JPS62235466A - 蒸着物質発生装置 - Google Patents
蒸着物質発生装置Info
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- JPS62235466A JPS62235466A JP7417886A JP7417886A JPS62235466A JP S62235466 A JPS62235466 A JP S62235466A JP 7417886 A JP7417886 A JP 7417886A JP 7417886 A JP7417886 A JP 7417886A JP S62235466 A JPS62235466 A JP S62235466A
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- vapor deposition
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- Pending
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はるつぼを用いた蒸着物質発生装置に関し、特に
誘導方式によるガスプラズマを加熱手段とする蒸着物質
発生装置に関する。
誘導方式によるガスプラズマを加熱手段とする蒸着物質
発生装置に関する。
従来の蒸着物質発生装置、特にクラスターイオンビーム
を用いた蒸着物質発生装置における加熱方式は、るつぼ
の周囲にタングステンコイルあるいはカーボン発熱体を
配した抵抗加熱型あるいは電子衝箪型のいずれかであっ
た。
を用いた蒸着物質発生装置における加熱方式は、るつぼ
の周囲にタングステンコイルあるいはカーボン発熱体を
配した抵抗加熱型あるいは電子衝箪型のいずれかであっ
た。
しかし、これらの方式ではるつぼ内の温度は最高２００
０℃までしか上がらないため、るつぼ材、蒸着物質が限
定されたり、高温での温度制御が困難であるという問題
点があった。
０℃までしか上がらないため、るつぼ材、蒸着物質が限
定されたり、高温での温度制御が困難であるという問題
点があった。
また、るつぼ材としては導伝性をもつカーボンが広く使
用されているがカーボン材の場合は酸化物がるつぼ内で
還元されるという問題点があった。
用されているがカーボン材の場合は酸化物がるつぼ内で
還元されるという問題点があった。
本発明は上記問題点に鑑み成されたものであり、その目
的は蒸着物質を高温に加熱することができ、蒸着物質、
るつぼ材を限定しない蒸着物質発生装置を提供すること
にある。
的は蒸着物質を高温に加熱することができ、蒸着物質、
るつぼ材を限定しない蒸着物質発生装置を提供すること
にある。
（問題点を解決するための手段〕
本発明の上記目的は、蒸着させる物質を入れるるつぼと
、該るつぼの周囲に設置され高周波電極と運なかってい
るコイルと、該るつぼ内部へのガス導入管とを有してな
る蒸着物質発生装置によって達成される。
、該るつぼの周囲に設置され高周波電極と運なかってい
るコイルと、該るつぼ内部へのガス導入管とを有してな
る蒸着物質発生装置によって達成される。
本発明の蒸着物質発生装置としてクラスターイオンビー
ム作成用のノズルを設けた装置の一態様例を第１図に示
す。
ム作成用のノズルを設けた装置の一態様例を第１図に示
す。
第１図の構成は、ガス導入管１、ノズル２、クラスタイ
オンビーム用ノズル付るつぼキャップ３、誘導加熱用水
冷銅コイル４、誘導熱プラズマ５、被蒸着物６、るつぼ
７、高周波電源８である。
オンビーム用ノズル付るつぼキャップ３、誘導加熱用水
冷銅コイル４、誘導熱プラズマ５、被蒸着物６、るつぼ
７、高周波電源８である。
ガス導入管１から熱プラズマ発生用のガス（０２、Ｎ２
、Ａ「等）を導入しつつ高周波電源８を入れると、るつ
ぼ中誘導加熱用水冷銅コイル４の中心付近において該ガ
スが電離し、熱プラズマが発生する（以上、誘導加熱方
式）。この熱プラズマの熱によって被蒸着物６が融解蒸
発され、遊離した原子又は分子がその状態で、あるいは
原子又は分子と熱プラズマ発生用のガス（０２、Ｎｚ等
）成分との反応物がノズルより吹き出される。
、Ａ「等）を導入しつつ高周波電源８を入れると、るつ
ぼ中誘導加熱用水冷銅コイル４の中心付近において該ガ
スが電離し、熱プラズマが発生する（以上、誘導加熱方
式）。この熱プラズマの熱によって被蒸着物６が融解蒸
発され、遊離した原子又は分子がその状態で、あるいは
原子又は分子と熱プラズマ発生用のガス（０２、Ｎｚ等
）成分との反応物がノズルより吹き出される。
上記原子又は分子あるいは反応物はノズルを通る際にク
ラスターを形成するが、クラスターの大きさはノズルの
径によって変化し、調整によっては１０００個程度が集
団化したものが吹き出される。
ラスターを形成するが、クラスターの大きさはノズルの
径によって変化し、調整によっては１０００個程度が集
団化したものが吹き出される。
本発明における誘導加熱方式により発生する熱プラズマ
の温度は、静ガスを用いた場合＋００００ を前後、０
２、Ｎ２ガスを用いた場合には５０００”Ｃ前後である
。
の温度は、静ガスを用いた場合＋００００ を前後、０
２、Ｎ２ガスを用いた場合には５０００”Ｃ前後である
。
本発明の蒸着物質発生装置は、るつぼ内を従来よりも非
常に高温にすることができるので、蒸着物質としては従
来使用でなかった勤、Ｔａ、 Ｚｒ、 Ｔｉ等の高融点
金属や、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の高融点酸
化物などを使用することができ、新しい化合物のイオン
ビームを発生することができる。また、カーボン材以外
の加熱効率の悪い材料もるつぼ材として使用することが
できる。
常に高温にすることができるので、蒸着物質としては従
来使用でなかった勤、Ｔａ、 Ｚｒ、 Ｔｉ等の高融点
金属や、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の高融点酸
化物などを使用することができ、新しい化合物のイオン
ビームを発生することができる。また、カーボン材以外
の加熱効率の悪い材料もるつぼ材として使用することが
できる。
また、本発明においては熱プラズマを発生させるにおい
て、高真空を必要としない誘導加熱方式を用いているた
め、真空系の装置が必要とならない。
て、高真空を必要としない誘導加熱方式を用いているた
め、真空系の装置が必要とならない。
本発明の蒸着物質発生装置を使用してイオンビームを発
生させるには、上述のようにるつぼ内に蒸着物質を入れ
ておいて加熱する方法に限らず、ガス導入管１から水素
化物やフッ素化物ガスなどの化合物ガスを導入すると、
それらのガスが電離分解されてノズルからイオンビーム
が吹き出される、という方法をとってもよい。
生させるには、上述のようにるつぼ内に蒸着物質を入れ
ておいて加熱する方法に限らず、ガス導入管１から水素
化物やフッ素化物ガスなどの化合物ガスを導入すると、
それらのガスが電離分解されてノズルからイオンビーム
が吹き出される、という方法をとってもよい。
第２図は、ガス導入管を用いずにクラスターイオンビー
ムを発生させる蒸着物質発生装置の模式図である。この
装置においては主熱源はコイルであり、コイルはるつぼ
内の蒸着物質を加熱できる位置に（図中においては下部
）設置される。この場合、るつぼあるいは蒸着物質のど
ちらかが金属であることが必要である。
ムを発生させる蒸着物質発生装置の模式図である。この
装置においては主熱源はコイルであり、コイルはるつぼ
内の蒸着物質を加熱できる位置に（図中においては下部
）設置される。この場合、るつぼあるいは蒸着物質のど
ちらかが金属であることが必要である。
７ｇ３図は第２図に示したような装置に、保温及び間接
加熱のためにタングステンリフレクタ−１Ｏ１ＢＮ製の
りフレフタ−押さえ９を設けた装置であり、非導伝性の
蒸着物質及びるつぼを３０００℃まで加熱することが可
能である。
加熱のためにタングステンリフレクタ−１Ｏ１ＢＮ製の
りフレフタ−押さえ９を設けた装置であり、非導伝性の
蒸着物質及びるつぼを３０００℃まで加熱することが可
能である。
以上のように本発明の蒸着物質発生装置は、・酸素、窒
素等と導入するガスを変えることにより１０００℃〜１
００００℃くらいまでの高温を容易に変化させて発生さ
せることが可能で、 ・高融点金属及びそれらの酸化物やチッ化物等の従来は
形成されなかった物質の膜や微粒子を形成することがで
き、 ・るつぼ材として広範囲の耐火材を使用できる、等の効
果がある。
素等と導入するガスを変えることにより１０００℃〜１
００００℃くらいまでの高温を容易に変化させて発生さ
せることが可能で、 ・高融点金属及びそれらの酸化物やチッ化物等の従来は
形成されなかった物質の膜や微粒子を形成することがで
き、 ・るつぼ材として広範囲の耐火材を使用できる、等の効
果がある。
第１図は本発明の蒸着物質発生装置の模式断面図であり
、第２図はガス導入管を用いない蒸着物質発生装置の模
式断面図であり、第３図は第２図の装置に保温及び間然
加熱用リフレクタ−を設置した装置の模式断面図である
。 １：ガス導入管 ２：ノズル ３：るつぼキャップ ４：誘導加熱用水冷銅コイル ５：誘導熱プラズマ ６：被蒸着物 ７：るつぼ ８：高周波電極
、第２図はガス導入管を用いない蒸着物質発生装置の模
式断面図であり、第３図は第２図の装置に保温及び間然
加熱用リフレクタ−を設置した装置の模式断面図である
。 １：ガス導入管 ２：ノズル ３：るつぼキャップ ４：誘導加熱用水冷銅コイル ５：誘導熱プラズマ ６：被蒸着物 ７：るつぼ ８：高周波電極
Claims (1)
- 蒸着させる物質を入れるるつぼと、該るつぼの周囲に設
置され高周波電極と連ながっているコイルと、該るつぼ
内部へのガス導入管とを有してなる蒸着物質発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7417886A JPS62235466A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 蒸着物質発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7417886A JPS62235466A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 蒸着物質発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62235466A true JPS62235466A (ja) | 1987-10-15 |
Family
ID=13539649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7417886A Pending JPS62235466A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 蒸着物質発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62235466A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0652303A1 (en) * | 1993-11-09 | 1995-05-10 | General Vacuum Equipment Limited | Evaporator for vacuum web coating |
| GB2361051A (en) * | 2000-04-04 | 2001-10-10 | Applied Materials Inc | Vaporiser for generating feed gas |
| KR100994333B1 (ko) | 2008-03-03 | 2010-11-12 | 이병철 | 혼합 플라즈마 발생장치 및 방법, 그리고 혼합 플라즈마를이용한 전열 조리장치 |
| KR101212513B1 (ko) | 2010-05-20 | 2012-12-14 | 이병철 | 플라즈마 가열장치 |
-
1986
- 1986-04-02 JP JP7417886A patent/JPS62235466A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0652303A1 (en) * | 1993-11-09 | 1995-05-10 | General Vacuum Equipment Limited | Evaporator for vacuum web coating |
| GB2361051A (en) * | 2000-04-04 | 2001-10-10 | Applied Materials Inc | Vaporiser for generating feed gas |
| GB2361051B (en) * | 2000-04-04 | 2004-01-28 | Applied Materials Inc | A vaporiser for generating feed gas for an arc chamber |
| US7004234B2 (en) | 2000-04-04 | 2006-02-28 | Applied Materials, Inc. | Vaporizer for generating feed gas for an arc chamber |
| KR100994333B1 (ko) | 2008-03-03 | 2010-11-12 | 이병철 | 혼합 플라즈마 발생장치 및 방법, 그리고 혼합 플라즈마를이용한 전열 조리장치 |
| KR101212513B1 (ko) | 2010-05-20 | 2012-12-14 | 이병철 | 플라즈마 가열장치 |
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