JPS62212940A - Optical pickup - Google Patents
Optical pickupInfo
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- JPS62212940A JPS62212940A JP61054514A JP5451486A JPS62212940A JP S62212940 A JPS62212940 A JP S62212940A JP 61054514 A JP61054514 A JP 61054514A JP 5451486 A JP5451486 A JP 5451486A JP S62212940 A JPS62212940 A JP S62212940A
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- hologram
- surface relief
- optical pickup
- grating
- light
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は、光ピックアップにおいて小型・軽量化、及び
構造の簡素化を図りコストダウンを実現するために、従
来使われていた雲母などの174波長板の代りに、表面
レリーフ格子を用いるものである。[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention aims to reduce the size and weight of an optical pickup, simplify the structure, and reduce costs by replacing the conventional 174-wave plate made of mica or the like. In this method, a surface relief grating is used.
[産業上の利用分野〕
レーザディスク装置において、ディスク媒体から情報を
光学的に読取る場合に、光ピツクアンプ用の光学系を高
速移動させて読取りが行なわれる。[Industrial Application Field] When information is optically read from a disk medium in a laser disk device, the reading is performed by moving an optical system for an optical pick amplifier at high speed.
したがって光ピックアップとしては、アクセスタイムを
短縮するために、小型・軽量化が、またコストダウンを
図るために構造の簡素化が検討されている。このような
要求に応えるために、従来のガラスレンズ等の代わりに
ホログラムを用いることが研究されている。本発明は、
このようなホログラムを利用した光ピツクアンプに関す
る。Therefore, efforts are being made to make optical pickups smaller and lighter in order to shorten access time, and to simplify structures in order to reduce costs. In order to meet such demands, research is being carried out on using holograms in place of conventional glass lenses and the like. The present invention
The present invention relates to an optical pick amplifier using such a hologram.
第7図は従来の光学レンズを用いた光ピックアップの側
面図である。半導体レーザLDから出射した光は、コリ
メートレンズ1で平行光に変換された後、真円補正プリ
ズム2−偏光ビームスブリッタ3−1/4波長板4の光
路を経て、対物レンズ5で絞られ、光ディスク6に照射
される。そして情報を読取った反射光は、対物レンズ5
−1/4波長板4→偏光ビームスブリツク3−集光レン
ズ7−光検知器8の光路を通り、光検知器8によって、
電気信号に変換される。なお、レンズ5の焦点位置調整
は、駆動コイル9で行なわれる。FIG. 7 is a side view of an optical pickup using a conventional optical lens. The light emitted from the semiconductor laser LD is converted into parallel light by a collimating lens 1, passes through an optical path of a circular correction prism 2 - a polarizing beam splitter 3 - a quarter wavelength plate 4, and is focused by an objective lens 5. The optical disc 6 is irradiated with light. The reflected light that has read the information is sent to the objective lens 5.
Pass through the optical path of -1/4 wavelength plate 4 -> polarizing beam block 3 - condensing lens 7 - photodetector 8, and by the photodetector 8.
converted into an electrical signal. Note that the focus position adjustment of the lens 5 is performed by a drive coil 9.
このように従来の光ピツクアンプでは、多数の群レンズ
などを使用しなければならず、光ピックアップが大形で
、かつ重量が大きいために、高速駆動に支障を来してい
る。また多数の光学レンズを空間的に位置調整して配置
しなければならないので、組立てが困難である。As described above, conventional optical pickup amplifiers must use a large number of group lenses, and the optical pickup is large and heavy, which poses a problem in high-speed driving. Furthermore, assembly is difficult because a large number of optical lenses must be arranged while spatially adjusting their positions.
そこで、本発明の出願人は、昭和60年11月20日付
は出願の特願昭60−260317号において、第8図
、第9図のように、群レンズなどに代えてホログラムを
使用することを提案した。第8図において、10は位相
型のコリメート用ホログラム、11は表面レリーフ型ホ
ログラム、12は対物ホログラムである。位相型ホログ
ラム10は第7図のコリメートレンズ1と真円補正プリ
ズム2の作用をするものであり、表面レリーフ型ホログ
ラム11は、第7図の偏光ビームスプリッタ3の作用を
司るものである。Therefore, in Japanese Patent Application No. 60-260317 filed on November 20, 1985, the applicant of the present invention proposes to use a hologram instead of a group lens as shown in FIGS. 8 and 9. proposed. In FIG. 8, 10 is a phase type collimating hologram, 11 is a surface relief type hologram, and 12 is an objective hologram. The phase type hologram 10 functions as the collimating lens 1 and the circular correction prism 2 shown in FIG. 7, and the surface relief type hologram 11 functions as the polarizing beam splitter 3 shown in FIG.
対物ホログラム12は、第7図の群レンズ5に代わるも
のである。The objective hologram 12 replaces the group lens 5 in FIG.
半導体レーザLDから出射した発散光は、実線で示すよ
うに、コリメート用の位相型ホログラム10でコリメー
トされると共に、光デイスク6側に回折され、表面レリ
ーフ型ホログラム11を透過して174波長板4で、円
偏光に変換される。そして対物ホログラム12で光ディ
スク6に収束される。As shown by the solid line, the diverging light emitted from the semiconductor laser LD is collimated by a phase-type hologram 10 for collimation, diffracted toward the optical disk 6 side, transmitted through a surface relief-type hologram 11, and then passed through a 174-wave plate 4. It is converted into circularly polarized light. The light is then focused onto the optical disk 6 by the objective hologram 12.
光ディスク6から反射して来る信号光は、破線で示すよ
うに、対物ホログラム12でコリメートされた後、17
4波長板4で直線偏光に戻され、表面レリーフ型ホログ
ラム11で偏光分離されると共に、検知器8側に収束さ
れる。The signal light reflected from the optical disk 6 is collimated by the objective hologram 12 and then collimated by the objective hologram 17, as shown by the broken line.
The light is returned to linearly polarized light by the four-wavelength plate 4, polarized by the surface relief hologram 11, and converged onto the detector 8.
第9図は、表面レリーフ型ホログラムllaが光デイス
ク6側への収束作用と偏光分離作用を司り、位相型ホロ
グラム10aが、検知器8側への収束作用を司るもので
ある。In FIG. 9, a surface relief type hologram lla controls the focusing effect toward the optical disk 6 side and a polarization separation effect, and a phase type hologram 10a controls the focusing effect toward the detector 8 side.
このように、重量が大きくかつ大型の群レンズや偏光ビ
ームスプリッタ3の作用を、小型のホログラムで実現で
きる。In this way, the functions of a heavy and large group lens and polarizing beam splitter 3 can be realized with a small hologram.
ところが174波長板4は、従来どおり、雲母などの異
方性結晶材料からなる波長板を使用している。そのため
反射損失を抑えるためにARココ−ィングが必要である
。更に切り出し角度など、材料の高精度加工が要求され
、量産に適しない。そのためコストダウンを図ることが
難しいという状況にあった。本発明の技術的課題は、従
来の光ピックアップにおけるこのような問題を解消し、
174波長板も、作成が容易なホログラムに置き換え可
能とすることにある。However, the 174 wavelength plate 4 uses a wavelength plate made of an anisotropic crystal material such as mica, as in the past. Therefore, AR cocoing is necessary to suppress reflection loss. Furthermore, it requires high-precision machining of the material, such as cutting angles, making it unsuitable for mass production. Therefore, it was difficult to reduce costs. The technical problem of the present invention is to solve these problems in conventional optical pickups,
The 174-wavelength plate can also be replaced with a hologram that is easy to create.
第1図は本発明による光ピックアップの基本原理を説明
する側面図である。4hは表面レリーフ型ホログラムか
ら成る174波長板であり、ガラス板13の裏面に設け
られている。表面レリーフ格子は、ホトレジストを記録
媒体としてホログラフィックに作製されたもの、あるい
は同表面レリーフ型レジストホログラムをマスクとして
ビームエツチングにより転写・作製されたもの、あるい
は同表面レリーフ型レジストホログラムを原盤として、
射出成形法、ホトポリマ法により複製されたものを用い
る。ガラス板13の表側には、従来と同様な表面レリー
フ型ホログラムから成る偏光分離用のホログラム11が
設けられている。半2IE体1z −fLDカら入射す
る光がP偏光とすると、偏光分離用ホログラム11の格
子溝方向は、P偏光の偏光面と直交し、ホログラム波長
板4hの格子溝は、偏光分離用ホログラム11の格子溝
に対し45度傾いている。FIG. 1 is a side view illustrating the basic principle of an optical pickup according to the present invention. 4h is a 174-wavelength plate made of a surface relief type hologram, and is provided on the back surface of the glass plate 13. The surface relief grating is produced holographically using photoresist as a recording medium, or transferred and produced by beam etching using the same surface relief type resist hologram as a mask, or using the same surface relief type resist hologram as a master.
A copy made by injection molding or photopolymer method is used. On the front side of the glass plate 13, a hologram 11 for polarization separation, which is a surface relief type hologram similar to the conventional one, is provided. If the light incident from the semi-2IE body 1z-fLD is P-polarized, the direction of the grating groove of the polarization separation hologram 11 is perpendicular to the polarization plane of the P-polarized light, and the grating groove of the hologram wave plate 4h is the polarization separation hologram. It is inclined at 45 degrees with respect to the lattice groove of No. 11.
両ホログラム4h、 11は、共通の基数13に設けて
もよく、別々の基板に設け、背中合わせに重ねて使用し
てもよい。10はコリメート用ホログラム、12は対物
ホログラムである。Both holograms 4h and 11 may be provided on a common radix 13, or may be provided on separate substrates and stacked back to back. 10 is a collimating hologram, and 12 is an objective hologram.
第2図(al〜(C1は、本発明による光ピツクアンプ
の作用を説明する図で、(alは表面レリーフ型ホログ
ラムから成る174波長板4hの平面図、(blはfa
1図におけるb−b断面図、(C1は斜視図である。(
C)図に示すように、Y軸はコリメート用ホログラム1
1の溝16に平行で、X軸は垂直である。一方y軸は、
ホログラム波長板4hの溝14に平行で、X軸は垂直で
ある。Y軸とy軸(X軸とX軸)のひらき角は45度で
ある。またnyは入射偏光面がy軸に平行な光に対する
等価屈折率、nxはX軸に平行な光に対する等価屈折率
である。表面レリーフ格子にみられるこの様な光学的異
方性は構造複屈折と呼ばれる。FIG. 2 (al~(C1 is a diagram explaining the operation of the optical pick amplifier according to the present invention, (al is a plan view of a 174-wave plate 4h made of a surface relief type hologram, (bl is a fa
bb sectional view in Figure 1, (C1 is a perspective view. (
C) As shown in the figure, the Y axis is the collimating hologram 1
1, and the X axis is perpendicular. On the other hand, the y-axis is
It is parallel to the groove 14 of the hologram wave plate 4h, and the X axis is perpendicular. The opening angle between the Y-axis and the y-axis (X-axis and X-axis) is 45 degrees. Further, ny is an equivalent refractive index for light whose incident polarization plane is parallel to the y-axis, and nx is an equivalent refractive index for light whose incident polarization plane is parallel to the x-axis. Such optical anisotropy found in surface relief gratings is called structural birefringence.
X軸がP偏光と平行で、Y軸がS偏光と平行になってい
るものとすると、レーザ光がコリメート用ホログラム1
0でコリメートされた後のP偏光15pの偏光面は、偏
光分離用ホログラム11の格子溝16の方向と直交する
ため、該偏光分離用ホログラム11を透過する。またP
偏光15pの偏光面に対し、ホログラム波長板4hの格
子溝14の方向が45度傾いているため、該P偏光15
pがホログラム波長板4hを透過する際に、45度回転
して円偏光に変換される。そして円偏光の状態で、光デ
ィスク6に入射し、反射後の円偏光は、ホログラム波長
板4hに逆方向から入射する。この際に、更に45度回
転し、S偏光に変換される。S偏光は、偏光分離用ホロ
グラム11の格子溝16の方向(Y方向)と平行なため
、回折され、検知器8にガイドされる。Assuming that the X-axis is parallel to the P-polarized light and the Y-axis is parallel to the S-polarized light, the laser beam collimates into the collimating hologram 1.
The polarization plane of the P-polarized light 15p after being collimated at zero is perpendicular to the direction of the grating grooves 16 of the polarization separation hologram 11, so that it is transmitted through the polarization separation hologram 11. Also P
Since the direction of the grating grooves 14 of the hologram wave plate 4h is inclined by 45 degrees with respect to the polarization plane of the polarized light 15p, the P polarized light 15
When the light p passes through the hologram wave plate 4h, it is rotated by 45 degrees and converted into circularly polarized light. The circularly polarized light enters the optical disk 6, and the reflected circularly polarized light enters the hologram wave plate 4h from the opposite direction. At this time, it is further rotated by 45 degrees and converted into S-polarized light. Since the S-polarized light is parallel to the direction of the grating grooves 16 (Y direction) of the polarization separation hologram 11, it is diffracted and guided to the detector 8.
次に本発明による光ピックアップが実際上どのように具
体化されるかを実施例で説明する。ホログラムから成る
1/4波長板4hは、ホトレジスト上で2つの光を干渉
させることで露光、現像して作成して成る表面レリーフ
ホログラムを使用する。Next, examples will be used to explain how the optical pickup according to the present invention is actually implemented. The quarter-wave plate 4h made of a hologram uses a surface relief hologram created by exposing and developing a photoresist by causing two lights to interfere with each other.
あるいは表面レリーフ型ホログラムをマスクあるいは原
盤として複製することもできる。Alternatively, a surface relief hologram can be reproduced as a mask or master.
ホログラムで波長板4hを構成するには、表面レリーフ
のピッチをコリメート用ホログラム11のレリーフに比
べて細かくし、かつピッチと表面レリーフの溝の深さを
所定の値に選択する必要がある。In order to configure the wavelength plate 4h with a hologram, it is necessary to make the pitch of the surface relief finer than that of the collimating hologram 11, and to select the pitch and the depth of the grooves of the surface relief to predetermined values.
次にこれらの選択手法について説明する。Next, these selection methods will be explained.
第3図は、矩形レリーフにおける複屈折Δnとデユーテ
ィ比との関係を示すもので、横軸はレリーフ幅Wとピッ
チdとの比、縦軸は複屈折Δnである。w / dの比
が、0.2〜0.6程度の領域で、複屈折Δnが大きく
、また表面レリーフ型ホログラムの材料によって屈折率
が異なるため、材料によって複屈折Δnも異なる。例え
ば屈折率nが1゜5のホトポリマーの場合は、複屈折Δ
nも小さく、なだらかな曲線となっている。表面レリー
フ型ホログラムとして適しているホトレジストは、屈折
率が1.66程度である。FIG. 3 shows the relationship between birefringence Δn and duty ratio in a rectangular relief, where the horizontal axis is the ratio of relief width W to pitch d, and the vertical axis is birefringence Δn. Birefringence Δn is large in a region where the w/d ratio is about 0.2 to 0.6, and since the refractive index differs depending on the material of the surface relief hologram, the birefringence Δn also differs depending on the material. For example, in the case of a photopolymer with a refractive index n of 1°5, the birefringence Δ
n is also small, forming a gentle curve. A photoresist suitable for a surface relief hologram has a refractive index of about 1.66.
こうして表面レリーフ型ホログラムの材料と、w /
dが決まると、第4図の特性図から、格子深さhと、位
相差が決定される。第4図は、複屈折により得られる位
相差Δφと格子深さhとの関係を示すもので、横軸は格
子深さh、縦軸は位相差である。2本の特性線とも、格
子深さhが深くなるにつれて、位相のずれが増大するこ
とを示している。In this way, the surface relief hologram material and w/
Once d is determined, the grating depth h and phase difference are determined from the characteristic diagram of FIG. FIG. 4 shows the relationship between the phase difference Δφ obtained by birefringence and the grating depth h, where the horizontal axis is the grating depth h and the vertical axis is the phase difference. Both characteristic lines show that as the grating depth h increases, the phase shift increases.
図の右側の特性線は、屈折率n=1.66のホトレジス
トの場合であり、左側の特性線は、屈折率n−2,OO
の材料である。波長λ=0.78μm、格子ピッチd=
0.25μmの時、レリーフ格子が174波長板として
作用するためにはn=1.66に対してh=1゜22.
17 m、 n=2.ooに対してh=o、61 II
mの格子深さを要する。このように、複屈折へ〇が0
.32と大きい場合は、表面レリーフ型ホログラムの格
子深さhが浅< 、0.61μmの深さで174波長板
を構成できるが、Δnが0.16と小さい場合は、格子
深さhを1.22μmと深くしなければならない。The characteristic line on the right side of the figure is for a photoresist with a refractive index of n=1.66, and the characteristic line on the left side is for a photoresist with a refractive index of n-2, OO
It is the material of Wavelength λ = 0.78 μm, grating pitch d =
At 0.25 μm, in order for the relief grating to act as a 174-wave plate, h = 1°22. for n = 1.66.
17 m, n=2. h=o for oo, 61 II
A grid depth of m is required. In this way, 〇 to birefringence is 0
.. When Δn is as large as 32, a 174-wave plate can be constructed with the grating depth h of the surface relief hologram shallow < 0.61 μm, but when Δn is as small as 0.16, the grating depth h is reduced to 1 The depth must be .22 μm.
第5図は、矩形レリーフホログラムの場合の反射率と格
子深さとの関係を示すもので、横軸が格子深さhと格子
ピッチdとの比、縦軸が反射率(χ)である。ta)は
P偏光の場合、(b)はS偏光の場合である。いずれの
場合も、格子深さhが極めて小さく、格子ピッチdが極
めて大きく平坦な場合、すなわちh/dがOの場合は、
反射率も最大となるが、その後は、h/dの増加につれ
て反射率は周期的に増減を繰り返している。したがって
P偏光に対しても、S偏光に対しても、反射率を小さく
するには、(a)と(b)の両方において、反射率が小
さいh/dの値を選択する。FIG. 5 shows the relationship between the reflectance and the grating depth in the case of a rectangular relief hologram, where the horizontal axis is the ratio of the grating depth h to the grating pitch d, and the vertical axis is the reflectance (χ). ta) is for P-polarized light, and (b) is for S-polarized light. In either case, if the grating depth h is extremely small and the grating pitch d is extremely large and flat, that is, if h/d is O, then
The reflectance also reaches its maximum, but after that, the reflectance repeatedly increases and decreases periodically as h/d increases. Therefore, in order to reduce the reflectance for both P-polarized light and S-polarized light, a value of h/d with a small reflectance is selected in both (a) and (b).
第4図で求めた格子深さh =1.22 p m (h
/d=4.9)では、反射率はS偏光に対しては、矢印
a2位置で3.0χ、P偏光に対しては矢印a、位置で
0.60χである。この反射率は、レリーフ形状を考慮
することで、さらに小さくすることが可能である。The grating depth h = 1.22 p m (h
/d=4.9), the reflectance is 3.0χ at the arrow a2 position for S-polarized light, and 0.60χ at the arrow a position for P-polarized light. This reflectance can be further reduced by considering the relief shape.
なお、当然の事ながら、表面レリーフ形状は矩形でも、
正弦波形状でも、あるいは他の断面形状でもよい。Of course, even if the surface relief shape is rectangular,
It may have a sinusoidal shape or other cross-sectional shape.
第6図は表面レリーフ型ホログラムの作成方法の実施例
である。まず(81のように、ホログラム材料17の上
にホトレジスト18を積層し、該ホトレジスト17に干
渉縞によるホトグラフィ露光と現像で、(blのように
回折格子19を作成する。そしてこの回折格子19をマ
スクとして、telのようにビームエツチングを行なう
と、マスク19の溝部20の下側が、21で示すように
深くエツチングされる。このように複製したホログラム
22を代用することもできる。FIG. 6 shows an example of a method for creating a surface relief type hologram. First, a photoresist 18 is laminated on the hologram material 17 (as shown in 81), and a diffraction grating 19 is created by exposing and developing the photoresist 17 using interference fringes. When the mask is subjected to beam etching as in tel, the lower side of the groove 20 of the mask 19 is deeply etched as shown by 21. The hologram 22 thus duplicated can also be used instead.
あるいはマスク用ホログラム19または複製されたホロ
グラム22を型にし、射出成形法、ホトポリマ法によっ
て転写で成型することもできる。Alternatively, the mask hologram 19 or the duplicated hologram 22 can be used as a mold, and the molding can be performed by transfer using an injection molding method or a photopolymer method.
以上述べてきたように、174波長板を表面レリーフ型
ホログラムで構成することで、従来の異方性結晶材料か
ら高精度に加工する174波長板に比べて、製造が極め
て容易で、安価に実現できる。As mentioned above, by constructing the 174-wave plate with a surface relief hologram, it is extremely easy and inexpensive to manufacture compared to the conventional 174-wave plate that is processed with high precision from anisotropic crystal material. can.
またレジストマスクとビームエツチングの併用により、
さらに耐久性が高い材料に転写・作製出来る、等の効果
が得られる。しかも反射率を1%以下に小さくすること
も可能であり、その場合ARコートが不必要となる。In addition, by combining resist mask and beam etching,
Furthermore, effects such as being able to be transferred and produced on materials with high durability can be obtained. Moreover, it is also possible to reduce the reflectance to 1% or less, in which case an AR coat is unnecessary.
第1図は本発明による光ピックアップの基本原理を説明
する側面図、第2図は本発明による光ピックアップの作
用を説明する図、第3図は矩形レリーフにおける複屈折
とデユーティ比を示す図、第4図は位相差と格子深さと
の関係を示す図、第5図は反射率と格子深さとの関係を
示す図、第6図は表面レリーフ型ホログラムの作成方法
の実施例を示す図、第7図は従来の光ピツクアンプの側
面図、第8図、第9図は従来のホログラム式光ビック7
ソブの側面図である。
図において、LDは半導体レーザ、6は光ディスク、8
は光検知器、10はコリメート用ホログラム、11は偏
光分離用ホログラム、4hはホログラム波長板、14.
16は格子溝をそれぞれ示す。
特許出願人 富士通株式会社
代理人 弁理士 青 柳 稔
オ\茶≦1月のI(市Jス抑E
第1図
カ
洩忌梢):ヂビ有比と[F]晒係
(C)仁l
]ト1イミ妃り1のイγ刊]朔bd
(χ)幸律!
(%)*棒y
茅mレリーフホυゲワムの作成へ
第6図
第7図FIG. 1 is a side view explaining the basic principle of the optical pickup according to the present invention, FIG. 2 is a diagram explaining the operation of the optical pickup according to the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing birefringence and duty ratio in a rectangular relief. FIG. 4 is a diagram showing the relationship between phase difference and grating depth, FIG. 5 is a diagram showing the relationship between reflectance and grating depth, and FIG. 6 is a diagram showing an example of the method for creating a surface relief type hologram. Figure 7 is a side view of a conventional optical pickup amplifier, and Figures 8 and 9 are conventional holographic optical pickup amplifiers.
FIG. In the figure, LD is a semiconductor laser, 6 is an optical disk, and 8 is a semiconductor laser.
10 is a photodetector, 10 is a collimating hologram, 11 is a polarization separation hologram, 4h is a hologram wave plate, 14.
16 indicates a grating groove, respectively. Patent Applicant: Fujitsu Limited Agent, Patent Attorney Minoru Aoyagi \Cha≦I of January (Ichi Jsu Suppression Figure 1): Jibi Yui and [F] Sarashi (C) Jin l] To1 Imihiri1 no Iγ publication] Sakubd (χ) Koritsu! (%) *Stand y To create a grass relief hoggewam Figure 6 Figure 7
Claims (4)
て被検出面に入射し、反射光を偏光分離手段で検知器側
にガイドする光ピックアップであって、被検出面からの
反射信号光を分離するために偏光状態を変える波長板を
、表面レリーフ型ホログラム(4h)で実現したことを
特徴とする光ピックアップ。(1) An optical pickup that collimates semiconductor laser light, makes it incident on a detection surface via a wavelength plate, and guides the reflected light to the detector side using a polarization separation means, in which the reflected signal light from the detection surface is An optical pickup characterized in that a wave plate that changes the polarization state to separate the light is realized by a surface relief hologram (4H).
トレジストを記録媒体として、ホログラフィック露光に
より作製されたものであることを特徴とする特許請求の
範囲第(1)項記載の光ピックアップ。(2) The optical pickup according to claim (1), wherein the surface relief hologram (4h) is produced by holographic exposure using photoresist as a recording medium.
た表面レリーフ型レジストホログラムをマスクとして、
ビームエッチングにより転写・作製された表面レリーフ
型格子で構成したことを特徴とする特許請求の範囲第(
1)項記載の光ピックアップ。(3) Using the above wavelength plate as a mask using a holographically produced surface relief type resist hologram,
Claim No. 3 is characterized in that it is composed of a surface relief type grating transferred and produced by beam etching.
The optical pickup described in section 1).
た表面レリーフ型レジストホログラムを原盤として、射
出成形法、2P法等により複製された表面レリーフ型格
子で構成したことを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載の光ピックアップ。(4) A patent claim characterized in that the wavelength plate is constituted by a surface relief grating that is reproduced by an injection molding method, a 2P method, etc. using a holographically created surface relief resist hologram as a master. Range number (1)
Optical pickup described in section.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61054514A JPS62212940A (en) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | Optical pickup |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61054514A JPS62212940A (en) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | Optical pickup |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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- 1986-03-12 JP JP61054514A patent/JPS62212940A/en active Pending
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