JPS62272619A - delay circuit - Google Patents
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- JPS62272619A JPS62272619A JP61114529A JP11452986A JPS62272619A JP S62272619 A JPS62272619 A JP S62272619A JP 61114529 A JP61114529 A JP 61114529A JP 11452986 A JP11452986 A JP 11452986A JP S62272619 A JPS62272619 A JP S62272619A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】 ぺ0発明の詳細な説明 一メ産集土の利用分野〕 本発明は、ビデオテープレコーダ(VTR)。[Detailed description of the invention] Detailed description of the invention Fields of use of Ichime-produced soil〕 The present invention relates to a video tape recorder (VTR).
ビデオディスクプレイヤ等において、再生信号に生じる
時間軸変動を補正するのに好適な可変遅延回路に関する
。The present invention relates to a variable delay circuit suitable for correcting time axis fluctuations occurring in a reproduced signal in a video disc player or the like.
ビデオディスクプレイヤから再生された再生信号はディ
スクの偏心等の影響により、また、VTRから再生され
た再生信号は、回転磁気ヘッドの回転むらの影響により
、その時間軸に伸縮があり、正しい画像に再生する為に
は時間軸変動の補正を行なう必要がある。従来、電荷結
合装置(以下CODと記す)を用いて時間軸の補正を行
なう回路の構成が公開実用新案公報56−60216号
や公開特許公報56−207422号等に示されている
。The playback signal played back from a video disc player is affected by the eccentricity of the disc, and the playback signal played back from a VTR is affected by uneven rotation of the rotating magnetic head, causing expansion and contraction in the time axis, resulting in a correct image. In order to reproduce it, it is necessary to correct the time axis fluctuation. Conventionally, circuit configurations for correcting the time axis using a charge-coupled device (hereinafter referred to as COD) have been disclosed in Japanese Patent Publication No. 56-60216, Japanese Patent Publication No. 56-207422, and the like.
公開実用新案公報昭56−60216号に示される従来
技術はCCDのクロック周波数を変化させて、ビデオ信
号の遅延時間の制御を行なっている0、シかしCCDの
クロック周波数を変化すると、通常出力ビデオ信号に直
流電圧の変動や交流振幅の変動が発生し、画面上輝度フ
リッカが検出される等の問題点がある。CODを用いず
にビデオ信号で変調された)パM信号帯で時間軸の補正
を行なう手段きして、複数個のインバータで構成された
遅延回路を用いるものがある1、この場合、公開特許公
報昭57−207422号に示される様にCMOSイン
バータの電源電圧を変化させ、遅延時間が制御される。The conventional technology disclosed in Public Utility Model Publication No. 1983-60216 controls the delay time of the video signal by changing the clock frequency of the CCD. However, when the clock frequency of the CCD is changed, the normal output There are problems such as DC voltage fluctuations and AC amplitude fluctuations occurring in the video signal, and brightness flicker on the screen being detected. There is a method of correcting the time axis in the P/M signal band (modulated by a video signal without using COD) that uses a delay circuit composed of a plurality of inverters. As shown in Publication No. 57-207422, the delay time is controlled by changing the power supply voltage of the CMOS inverter.
しかし、この回路では、同時に多数のインバータを駆動
する為に、電源から流れる電流が大きく、それ数制御が
困難である。また、大電流を流すことのできるバッファ
回路を用いなければならず、駆動能力の大きい素子を外
付は個別部品で構成する必要がある。また、その大きな
制御電流による他素子への妨害が発生する可能性もある
。However, since this circuit drives a large number of inverters at the same time, a large current flows from the power supply, making it difficult to control the number of inverters. Furthermore, it is necessary to use a buffer circuit that can flow a large current, and it is necessary to construct external elements with large driving capabilities using individual components. Furthermore, there is a possibility that interference with other elements may occur due to the large control current.
本発明の目的は、遅延時間を制御する制御電源の負荷が
軽く、制御が容易な遅延回路を提供するところにある。An object of the present invention is to provide a delay circuit that has a light load on a control power source that controls delay time and is easy to control.
本発明では、CMOSインバータの電源電圧は、一定電
圧とし、インバータを構成するMOSトランジスタのウ
ェル又は半導体基板、もしくは両者の電位を変化するこ
とにより遅延時間の制御を行なう。In the present invention, the power supply voltage of the CMOS inverter is set to a constant voltage, and the delay time is controlled by changing the potential of the well of the MOS transistor constituting the inverter, the semiconductor substrate, or both.
C)VIOSインバータの遅延時間は、MOSトランジ
スタのオン抵抗ROMと、MOSトランジスタのゲート
に寄生する容量及び出力部拡散層の寄生容量の相の容量
Cとの積で決まる時定数τに比例する。オン抵抗ROM
は(1)式で表わすことができる。C) The delay time of the VIOS inverter is proportional to the time constant τ determined by the product of the on-resistance ROM of the MOS transistor, the capacitance C parasitic to the gate of the MOS transistor, and the phase capacitance C of the parasitic capacitance of the output diffusion layer. ON resistance ROM
can be expressed by equation (1).
Ros= 17 (Bo(Vcs−Vth ) )
−(1)し
VGS:MOS)ランジスタのゲート、ソース間電圧、
vth:スレツショルド!、圧、W : ゲ−ト幅。Ros=17 (Bo(Vcs-Vth))
-(1)VGS:MOS) transistor gate to source voltage,
vth: Threshhold! , pressure, W: gate width.
L:ゲート長、 Bo :プロセスで決まる定数、(1
)式から明らかである様に、VI OS トランジスタ
のオン抵抗Robは電圧Vcs又はvthが変化するこ
さにより変化する。電圧vthはMOSトランジスタの
ウェル又は基板すなわちバックゲートの電位の変化の平
方根に比例して変化する。バンクゲートに流れる電流は
、CMOSインバータの電源の電流に比べかなり小さな
値である。その為バックゲートの電位を変化させること
により遅延時間を変化させる遅延時間の制御は、電源電
圧を変化させて行なう制御に比べ、大電流を流す為の駆
動能力の太きいバッファ回路が不要となり、遅延時間の
制御が容易になる。L: Gate length, Bo: Constant determined by process, (1
) As is clear from the equation, the on-resistance Rob of the VI OS transistor changes depending on the change in voltage Vcs or vth. The voltage vth changes in proportion to the square root of the change in the potential of the well or substrate of the MOS transistor, ie, the back gate. The current flowing through the bank gate is considerably smaller than the current of the power supply of the CMOS inverter. Therefore, delay time control that changes the delay time by changing the back gate potential does not require a buffer circuit with a large drive capacity to flow a large current, compared to control that is performed by changing the power supply voltage. Delay time can be easily controlled.
:A)1図に本発明の一実施例を示し説明する。11は
複数個のインバータを直列に接続して構成した遅延線、
12はFM復調器、15は同期分離回路、14は位相比
較器715は遅延線11の遅延時間の制御端子、16は
ビデオディスクプレイヤの再生信号等。:A) One embodiment of the present invention is shown and explained in FIG. 11 is a delay line configured by connecting a plurality of inverters in series;
12 is an FM demodulator, 15 is a synchronization separation circuit, 14 is a phase comparator 715, which is a control terminal for the delay time of the delay line 11, and 16 is a reproduction signal of a video disc player, etc.
時間軸の変動を含んだFM変調されたビデオ信号の入力
端子、17は出力端子である。端子16から入力された
F M変調されたビデオ信号は遅延線11で遅延された
後、同期分離回路16でその水平同期(iW号が検出さ
れ、位相比較器14において基準信号と位相比較が行な
われ、検出された時間軸のすれに対応した信号が制御端
子15に加えられる。時間軸の補正動作については当業
者によく知られているため、省略する。次に遅延線11
の詳細回路について説明する。21はP型MOSトラン
ジスタ、22はN型MOSトランジスタ、23は電源で
ある。MOSトランジスタ21.22はCMOSインバ
ータを構成する。遅延線11は複数個のCMOSインバ
ータの入出力が互に直列に接続され、構成されている。An input terminal 17 is an output terminal for receiving an FM modulated video signal including fluctuations in the time axis. After the FM modulated video signal input from the terminal 16 is delayed by the delay line 11, its horizontal synchronization (iW signal) is detected by the sync separation circuit 16, and the phase is compared with the reference signal by the phase comparator 14. A signal corresponding to the detected deviation of the time axis is applied to the control terminal 15.The time axis correction operation is well known to those skilled in the art and will therefore be omitted.Next, the delay line 11
The detailed circuit will be explained below. 21 is a P-type MOS transistor, 22 is an N-type MOS transistor, and 23 is a power supply. MOS transistors 21 and 22 constitute a CMOS inverter. The delay line 11 is constructed by connecting the input and output of a plurality of CMOS inverters in series.
制御端子15はPWMOS トランジスタ21のバック
ケートに接続されている。端子15の他端に接続されて
いる位相比較器14の出力電圧が変化すると、P型MO
Sトランジスタ21のバックゲート電位が変化し、スレ
ッショルド電圧(vth )の変化となって現れ、MO
Sトランジスタ21のオン抵抗ROMが変わる。その結
果遅延時間が制御される。第2図に他の実施例を示す。Control terminal 15 is connected to the backgate of PWMOS transistor 21. When the output voltage of the phase comparator 14 connected to the other end of the terminal 15 changes, the P-type MO
The back gate potential of the S transistor 21 changes, which appears as a change in the threshold voltage (vth), and the MO
The on-resistance ROM of the S transistor 21 changes. As a result, the delay time is controlled. FIG. 2 shows another embodiment.
第1図と同一符号のものは同一機能を有する。ブロック
図全体の動作は第1図と同様である。制御端子15はN
型MOSトランジスタ22のバックゲートに接続され、
第1図と同様にN型h/j OS )ランジスタ22の
電圧vthを変え遅延時間の制御が行なわれる。第1図
及び第2図では、CMOSインバータを構成する2つの
Mosトランジスタの一方のMOS)ランジスタのバッ
クゲートで遅延時間の制御を行なっているが両方を同時
に制御することも可能である。Components with the same symbols as in FIG. 1 have the same functions. The operation of the entire block diagram is similar to that in FIG. Control terminal 15 is N
connected to the back gate of the type MOS transistor 22,
Similarly to FIG. 1, the delay time is controlled by changing the voltage vth of the N-type h/j OS ) transistor 22. In FIGS. 1 and 2, the delay time is controlled by the back gate of one of the two MOS transistors constituting the CMOS inverter, but it is also possible to control both at the same time.
WJ3図には81!1図に示したCMOSインバータ1
段の半導体チップの縦構造断面図の一例を示す。The CMOS inverter 1 shown in Figure 81!1 is shown in Figure WJ3.
An example of a vertical structure cross-sectional view of a semiconductor chip in stages is shown.
61はP型半導体基板、32はN型ウェル、 33.3
4はP型MOSトランジスタの拡散層、 35.3(S
はN型MOSトランジスタの拡散層、37はゲート電極
。61 is a P-type semiconductor substrate, 32 is an N-type well, 33.3
4 is the diffusion layer of the P-type MOS transistor, 35.3 (S
37 is a diffusion layer of an N-type MOS transistor, and a gate electrode.
38はインバータの入力端子、59は出力端子である。38 is an input terminal of the inverter, and 59 is an output terminal.
また第1図と同一符号のものは同一機能を有する、基板
31は接地電位とし、ウェル62の電位を変えてP型M
OSトランジスタの電圧vthを変化させることにより
遅延時間の制御が行なわれる。第4図に第6図で構成さ
れたCMOSインバータの遅延特性の概略を示す。横軸
は制御電圧Vc、 縦軸は遅延時間τである。第6図
に於いてウェル52と拡散層35はPN接合となってい
るため、端子15の制御電圧はインバータの電源23よ
りも高い電圧の範囲で変化させることにより遅延時間の
制御が行なわれる0
制御端子15に接続された位相比較器14から、制御端
子15に流れる電流の値は電源26の電流値に比べ極め
て小さい電流値である。第5図には第2図で示したN型
MOSトランジスタのバックゲートに制御電源を加えて
遅延制御を行なう構成のCMOSインバータの半導体基
板の縦構造断面図の一例を示す。第2図及び第6図と同
一符号のものは同一機能を有する。Components with the same reference numerals as in FIG.
The delay time is controlled by changing the voltage vth of the OS transistor. FIG. 4 schematically shows the delay characteristics of the CMOS inverter configured as shown in FIG. The horizontal axis is the control voltage Vc, and the vertical axis is the delay time τ. In FIG. 6, since the well 52 and the diffusion layer 35 form a PN junction, the delay time is controlled by changing the control voltage of the terminal 15 within a voltage range higher than that of the inverter power supply 23. The value of the current flowing from the phase comparator 14 connected to the control terminal 15 to the control terminal 15 is extremely small compared to the current value of the power supply 26 . FIG. 5 shows an example of a longitudinal cross-sectional view of a semiconductor substrate of a CMOS inverter configured to perform delay control by applying a control power source to the back gate of the N-type MOS transistor shown in FIG. Components with the same symbols as in FIGS. 2 and 6 have the same functions.
ウェル32の電位は電源電位に固定され、基板31に接
続した端子15に加える電位を変化させ制御が行なわれ
る。この構成lこ於いて拡散層36と基板31の間でP
N接合となっている為、制御端子15の電位は拡散層3
6の電位より低い範囲で変化させる。The potential of the well 32 is fixed to the power supply potential, and control is performed by changing the potential applied to the terminal 15 connected to the substrate 31. In this configuration, P is generated between the diffusion layer 36 and the substrate 31.
Since it is an N junction, the potential of the control terminal 15 is the same as that of the diffusion layer 3.
The voltage is changed in a range lower than the potential of 6.
この回路構成に於いても通常の回路動作に於ける電流は
基板31には流れず、制御端子15から流れる電流は極
めて小さな値となる。Even in this circuit configuration, no current flows through the substrate 31 during normal circuit operation, and the current flowing from the control terminal 15 has an extremely small value.
以上はP型半導体基板で構成された例であるが、N型半
導体基板を用いても構成できる。第6図にその一例を示
し、説明する。61はN型半導体基板。Although the above example is constructed using a P-type semiconductor substrate, it can also be constructed using an N-type semiconductor substrate. An example is shown in FIG. 6 and will be explained. 61 is an N-type semiconductor substrate.
62はP型ウェル、 63.64はP型MOSトランジ
スタの拡散層、 65.66はN型MOSトランジスタ
の拡散層、67はゲート電極、68は基板61の電位を
決める電源であり、通常のロジック回路の電源の電圧と
同一である。第5図と同一符号のものは同一機能を有す
る。端子15の電圧を変化し、N型MOSトランジスタ
の電圧vthを変化させて遅延時間の制御が行なわれる
。この時の制御端子15に加える電圧はウェル62と拡
散層66のPN接合に印加される為、拡散層66の電位
よりも低い範囲で制御が行なわれる。第5図及び第6図
においてN型拡散層66.66は接地電位であるため、
制御電圧は負屯位となるが、電源23,6a及びN型拡
散層56.66の電1位を高い電位に設だすれば、制御
電位は正電位で変化させることができ、他の回路ブロッ
ク(図示はしてない)との接続が容易にできる。62 is a P-type well, 63.64 is a diffusion layer of a P-type MOS transistor, 65.66 is a diffusion layer of an N-type MOS transistor, 67 is a gate electrode, and 68 is a power source that determines the potential of the substrate 61, which is used for normal logic. It is the same as the voltage of the circuit power supply. Components with the same symbols as in FIG. 5 have the same functions. The delay time is controlled by changing the voltage at terminal 15 and changing the voltage vth of the N-type MOS transistor. Since the voltage applied to the control terminal 15 at this time is applied to the PN junction between the well 62 and the diffusion layer 66, control is performed in a range lower than the potential of the diffusion layer 66. In FIGS. 5 and 6, since the N-type diffusion layers 66 and 66 are at ground potential,
The control voltage has a negative level, but if the first potential of the power supply 23, 6a and the N-type diffusion layer 56, 66 is set to a high potential, the control potential can be changed to a positive potential, and other circuits Connection with blocks (not shown) can be easily made.
第7図には基板61を変化させて遅延時間を制御する構
成図を示す。第3図さ同一符号のものは同一機能を有す
る。この構成は第3図で説明したものと同様P型yr
o s iランジスタの電圧vthを変えて遅延時間の
制御を行なう。この時の制御端子15に加える制御電圧
は拡散層63と基板61のPN接合により、拡散層65
より高い範囲で制御が行なわれる。これらの例に於いて
も同様lこ制御が容易になる。FIG. 7 shows a configuration diagram in which the delay time is controlled by changing the substrate 61. Components with the same reference numerals in FIG. 3 have the same functions. This configuration is similar to that explained in Fig. 3.
The delay time is controlled by changing the voltage vth of the o s i transistor. The control voltage applied to the control terminal 15 at this time is applied to the diffusion layer 65 due to the PN junction between the diffusion layer 63 and the substrate 61.
Control takes place at a higher range. In these examples as well, the control becomes easy.
第8図(こはインバータをディブレジョン型のMOS)
ランジスタで構成した場合の例を示し説明する。構成は
第1図と同じくP型半導体基板を用いてPmMOSトラ
ンジスタの電圧vtbを変化して遅延時間の制御を行な
うものである。第4図と同一符号のものは同一機能を有
する。P型M、OSトランジスタのチャンネル部分にP
型の埋め込みチャンネル81を、N型MOSトランジス
タのチャンネル部分にN型の埋め込みチャンネル82を
設け、それぞれのMOSトランジスタをディブレジョン
型にする。第3図及び第7図に於いて遅延の制御電圧は
インバータの電源電圧より高い範囲で変化するこきを説
明したが、可変範囲を広げる為にインバータの電源電圧
はできるだけ低くすることが必要である。インバータの
動作する電源電圧の下限はM i−、) S )ランジ
スタの電圧vthで決る。従ってhos)ランジスタを
ディブレジョン型とし、入力′電圧が極めて小さくても
、MOSトランジスタがオンしインバータとしての動作
が行なわれる様にしておけば、インバータの電源電圧は
通常の電圧vthの時の下限よりもかなり小さな値とす
るこきができる。これにより遅延時間の制御範囲を広く
とることができる。またそれだけでなく消費′電力も少
なくできる。インバータの消費電力Pは(2)式で表わ
される。Figure 8 (Here, the inverter is a deregression type MOS)
An example of a configuration using transistors will be shown and explained. The configuration is similar to that of FIG. 1, using a P-type semiconductor substrate and controlling the delay time by changing the voltage vtb of the PmMOS transistor. Components with the same symbols as in FIG. 4 have the same functions. P type M, P in the channel part of the OS transistor
An N-type buried channel 81 is provided in the channel portion of the N-type MOS transistor, and each MOS transistor is made into a deregression type. In Figures 3 and 7, we explained that the delay control voltage varies in a range higher than the inverter power supply voltage, but in order to widen the variable range, it is necessary to make the inverter power supply voltage as low as possible. . The lower limit of the power supply voltage at which the inverter operates is determined by the voltage vth of the M i-, ) S ) transistors. Therefore, if the MOS transistor is made into a deregression type transistor so that the MOS transistor turns on and operates as an inverter even when the input voltage is extremely small, the inverter's power supply voltage will be the same as when it is at the normal voltage vth. It is possible to set the value to be much smaller than the lower limit. This makes it possible to widen the control range of the delay time. In addition to this, power consumption can also be reduced. The power consumption P of the inverter is expressed by equation (2).
■
fCv2+f−□ガ+v・よりc (2)f
:動作周波数、C:寄生容量、■=電源電圧。■ fCv2+f-□ga+v・more c (2) f
: Operating frequency, C: Parasitic capacitance, ■=Power supply voltage.
RON : MOS )ランジスタのオン抵抗、 I
nc :直流電流
(2)式の第1項は、寄生容量を駆動するために消費さ
れる電力、第2項は、インバータが反転する過渡時に流
れる貫通電流、第3項は、MOSトランジスタのスレッ
ショルド電圧に依存して流れる漏れ電流による電力であ
る。(2)式で第1項は電源電圧の2乗に比例する。例
えば通常のvthの時に電源電圧を3.5Vとして使用
していたものが、vthを下げインバータの電源電圧を
1Vにできれば(2)式の第1項は約10分の1になる
。また第2項は電源電圧に比例して電力は減る。MOS
トランジスタをディブレジョン型にしてインバータに常
に電流が流れ電力を消費してしまい(2)式の3項が増
加する逆の効果を考慮しても消費電力は数分の1にする
ことができる。ディブレジョン型のMO8):tンジス
タを用いることにより消費電力を低減でき制御範囲が広
げられるのは、この例だけでなくP型基板で基板電圧を
変化させた場合、N型基板を用いた場合にも同様に現れ
るのは言うまでもない。RON: MOS) transistor on-resistance, I
nc: DC current The first term in equation (2) is the power consumed to drive the parasitic capacitance, the second term is the through current that flows during the transition when the inverter reverses, and the third term is the threshold of the MOS transistor This is power due to leakage current that flows depending on the voltage. In equation (2), the first term is proportional to the square of the power supply voltage. For example, if a power supply voltage of 3.5V is used at normal vth, if vth can be lowered and the power supply voltage of the inverter can be reduced to 1V, the first term in equation (2) will be reduced to about one-tenth. Furthermore, in the second term, the power decreases in proportion to the power supply voltage. M.O.S.
Even if we take into account the opposite effect of increasing the third term in equation (2) because current always flows through the inverter and consumes power by using a deregression type transistor, power consumption can be reduced to a fraction of what it used to be. . Debresion type MO8): By using a t resistor, power consumption can be reduced and the control range can be expanded, not only in this example, but also when changing the substrate voltage with a P-type substrate, Needless to say, this also appears in the case.
またこの時も制御電源より流れる電流はきわめて少なく
制御が容易であるのも同様である。Also at this time, the current flowing from the control power supply is extremely small and control is easy.
本発明によればインバータの遅延時間をバックゲートの
電位により制御できるので、遅延時間の制御回路の構成
が容易になる。According to the present invention, since the delay time of the inverter can be controlled by the potential of the back gate, the configuration of the delay time control circuit becomes easy.
第1図は本発明の一実施例の遅延回路の回路図、第2図
は本発明の他の実施例の回路図、第3図。
第5図、第6図、第7図、第8図は本発明におけるCM
OSインバータの半導体基板の断面図、第4図はインバ
ータの遅延特性図である。
11・・・遅延線 12・・・FM復調器 13・・・
同期分離回路 14・・・位相比較器 15・・・制御
端子 31・・・P型半導体基板 52・・・N型ウェ
ル 61・・・N型半導体基板 62・・・P型ウェル
ゝ・代理人 弁理士 小 川
勝 男゛〜□ ・第 7 邸
尤 3 記
■凶 V。
15 回
引
箋 ム ■
l 7 閃
しλ
b 8 記FIG. 1 is a circuit diagram of a delay circuit according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram of another embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a circuit diagram of a delay circuit according to an embodiment of the present invention. Figures 5, 6, 7, and 8 are commercials in the present invention.
FIG. 4, which is a sectional view of the semiconductor substrate of the OS inverter, is a delay characteristic diagram of the inverter. 11...Delay line 12...FM demodulator 13...
Synchronous separation circuit 14... Phase comparator 15... Control terminal 31... P type semiconductor substrate 52... N type well 61... N type semiconductor substrate 62... P type well ゝ・Agent Patent Attorney Ogawa
Katsuo゛~□ ・7th residence 3 ki ■Kyou V. 15th note Mu ■ l 7 flash λ b 8 note
Claims (1)
いて設けられた第1の第2導電型半導体層と第2の第2
導電型半導体層と、第1及び第2の第2導電型半導体層
の間の第1導電型半導体基板上に絶縁膜を介して設けら
れた第1のゲート電極と、第1導電型半導体基板表面に
設けられた第3の第2導電型半導体層と、第3の第2導
電型半導体層の表面に或る間隔をおいて設けられた第1
の第1導電型半導体層と第2の第1導電型半導体層と、
第1及び第2の第1導電型半導体層の間の第3の第2導
電型半導体層上に絶縁膜を介して設けられた第2のゲー
ト電極を有し、第1導電型半導体基板、第1、第2の第
2導電型半導体層と第1のゲート電極で構成される第2
導電型MOSトランジスタと、第3の第2導電型半導体
層、第1、第2の第1導電型半導体層と第2のゲート電
極で構成される第1導電型MOSトランジスタでCMO
Sインバータが構成され、上記CMOSインバータを複
数個有し、それらの入出力が複数個直列に接続されて構
成された遅延線と、遅延線の出力に接続された時間軸の
変動を検出する時間軸誤差検出回路を少なくとも具備し
、該時間軸誤差検出回路の出力信号がCMOSインバー
タを構成する第1導電型半導体基板または第3の第2導
電型半導体層またはその両方に印加されることを特徴と
する遅延回路。1. A first conductivity type semiconductor substrate, a first second conductivity type semiconductor layer provided at a certain interval on the surface thereof, and a second conductivity type semiconductor layer provided on the surface thereof at a certain interval.
A conductive type semiconductor layer, a first gate electrode provided on a first conductive type semiconductor substrate between the first and second second conductive type semiconductor layers with an insulating film interposed therebetween, and a first conductive type semiconductor substrate. a third second conductivity type semiconductor layer provided on the surface; and a first semiconductor layer provided at a certain interval on the surface of the third second conductivity type semiconductor layer.
a first conductivity type semiconductor layer and a second first conductivity type semiconductor layer;
a first conductivity type semiconductor substrate, having a second gate electrode provided on a third second conductivity type semiconductor layer between the first and second first conductivity type semiconductor layers via an insulating film; A second semiconductor layer composed of first and second second conductivity type semiconductor layers and a first gate electrode.
CMO with a first conductivity type MOS transistor composed of a conductivity type MOS transistor, a third second conductivity type semiconductor layer, first and second first conductivity type semiconductor layers, and a second gate electrode.
An S inverter is configured, which has a plurality of the above CMOS inverters, a delay line configured by connecting a plurality of inputs and outputs in series, and a time to detect fluctuations in the time axis connected to the output of the delay line. It comprises at least an axis error detection circuit, and the output signal of the time axis error detection circuit is applied to the first conductivity type semiconductor substrate, the third second conductivity type semiconductor layer, or both, which constitute the CMOS inverter. delay circuit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP61114529A JPS62272619A (en) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | delay circuit |
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JP61114529A JPS62272619A (en) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | delay circuit |
Publications (1)
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JPS62272619A true JPS62272619A (en) | 1987-11-26 |
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ID=14640030
Family Applications (1)
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1986
- 1986-05-21 JP JP61114529A patent/JPS62272619A/en active Pending
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