JPS62231245A - Photosensitive flexo plate - Google Patents
Photosensitive flexo plateInfo
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- JPS62231245A JPS62231245A JP7408386A JP7408386A JPS62231245A JP S62231245 A JPS62231245 A JP S62231245A JP 7408386 A JP7408386 A JP 7408386A JP 7408386 A JP7408386 A JP 7408386A JP S62231245 A JPS62231245 A JP S62231245A
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- rubber
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は紫外線吸収剤としてフルオラン系化合物および
/またはフルオレン系化合物を使用する感光性重合体組
成物に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a photosensitive polymer composition using a fluoran compound and/or a fluorene compound as an ultraviolet absorber.
(従来の技術)
従来、高分子重合体、エチレン性不飽和単量体剤、熱重
合付加抑制剤およびハレーション防止剤として添加する
ことが特公昭51−43373号公報、特開昭57−1
57237号公報、%開昭58−62640号公報など
により公知である。(Prior art) Conventionally, it has been added as a high molecular weight polymer, an ethylenically unsaturated monomer agent, a thermal polymerization addition inhibitor, and an antihalation agent as disclosed in Japanese Patent Publication No. 43373/1983 and Japanese Patent Application Laid-open No. 57-1.
It is publicly known from Japanese Patent No. 57237, Japanese Patent Publication No. 58-62640, etc.
近年、印刷技術の進歩に伴い、フレキソ版に対しよυ高
水準の印刷面の形成精度が要求されるようになってきて
いる。従来公知の紫外線吸収剤の使用ではこの要求を満
足させることは困難で、ポジ型(凸版の細線)に比して
ネガ型(凹版の白抜き細線)の印刷面の形成61度(以
下解像度と称する)が劣り、改善が要望されている。In recent years, with advances in printing technology, flexographic plates are required to have a higher level of printing surface formation precision. It is difficult to satisfy this requirement with the use of conventionally known ultraviolet absorbers, and the printing surface formation rate of 61 degrees (hereinafter referred to as resolution) for negative type (thin white lines on intaglio) is higher than that of positive type (thin lines on letterpress). ) is inferior, and improvements are desired.
(発明が解決しようとする問題点)
従って、本発明の目的は解像度の改善された感光性重合
体組成物の提供にあり、本発明は紫外線吸収剤としてフ
ルオラン系化合物および/またはフルオレン系化合物を
使用することによりネガ型及びポジ型の双方の画像の解
像度を大幅に向上させ得ると共に露光速度の調節が容易
であること、着色が鮮かであり、露光現像後の退色、変
色が少ないことと見い出し、これらの知見に基づいて本
発明を完成するに到った。(Problems to be Solved by the Invention) Therefore, an object of the present invention is to provide a photosensitive polymer composition with improved resolution, and the present invention uses a fluoran compound and/or a fluorene compound as an ultraviolet absorber. By using it, the resolution of both negative and positive images can be greatly improved, the exposure speed can be easily adjusted, the coloring is bright, and there is little fading or discoloration after exposure and development. Based on these findings, we have completed the present invention.
(問題点?解決するための手段〕
かくして本発明によれば、高分子重合体、エチレン性不
飽和単量体および光重合開始剤から成る感光性重合体組
成物において、フルオラン系化合物および/またはフル
オレン系化合物を添加したことfC特徴とする感光性重
合体組成物が提供される。(Problems? Means for Solving) Thus, according to the present invention, in a photosensitive polymer composition comprising a high molecular weight polymer, an ethylenically unsaturated monomer, and a photopolymerization initiator, a fluoran compound and/or A photosensitive polymer composition characterized by the addition of a fluorene compound is provided.
本発明の感光性重合体組成物を構成する高分子重合体、
エチレン性不飽和単量体及び光重合開始剤はいずれも従
来から使用されているものが使用でき、本発明において
はいずれも特に限定されない0
本発明に使用される高分子重合体としてはポリイソグレ
ンゴム、ポリブタジェンゴム、1.2−ポリブタジェン
、スチレン−ブタジェン共重合体ゴム、ポリクロログレ
ンゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジェン共重合体ゴム、アクリロニトリル
−ブタジェン−インプレン共重合ゴム、クロルスルホン
化ポリエチレン、ブチルゴム、アクリルゴム1、エピク
ロルヒドリンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム、特公昭
51−45574号公報開示のポリステレンーポリイン
グレンーボリステレン、ポリステレンーボリブタジエン
ーボリスチレン等の熱可塑ブロック重合体ゴム及びこれ
らの水素化物などのゴム状重合体が例示される。A high molecular weight polymer constituting the photosensitive polymer composition of the present invention,
Both the ethylenically unsaturated monomer and the photopolymerization initiator can be those conventionally used, and in the present invention, neither is particularly limited. Glen rubber, polybutadiene rubber, 1,2-polybutadiene, styrene-butadiene copolymer rubber, polychlorograne rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene-imprene copolymer Rubber, chlorosulfonated polyethylene, butyl rubber, acrylic rubber 1, epichlorohydrin rubber, fluororubber, urethane rubber, polysterene-polyingrene-borysterene disclosed in Japanese Patent Publication No. 51-45574, polysterene-polybutadiene-boristyrene, etc. Rubbery polymers such as thermoplastic block polymer rubbers and hydrides thereof are exemplified.
また塩化ビニルとアクリロニトリル、メチルメタクリレ
ートあるいは酢酸ビニルなどとの共重合体;酢酸ビニル
とエチレン、アクリレートあるいはメチルメタクリレー
トなどとの共重合体;ポリメチルメタクリレートなどの
ポリアルキルアクリレート;6−ナイロン、ベローナイ
ロン、12−ナイロンなどのポリアミド類などの樹脂状
あるいは皮革状重合体も挙げられる◎
本発明で使用されるエチレン性不飽和単量体としては通
常二官能性以上のものが使用される。例えばプチルジ(
メタ)アクリレ−)、1.6−ヘキジジ(メタ〕アクリ
レート、ネオベンチルジ(メタ)アクリレート、エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン
トリ(メタ)アクリレ−)、N−N’−メチレンビスア
クリルアミド等上記の高分子重合体と融和混合物を形成
するような単量体があげられる。これらは単独または2
珈以上を混合して使用され、高分子重合体100N景部
に対し通常5〜100重量部、好ましくは5〜20重量
部の範囲で使用される。Also, copolymers of vinyl chloride and acrylonitrile, methyl methacrylate, or vinyl acetate; copolymers of vinyl acetate and ethylene, acrylate, or methyl methacrylate; polyalkyl acrylates such as polymethyl methacrylate; 6-nylon, bellow nylon, Resin-like or leather-like polymers such as polyamides such as 12-nylon may also be mentioned.◎ As the ethylenically unsaturated monomer used in the present invention, those having difunctionality or higher are usually used. For example, Petilji (
meth)acrylate), 1,6-hexidi(meth)acrylate, neobentyl di(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylol Examples include monomers that form a compatible mixture with the above-mentioned polymers, such as ethanetri(meth)acrylate) and N-N'-methylenebisacrylamide. These can be used alone or in combination
It is used in a mixture of at least 100% of the polymer, and is used in an amount of usually 5 to 100 parts by weight, preferably 5 to 20 parts by weight, based on 100N of the high molecular weight polymer.
本発明で使用される光重合開始剤としては、アシロイン
例えば、ベンゾインおよびベンゾインのアルキルエーテ
ルなど;ビアナルジケトン例えば、ベンジル、ジアセチ
ルなト、ジフェニルスルフィト、エオシン、チオニン、
ベンゾフェノン、チオキサ7トン誘導体などを高分子重
合体100重景部に対して、通常0.001〜10重量
部、好ましくは口、01〜5!量部の範囲で使用される
。Photopolymerization initiators used in the present invention include acyloin, such as benzoin and alkyl ethers of benzoin; biinal diketones, such as benzyl, diacetyl, diphenyl sulfite, eosin, thionin,
Benzophenone, thioxa 7ton derivatives, etc. are usually added in an amount of 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of the polymer. Used in quantitative parts.
本発明においては必要に応じてクレゾール系、フェノー
ル系、ハイドロキノン系の化合物などが熱重合禁止剤と
して使用される。その使用量は高分子重合体100重量
部に対して通常0.01〜1重鐘部の範囲である。In the present invention, cresol-based, phenol-based, hydroquinone-based compounds, etc. are used as thermal polymerization inhibitors, if necessary. The amount used is usually in the range of 0.01 to 1 part by weight per 100 parts by weight of the polymer.
本発明で使用される紫外線吸収剤はフルオラン系化合物
および/lたはフルオレン系化合物であり、この化合物
は露光時の内部散乱により発生するラディエーションを
抑制し、その結果として解像度を向上させる働きをする
ものである〇本発明で使用されるフルオラン系化合物お
よびフルオレン系化合物としてはそれぞれフルオラン骨
格およびフルオレン骨格を有し、紫外線吸収能を有する
化合物が用いられる。The ultraviolet absorber used in the present invention is a fluorane compound and/or a fluorene compound, and this compound has the function of suppressing radiation caused by internal scattering during exposure and improving resolution as a result. As the fluoran compound and fluorene compound used in the present invention, compounds having a fluoran skeleton and a fluorene skeleton, respectively, and having ultraviolet absorption ability are used.
フルオラン系化合物としては、例えばS、6−N、N−
ジエチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−
アミノフルオラン、3−N、N−ジエチルアミノ−7−
メチルアミノフルオラン、スピロ(キサンチン−21−
スチレン) −2,6−ビス(ジエチルアミノ)−3−
オン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−アルキル
(108〜16)アミノフルオラン、3−ジエチルアミ
ノ−7−シクロヘキシルアミノフルオラン、3−ジエチ
ルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−
ジエ”チルアミノ−6−メチル−7−キシリジノフルオ
ラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−P−プテ
ルアニリノフルオラン、スピロ(キサンチン−9,1−
フラタン) −5,6−ビス(N−メチルアニリノ)−
3−オン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチ
ル−P−)ルイジノ)フルオラン、2−(N−フェニル
−N−メチルアミノ)−6−(N−7)−)ジル−N−
エチル)アミノ−フルオラン、3−(N、N−ジエチル
アミノ)−7−(NtN’−ジベンジルアば))フルオ
ラン、3−(N、N−ジエチルアミノ)−5−メチル−
7−(N、N’−ジベンジルアミノ)フルオラン、5−
(N、N−ジエチルアミノ)−7−ビス(ジメチルベン
ジル)アミノフルオラン、5−(11−シクロヘキシル
−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフル
オラン、3−ジエチルアミノ−7−N−7クロヘキシル
ーN−ベンジルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ
ー7−クロロアニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ
−6−メチル−7−p−フエネチジノフルオラン、3−
ジエチルアミノ−7−(2−カルボメトキシアニリノ)
フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−クロロフルオラ
ン、3−ジニチルアミノ−6−メチル−7−クロロフル
オラン、3−シクロヘキシルアミノ−6−クロロフルオ
ラン、3−ベンジルアミノ−6−クロロフルオラン、3
.6−シヒドロオキシースピロ〔イソベンゾフラン−1
(5H)、?’−[9H]キサンチン〕−3−オンのア
ルミニウム塩、5.6−シメトキシフルオラン、2,4
,5.7−チトラブロムフルオレセン、2.4.5.7
−チトラプロモー12.13.14.15−テトラクロ
ロ−46−フルオラン、ジオールのアルミニウムレーキ
、5.6−シヒドロキシー4.5’−ジョードースピロ
〔イソペンシフラフ−1(3H)。Examples of fluoran compounds include S, 6-N, N-
Diethylaminofluorane, 3-diethylamino-7-
Aminofluorane, 3-N,N-diethylamino-7-
Methylaminofluorane, spiro(xanthine-21-
styrene) -2,6-bis(diethylamino)-3-
on, 3-diethylamino-6-methyl-7-alkyl (108-16) aminofluorane, 3-diethylamino-7-cyclohexylaminofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-
Die"thylamino-6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-P-puteranilinofluorane, spiro(xanthine-9,1-
Furatane) -5,6-bis(N-methylanilino)-
3-one, 2-anilino-3-methyl-6-(N-ethyl-P-)luidino)fluoran, 2-(N-phenyl-N-methylamino)-6-(N-7)-)dyl- N-
ethyl)amino-fluorane, 3-(N,N-diethylamino)-7-(NtN'-dibenzylaba))fluorane, 3-(N,N-diethylamino)-5-methyl-
7-(N,N'-dibenzylamino)fluorane, 5-
(N,N-diethylamino)-7-bis(dimethylbenzyl)aminofluorane, 5-(11-cyclohexyl-N-methylamino)-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-7-N -7 Chlohexyl-N-benzylaminofluorane, 3-diethylamino-7-chloroanilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-p-phenetidinofluorane, 3-
Diethylamino-7-(2-carbomethoxyanilino)
Fluoran, 3-diethylamino-7-chlorofluoran, 3-dinithylamino-6-methyl-7-chlorofluoran, 3-cyclohexylamino-6-chlorofluoran, 3-benzylamino-6-chlorofluoran, 3
.. 6-Sihydroxyspiro[isobenzofuran-1
(5H),? '-[9H]xanthine]-3-one aluminum salt, 5,6-simethoxyfluorane, 2,4
, 5.7-titrabromofluorescene, 2.4.5.7
-Titrapromo 12.13.14.15-Tetrachloro-46-fluorane, aluminum lake of diol, 5,6-cyhydroxy-4,5'-jodosespiro[isopencyflav-1 (3H).
9’−(9H)キサンチンツー3オンのアルミニウム塩
、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−ピロリジノ−7−シクロヘキシルアミノフルオ
ラン、3.6−ビス(ジエチルアミノ)フルオラン−r
−アニリノラクタムなどが挙げられる。Aluminum salt of 9'-(9H)xanthinetwo-3one, 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-pyrrolidino-7-cyclohexylaminofluorane, 3.6-bis(diethylamino)fluorane- r
-Anilinolactam and the like.
フルオレン系化合物としては、例えば9−(4−ジメチ
ルアミノ−2−カルボキシフェニル)−6,6−ジメチ
ルアミノフルオレン、9−(4−ジメチルアミノ−2−
カルボキシフェニル)−3−ジエチルアミノ−6−ジメ
チルアミノフルオレン、9−(4−ジメチルアミノ−2
−カルボキシフェニル)−3−ジグ口ピルアミノ−6−
ジメチルアミノフルオレン、9−(4−ジエチルアミノ
−2−カルボキシフェニル) −3,6−ジメチルアミ
ノフルオレン、9−(4−ジブチルアミノ−2−カルボ
キシフェニル)−3−ジメチルアミノ−6−ジメチルア
ミノフルオレンなどが挙げられる。Examples of fluorene compounds include 9-(4-dimethylamino-2-carboxyphenyl)-6,6-dimethylaminofluorene, 9-(4-dimethylamino-2-
carboxyphenyl)-3-diethylamino-6-dimethylaminofluorene, 9-(4-dimethylamino-2
-carboxyphenyl)-3-zigbutyramino-6-
Dimethylaminofluorene, 9-(4-diethylamino-2-carboxyphenyl)-3,6-dimethylaminofluorene, 9-(4-dibutylamino-2-carboxyphenyl)-3-dimethylamino-6-dimethylaminofluorene, etc. can be mentioned.
これらの化合物は1種または2種以上で使用され、高分
子重合体100重量部当り通常o、oooi〜0.5重
量部の範囲で使用される。These compounds may be used alone or in combination of two or more, and are usually used in an amount of o, oooi to 0.5 parts by weight per 100 parts by weight of the high molecular weight polymer.
本発明の感光性重合体組成物においては成形加工性や硬
さを調節する目的で必要に応じて分子量が1000〜5
000程度の液状重合体、石油樹脂、ポリテルペン系樹
脂あるいはポリエステル系樹脂等が高分子重合体100
3:i部当り60′Mi1部以下の範囲で添加される。The photosensitive polymer composition of the present invention may have a molecular weight of 1,000 to 5, if necessary, for the purpose of adjusting moldability and hardness.
Liquid polymers, petroleum resins, polyterpene resins, polyester resins, etc. of about 100% are high molecular weight polymers.
3: 60'Mi is added in a range of 1 part or less per i part.
また安定剤(老化防止剤)、熱重合禁止剤等その他の添
加剤も適宜使用される。Other additives such as stabilizers (anti-aging agents) and thermal polymerization inhibitors may also be used as appropriate.
本発明の感光性重合体組成物は高分子重合体と上記した
各成分とをニーダ−あるいはロール等の混合機を用いて
混合し、通常は、押出し機、プレスあるいはカレンダー
などの成形機を用いて所望の厚さのシートに成形される
。また本発明の組成物を有機溶剤に混合し、支持体上に
キャストしてシート化することもできる。これらのシー
トはフレキソ印刷用感光性重合体原版として使用され、
極めて優れた露光パターンの再現性、レリーフのエツジ
のシャープさが得られると共に該原版の着色も極めて鮮
かであり、紫外線照射による退色も変色もしない特徴を
有している。The photosensitive polymer composition of the present invention is prepared by mixing the high molecular weight polymer and the above-mentioned components using a mixer such as a kneader or a roll, and usually using a molding machine such as an extruder, press or calendar. It is then molded into a sheet of desired thickness. Alternatively, the composition of the present invention can be mixed with an organic solvent and cast onto a support to form a sheet. These sheets are used as photopolymer master plates for flexographic printing,
Extremely excellent exposure pattern reproducibility and relief edge sharpness can be obtained, and the original plate is extremely brightly colored, and has the characteristics of not fading or discoloring due to ultraviolet irradiation.
以下に実施例により本発明をさらに具体的に説明する。The present invention will be explained in more detail below with reference to Examples.
なお、実施例、比較例中の部数および俤は重量基準であ
る。Note that the numbers of parts and amounts in Examples and Comparative Examples are based on weight.
実施例1
ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレンブロック
共重合体(日本ゼオン社製フィンタック3550)10
0部、液状ポリブタジェン(日本曹達社製ニラソーPB
B−1000)10部、2.6−ジ−t−ブチル−4−
メチルフェノール(BHT )0.3部を二軸ニーダ−
により130〜170℃の温度で混練混合した。仄いで
、ブタンジオールジアクリレート5部およびブタンジオ
ールジメタクリレート4部にベンゾインエチルエーテル
0.6部とフルオラン系紫外線吸収剤(採土ケ谷化学社
製Elot Pink −1) 0.0017部を溶解
したものを添加し、80〜120℃の温度で均一に混合
した◇同様にして第1表記載の配合処方により感光性組
成物を調製した。Example 1 Polystyrene-polyisoprene-polystyrene block copolymer (FinTac 3550 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) 10
0 parts, liquid polybutadiene (Niraso PB manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.
B-1000) 10 parts, 2,6-di-t-butyl-4-
0.3 part of methylphenol (BHT) was added to a twin-screw kneader.
The mixture was kneaded and mixed at a temperature of 130 to 170°C. In the dark, 0.6 parts of benzoin ethyl ether and 0.0017 parts of a fluoran ultraviolet absorber (Elot Pink-1 manufactured by Odugaya Chemical Co., Ltd.) were dissolved in 5 parts of butanediol diacrylate and 4 parts of butanediol dimethacrylate. and uniformly mixed at a temperature of 80 to 120° C. ◇ Similarly, a photosensitive composition was prepared according to the formulation shown in Table 1.
これらの組成物をそれぞれ減圧下に脱気し、2枚のポリ
エステルシートではさみ、5.2mlのスヘーサーを用
いて、120℃で100 o/cp<”の圧で3〜10
分グレメグレスリエステルシート間に五〇龍厚さのフレ
贅ソ感光性原版を得た。同様にして比較例として従来の
紫外線吸収剤を使用した感光性原版を調製した。Each of these compositions was degassed under reduced pressure, sandwiched between two polyester sheets, and heated using a 5.2 ml spacer at 120° C. and a pressure of 100 o/cp for 3 to 10 min.
A photosensitive original plate with a thickness of 50 mm was obtained between the Greme Gres ester sheets. Similarly, a photosensitive original plate using a conventional ultraviolet absorber was prepared as a comparative example.
片面のポリエステルシートをはがし、その面に評価用露
光パターンのあるネガフィルムを密着させた。 先ず長
面から露光機(日本電子精機社製JK−A5−8EI)
により3分間照射し、次いでネガフィルム面から10分
間照射した。One side of the polyester sheet was peeled off, and a negative film with an exposure pattern for evaluation was adhered to that side. First, use the exposure machine (JK-A5-8EI manufactured by JEOL Seiki Co., Ltd.) from the long side.
The film was irradiated for 3 minutes, and then irradiated for 10 minutes from the negative film side.
真先終了後、トリクaルエタン/イソグロビルアルコー
ル−10/1を入れたブラシ式洗い出し機(液温30℃
〕で現像を行った0現像時間7分で深さ14龍のレリー
フ像が形成された。後露光を5分間行ったのち得られた
レリーフ像を目視及び写真撮影によシ、100μ幅の細
線(凸型の細線〕、100μ幅の白抜き細!!(凹型の
細線)、1インチ長さ当りの150個のドツト(111
4点、100L/1nchと表示される)の再現性およ
びレリーフ像を感光板に垂直に切断した面のエツジのシ
ャープさをそれぞれ評価した。また、20段階の1jk
淡のあるパターンの再現性をグレイスケールによシ評価
し、再現段階の数字で表示した。After finishing the process, use a brush-type washing machine (liquid temperature: 30°C) containing trical ethane/isoglobil alcohol-10/1.
] A relief image of a dragon with a depth of 14 was formed in a development time of 7 minutes. After performing post-exposure for 5 minutes, the relief image obtained was visually inspected and photographed. 100 μ wide thin line (convex thin line), 100 μ wide white thin line!! (concave thin line), 1 inch long. 150 dots (111
The reproducibility of 4 points (expressed as 100 L/1 nch) and the sharpness of the edge of the surface of the relief image cut perpendicularly to the photosensitive plate were evaluated. Also, 20 levels of 1jk
The reproducibility of light patterns was evaluated using a gray scale and expressed as a number representing the reproducibility level.
以上の結果を第2表に示す。The above results are shown in Table 2.
第2表
第2表の結果はフルオラン系紫外線吸収剤を使用するこ
とによυ、グレイスケールの15段階以上まで再現され
ておシ、凸型および凹型の細線の再現性およびエツジの
シャープさも著しく改善されることを示している。又従
来の紫外線吸収剤を使用した場合には紫外線の照射によ
り感光板の着色が退色又は変色したが、フルオラン系の
紫外線吸収剤を使用した場合には退色も変色も全(認め
られなかった。Table 2 The results in Table 2 show that by using a fluoran-based ultraviolet absorber, more than 15 levels of gray scale can be reproduced, and the reproducibility of convex and concave fine lines and the sharpness of edges are also remarkable. It shows that it will be improved. Furthermore, when conventional ultraviolet absorbers were used, the coloring of the photosensitive plate faded or changed due to ultraviolet irradiation, but when fluoran-based ultraviolet absorbers were used, no fading or discoloration was observed.
実施例2
重合体として実施例1のS工Sを使用し、第3表記載の
紫外線吸収剤を使用する以外は実施例1と同様にして感
光性フレキソ原版を作成し、露光試験を行った。結果を
第5表に併記する。Example 2 A photosensitive flexographic original plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that S-S of Example 1 was used as the polymer and the ultraviolet absorber listed in Table 3 was used, and an exposure test was conducted. . The results are also listed in Table 5.
Claims (1)
始剤から成る感光性重合体組成物において、フルオラン
系化合物および/またはフルオレン系化合物を添加した
ことを特徴とする感光性重合体組成物。A photosensitive polymer composition comprising a high molecular weight polymer, an ethylenically unsaturated monomer, and a photopolymerization initiator, characterized in that a fluoran compound and/or a fluorene compound is added thereto. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7408386A JPS62231245A (en) | 1986-03-31 | 1986-03-31 | Photosensitive flexo plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7408386A JPS62231245A (en) | 1986-03-31 | 1986-03-31 | Photosensitive flexo plate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62231245A true JPS62231245A (en) | 1987-10-09 |
JPH0547092B2 JPH0547092B2 (en) | 1993-07-15 |
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ID=13536922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7408386A Granted JPS62231245A (en) | 1986-03-31 | 1986-03-31 | Photosensitive flexo plate |
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---|---|
JP (1) | JPS62231245A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US5114832A (en) * | 1988-09-10 | 1992-05-19 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture and recording material prepared therefrom, having a photoinitiating set of compounds which give increased absorption below 450 nm |
JPH04342258A (en) * | 1990-09-05 | 1992-11-27 | E I Du Pont De Nemours & Co | Photosensitive elastomer member improved in resistance to solvent |
WO2015133649A1 (en) * | 2014-03-06 | 2015-09-11 | 株式会社Adeka | Novel compound and colored photosensitive composition |
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-
1986
- 1986-03-31 JP JP7408386A patent/JPS62231245A/en active Granted
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CN106133066A (en) * | 2014-03-06 | 2016-11-16 | 株式会社艾迪科 | New compound and coloring photosensitive combination |
JP2017057235A (en) * | 2014-03-06 | 2017-03-23 | 株式会社Adeka | Novel compound and colored photosensitive composition |
CN106133066B (en) * | 2014-03-06 | 2019-07-05 | 株式会社艾迪科 | New compound and coloring photosensitive combination |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0547092B2 (en) | 1993-07-15 |
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