JPS62277617A - 耐摩耗性磁気記録体 - Google Patents
耐摩耗性磁気記録体Info
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- JPS62277617A JPS62277617A JP61119108A JP11910886A JPS62277617A JP S62277617 A JPS62277617 A JP S62277617A JP 61119108 A JP61119108 A JP 61119108A JP 11910886 A JP11910886 A JP 11910886A JP S62277617 A JPS62277617 A JP S62277617A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
五 発明の詳細な説明
（産業上の利用分野）
本発明は、炭素質膜を表面保護膜として有する耐摩耗性
磁気記録体に関する。
磁気記録体に関する。
（従来の技術）
従来、炭化水素ガスのプラズマＯＶＤ法でつくられた炭
素質膜を耐摩耗性保護膜として有する耐摩耗性磁気記録
体は公知である。
素質膜を耐摩耗性保護膜として有する耐摩耗性磁気記録
体は公知である。
（発明が解決しようとする問題点）
上記従来の磁気記録体は、Ｍｎ−Ｚｎフェライトのモノ
リシックヘッドでは、すぐれた耐摩耗性を示すが、スラ
イダーとして０ａＴｉＯ１やＡ４Ｄｍ・ＴｉＯのような
硬質のセラミックスを材料として用いる八−ドディスク
用複合ヘッドや薄膜ヘッドでは１１作用中にＭ撚係数が
急激に上昇し、ヘッドがディスクに吸着してしまうかデ
ィスクにきずが付いてしまうことがしばしばであった。
リシックヘッドでは、すぐれた耐摩耗性を示すが、スラ
イダーとして０ａＴｉＯ１やＡ４Ｄｍ・ＴｉＯのような
硬質のセラミックスを材料として用いる八−ドディスク
用複合ヘッドや薄膜ヘッドでは１１作用中にＭ撚係数が
急激に上昇し、ヘッドがディスクに吸着してしまうかデ
ィスクにきずが付いてしまうことがしばしばであった。
又、該磁気記録体は、テープやフレキシブルディスクに
おいても耐摩耗性の点で問題が多く、実用上不適であ慝
・ ｃ問題を解決するための手段） 本発明は、上記゛従来の炭素質膜を表面保護膜として備
える耐摩耗性磁気記録体の欠点を解消し、 ０ａＴｉｏ
ｓやＡｊ！、Ｏ，−ＴｉＯのような硬質な材料を用いた
ヘッドにも優れた耐摩耗性を示す耐摩耗性磁気記録体を
提供するもので、非磁性基材面く形成し九磁性膜面上に
、比較的硬質の炭素質膜下層と比較的軟質の炭素質膜上
層を形成して成る耐摩耗性磁気記録体において、該下層
は、水素原子又はフッ素原子を含有せしめる場合は、各
原子単独或はこれら両原子の合計で約５ ａｔ％まで含
有し、該上Ｎは１水素原子又はフッ素原子単独で或はこ
れら両原子の合計約６ ａｔ％以上を含有することを特
徴とする。
おいても耐摩耗性の点で問題が多く、実用上不適であ慝
・ ｃ問題を解決するための手段） 本発明は、上記゛従来の炭素質膜を表面保護膜として備
える耐摩耗性磁気記録体の欠点を解消し、 ０ａＴｉｏ
ｓやＡｊ！、Ｏ，−ＴｉＯのような硬質な材料を用いた
ヘッドにも優れた耐摩耗性を示す耐摩耗性磁気記録体を
提供するもので、非磁性基材面く形成し九磁性膜面上に
、比較的硬質の炭素質膜下層と比較的軟質の炭素質膜上
層を形成して成る耐摩耗性磁気記録体において、該下層
は、水素原子又はフッ素原子を含有せしめる場合は、各
原子単独或はこれら両原子の合計で約５ ａｔ％まで含
有し、該上Ｎは１水素原子又はフッ素原子単独で或はこ
れら両原子の合計約６ ａｔ％以上を含有することを特
徴とする。
（実施例）
次に本発明の実施例てつき詳述する。
非磁性基材面に磁性膜を形成したテープ、ディスク等の
磁気記録体を、耐摩耗性を付与するため、プラズマ−Ｃ
ＩＶＤ法によりその磁性膜の表面に、炭素質膜を形成す
る場合、その処理室に導入する炭化水素系ガス、７ツ化
炭素系ガス、或はこれらの混合ガスの圧力、放１！電圧
の変化などＫよってその生成する炭素質膜の性状、即ち
、その硬度、摩擦係数、潤滑性などの異なるものが得ら
れることが多くの実験の結果認められ、このときのガス
圧の条件を利用して性質の異なる上下２層の炭素質膜で
保護した耐摩耗性磁気記録体の製造法を先に提案した。
磁気記録体を、耐摩耗性を付与するため、プラズマ−Ｃ
ＩＶＤ法によりその磁性膜の表面に、炭素質膜を形成す
る場合、その処理室に導入する炭化水素系ガス、７ツ化
炭素系ガス、或はこれらの混合ガスの圧力、放１！電圧
の変化などＫよってその生成する炭素質膜の性状、即ち
、その硬度、摩擦係数、潤滑性などの異なるものが得ら
れることが多くの実験の結果認められ、このときのガス
圧の条件を利用して性質の異なる上下２層の炭素質膜で
保護した耐摩耗性磁気記録体の製造法を先に提案した。
（特願昭６１−２２９７８号）。
本願の発明は、か＼る製造条件−とけ別の観点より、即
ち、上下２層の炭素質膜の水素、フッ素の含有量の観点
より検討して、その夫々の特性を備えた耐摩耗性磁気記
録体を開発した。これを更に詳述する。
ち、上下２層の炭素質膜の水素、フッ素の含有量の観点
より検討して、その夫々の特性を備えた耐摩耗性磁気記
録体を開発した。これを更に詳述する。
Ｎｔｐ／Ａｌディスク基材上に、０ｏｋｌＬＱｒ／ Ｏ
ｒの２層から成る磁性膜をスパッタ法により形成したハ
ードディスクを多数用意し、このディスクｔ−，へ鳥ガ
ス％０１馬ガス１７０％−４＋５０％Ｏｓ ｌ’ａの混
合ガスの３種類のガスを用いＤＣ放電のプラズマ−０Ｖ
Ｄ法を行なった。この場合、導入ガス圧は１×１０〜１
トールの範囲内で、電圧Ｆｉ−１００〜−′５ｏｏｏｖ
の範囲内でそのいづれか１方又は両方の値を色々に変え
てＨ又ｒｉｌｌ単独或ＶｉＨと１の合計の含有量を異に
した炭素質の単層膜をもつ耐摩耗性磁気記録体ディスク
を作成し、前記元素の含有量と炭素質膜の耐摩耗性との
関係を検討した。膜中のＨ及び？の定 量には、赤外
線吸収スペクトルよりＯ−Ｈ結合及びＯ−７結合による
吸収スペクトルにより求め友。耐摩耗性の評価は、夫々
のディスクを４５ ｒｐｍで回転し、Ａ４０！−ＴｉＯ
スライダーを用いた３５７０型ヘツドを使用してヘッド
荷重を３２９加えて、５５００回（２時間）連続的だ摩
擦係数を測定した（加速試験）。更に夫々のディスクに
ついてＯ３Ｓテストを行なった。尚、夫々の生成膜厚は
全て６００人とした。その結果は下記表１、表２及び表
３の通りである。
ｒの２層から成る磁性膜をスパッタ法により形成したハ
ードディスクを多数用意し、このディスクｔ−，へ鳥ガ
ス％０１馬ガス１７０％−４＋５０％Ｏｓ ｌ’ａの混
合ガスの３種類のガスを用いＤＣ放電のプラズマ−０Ｖ
Ｄ法を行なった。この場合、導入ガス圧は１×１０〜１
トールの範囲内で、電圧Ｆｉ−１００〜−′５ｏｏｏｖ
の範囲内でそのいづれか１方又は両方の値を色々に変え
てＨ又ｒｉｌｌ単独或ＶｉＨと１の合計の含有量を異に
した炭素質の単層膜をもつ耐摩耗性磁気記録体ディスク
を作成し、前記元素の含有量と炭素質膜の耐摩耗性との
関係を検討した。膜中のＨ及び？の定 量には、赤外
線吸収スペクトルよりＯ−Ｈ結合及びＯ−７結合による
吸収スペクトルにより求め友。耐摩耗性の評価は、夫々
のディスクを４５ ｒｐｍで回転し、Ａ４０！−ＴｉＯ
スライダーを用いた３５７０型ヘツドを使用してヘッド
荷重を３２９加えて、５５００回（２時間）連続的だ摩
擦係数を測定した（加速試験）。更に夫々のディスクに
ついてＯ３Ｓテストを行なった。尚、夫々の生成膜厚は
全て６００人とした。その結果は下記表１、表２及び表
３の通りである。
表１
表２
上記の表１、表２及び表３から明らがなように％Ｈ又Ｆ
１？単独の含有ｍ、Ｈと１の合計の含有量が５ ａｔ％
以下の場合は、その−炭素質膜は、摩擦係数が高く、且
つディスク表面に変化を与えない程の硬質膜として得ら
ｎること、並に６ａｔ％以上の場合は、摩擦係数は低い
がディスク表面がヘッドのスライダーできすがつく程の
軟質膜として得られることが分つ友。
１？単独の含有ｍ、Ｈと１の合計の含有量が５ ａｔ％
以下の場合は、その−炭素質膜は、摩擦係数が高く、且
つディスク表面に変化を与えない程の硬質膜として得ら
ｎること、並に６ａｔ％以上の場合は、摩擦係数は低い
がディスク表面がヘッドのスライダーできすがつく程の
軟質膜として得られることが分つ友。
本発明は、か＼る炭素質膜の摩擦係数及び硬度の大小の
差を利用して、これらの異なる炭素質膜を上下２層とし
てその磁性膜面を保護することで、摩擦係数が小さいが
上記セラミック材のスライダーでも磁性膜表面に傷がつ
かずに円滑良好に使用できる耐摩耗性磁気記録体を開発
したもので、Ｈや？単独又はＨと１の合計の含有量が５
ａｔ％未満の炭素質膜を下層とし、その含有量が５
ａｔ％以上の炭素質膜を上層として磁性膜の表面を被覆
したことを特徴とする。
差を利用して、これらの異なる炭素質膜を上下２層とし
てその磁性膜面を保護することで、摩擦係数が小さいが
上記セラミック材のスライダーでも磁性膜表面に傷がつ
かずに円滑良好に使用できる耐摩耗性磁気記録体を開発
したもので、Ｈや？単独又はＨと１の合計の含有量が５
ａｔ％未満の炭素質膜を下層とし、その含有量が５
ａｔ％以上の炭素質膜を上層として磁性膜の表面を被覆
したことを特徴とする。
下記の表４は、本発明の耐摩耗性磁気記録体の実施例の
加速試験後の状態とＯＳＳテストの試験結果を示す。
加速試験後の状態とＯＳＳテストの試験結果を示す。
表４
□胃
上記の実施例はいづｎも摩擦係数は小さく而もディスク
表面はきすがつかず、Ｃ３Ｓテストも故万回以上と云う
著しい耐拳耗性を示す。尚、この場合の上下の炭素質膜
の厚さに夫々３００Ａとした。か−る効果の生ずる進出
に、ヘッドの硬いスライダーは、比較的軟質の上ＪＶの
炭素質膜により摩擦係数が小さく維持することができる
。このことは、該軟質の炭素質膜に潤滑性を有すること
を意味する。従ってスライダーにより部分的に上層炭素
質膜を通してその下層の比較的硬質の炭素質膜面に達す
るときは、その硬質層によりスライドが磁性膜面に達し
きづを付けることから未然に防止される１方その硬質の
炭素質膜は、常に、潤滑性の上層炭素質膜により潤滑性
を付与されているため、結局、これら上下層の協働作用
でａＳＳテストも数万回も全く変化が認められない極め
て耐摩耗性の大きい磁気記録体としての特性を示すもの
と解される。
表面はきすがつかず、Ｃ３Ｓテストも故万回以上と云う
著しい耐拳耗性を示す。尚、この場合の上下の炭素質膜
の厚さに夫々３００Ａとした。か−る効果の生ずる進出
に、ヘッドの硬いスライダーは、比較的軟質の上ＪＶの
炭素質膜により摩擦係数が小さく維持することができる
。このことは、該軟質の炭素質膜に潤滑性を有すること
を意味する。従ってスライダーにより部分的に上層炭素
質膜を通してその下層の比較的硬質の炭素質膜面に達す
るときは、その硬質層によりスライドが磁性膜面に達し
きづを付けることから未然に防止される１方その硬質の
炭素質膜は、常に、潤滑性の上層炭素質膜により潤滑性
を付与されているため、結局、これら上下層の協働作用
でａＳＳテストも数万回も全く変化が認められない極め
て耐摩耗性の大きい磁気記録体としての特性を示すもの
と解される。
尚、上記実施−のように、Ｈ又は？の単独又はこれらの
混合原子の含有量が５ａｔ％未満の下ｔｅａ炭素質膜を
得るには、例えばプラズマＰＶＤ処理室に導入のガス圧
をＩ Ｘ １０−）−ル程度とし、その含有量が５＆ｔ
％以上の上層炭素質膜を得るにはガス圧をＩ Ｘ １０
− ）−ル程度、放電条件とすることにより得られるが
、こｔ″ＬＬテ限るものではない。炭化水素系ガス、フ
フ化炭素糸ガスは、上記だ使用し念ものの他任意のもの
が使用できる・又ハードディスクの他、フレキシブルデ
ィスク、テープなど任意の形状、材料の基材を用いて有
効である。プラズマＯＶＤの放電にはＤｏの他Ｒ？、マ
イクロ波等も用いても有効である。
混合原子の含有量が５ａｔ％未満の下ｔｅａ炭素質膜を
得るには、例えばプラズマＰＶＤ処理室に導入のガス圧
をＩ Ｘ １０−）−ル程度とし、その含有量が５＆ｔ
％以上の上層炭素質膜を得るにはガス圧をＩ Ｘ １０
− ）−ル程度、放電条件とすることにより得られるが
、こｔ″ＬＬテ限るものではない。炭化水素系ガス、フ
フ化炭素糸ガスは、上記だ使用し念ものの他任意のもの
が使用できる・又ハードディスクの他、フレキシブルデ
ィスク、テープなど任意の形状、材料の基材を用いて有
効である。プラズマＯＶＤの放電にはＤｏの他Ｒ？、マ
イクロ波等も用いても有効である。
又、下層の炭素質膜は、Ｈや７が零である例えハ、黒鉛
ターケツドを用いてスパッタリングによって或は、アー
ク放１１ＥＫより蒸着して炭素原子のみのもので形成し
てもよい。本発明の上下層炭素質膜は、磁性膜の表面に
直接形成する他５ｉ０１％ ＢＮ％Ｂ、Ｏｒなどの他の
種類の保護膜を介しても同様の効果が達成できる。
ターケツドを用いてスパッタリングによって或は、アー
ク放１１ＥＫより蒸着して炭素原子のみのもので形成し
てもよい。本発明の上下層炭素質膜は、磁性膜の表面に
直接形成する他５ｉ０１％ ＢＮ％Ｂ、Ｏｒなどの他の
種類の保護膜を介しても同様の効果が達成できる。
（発明の効果）
このように、本発明によれば、磁性膜の表面を、Ｈ又は
Ｆ又はこれらの混合元素を５ ａｔ％未満含む炭素質膜
を下層とし、その５ ａｔ％以上含む炭素質膜を上府と
した保護膜で保護した耐摩耗性磁気記録体であるので、
モノリシックヘッドの他０ａＴｉＯ１などの硬質のスラ
イダーをもつヘッドにも適用でき而も長寿命であり、従
来の炭素質膜をもつ磁気記録体の欠点を解消し得らする
等の効果を有する。
Ｆ又はこれらの混合元素を５ ａｔ％未満含む炭素質膜
を下層とし、その５ ａｔ％以上含む炭素質膜を上府と
した保護膜で保護した耐摩耗性磁気記録体であるので、
モノリシックヘッドの他０ａＴｉＯ１などの硬質のスラ
イダーをもつヘッドにも適用でき而も長寿命であり、従
来の炭素質膜をもつ磁気記録体の欠点を解消し得らする
等の効果を有する。
外２名
Claims (1)
- １ 非磁性基材面に形成した磁性膜面上に、比較的硬質
の炭素質膜下層と比較的軟質の炭素質膜上層を形成して
成る耐摩耗性磁気記録体において、該下層は、水素原子
又はフツ素原子を含有せしめる場合は、各原子単独或は
これら両原子の合計で約５ａｔ％まで含有し、該上層は
、水素原子又はフツ素原子単独で或はこれら両原子の合
計約６ａｔ％以上を含有することを特徴とする耐摩耗性
磁気記録体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61119108A JPS62277617A (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | 耐摩耗性磁気記録体 |
| US06/934,594 US4804590A (en) | 1986-02-06 | 1986-11-25 | Abrasion resistant magnetic recording member |
| EP87304299A EP0248556B1 (en) | 1986-05-26 | 1987-05-14 | Abrasion resistant magnetic recording member |
| DE8787304299T DE3776200D1 (de) | 1986-05-26 | 1987-05-14 | Abriebfester magnetischer aufzeichnungstraeger. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61119108A JPS62277617A (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | 耐摩耗性磁気記録体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62277617A true JPS62277617A (ja) | 1987-12-02 |
| JPH0262889B2 JPH0262889B2 (ja) | 1990-12-26 |
Family
ID=14753109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61119108A Granted JPS62277617A (ja) | 1986-02-06 | 1986-05-26 | 耐摩耗性磁気記録体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0248556B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62277617A (ja) |
| DE (1) | DE3776200D1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01269222A (ja) * | 1988-04-20 | 1989-10-26 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク及びその製造方法 |
| JPH02161612A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-21 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスク媒体 |
| JP2003027214A (ja) * | 2001-07-17 | 2003-01-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 非晶質炭素被膜と非晶質炭素被膜の製造方法および非晶質炭素被膜の被覆部材 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4863809A (en) * | 1988-03-10 | 1989-09-05 | Magnetic Peripherals, Inc. | Surface treatment for sliders and carbon coated magnetic media |
| US5118577A (en) * | 1988-03-10 | 1992-06-02 | Magnetic Peripherals Inc. | Plasma treatment for ceramic materials |
| EP0493902B1 (en) * | 1990-12-27 | 1996-03-13 | International Business Machines Corporation | Magnetic head slider and method for making same |
| EP0643385A3 (en) * | 1993-09-12 | 1996-01-17 | Fujitsu Ltd | Magnetic recording medium, magnetic head and magnetic recording device. |
| US5785825A (en) * | 1995-07-20 | 1998-07-28 | Seagate Technology, Inc. | Multi-phase overcoats for magnetic discs |
| US8767350B2 (en) | 2010-12-06 | 2014-07-01 | HGST Netherlands B.V. | Magnetic recording medium having recording regions and separating regions and methods of manufacturing the same |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57135442A (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium and its manufacture |
| GB2166668B (en) * | 1984-11-09 | 1988-03-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| US4833031A (en) * | 1986-03-20 | 1989-05-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1986
- 1986-05-26 JP JP61119108A patent/JPS62277617A/ja active Granted
-
1987
- 1987-05-14 DE DE8787304299T patent/DE3776200D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-14 EP EP87304299A patent/EP0248556B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01269222A (ja) * | 1988-04-20 | 1989-10-26 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク及びその製造方法 |
| JPH02161612A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-21 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスク媒体 |
| JP2003027214A (ja) * | 2001-07-17 | 2003-01-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 非晶質炭素被膜と非晶質炭素被膜の製造方法および非晶質炭素被膜の被覆部材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3776200D1 (de) | 1992-03-05 |
| EP0248556B1 (en) | 1992-01-22 |
| JPH0262889B2 (ja) | 1990-12-26 |
| EP0248556A3 (en) | 1989-03-22 |
| EP0248556A2 (en) | 1987-12-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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