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JPS62198197A - 高熱伝導性回路板 - Google Patents

高熱伝導性回路板

Info

Publication number
JPS62198197A
JPS62198197A JP3960586A JP3960586A JPS62198197A JP S62198197 A JPS62198197 A JP S62198197A JP 3960586 A JP3960586 A JP 3960586A JP 3960586 A JP3960586 A JP 3960586A JP S62198197 A JPS62198197 A JP S62198197A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermally conductive
highly thermally
circuit board
insulating layer
alumina
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3960586A
Other languages
English (en)
Inventor
西本 芳夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP3960586A priority Critical patent/JPS62198197A/ja
Priority to US07/014,742 priority patent/US4784893A/en
Publication of JPS62198197A publication Critical patent/JPS62198197A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体素子や抵抗素子などの発熱量の多い
各種素子を搭載する高熱伝導性回路板に関するもので、
特に基板と導体間に介在する絶縁層に係るものである。
〔従来の技術〕
高熱伝導性回路板の絶縁層は、高い接M9性を示す反面
、熱伝導率の低い有機質高分子と電気絶縁性に優れ、高
い熱伝導率を有するセラミックスの混合物である。基板
上に搭載された素子より発生する熱はその大部分が有機
質高分子の50〜300倍の熱伝導率’kWするセラミ
ックスを通じて基板へ伝達される。従って高熱伝導をM
するセラミックスはできる限り連続性を呈する形態にな
るように有機質高分子中に分散させることが好ましく、
そのために大きさとその分布および充填率を高度に調整
している。なかでも、高熱伝導性の粒子状と繊維状のセ
ラミックスを複合して有機質高分子中に分散したことに
より得られる絶縁層は単一の形状を有するセラミックス
を充填したものに比べて高い充填率を得やすく、繊維状
で高い熱伝導を呈するセラミックスとしてアルミナが最
も用いやすい。アルミナ繊維は結合剤を分散させたスラ
リー状水溶液にして抄紙すればシート状のアルミナペー
パになる。これに高熱伝導性セラミックス微粒子を均一
分散させた有機質高分子を用いてプリプレグシートなど
のように予備的に複合化させたものを用いて導体および
基板と共に加熱圧縮成形すれば高熱伝導性回路板の絶縁
層となる。従ってこの絶縁層には充填材として愼維状の
あるアルミナと微粒子状のアルミナや窒化ボロン等の高
熱伝導性セラミックスが厚さ方向および面方向とも均一
に分散された状態になっている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の絶縁層は以上のように構成されておシ、有機質高
分子中に高濃度の高熱伝導性セラミックスが均一に分散
されていると、変形や応力負荷を受けやすい導体層と十
分に接着するうえで必要なM機質高分子の量を確保でき
なくなる。このため、例えば特開昭58−15290号
公報で示されるような特別な処理を施さない限シロ0〜
80%を限度としてJ I S 、 C−6481のビ
ール強度で代表される接着強度の低下が大きくなる。ま
た高熱伝導性セラミックスを有機質高分子を用いて接着
し友ものを絶縁層として用いるには、高熱伝導性セラミ
ックスとM機質高分子の配合比を最適化する必要がある
。また、高い熱伝導率を有する回路板を得るには、高熱
伝導性のセラミックスを多く含むことが必要である。し
かし、絶縁層が高、い接着強度を肩する回路板を得るた
めには、有機質高分子を所定量以上、高熱伝導性セラミ
ックスを所定量以下の含有率、にする必要がある。例え
ば実公昭46−25756号公報では60重量%以下、
特開昭56−62388号公報では60〜80重量%に
限定して有機質高分子中に高熱伝導性セラミックスを含
有した絶縁層を有する回路板を提案している。このよう
に従来の高熱伝導性回路板の絶縁層は高熱伝導性セラミ
ックスを均一に分散させているので、その充填率に限界
点を肩しておシ、回路板自体の熱伝導率の向上に大きな
支障をき九していた。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、有機質高分子中に高濃度の高熱伝導性セラミ
ックスを含有しても導体との接着性を低下させることの
ない絶縁層を有する高熱伝導性回路板を得ることを目的
とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る高熱伝導性回路板は、絶縁層が有機質高
分子中にアルミナペーパゼと高熱伝導性セラミックス微
粒子を充填材として用いて高い熱伝導率を確保し、高熱
伝導性セラミックス微粒子の分散を導体側に低く、基板
側に高い@度を有するようにしたものである。
〔作 用〕
この発明における高熱伝導性回路板は、絶縁層が有機質
高分子中の充填材の分布が基板に近い部分ではアルミナ
繊維間に高熱伝導性セラミックス微粒子が入り込んで極
めて高い充填率を有する。
コレニ対して導体に近い部分の絶縁層にはセラミックス
微粒子を殆んど含■せずにアルミナベ−・ぞのみを含む
有機質高分子とするものである。ただし、ここで用いら
れるアルミナペーパは使用するアルミナ繊維の直径が5
0μm以上であると、抄紙によシ得られたペーパの厚さ
が数ミリから十数ミリとなシ、必要とする絶縁層の厚さ
く60〜1000μm程度)t−得るのに不都合であり
好ましくない。
また、繊維長が繊維径の10倍以下であると、絶縁層の
形成、例えばプリプレグシートの作成や加熱圧縮成形の
樹脂流れに対して耐えうる強度のものが得られないため
好ましくない。なお、結合剤として用いるミクロフィブ
リル化したM機繊維は他の結合剤、例えばzeルプや有
機質高分子などに比べて必要とする結合量を得るのには
るかに少ない量で済むので絶縁層のマトリックスとなる
M機質高分子の含浸を容易にするためこの発明には欠く
ことができないものである。
〔実施例〕
以下この発明の一実施例を図について説明する。
絶縁層を形成するのに適した有機質高分子に高熱伝導性
セラミックス、例えばアルミナ、窒化セロンなどの微粒
子を混会する。粒子径はアルミナペ−パのアルミナ繊維
間最大距離である30μm以下であることが好ましい。
これを基板である鉄やアルミの板の上に塗布した後、ア
ルミナペーパぞおよび導体である銅やアルミの箔を重ね
合せて加熱圧縮成形することにより、高熱伝導性回路板
用積層板を得ることができる。この積層板の絶縁層の任
意の厚さ方向の位置(ta−tl)間)における充填材
含有率(Ca)は次のようにして求められる。基板側よ
り適当な厚さを削り取った残りの部分(厚さがta)に
つ騒て熱重量分析計を用いて800℃で30分間加熱し
た時の残量より充填材含有率(ca)を求める。同様の
動作にて削り取った址の異なる厚さがtbの部分におけ
る充填材含有率(cb)を求める。これらの測定結果を
用いて下記の式より Caを求めることができる。
(ta  tb) ここで、Waは厚さがtaの部分の単位画績尚シの重量
であり、靜は厚さがtbの部分の単位面積当りの重量で
ある。このCaを厚さ方向の各位置(各層)について求
めれば、充填材の濃度分布を求めることができる。上記
の方法を用いて求めたこの発明による高熱伝導性回路板
の絶縁層には、基板側に高く導体側に低い充填材の濃度
分布があった。以下にこの発明の詳細な説明する。
〈実施例I〉 有機質高分子であるビスフェノールA形成状エポキシ樹
脂と高熱伝導性セラミックスでめるアルミナ微粒子(2
,〜8μm、平均粒径4μm)00〜70重量%の範囲
で充填率を変えた混合物を各々2.0■厚のアルミ板に
140μmの厚さで均一に塗布する。これに坪量が1.
05 f/dyeであるアルミナペーパゼと35細厚の
銅箔を重ねて30 K9/?、160℃で60分間加熱
圧縮成形することにより積層板を形成した。上記のよう
にして得た積層板の各々について、JIS、C−648
1に基くビール強度を測定し、第2図にその結果を示し
た。また0重量チおよび30重tチのアルミナ微粒子を
含むエポキシ樹脂を用い定積層板の絶縁層について厚さ
方向の充填材濃度分布を第1図に示した。さらにJIS
、C−6481に基〈耐電圧と熱伝導率を全平均充填材
含有率が81重量−のものについて後記の表工に示した
<jl!施例■〉 有機質高分子としてフェノール硬化形エポキシ柄l旨の
メチルエチルケトン溶敵に窒化ゲロン(5〜15μ哨、
平均粒径12μm)k固形分相装置で203[皺チ混合
したちのt 2.011111厚のアルミ板上に180
μm塗布したのち、10〜50 TorrのX空中80
℃で5〜20分間乾燥させた。この上に坪量が0.80
 t/lh/のアルミナペーパと35μm厚の銅箔t−
重ね合せて40V−1170℃で60分間加熱王権成形
を行ない積層板を得た。この積層板について全平均充填
材含有率とビール強度、耐電圧および熱伝24率を測定
し、表■に示し几。
く比較ガニ〉 上記実施ガニで用いたビスフェノールA形エポキシ佃脂
とアルミナ微粒子の混合物に各々メチルエチルケトンを
添加し、液粘度を約1200cpに調整した樹脂液を作
る。この樹脂液に坪量が1.05f/dsr? のアル
ミナペーパ々を浸漬したのち、10〜50 Torrの
真空中でメチルエチルケトンを除去して樹脂含浸シート
を作る。これを2.0瓢厚のアルミ板と35#iの銅箔
との積層および実施例Iと同一条件による加熱圧縮成形
によυ積層板を得る。
このようにして得られた積)j板の各々について全平均
充填材含有率とビール強度を測定し、その関係を第2図
に示した。さらに全平均充填材含有率が81重量%のも
のについて耐電圧と熱伝導率を測定し表■に示した。
く比較例■〉 実施例■と同じ材料を用いてアルミナペーパ・エポキシ
樹脂プリプレグシートを作成し、これを用いて2.0 
tm厚のアルミ板と35μm銅箔と共に積層し、実施例
Iと同一条件で加熱圧縮成形を行ない積層板を得た。こ
の積層板について絶縁層の全平均充填材含有率、ビール
強度、耐電圧、熱伝導率を測定し表Iに示した。
上記の各積層板の成形においてアルミナペーパに有機質
高分子と高熱伝導性セラミックス微粒子の混合物を含浸
して予め複合化したシート状物質(例えばプリプレグシ
ート)を用いて絶縁層を形成すると、加熱圧縮成形する
時点で基板および導体との界面間に残存する空気が肩機
質高分子の溶融による密着に伴ない系外へ放出されにく
くなシ内部に残存する。ガスの残存によシ生じ之泡を含
む絶縁層は耐1圧が劣るようになる。これに対してこの
発明によると基板側に塗布した有機質高分子と高熱伝導
性セラミックスの混合物が加熱圧縮されると、流動性に
優れた有機質高分子が同−間隙内に設けられたアルミナ
ペーパ内に浸透していくため系内に残存する空気等のガ
スの排出が容易である。このため、できた絶縁層には泡
の残存が殆んどなく、優れた耐電圧を有することが表I
よシ解る。
表   1 また、第1図に示した充填材濃度分布よシ解るように導
体層と接する絶縁層部分には高熱伝導性セラミックスの
微粒子が基板側に残存して導体との濡れ性と接着性に優
れた有機質高分子とアルミナペーパの複合体になってい
るので表■に示したような優れ良接着性が得られる。し
たがって絶縁層と導体との接着性において第2図に示し
た実施例■と比較例■の比較よシ解るように絶縁層にお
けるアルミナや窒化ボロンなどの高熱伝導性のセラミッ
クスの含有率を上げたとしてもこの発明によればそれら
高熱伝導性セラミックスのa度分布によシ、導体との妥
触部に接!!I1.に優れtM有機質高分子多く付与す
るようにすれば接着強度の低下が起りにくい。
なお、実施例では有機質高分子としてエポキシ樹脂を用
いたが、マレイミド樹脂などの他の熱硬化性樹脂は勿論
、芳香族ポリエステルやポリアミドイミドなどの熱可塑
性樹脂を用いても上記実施例と同様の作用が得られる。
ただし、熱可塑性樹脂を用いる場合には一般に粘度の高
いものが多いので、分解に至らない充分に高い温度で徐
々に加工して樹脂の流動抵抗によるアルミナペーパの紙
切れを生じさせないようにすることが必要である。
〔発明の効果〕
以上説明し友ようにこの発明によれば、絶縁層内に充填
材の濃度分布をつけてVFII賞高分賞金分子含む4体
との接触部を設けtことにニジ、優れた接N注を有する
高熱伝導性回路板の絶縁層を得ることかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例における高熱伝導性回路板
の絶縁層の厚さ方向の各部位における充填材濃度の図、
第2図は充填材濃度と接着強度の関係図である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板と導体間に介在する高熱伝導性絶縁層がアル
    ミナペーパと高熱伝導性セラミックス微粒子が充填され
    た有機質分子により構成されていることを特徴とする高
    熱伝導性回路板。
  2. (2)高熱伝導性セラミックス微粒子の有機質高分子中
    濃度が基板側に高く、導体側に低い濃度勾配を有するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の高熱伝導性
    回路板。
  3. (3)アルミナペーパが50μm以下の繊維径で、繊維
    長と繊維径の比が10以上であるアルミナ短繊維をミク
    ロフイブリル化した有機繊維を結合剤として用いて抄紙
    によつて得たものであることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の高熱伝導性回路板。
JP3960586A 1986-02-17 1986-02-25 高熱伝導性回路板 Pending JPS62198197A (ja)

Priority Applications (2)

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JP3960586A JPS62198197A (ja) 1986-02-25 1986-02-25 高熱伝導性回路板
US07/014,742 US4784893A (en) 1986-02-17 1987-02-13 Heat conductive circuit board and method for manufacturing the same

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9746940B2 (en) 2011-09-20 2017-08-29 Seiko Epson Corporation Display device, projector, and display method
JP2021031602A (ja) * 2019-08-26 2021-03-01 イビデン株式会社 熱伝導性樹脂及び放熱構造体

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