JPS6225417A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPS6225417A JPS6225417A JP60164798A JP16479885A JPS6225417A JP S6225417 A JPS6225417 A JP S6225417A JP 60164798 A JP60164798 A JP 60164798A JP 16479885 A JP16479885 A JP 16479885A JP S6225417 A JPS6225417 A JP S6225417A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- command
- sequence
- cpu
- keyboard
- input
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 15
- 238000010977 unit operation Methods 0.000 abstract description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、LSl、VLSI等の半導体デバイスを製造
する装置に関し、特に、装置に標準設定されている動作
を任意に組合せてユーザ独自のシーケンスを作成するこ
とを可能にした半導体製造装置に関する。
する装置に関し、特に、装置に標準設定されている動作
を任意に組合せてユーザ独自のシーケンスを作成するこ
とを可能にした半導体製造装置に関する。
[発明の背景]
従来のステップアンドリピート式の投影露光装置におい
ては、装置本来の動作である所定のシーケンスに従った
露光動作の伯、この露光動作を構成する個々の単位動作
すなわちウェハ挿脱やスアップ送りや位置合ぜやZステ
ージ駆動等の動作をそれぞれ単独で実行させることがで
きる。
ては、装置本来の動作である所定のシーケンスに従った
露光動作の伯、この露光動作を構成する個々の単位動作
すなわちウェハ挿脱やスアップ送りや位置合ぜやZステ
ージ駆動等の動作をそれぞれ単独で実行させることがで
きる。
しかし、前記露光動作以外の動作例えばZステージの駆
動伍を較正するための一連の動作等はシーケンスとして
は実装されておらず、このような動作を実行させようと
する場合はオペレータが装置に付きっきりで、装置の動
作に合せて、Zステージ駆動、エアマイクロセンサ値計
測表示等の動作指令を必要回数繰返しキー人力しなけれ
ばならず、その手間と時間は大変なものであった。
動伍を較正するための一連の動作等はシーケンスとして
は実装されておらず、このような動作を実行させようと
する場合はオペレータが装置に付きっきりで、装置の動
作に合せて、Zステージ駆動、エアマイクロセンサ値計
測表示等の動作指令を必要回数繰返しキー人力しなけれ
ばならず、その手間と時間は大変なものであった。
[発明の目的]
本発明の目的は、上述の従来形における問題点に鑑み、
半導体liI造装置において、ユーザが、メーカ設定の
動作シーケンスや単位動作を適宜組合せた所望のシーケ
ンスを作成できるようにすることである。
半導体liI造装置において、ユーザが、メーカ設定の
動作シーケンスや単位動作を適宜組合せた所望のシーケ
ンスを作成できるようにすることである。
[実施例の説明]
以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装量の外観
を示す。同図において、1は集積回路パターンを具えた
マスクで、他にマスクアライメントマークやマスク・ウ
ェハ・アライメントマークを員えるものとする。2はマ
スクステージで、マスク1を保持してマスク1を平面内
(XYh向)及び回転方向(θ方向)に移動させる。3
は縮小投影レンズ、4は感光層を具えるウェハで、マス
ク・ウェハ・アライメントマークとテレビ・ウェハアラ
イメントマークを貝えるものとする。5はウェハステー
ジζ゛ある。ウェハステージ5はウェハ4を保持してそ
れを平面内および回転方向に移動させるものであり、ま
たウェハ焼付位置(投影野内)とテレビ・ウェハアライ
メント位置間を移動する。6はテレビ・ウェハアライメ
ント用検知装置の対物レンズ、7は搬像管(または固体
搬像素子)である。9は双眼ユニットで、投影レンズ3
を介してウェハ4の表面を観察するために役立つ。10
は照明光学系ならびにマスク・ウェハ・アライメント用
の検知装置を収容する上部ユニットである。11はモニ
タ受像機(コンソールCRT)、12は装置における各
種の動作指令やパラメータを入力するためのキーボード
である。
を示す。同図において、1は集積回路パターンを具えた
マスクで、他にマスクアライメントマークやマスク・ウ
ェハ・アライメントマークを員えるものとする。2はマ
スクステージで、マスク1を保持してマスク1を平面内
(XYh向)及び回転方向(θ方向)に移動させる。3
は縮小投影レンズ、4は感光層を具えるウェハで、マス
ク・ウェハ・アライメントマークとテレビ・ウェハアラ
イメントマークを貝えるものとする。5はウェハステー
ジζ゛ある。ウェハステージ5はウェハ4を保持してそ
れを平面内および回転方向に移動させるものであり、ま
たウェハ焼付位置(投影野内)とテレビ・ウェハアライ
メント位置間を移動する。6はテレビ・ウェハアライメ
ント用検知装置の対物レンズ、7は搬像管(または固体
搬像素子)である。9は双眼ユニットで、投影レンズ3
を介してウェハ4の表面を観察するために役立つ。10
は照明光学系ならびにマスク・ウェハ・アライメント用
の検知装置を収容する上部ユニットである。11はモニ
タ受像機(コンソールCRT)、12は装置における各
種の動作指令やパラメータを入力するためのキーボード
である。
第2図は、第1図の装置の電気回路構成を示す。
同図において、21は装置全体の制御を司る本体CPU
で、マイクロコンピュータまたはミニコンピユータ等の
中央演算処理装置からなる。22はウェハステージ駆動
装置、23はアライメント検出系、24はレチクルステ
ージ駆動装置、25は照明系、26はシャッタ駆動装置
、21はフォーカス検出系、28はZ駆動装置で、これ
らは、本体CP U 21により制御される。29は搬
送系である。
で、マイクロコンピュータまたはミニコンピユータ等の
中央演算処理装置からなる。22はウェハステージ駆動
装置、23はアライメント検出系、24はレチクルステ
ージ駆動装置、25は照明系、26はシャッタ駆動装置
、21はフォーカス検出系、28はZ駆動装置で、これ
らは、本体CP U 21により制御される。29は搬
送系である。
30はコンソールユニットで、本体CP U 21にこ
の露光装置の動作に関する各種の指令やパラメータを与
えるためのものである。31はコンソールCPU、32
はパラメータ等を記憶する外部メモリである。なJ3、
CRT 11およびキーボード12は第1図のものと同
一である。
の露光装置の動作に関する各種の指令やパラメータを与
えるためのものである。31はコンソールCPU、32
はパラメータ等を記憶する外部メモリである。なJ3、
CRT 11およびキーボード12は第1図のものと同
一である。
次に、第3および5図のフローチャートならびに第4図
の表示画面例を参照しながら、第1図の装置の動作を説
明する。
の表示画面例を参照しながら、第1図の装置の動作を説
明する。
第3図のフローチャートは、本発明の特徴とするユーザ
・プログラマブル・シーケンス作成処理(以下、自動シ
ーケンス作成処理という)を示す。
・プログラマブル・シーケンス作成処理(以下、自動シ
ーケンス作成処理という)を示す。
第1図の装置においては、電源投入侵の初期化が終了し
たとき等にコマンド入力待■状態となる。
たとき等にコマンド入力待■状態となる。
つまり、コンソールCP tJ 31はキーボード12
におけるギー操作を待機し、本体CP U 21はコン
ソールCP U 31からの通信持ち状態となる。そし
て、この状態でキーボード12から自動シーケンス作成
のだめのコマンド(例えばAS>が入力されると、コン
ソールCP U 31の制御のもとに以下の自動シーケ
ンス作成処理を開始する。
におけるギー操作を待機し、本体CP U 21はコン
ソールCP U 31からの通信持ち状態となる。そし
て、この状態でキーボード12から自動シーケンス作成
のだめのコマンド(例えばAS>が入力されると、コン
ソールCP U 31の制御のもとに以下の自動シーケ
ンス作成処理を開始する。
第3図において、ステップ51では、CRTIIの画面
表示を第4図(a>のものく但し、点線部43内のデー
タは表示されていない)に切換え、キーボード12から
順次入力される数字または英字をCRTllの画面の最
下段(第4図(a>の点線部43)に表示し、さらに、
キーボード12で改行キーが押下された後口の改行キー
が押下される前までに入力されたデータ(またはデータ
列)に基づいてCRTllの画面に表示された項目(1
,ファイル名、2、コメント、3.エディタ)で示され
るモードまたは終了モードのうちいずれが選択されたか
を判定する。ここでは、各モードは上記項目に付された
1〜3の数字または終了を示す英字rEJにより選択さ
れる。なお、自動シーケンス作成処理に入ったばかりの
時点では第4図(a)の点線部41および42内には未
だ何も表示されない。また、点線部43の改行マーク(
))は便宜的に表示したもので実際上は表示されない。
表示を第4図(a>のものく但し、点線部43内のデー
タは表示されていない)に切換え、キーボード12から
順次入力される数字または英字をCRTllの画面の最
下段(第4図(a>の点線部43)に表示し、さらに、
キーボード12で改行キーが押下された後口の改行キー
が押下される前までに入力されたデータ(またはデータ
列)に基づいてCRTllの画面に表示された項目(1
,ファイル名、2、コメント、3.エディタ)で示され
るモードまたは終了モードのうちいずれが選択されたか
を判定する。ここでは、各モードは上記項目に付された
1〜3の数字または終了を示す英字rEJにより選択さ
れる。なお、自動シーケンス作成処理に入ったばかりの
時点では第4図(a)の点線部41および42内には未
だ何も表示されない。また、点線部43の改行マーク(
))は便宜的に表示したもので実際上は表示されない。
ステップ51において1のファイル名登録丘−ドが選択
されたときは、ステップ52に進む。そして、以復、改
行キーが押下されるまでのキー人力データを順次、CR
T 11の画面中、第4図(a)の点線部41に表示す
るとともに、改行キーが押下されると、それまでに入力
されたデータ(ここではZM E A S 1.J R
E )を現在作成しようとしている(または作成中の)
8作シーケンスのファイル名として外部メモリ32のフ
ァイル名エリアに登録し、その後、ステップ51に戻る
。なあ、このコメン1−名は、装置を動作さぜる際、メ
ーカ設定のコメントと同列に扱われる。つまり、後述す
るように、前述のコマンド持ち状態において、このファ
イル名をキー人力すると、装置はこのファイル名で作成
された動作シーケンスを実行する。
されたときは、ステップ52に進む。そして、以復、改
行キーが押下されるまでのキー人力データを順次、CR
T 11の画面中、第4図(a)の点線部41に表示す
るとともに、改行キーが押下されると、それまでに入力
されたデータ(ここではZM E A S 1.J R
E )を現在作成しようとしている(または作成中の)
8作シーケンスのファイル名として外部メモリ32のフ
ァイル名エリアに登録し、その後、ステップ51に戻る
。なあ、このコメン1−名は、装置を動作さぜる際、メ
ーカ設定のコメントと同列に扱われる。つまり、後述す
るように、前述のコマンド持ち状態において、このファ
イル名をキー人力すると、装置はこのファイル名で作成
された動作シーケンスを実行する。
また、ステップ51において2のコメント登録モードが
選択されたときは、ステップ53に進む。ステップ53
では、以侵、改行キーが押下されるまでのキー人力デー
タを順次、CRTTIの画面中、第4図(a)の点線部
42に表示するとともに、改行キーが押下されると、そ
れまでに入力されたデータを現在作成しようとしている
かまたは作成中の動作シーケンスのコメントつまり注意
書きどして外部メモリ32のコメントエリアに登録し、
その後、ステップ51に戻る。なJj、このコメントは
上記ファイル名をコマンドとして使用する際、何ら影響
しイ1い。
選択されたときは、ステップ53に進む。ステップ53
では、以侵、改行キーが押下されるまでのキー人力デー
タを順次、CRTTIの画面中、第4図(a)の点線部
42に表示するとともに、改行キーが押下されると、そ
れまでに入力されたデータを現在作成しようとしている
かまたは作成中の動作シーケンスのコメントつまり注意
書きどして外部メモリ32のコメントエリアに登録し、
その後、ステップ51に戻る。なJj、このコメントは
上記ファイル名をコマンドとして使用する際、何ら影響
しイ1い。
また、ステップ51において3のエディタモードが選択
されたときは、ステップ54に進む。このエディタモー
ドは、新たな動作シーケンスを作成したり、現在作成中
の動作シーケンスを訂正するためのモードである。ステ
ップ54では、CRTllの画面表示を第4図(b)の
ものく但し、点線部44内のデータは表示されていない
)に切換え、キーボード12から、順次入力される数字
または英字を点線部44に表示し、さらに、キーボード
12で改行キーが押下された後、上記点線部44の表示
データがコマンドのステップナンバを示ずSl、S2、
・・・および終了を示す英字rEJのいずれであるがを
判定する。もし、ステップナンバが入力されていれば、
ステップ55に進む。ステップ55ではキーボード12
から入力されるコマンドを上記キー人力により指定され
たステップナンバのコマンドとして第4図(C>のよう
にCR−rllに表示するとともに外部メモリ32に記
憶させた後、ステップ54に戻る。このステップ54と
55を繰返寸ことにより、第4図(C)に示すような一
連の動作シーケンスが作成される。また、既にコマンド
が書込まれているステップナンバを指定して新たなコマ
ンドをキー人力すれば、動作シーケンスを訂正すること
ができる。このエディタモードは、ステップ54にJ3
いて、キーボード12からrEJが入力されると終了し
、処理はステップ51に戻る。このステップ51におけ
るC RT 11の表示は前述の第4図(a)に示すも
のである。
されたときは、ステップ54に進む。このエディタモー
ドは、新たな動作シーケンスを作成したり、現在作成中
の動作シーケンスを訂正するためのモードである。ステ
ップ54では、CRTllの画面表示を第4図(b)の
ものく但し、点線部44内のデータは表示されていない
)に切換え、キーボード12から、順次入力される数字
または英字を点線部44に表示し、さらに、キーボード
12で改行キーが押下された後、上記点線部44の表示
データがコマンドのステップナンバを示ずSl、S2、
・・・および終了を示す英字rEJのいずれであるがを
判定する。もし、ステップナンバが入力されていれば、
ステップ55に進む。ステップ55ではキーボード12
から入力されるコマンドを上記キー人力により指定され
たステップナンバのコマンドとして第4図(C>のよう
にCR−rllに表示するとともに外部メモリ32に記
憶させた後、ステップ54に戻る。このステップ54と
55を繰返寸ことにより、第4図(C)に示すような一
連の動作シーケンスが作成される。また、既にコマンド
が書込まれているステップナンバを指定して新たなコマ
ンドをキー人力すれば、動作シーケンスを訂正すること
ができる。このエディタモードは、ステップ54にJ3
いて、キーボード12からrEJが入力されると終了し
、処理はステップ51に戻る。このステップ51におけ
るC RT 11の表示は前述の第4図(a)に示すも
のである。
ステップ57において′、キーボード12からrEJが
入力されたとき(第4図(d))は、終了モードが選択
されたときである。この場合は、ステップ56に進み、
自動シーケンス作成処理を終了する。
入力されたとき(第4図(d))は、終了モードが選択
されたときである。この場合は、ステップ56に進み、
自動シーケンス作成処理を終了する。
この装置において、自動シーケンスを作成する際の操作
を示すと以下の通りである。
を示すと以下の通りである。
■装置のコマンド持ち状態においてキーボード12より
自動シーケンス作成コマンド(As)を入力する。
自動シーケンス作成コマンド(As)を入力する。
■Cfl T fiへの表示(第4図(a))に従って
、キーボード12r:r3」を入力し、エディタモード
を選択する。
、キーボード12r:r3」を入力し、エディタモード
を選択する。
■CRT 11への表示(第4図(b))を児ながら、
キーボード12を操作してステップナンバおよび該ステ
ップナンバにおけるコマンドを必要数だけ繰返し入力覆
る。
キーボード12を操作してステップナンバおよび該ステ
ップナンバにおけるコマンドを必要数だけ繰返し入力覆
る。
■上記キー人力の結果、所望の動作シーケンスが完成し
たことをCRTIIへの表示(第4図(C))により確
認したら、キーボード12よりrEJを入力し、エディ
タモードを終了する。
たことをCRTIIへの表示(第4図(C))により確
認したら、キーボード12よりrEJを入力し、エディ
タモードを終了する。
■CRT表示が5XX71図(a>に示す状態において
、キーボード12より[1]を入力し、さらにファイル
名を入力して完成した動作シーケンスのファイル名を登
録する。
、キーボード12より[1]を入力し、さらにファイル
名を入力して完成した動作シーケンスのファイル名を登
録する。
■CRT表示が第4図(a>に示す状態において、キー
ボード12より「2」を入力し、ざらにコメン1へを入
力してこのファイルのコメントをσ録する。
ボード12より「2」を入力し、ざらにコメン1へを入
力してこのファイルのコメントをσ録する。
■最後に、CR丁表示が第4図(a)に示す状態のとき
キーボード12よりrEJを入力し、この自動シーケン
ス作成モードを終了する。
キーボード12よりrEJを入力し、この自動シーケン
ス作成モードを終了する。
なお、上記■〜■の操作、■の操作、および■の操作の
順序は相前後してもよい。また、■の操作は省略するこ
ともできる。
順序は相前後してもよい。また、■の操作は省略するこ
ともできる。
第5図は、上述のようにして作成した動作シーケンスを
実行する際の処理を示す。
実行する際の処理を示す。
上記コマンド入力持ら状態において、ファイル名(例え
ば上記rZ MEASUREJを入力すると、先ず、
コンソールCPU31が外部メモリ32に格納されてい
るファイル名を検索し、該当するファイルに書込まれて
いるデータを読出す。これにより、露光装置にJ′3け
る自動動作シーケンス実行処理を開始する。
ば上記rZ MEASUREJを入力すると、先ず、
コンソールCPU31が外部メモリ32に格納されてい
るファイル名を検索し、該当するファイルに書込まれて
いるデータを読出す。これにより、露光装置にJ′3け
る自動動作シーケンス実行処理を開始する。
この処理においては、コンソールCP U 31が外部
メモリ32から1ライン分ずつのデータを読出して解析
しくステップら1.62> 、この解析結果に応じて以
下の処理を行なう。
メモリ32から1ライン分ずつのデータを読出して解析
しくステップら1.62> 、この解析結果に応じて以
下の処理を行なう。
71′なわら、上記データがコマンドであれば、そのコ
マンドを本体CP U 21に送信した後(ステップ6
3)、本体CP U 21から該コマンド処理実行終了
コードが送信されるまで待機する(ステップ64)。こ
れに対し、本体CP U 21では、コンソールCPU
31から受信したコマンドに従って露光装量各部を制御
するとともに、コマンドの実行状況に応じて該当ザるコ
マンド処理の実行終了コードをコンソールCP U 3
1に送信する。これは、本体c p U 21とコンソ
ールCP U 31とを同期させるためである。ステッ
プ64で待機中のコンソールCPU31は、本体CP
U 21からのコマンド処理実行終了コードを受信する
とステップ61に戻って、次ラインのデータ続出を行な
う。
マンドを本体CP U 21に送信した後(ステップ6
3)、本体CP U 21から該コマンド処理実行終了
コードが送信されるまで待機する(ステップ64)。こ
れに対し、本体CP U 21では、コンソールCPU
31から受信したコマンドに従って露光装量各部を制御
するとともに、コマンドの実行状況に応じて該当ザるコ
マンド処理の実行終了コードをコンソールCP U 3
1に送信する。これは、本体c p U 21とコンソ
ールCP U 31とを同期させるためである。ステッ
プ64で待機中のコンソールCPU31は、本体CP
U 21からのコマンド処理実行終了コードを受信する
とステップ61に戻って、次ラインのデータ続出を行な
う。
また、ステップ61で読出したデータがコマンドの繰返
し実行を表わすステートメントrLOOPJであれば、
ステップ65に進んでループ処理を実行する。このルー
プ処理は、繰返して実行すべきコマンド(またはコマン
ド群)が記載されているステップナンバ範囲と繰返し回
数とを記憶し、上記1ラインを読出す際のいわばライン
(またはステップナンバ)ポインタともいうべきカウン
タをセットするものである。
し実行を表わすステートメントrLOOPJであれば、
ステップ65に進んでループ処理を実行する。このルー
プ処理は、繰返して実行すべきコマンド(またはコマン
ド群)が記載されているステップナンバ範囲と繰返し回
数とを記憶し、上記1ラインを読出す際のいわばライン
(またはステップナンバ)ポインタともいうべきカウン
タをセットするものである。
例えば、第4図(C)に示す動作シーケンスを実行する
場合について説明すると、ステップナンバS1のデータ
は、ステー1〜メントr L OOP Jであるから、
繰返して実行すべきコマンドが記載されているステップ
ナンバ範囲$2〜S3および繰返し回数10をコンソー
ルCP U 31内のRAMエリアに記憶しておく。そ
して、次のステップナンバS2から83の間の続出処理
(ステップ63.64実行)の際、ステップナンバS3
の実行回数を計数してこれが10回未満であれば、上記
カウンタをステップナンバ$3から・ステップナンバS
2に戻し、10回になって初めて、ステップナンバS3
から次のステップナンバS4に進める。
場合について説明すると、ステップナンバS1のデータ
は、ステー1〜メントr L OOP Jであるから、
繰返して実行すべきコマンドが記載されているステップ
ナンバ範囲$2〜S3および繰返し回数10をコンソー
ルCP U 31内のRAMエリアに記憶しておく。そ
して、次のステップナンバS2から83の間の続出処理
(ステップ63.64実行)の際、ステップナンバS3
の実行回数を計数してこれが10回未満であれば、上記
カウンタをステップナンバ$3から・ステップナンバS
2に戻し、10回になって初めて、ステップナンバS3
から次のステップナンバS4に進める。
また、ステップ61で読出したデータがステートメント
rENDJであれば、このステートメントrENDJは
動作シーケンスが終了したことを示すから、ステップ6
6に進んで、この動作シーケンス実行処理を終了する。
rENDJであれば、このステートメントrENDJは
動作シーケンスが終了したことを示すから、ステップ6
6に進んで、この動作シーケンス実行処理を終了する。
従って、この露光装置においては、前述のコマンド入力
待ち状態で、キーボード12よりコマンドとしてファイ
ル名rZ MEASUREJを入力すると、第4図(
C>に示すU)作シーケンスを実行する。つまり、第6
図に示すように、Zステージを0.5μm上昇させて(
ステップナンバ82)はフA−カス検出装置27で計測
したウェハ4の位置(z8標)をCRTllに表示する
(ステップナンバS3>という動作を10回繰返したく
ステップナンバ81)I、動作を終了する(ステップナ
ンバ34)。
待ち状態で、キーボード12よりコマンドとしてファイ
ル名rZ MEASUREJを入力すると、第4図(
C>に示すU)作シーケンスを実行する。つまり、第6
図に示すように、Zステージを0.5μm上昇させて(
ステップナンバ82)はフA−カス検出装置27で計測
したウェハ4の位置(z8標)をCRTllに表示する
(ステップナンバS3>という動作を10回繰返したく
ステップナンバ81)I、動作を終了する(ステップナ
ンバ34)。
従来の装置において、このように7ステージを0.5μ
mずつ上背させてエアフォーカス検出装置27で7ステ
一ジ位置を計測しコンソール表示しようとすれば、オペ
レータが付きっきりで、コマンド入力持ち状態において
先ずコマンドrZDJを入力し、その露光装置が7駆動
を終了してコマンド入力持ら状態に戻ったことを確認し
た後、コマンドrFcJを入ノJするというようなキー
人力操作を10回繰返す必要があった。
mずつ上背させてエアフォーカス検出装置27で7ステ
一ジ位置を計測しコンソール表示しようとすれば、オペ
レータが付きっきりで、コマンド入力持ち状態において
先ずコマンドrZDJを入力し、その露光装置が7駆動
を終了してコマンド入力持ら状態に戻ったことを確認し
た後、コマンドrFcJを入ノJするというようなキー
人力操作を10回繰返す必要があった。
[発明の効果コ
以上のように、本発明によれば、ユーザサイドでユーザ
の希望する動作シーケンスを1つのコマンドとして登録
することができるので、半導体製造装置の7駆動装置の
精度検査や駆動り較正のように従来極めて面倒であった
操作を1つのコマンドを入力するという極めて簡単な操
作だけで装置に自動的に行なわせることができる。
の希望する動作シーケンスを1つのコマンドとして登録
することができるので、半導体製造装置の7駆動装置の
精度検査や駆動り較正のように従来極めて面倒であった
操作を1つのコマンドを入力するという極めて簡単な操
作だけで装置に自動的に行なわせることができる。
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
斜視図、 第2図は、第1図の装置の電気回路構成図、第3.5お
よび6図は第1図の装置の動作を説明するためのフロー
チャート、 第4図は、第1図の装置におけるCRTの表示両面例を
示す図である。 11:モニタ用CRT、12:キーボード、21:本体
CPU、30:コンソールCPU、34:外部メモリ。
斜視図、 第2図は、第1図の装置の電気回路構成図、第3.5お
よび6図は第1図の装置の動作を説明するためのフロー
チャート、 第4図は、第1図の装置におけるCRTの表示両面例を
示す図である。 11:モニタ用CRT、12:キーボード、21:本体
CPU、30:コンソールCPU、34:外部メモリ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、動作指令入力手段を介して入力される動作指令に従
つた複数種類の動作が可能な半導体製造装置において、
複数個の動作指令およびその動作指令の実行タイミング
を予め入力する動作シーケンス入力手段と、該動作シー
ケンス入力手段により入力された動作指令/実行タイミ
ング列を1つのコマンドとして記憶する手段と、該記憶
したコマンドが上記動作指令入力手段を介して指定され
たときは上記実行タイミングごとに上記動作指令を読出
して装置本体に与える読出手段とを設け、ユーザが上記
動作指令群を組合せて新しいシーケンスを作成し実行さ
せることを可能にしたことを特徴とする半導体製造装置
。 2、前記動作指令入力手段がキーボードであり、前記動
作シーケンス入力手段を兼ねている特許請求の範囲第1
項記載の半導体製造装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60164798A JPS6225417A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
US07/752,986 US5197118A (en) | 1985-07-25 | 1991-09-03 | Control system for a fine pattern printing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60164798A JPS6225417A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6107398A Division JPH07311607A (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | シーケンス制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6225417A true JPS6225417A (ja) | 1987-02-03 |
JPH0535565B2 JPH0535565B2 (ja) | 1993-05-26 |
Family
ID=15800133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60164798A Granted JPS6225417A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6225417A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002231621A (ja) * | 2001-11-19 | 2002-08-16 | Canon Inc | 露光装置およびそのユニットの駆動方法 |
JPWO2006019166A1 (ja) * | 2004-08-19 | 2008-05-08 | 株式会社ニコン | アライメント情報表示方法とそのプログラム、アライメント方法、露光方法、デバイス製造方法、表示システム、表示装置、プログラム及び測定/検査装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57188340U (ja) * | 1981-05-25 | 1982-11-30 | ||
JPS58159110A (ja) * | 1982-03-18 | 1983-09-21 | Mitsubishi Electric Corp | 対話形図形デ−タベ−ス作成及び修正方式 |
JPS6084605A (ja) * | 1983-07-25 | 1985-05-14 | ラ テレメカニク エレクトリク | プログラマブルコントローラ用プログラムを作成するプログラミング端末装置 |
JPS60101540A (ja) * | 1983-11-07 | 1985-06-05 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影光学装置 |
-
1985
- 1985-07-25 JP JP60164798A patent/JPS6225417A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57188340U (ja) * | 1981-05-25 | 1982-11-30 | ||
JPS58159110A (ja) * | 1982-03-18 | 1983-09-21 | Mitsubishi Electric Corp | 対話形図形デ−タベ−ス作成及び修正方式 |
JPS6084605A (ja) * | 1983-07-25 | 1985-05-14 | ラ テレメカニク エレクトリク | プログラマブルコントローラ用プログラムを作成するプログラミング端末装置 |
JPS60101540A (ja) * | 1983-11-07 | 1985-06-05 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影光学装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002231621A (ja) * | 2001-11-19 | 2002-08-16 | Canon Inc | 露光装置およびそのユニットの駆動方法 |
JPWO2006019166A1 (ja) * | 2004-08-19 | 2008-05-08 | 株式会社ニコン | アライメント情報表示方法とそのプログラム、アライメント方法、露光方法、デバイス製造方法、表示システム、表示装置、プログラム及び測定/検査装置 |
JP4715749B2 (ja) * | 2004-08-19 | 2011-07-06 | 株式会社ニコン | アライメント情報表示方法とそのプログラム、アライメント方法、露光方法、デバイス製造方法、表示システム、表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0535565B2 (ja) | 1993-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6225417A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP2869826B2 (ja) | 半導体製造方法 | |
JPH07311607A (ja) | シーケンス制御方法 | |
JPH1140469A (ja) | リソグラフィシステム及びその作業管理方法 | |
US5197118A (en) | Control system for a fine pattern printing apparatus | |
JPS6225421A (ja) | 半導体製造装置 | |
JPS6225419A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP2676249B2 (ja) | 半導体露光装置 | |
JPS6225418A (ja) | 半導体製造装置 | |
JPH08153674A (ja) | 半導体製造装置およびデバイス製造方法 | |
JP3001938B2 (ja) | マスクの製造方法及び露光データ作成装置 | |
JPS6225422A (ja) | 半導体製造装置 | |
JPS62203333A (ja) | 半導体焼付露光装置 | |
JPS6225423A (ja) | 半導体製造装置 | |
JPH0695722A (ja) | 設備機械制御シーケンスの作成方法 | |
JPH0383321A (ja) | 投影露光装置 | |
JPS62133719A (ja) | 半導体製造装置 | |
JPH0464215A (ja) | 露光装置の動作制御装置 | |
KR20040066964A (ko) | 레티클 좌표계를 관리하기 위한 노광 장치 및 그 방법 | |
JP2614188B2 (ja) | コマンド管理方法 | |
JPH08153672A (ja) | 半導体製造装置およびデバイス製造方法 | |
JPS6225420A (ja) | 半導体製造装置 | |
KR20050065215A (ko) | 노광장비의 로그 파일 분석 시스템 및 분석방법 | |
JPH05144695A (ja) | 露光装置 | |
JPH08153673A (ja) | 半導体製造装置およびその駆動方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |