or the like.
このa−8i光電変換素子5で発生した信号電荷は。The signal charges generated in this a-8i photoelectric conversion element 5 are as follows.
トランスファーゲート3を通し、各々対応したCCDシ
フトレジスタ2内へ転送される。その後。The signals are transferred to the corresponding CCD shift registers 2 through the transfer gates 3. after that.
転送用クロックにより1例えば2相クロツクの場合は、
クロック周期毎に蓄産されていた411号電荷は1次段
へ順次転送され、時系列信号として取り出される。For example, if the transfer clock is a 2-phase clock,
Charge No. 411 accumulated in each clock cycle is sequentially transferred to the primary stage and taken out as a time-series signal.
尚、この時前もって残像抑圧効果を高めるためのバイア
ス電荷が、バイアス電荷入力部9よりCCDシフトレジ
スタ2に、CCI)シフトレジスタ2からa−8L光な
変換素子5側に注入され、信号電荷と共に再びCCDシ
フトレジスタ2内へ移さね、る。At this time, bias charges to enhance the afterimage suppression effect are injected in advance from the bias charge input section 9 into the CCD shift register 2, and from the CCI) shift register 2 to the a-8L optical conversion element 5 side, and are injected together with the signal charges. Move it into the CCD shift register 2 again.
CCDシフトレジスタ2から出力される時系列信号は、
70−ティングゲートアンプ10により電圧出力として
出力切換えスイッチ11を通して主力812に現われる
、この時、同じチップ1上には、同じ様な配置、構成等
により副の128段のCCDシフトレジスタ18,12
8段のトランスファーゲート13、バイアス電荷入力部
14゜フローティングゲートアンプ15、スイッチ16
機能を持っており、前述した様な信号電荷と同じタイミ
ングで副出力線17に出力される。この出力値は、はぼ
暗時の主出力線12の出力値と同じである。The time series signal output from the CCD shift register 2 is
A voltage output from the 70-ting gate amplifier 10 is output to the main power source 812 through the output changeover switch 11. At this time, on the same chip 1, there are sub-128-stage CCD shift registers 18 and 12 with the same arrangement and configuration.
8-stage transfer gate 13, bias charge input section 14° floating gate amplifier 15, switch 16
It has a function and is outputted to the sub-output line 17 at the same timing as the signal charge as described above. This output value is the same as the output value of the main output line 12 when it is dark.
この様な、例えば128段/チップの各6駆動CCD千
ツブ1が5例えばA4判、8素子/闘密涜形イメージセ
ンサの場合、14個ガラス基板4上に実装され1図示し
ていないが、転送用クロック、トランスファーゲートや
出力切換スイッチ用ゲート端子等及び前記主出力線12
、副出力線17等のお互いに共通な端子同志は結線され
ている。主出力線12と副出力線17からのそれぞれの
信号出力は、外部の差動アンプに入力される。For example, in the case of an A4-sized, 8-element/Totoku-type image sensor, in which 128 stages/chip, 6 drive CCDs 1 each have 5, 128 stages/chip, 14 CCDs are mounted on the glass substrate 4, and one is not shown in the figure. , a transfer clock, a transfer gate, a gate terminal for an output changeover switch, etc., and the main output line 12.
, the sub-output line 17, and other common terminals are connected to each other. The respective signal outputs from the main output line 12 and the sub output line 17 are input to an external differential amplifier.
第2図(a)(b)および(e)には、主出力縁12.
副出力線17およびこの2出力線の差動後の出力波形の
一例を示す。前述した様に主出力+M 121こ現われ
る出力波形は、直流オフセット、リセットパルスによる
リセット雑0、バイアス出力および明信号出力等から構
成され1、g1j出力線17には、直流オフセット、リ
セットノイズ及びバイアス出力等が現われる。これらの
波形は、第2図に見られる様に各チップ間ではばらつい
ているが、同チップ上の主および同量には通常のLSI
チップと同様はとんどはらつきが無い。従って、最終的
な出力波形は、純粋な明信号出力のみが得られ、しかも
後の信号処理に非常に便利なグラウンドレベルからの絶
対値として出力される。2(a), (b) and (e), the main output edge 12.
An example of the output waveform after differential of the sub output line 17 and these two output lines is shown. As mentioned above, the output waveform appearing on the main output +M121 is composed of DC offset, reset noise 0 due to reset pulse, bias output, bright signal output, etc. 1, and g1j output line 17 has DC offset, reset noise, and bias. Output etc. appears. These waveforms vary among each chip as seen in Figure 2, but the main and the same amount on the same chip are normal LSI
Like chips, there is almost no fluctuation. Therefore, the final output waveform is output as an absolute value from the ground level, which provides only a pure bright signal output and is very convenient for subsequent signal processing.
尚、a−8t光電変換累子内で発生する暗電流成分はキ
ャンセルできないが、この値は1通常の使用時では、明
信号出力に比べ約1 / 1000 S下と小さいため
問題とならない。また、CCUCCシフトレジスタ発生
する暗電流や転送効率を考えると、本発明の様に、差動
用のCCDシフトレジスタやトランスファーゲートを同
数設けた方が良いが、この唾も直流オフセットやフロー
ティングゲートアンプのばらつきに比べはるかに小さく
、先の素子の暗ME流成分と同様問題とならない。この
ため、チップ上の配置、構成等の制限を受ける場合には
、差動用の段数は、1段でも差しつかえなく、またその
効果もほとんど変わらない。It should be noted that although the dark current component generated within the A-8T photoelectric conversion element cannot be canceled, this value does not pose a problem since it is small, about 1/1000 S lower than the bright signal output during normal use. Also, considering the dark current generated by the CCUCC shift register and the transfer efficiency, it is better to provide the same number of differential CCD shift registers and transfer gates as in the present invention, but this also applies to DC offset and floating gate amplifiers. This is much smaller than the variation in , and does not pose a problem like the dark ME flow component in the previous element. Therefore, if there are restrictions on the arrangement, configuration, etc. on the chip, the number of differential stages may be one, and the effect will be almost the same.
(発明の効果)
以上詳述した様に本発明によれば、複数のCCD駆動回
路を用いたa−8t密着形イメージセンサにおいて問題
であった、チップ間の直流オフセットやフローティング
ゲートアンプ等のばらつきIこより発生する雑音を、メ
モリー等の複雑な回路構成を必要とせず1本来のCCD
、駆動回路と同じ設計、同じプロセスで簡便に構成でき
る副の回路を各チップ上に設けることにより効果的に抑
圧し、本来のCCD I Cイメージセンサと同様ある
いはそれ以上の低雑音化が達成できるという効果がある
。従りて、従来CCDICイメージセンサを使用してい
た高速、高性能なファクシミリ、OCRおよび複写機等
の装置への応用も可能となり、しかもその装置の小型化
に大きく寄与できる密着形イメージセンサが達成できる
という利点がある。(Effects of the Invention) As detailed above, according to the present invention, variations in DC offset between chips, floating gate amplifiers, etc., which were problems in the A-8T contact type image sensor using multiple CCD drive circuits. The noise generated by the I
By providing a sub-circuit on each chip that can be easily configured with the same design and process as the drive circuit, it is possible to effectively suppress noise and achieve a noise reduction that is equal to or even lower than that of the original CCD IC image sensor. There is an effect. Therefore, it has become possible to apply it to devices such as high-speed, high-performance facsimile, OCR, and copying machines that conventionally used CCDIC image sensors, and has achieved a close-contact image sensor that can greatly contribute to the miniaturization of such devices. It has the advantage of being possible.
第1図は、本発明の実施例を示す斜視図、第2図は1本
発明の動作を示す出力波形図、第3図は従来例を示す斜
視図、第4図は、従来の出力波形を示す図である。
1.20・・・駆動用CCDチップ、
2.21・・・CCDシフトレジスタ、3.22・・・
トランスファーゲート、4.26・・・ガラス基板、5
,25・・・光電変換素子、6.28・・・ボンディン
グワイヤー、7.27・・・個別電極、 8・・・共
通電極、9・・・バイアス電荷入力部、
10.23・・70−ティングゲートアンプ。
11・・・出力切換え用スイッチ、
12・・・主出力縁、 13・・・副トランスファ
=’7’−ト14・・・副バイアス電荷入力部、
15・・・副フローティングゲートアンプ、16・・・
副出力切換えスイッチ、
17・・・副出力線、18・・・員IJ CCDシフト
レジスタ24・・・入力端子、29・・・入出力端子。Fig. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is an output waveform diagram showing the operation of the present invention, Fig. 3 is a perspective view showing a conventional example, and Fig. 4 is a conventional output waveform. FIG. 1.20...Drive CCD chip, 2.21...CCD shift register, 3.22...
Transfer gate, 4.26...Glass substrate, 5
, 25... Photoelectric conversion element, 6.28... Bonding wire, 7.27... Individual electrode, 8... Common electrode, 9... Bias charge input section, 10.23... 70- tinggate amplifier. DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... Output switching switch, 12... Main output edge, 13... Sub transfer='7'-to 14... Sub bias charge input section, 15... Sub floating gate amplifier, 16...・・・
Sub-output selector switch, 17... Sub-output line, 18... Member IJ CCD shift register 24... Input terminal, 29... Input/output terminal.
Claims (1)
ト、CCDシフトレジスタ、出力アンプ、スイッチング
回路、および電荷を注入する入力機構とから少なくとも
構成された1個以上の駆動集積回路を絶縁性基板上に少
なくとも備えている密着形イメージセンサにおいて、 前記駆動集積回路内に、複数段のトランスファーゲート
とこの複数段のトランスファーゲートに接続されてなる
複数段のCCDシフトレジスタとこの複数段のCCDシ
フトレジスタに接続されてなる出力アンプとこの出力ア
ンプの後段に設けてなるスイッチング回路および前記複
数段のCCDシフトレジスタの初段に電気的に電荷を注
入する入力機構とから少なくとも構成された主および副
CCD駆動回路を設けてなり、前記主CCD駆動回路の
前記複数段のトランスファーゲートの入力が前記複数個
の光電変換素子列に接続されてなり、さらに前記絶縁性
基板上に前記主および副CCD駆動回路の前記スイッチ
ング回路からの出力をそれぞれ取出す主および副出力線
とを少なくとも備えてなることを特徴とした密着形イメ
ージセンサ。[Claims] One or more driving integrated circuits each including at least a plurality of photoelectric conversion element arrays, a transfer gate, a CCD shift register, an output amplifier, a switching circuit, and an input mechanism for injecting charge. In a contact image sensor provided at least on an insulating substrate, the driving integrated circuit includes a plurality of transfer gates, a plurality of CCD shift registers connected to the plurality of transfer gates, and a plurality of CCD shift registers connected to the plurality of transfer gates. A main circuit comprising at least an output amplifier connected to a CCD shift register, a switching circuit provided after the output amplifier, and an input mechanism for electrically injecting charge into the first stage of the plurality of stages of CCD shift registers. A sub CCD drive circuit is provided, the inputs of the plurality of stages of transfer gates of the main CCD drive circuit are connected to the plurality of photoelectric conversion element arrays, and further the main and sub CCDs are arranged on the insulating substrate. A contact type image sensor comprising at least main and sub output lines for respectively taking out outputs from the switching circuit of a drive circuit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60172678A JPS6232761A (en) | 1985-08-05 | 1985-08-05 | Contact type image sensor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60172678A JPS6232761A (en) | 1985-08-05 | 1985-08-05 | Contact type image sensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6232761A true JPS6232761A (en) | 1987-02-12 |
JPH0584971B2 JPH0584971B2 (en) | 1993-12-03 |
Family
ID=15946335
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60172678A Granted JPS6232761A (en) | 1985-08-05 | 1985-08-05 | Contact type image sensor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6232761A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63124666A (en) * | 1986-11-14 | 1988-05-28 | Canon Inc | Picture reader |
US5235375A (en) * | 1990-04-12 | 1993-08-10 | Olympus Optical Co., Ltd. | Focusing position detecting and automatic focusing apparatus with optimal focusing position calculation method |
US6558230B2 (en) | 2000-06-23 | 2003-05-06 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Method for polishing and chamfering rare earth alloy, and method and machine for sorting out ball media |
US11016279B2 (en) | 2016-07-11 | 2021-05-25 | Olympus Corporation | Observation device |
-
1985
- 1985-08-05 JP JP60172678A patent/JPS6232761A/en active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63124666A (en) * | 1986-11-14 | 1988-05-28 | Canon Inc | Picture reader |
US5235375A (en) * | 1990-04-12 | 1993-08-10 | Olympus Optical Co., Ltd. | Focusing position detecting and automatic focusing apparatus with optimal focusing position calculation method |
US6558230B2 (en) | 2000-06-23 | 2003-05-06 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Method for polishing and chamfering rare earth alloy, and method and machine for sorting out ball media |
US11016279B2 (en) | 2016-07-11 | 2021-05-25 | Olympus Corporation | Observation device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0584971B2 (en) | 1993-12-03 |
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