JPS62196826A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPS62196826A JPS62196826A JP61041313A JP4131386A JPS62196826A JP S62196826 A JPS62196826 A JP S62196826A JP 61041313 A JP61041313 A JP 61041313A JP 4131386 A JP4131386 A JP 4131386A JP S62196826 A JPS62196826 A JP S62196826A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ 発明の目的
a 産業上の利用分野
本発明は電子工業その他の分野において、フォトエツチ
ングにより各種のパターンを形成する際に用いるハード
コンタクト方式の露光装置に関するものである。
ングにより各種のパターンを形成する際に用いるハード
コンタクト方式の露光装置に関するものである。
b 従来の技術
フォトエツチングは写真製版技術から発展したものであ
るが、近時電子工業その池の分野に応用され重要な役割
を果している。例えばテレピプラクン管のシャドツマス
ク、トランジスタ・グイオードのメタルマスク、■C用
フォトマスク、リードフレーム、プリント基板、各種電
子部品等においては、各種のパターンをフォトエツチン
グによって形成している。
るが、近時電子工業その池の分野に応用され重要な役割
を果している。例えばテレピプラクン管のシャドツマス
ク、トランジスタ・グイオードのメタルマスク、■C用
フォトマスク、リードフレーム、プリント基板、各種電
子部品等においては、各種のパターンをフォトエツチン
グによって形成している。
本発明は、そのフォトエツチングによる製造工程中で、
重要な位置を占める露光装置に関するものである。一般
にフォトエツチングにおける蕗光手段は、パターン形成
用の被エツチング板に、フォトマスク即ちソフトマスク
(写真乾ffl”iiIりまたはハードマスク(ガラス
板製)を密着(ハードコンタクト)させ、紫外線等の照
射によりフォトマスクのパターン画像を感光させ又いる
。この露光手段で問題となるのが、精密性と生産性であ
る。
重要な位置を占める露光装置に関するものである。一般
にフォトエツチングにおける蕗光手段は、パターン形成
用の被エツチング板に、フォトマスク即ちソフトマスク
(写真乾ffl”iiIりまたはハードマスク(ガラス
板製)を密着(ハードコンタクト)させ、紫外線等の照
射によりフォトマスクのパターン画像を感光させ又いる
。この露光手段で問題となるのが、精密性と生産性であ
る。
なぜなら、フォトエツチングは上記の如く写真製版技術
に基くものであるが、電子工業の分野に応用するには、
それに対応して高精度と高速性が要求されるのである。
に基くものであるが、電子工業の分野に応用するには、
それに対応して高精度と高速性が要求されるのである。
そこで従来の露光装置では、パターンを形成すべき物に
フォトマスクを密着させる手段として、吸引バキューム
法がとられ又いる。しかしこの吸引バキューム法では、
未た精密性と生産性の面で次の如き問題がある。■吸引
バキュームでは、フォトマスクの中央部に空気抜き口を
形成する必要があるが、その設計如何によっては充分な
密着が得られぬ場合かある。そのため分解能がおちたり
、パターンがぼやけたり、パターンの境界線がはっきり
出す、精度を損なう結果となる。■フォトマスクが、吸
引バキュームによって僅かながら内側へ歪曲を生じるこ
とがあり、それはパターンの寸法精度に影響を及ぼすこ
とになり、またそれを防止するため真空密着させるのに
手間を要する。■吸引バキュームでは、パターン形成用
の被エツチング板にフォトマスクをセントする際、その
密着作業に約60〜90秒を要し、またそれを解除する
のにも約10〜20秒を要する。そのため他の工程の処
理時間とバランスかとれず、連続処理による生産性を著
しく損ねている。@ilさらに、露光中の光源による発
熱でフォトマスクが膨張するのを防止するため、クーラ
等により強制的にクーリングしている。しかしその効果
は必ずしも安定的でなく、また大型のクーラを設けるの
は不経済でもある。
フォトマスクを密着させる手段として、吸引バキューム
法がとられ又いる。しかしこの吸引バキューム法では、
未た精密性と生産性の面で次の如き問題がある。■吸引
バキュームでは、フォトマスクの中央部に空気抜き口を
形成する必要があるが、その設計如何によっては充分な
密着が得られぬ場合かある。そのため分解能がおちたり
、パターンがぼやけたり、パターンの境界線がはっきり
出す、精度を損なう結果となる。■フォトマスクが、吸
引バキュームによって僅かながら内側へ歪曲を生じるこ
とがあり、それはパターンの寸法精度に影響を及ぼすこ
とになり、またそれを防止するため真空密着させるのに
手間を要する。■吸引バキュームでは、パターン形成用
の被エツチング板にフォトマスクをセントする際、その
密着作業に約60〜90秒を要し、またそれを解除する
のにも約10〜20秒を要する。そのため他の工程の処
理時間とバランスかとれず、連続処理による生産性を著
しく損ねている。@ilさらに、露光中の光源による発
熱でフォトマスクが膨張するのを防止するため、クーラ
等により強制的にクーリングしている。しかしその効果
は必ずしも安定的でなく、また大型のクーラを設けるの
は不経済でもある。
C発明が解決しようとする問題点
フォトエツチングのための従来の露光装置は、上記の如
く精度面や生産性に関し未だ不充分て′、多くの問題点
゛かある。本発明はそれら問題点の解決を目的としてい
る。即ち、シンプルな構成ながう、パターン形成用の被
エツチング板にフォトマスクを確実に密着できて、パタ
ーンが鮮明で特に境界線をはっきりさせ、また歪曲が生
じず寸法精度が高いとともに、充分な密1のための検査
や手間を不要とし、かつ処理時間を大幅に短縮できて連
続処理による生産性を向上させ、かつ大型クーラ等を設
置する不経済性もなくせるような露光装置を提供しよう
とするものである。
く精度面や生産性に関し未だ不充分て′、多くの問題点
゛かある。本発明はそれら問題点の解決を目的としてい
る。即ち、シンプルな構成ながう、パターン形成用の被
エツチング板にフォトマスクを確実に密着できて、パタ
ーンが鮮明で特に境界線をはっきりさせ、また歪曲が生
じず寸法精度が高いとともに、充分な密1のための検査
や手間を不要とし、かつ処理時間を大幅に短縮できて連
続処理による生産性を向上させ、かつ大型クーラ等を設
置する不経済性もなくせるような露光装置を提供しよう
とするものである。
口 発明の構成
a 問題点を解決するだめの手段
本発明に係る露光装置は、被エツチング板(りに密着さ
せるフォトマスク(2)と紫外線照射光源(3)との間
に、紫外線透過率がよく前記マスク(2)との接合面が
平滑状で、歪曲せぬ厚みをもつ加圧用ガラス板(4)を
設け、かつ該加圧用ガラス板(4)によりマスク(2)
を被エツチング& +11へ密着させる加圧手段(5)
を設けてなるものである。
せるフォトマスク(2)と紫外線照射光源(3)との間
に、紫外線透過率がよく前記マスク(2)との接合面が
平滑状で、歪曲せぬ厚みをもつ加圧用ガラス板(4)を
設け、かつ該加圧用ガラス板(4)によりマスク(2)
を被エツチング& +11へ密着させる加圧手段(5)
を設けてなるものである。
上記構成を上・下両面蕗光式のものについて具体的に示
すと、被エツチングI’h (Itとはパターンを形成
すべき板で、例えば酸化膜を形成したシリコンクエバや
、表面に金属層を設けであるプリント基材、4・2合金
、銅、銅糸材その他の金属板等をいう。フォトマスク(
2)は、形成すべきパターンを形成したソフトマスクま
たはハードマスクであり、前記被エツチング板f1+を
間にして対称位置に各々設けである。同様に紫外線照射
光源(3)も対称位置に設けてあり、一般に水銀灯が用
いられる。
すと、被エツチングI’h (Itとはパターンを形成
すべき板で、例えば酸化膜を形成したシリコンクエバや
、表面に金属層を設けであるプリント基材、4・2合金
、銅、銅糸材その他の金属板等をいう。フォトマスク(
2)は、形成すべきパターンを形成したソフトマスクま
たはハードマスクであり、前記被エツチング板f1+を
間にして対称位置に各々設けである。同様に紫外線照射
光源(3)も対称位置に設けてあり、一般に水銀灯が用
いられる。
加圧用ガラス扱(4)も、前記各フォトマスク(21を
加圧aJ能に対称位置に設けてあり、紫外線透過率の良
いものとし、例えば石英ガラスを用いる。
加圧aJ能に対称位置に設けてあり、紫外線透過率の良
いものとし、例えば石英ガラスを用いる。
前記フォトマスク(2)との接合面は、各々充分な平滑
性を有するものとする。また該ガラス板f4iの厚さは
歪曲せぬように例えば20〜50履程度とするが、前記
石英ガラス(密度2.2 g / cyl )を用いて
面積を500X500mmとした場合、その自重は厚さ
が20+mのもので111g、同じく50間のもので2
7.5 kgとなる。
性を有するものとする。また該ガラス板f4iの厚さは
歪曲せぬように例えば20〜50履程度とするが、前記
石英ガラス(密度2.2 g / cyl )を用いて
面積を500X500mmとした場合、その自重は厚さ
が20+mのもので111g、同じく50間のもので2
7.5 kgとなる。
加圧手段+5] I/′i、加圧用ガラス板(4)を押
圧することでフォトマスク(2)を被エツチング板(1
)へ密着させるものであり、例えば油圧シリングやエア
シリンダを用いる。
圧することでフォトマスク(2)を被エツチング板(1
)へ密着させるものであり、例えば油圧シリングやエア
シリンダを用いる。
図において、(6)はマスクセット枠であり、2枚以上
のフォトマスク(2)を平面的に並べて保合可能で、か
つ前記被エツチング板[1+と各加圧用ガラス板(4)
との間で各々横方向にスライド可能として、フォトマス
ク(2)のプレセットを図るものである。
のフォトマスク(2)を平面的に並べて保合可能で、か
つ前記被エツチング板[1+と各加圧用ガラス板(4)
との間で各々横方向にスライド可能として、フォトマス
ク(2)のプレセットを図るものである。
(7)は加圧手段(5)による押え杆、t8H−j下側
のガラス板(4)の支丞杆、(9)は遮光板である。
のガラス板(4)の支丞杆、(9)は遮光板である。
なお前記被エツチング板mは連続した帯状のもので、図
では手前方向へ間欠移動させるようにしであるが、単板
を1枚毎に置くようにしてもよい。また前記は上・下両
面露光式であるが、片面露光式にすることも可能である
。
では手前方向へ間欠移動させるようにしであるが、単板
を1枚毎に置くようにしてもよい。また前記は上・下両
面露光式であるが、片面露光式にすることも可能である
。
b 作 用
本発明の露光装置の作動状態を、図示した両面露光式に
ついて説明する。予じめ各面のフォトマスク(2)を、
各々マスクセット枠(6)内にセントし又おくが、この
場合ブリセント用に次回使用のマスク(2)も並べてセ
ットし又おけばよい。
ついて説明する。予じめ各面のフォトマスク(2)を、
各々マスクセット枠(6)内にセントし又おくが、この
場合ブリセント用に次回使用のマスク(2)も並べてセ
ットし又おけばよい。
次に被エツチング板[1+を本装置内に送り込んで停止
させ、同時に前記各マスクセット枠(6)をスライドさ
せて、所望パターンの各フォトマスク(2)を被エツチ
ング板(1)間に位置させる。
させ、同時に前記各マスクセット枠(6)をスライドさ
せて、所望パターンの各フォトマスク(2)を被エツチ
ング板(1)間に位置させる。
この状態で上側の加圧用ガラス板(4)を自重により降
下させ、上側のフォトマスク(2)を押下ける。
下させ、上側のフォトマスク(2)を押下ける。
これにより第2図で示される如く、被エツチング板(1
)・下側のフォトマスク(2)も押下けられて下側のガ
ラス板(4)上に載置され、被エツチング板f1+を間
にして、上・下にフォトマスク(2)・ガラス板(4)
が重なることになる。この場合、上側のガラス板(4)
の自重は、前記の如く面積が500X500flのもの
の場合、厚さが20Wnnで11に7、同50mmで2
7.5に9程度ある。そのため該加圧用ガラス板(4)
の自重によって、上・下のフォトマスク(2)が被エツ
チング板(1)の両面に各々仮固定される。その後加圧
手段(5)にて、本格的に加圧用ガラス板(4)を加圧
することにより、各フォトマスクf2) k 被エツチ
ング板(1)K密着させる。
)・下側のフォトマスク(2)も押下けられて下側のガ
ラス板(4)上に載置され、被エツチング板f1+を間
にして、上・下にフォトマスク(2)・ガラス板(4)
が重なることになる。この場合、上側のガラス板(4)
の自重は、前記の如く面積が500X500flのもの
の場合、厚さが20Wnnで11に7、同50mmで2
7.5に9程度ある。そのため該加圧用ガラス板(4)
の自重によって、上・下のフォトマスク(2)が被エツ
チング板(1)の両面に各々仮固定される。その後加圧
手段(5)にて、本格的に加圧用ガラス板(4)を加圧
することにより、各フォトマスクf2) k 被エツチ
ング板(1)K密着させる。
上記において加圧手段(5)Kよる加圧力は、密着に必
要な力から上側のガラス板(4)の自重による圧力を差
し引いたものである。また各ガラス板(4)の各フォト
マスク(2)への接合面が平滑であり、かつ歪曲せぬ厚
さを有するので、各フォトマスク(2)の被エツチング
板f1+への密#は、確実かつ充分なものとなる。
要な力から上側のガラス板(4)の自重による圧力を差
し引いたものである。また各ガラス板(4)の各フォト
マスク(2)への接合面が平滑であり、かつ歪曲せぬ厚
さを有するので、各フォトマスク(2)の被エツチング
板f1+への密#は、確実かつ充分なものとなる。
続いて、紫外線照射光源(3)としての例えば水銀灯を
、各々点灯して露光する。その際、各光源(3)とマス
ク(2)との間に各々加圧用ガラス板(4)が介在して
いるが、該ガラス&+484石英ガラスの如く紫外線透
過率の良いものを用いているため、少々厚さがあっても
光の損失は殆んどない。また前記の如く各ガラス板[4
)l’i、フォトマスク(2)との接合面か充分に平滑
性を有して、各フォトマスク(2)を被エツチング板f
1)に充分に密着させている。そのためこの露光は分解
能がよくパターンは鮮明となるとともに、境界線もはっ
きり出て精度がよくなる。同時に各ガラス板(4)は歪
曲せぬ厚みをもたせてあり、各フォトマスク(2)を均
一に加圧しているため、この点からも寸法精度が良好な
露光を行なえる。
、各々点灯して露光する。その際、各光源(3)とマス
ク(2)との間に各々加圧用ガラス板(4)が介在して
いるが、該ガラス&+484石英ガラスの如く紫外線透
過率の良いものを用いているため、少々厚さがあっても
光の損失は殆んどない。また前記の如く各ガラス板[4
)l’i、フォトマスク(2)との接合面か充分に平滑
性を有して、各フォトマスク(2)を被エツチング板f
1)に充分に密着させている。そのためこの露光は分解
能がよくパターンは鮮明となるとともに、境界線もはっ
きり出て精度がよくなる。同時に各ガラス板(4)は歪
曲せぬ厚みをもたせてあり、各フォトマスク(2)を均
一に加圧しているため、この点からも寸法精度が良好な
露光を行なえる。
その後は加圧手段(5)により上側の加圧用ガラス板(
4)を上昇して間をあけ、両フォトマスク(2)間に次
の被エツチング板f+)を送り込めばよい。また[][
I記の如きプレセント用のマスクセット枠(6)を用い
ておれば、それをスライドさせることで次のフォトマス
ク(2)へのマスク変更を容易・迅速に行なえる。
4)を上昇して間をあけ、両フォトマスク(2)間に次
の被エツチング板f+)を送り込めばよい。また[][
I記の如きプレセント用のマスクセット枠(6)を用い
ておれば、それをスライドさせることで次のフォトマス
ク(2)へのマスク変更を容易・迅速に行なえる。
上記場合において、両フォトマスク(2)を被エツチン
グ板(1)へ密着させるだめのセット時間は約10秒、
また密着状態を解くオフセント時間も約10秒間である
。これは、従来の吸引バキューム法が吸引によるセット
時間に約60〜90秒、それを解除するオフセット時間
に約10〜20秒間を要するのに比べると、1回の処理
時間を約10〜20秒間節約でき、1 / 3.5〜l
/ 5.5に短縮できることになる。
グ板(1)へ密着させるだめのセット時間は約10秒、
また密着状態を解くオフセント時間も約10秒間である
。これは、従来の吸引バキューム法が吸引によるセット
時間に約60〜90秒、それを解除するオフセット時間
に約10〜20秒間を要するのに比べると、1回の処理
時間を約10〜20秒間節約でき、1 / 3.5〜l
/ 5.5に短縮できることになる。
さらに本発明では、各フォトマスク(2)と光源(3)
との間に加圧用ガラス板(4)があるので、露光時に光
源(3)からの熱がフォトマスク(2)へ直接的に伝わ
るのを防止する断熱作用がある。そのためフォトマスク
(2)の熱膨張を押えることができ、大型の冷却装置を
設けずともパターンの寸法精度は安定している。
との間に加圧用ガラス板(4)があるので、露光時に光
源(3)からの熱がフォトマスク(2)へ直接的に伝わ
るのを防止する断熱作用がある。そのためフォトマスク
(2)の熱膨張を押えることができ、大型の冷却装置を
設けずともパターンの寸法精度は安定している。
ハ 発明の効果
a 本発明は従来の吸引バキューム法に比べると、精密
性に優れる。即ち、従来の吸引バキューム法では、空気
抜き口の設計如何によってはフォトマスクが被エツチン
グ板に密行せず、そのため分解能がおちたり、パターン
がぼやけたり、パターンの境界線がはっきり出す、精度
が損なわれることかあった。これに対して本発明ではフ
ォトマスクを、それとの接合面が平滑な加圧用ガラス板
にて加圧するものである。それゆえ、ガラス板の自重に
より初期加圧がなされてg、固定され、続く加圧手段に
よる本加圧により、この平滑な接合面をもつガラス板を
介して、フォトマスクe[エツチング板へ充分に密着さ
せることができる。したがって本発明によれば、分解能
がよく、パターンがぼやけぬとともに、パターンの境界
線もはっきり出た高精度な露光ができるものである。
性に優れる。即ち、従来の吸引バキューム法では、空気
抜き口の設計如何によってはフォトマスクが被エツチン
グ板に密行せず、そのため分解能がおちたり、パターン
がぼやけたり、パターンの境界線がはっきり出す、精度
が損なわれることかあった。これに対して本発明ではフ
ォトマスクを、それとの接合面が平滑な加圧用ガラス板
にて加圧するものである。それゆえ、ガラス板の自重に
より初期加圧がなされてg、固定され、続く加圧手段に
よる本加圧により、この平滑な接合面をもつガラス板を
介して、フォトマスクe[エツチング板へ充分に密着さ
せることができる。したがって本発明によれば、分解能
がよく、パターンがぼやけぬとともに、パターンの境界
線もはっきり出た高精度な露光ができるものである。
しかも本発明の加圧用ガラス板は、歪曲せぬ厚さのもの
としであるので、これがフォトマスクを均一に被エツチ
ング板へ密着させることになり、この点からも精密性が
確保できる。さらにこの厚めの加圧用ガラス板が、フォ
トマスクと露光光源との聞にあることにより、該ガラス
板が断熱材の役割をも果たすことになって、フォトマス
クが光源からの発熱で熱膨張するのを押えられる。その
ため大型の冷却装置を設けるような不経済なことをせず
とも、パターンの寸法精度を良好に維持することができ
る。
としであるので、これがフォトマスクを均一に被エツチ
ング板へ密着させることになり、この点からも精密性が
確保できる。さらにこの厚めの加圧用ガラス板が、フォ
トマスクと露光光源との聞にあることにより、該ガラス
板が断熱材の役割をも果たすことになって、フォトマス
クが光源からの発熱で熱膨張するのを押えられる。その
ため大型の冷却装置を設けるような不経済なことをせず
とも、パターンの寸法精度を良好に維持することができ
る。
b 本発明は従来の吸引バキューム法に比べると、処理
時間を短縮でき生産性を向上できる。
時間を短縮でき生産性を向上できる。
即ち、従来のバキューム吸引法では、航記の如くフォト
マスクを被エツチング板に密着させるためのセット時間
が約60〜90秒、密着状態を解くオフセント時間が約
10〜20秒を要した。これでは他の処理工程の時間と
バランスがとれず、連続処理による量産をはかれない。
マスクを被エツチング板に密着させるためのセット時間
が約60〜90秒、密着状態を解くオフセント時間が約
10〜20秒を要した。これでは他の処理工程の時間と
バランスがとれず、連続処理による量産をはかれない。
これに対し1本発明では、フォトマスクを加圧用ガラス
板の自重と加圧手段により被エツチング板へ密着させる
ものである。それゆえ、本発明によりフォトマスクを被
エツチング板へ密着させるセント時間は、前記の如く約
10秒、またオフセット時間も約10秒でよい。したが
って1回の処理時間で約50〜90秒問を節約でき、1
/ 3.5〜175.5程度に短縮できるので、露光
処理時開が他の工程の処理時間とバランスをとれること
になり、全工程を通じての連続処理ができ、生産性を大
幅に向上できるものである。
板の自重と加圧手段により被エツチング板へ密着させる
ものである。それゆえ、本発明によりフォトマスクを被
エツチング板へ密着させるセント時間は、前記の如く約
10秒、またオフセット時間も約10秒でよい。したが
って1回の処理時間で約50〜90秒問を節約でき、1
/ 3.5〜175.5程度に短縮できるので、露光
処理時開が他の工程の処理時間とバランスをとれること
になり、全工程を通じての連続処理ができ、生産性を大
幅に向上できるものである。
図は本発明を上・下両面露光式とした実施例を示すもの
で、第1図はフォトマスクを密着前の縦断正面図、第2
図はフォトマスクを密着させ露光中の縦断正面図である
。 図面符号(1)・・・被エツチング板、(2)・・・フ
ォトマスク、(3)・・・光源、(4)・・・加圧用ガ
ラス板、(5)・・・加圧手段。
で、第1図はフォトマスクを密着前の縦断正面図、第2
図はフォトマスクを密着させ露光中の縦断正面図である
。 図面符号(1)・・・被エツチング板、(2)・・・フ
ォトマスク、(3)・・・光源、(4)・・・加圧用ガ
ラス板、(5)・・・加圧手段。
Claims (1)
- [1]被エッチング板(1)に密着させるフォトマスク
(2)と紫外線照射光源(3)との間に、紫外線透過率
がよく前記マスク(2)との接合面が平滑状で、歪曲せ
ぬ厚さをもつ加圧用ガラス板(4)を設け、かつ該ガラ
ス板(4)によりマスク(2)を被エッチング板(1)
へ密着させる加圧手段(5)を設けたことを特徴とする
、露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61041313A JPS62196826A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61041313A JPS62196826A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62196826A true JPS62196826A (ja) | 1987-08-31 |
Family
ID=12605016
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61041313A Pending JPS62196826A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62196826A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7754131B2 (en) | 2002-08-27 | 2010-07-13 | Obducat Ab | Device for transferring a pattern to an object |
US9513551B2 (en) | 2009-01-29 | 2016-12-06 | Digiflex Ltd. | Process for producing a photomask on a photopolymeric surface |
CN108089408A (zh) * | 2017-12-12 | 2018-05-29 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种应用于光刻装置的被动式调平锁紧机构 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5527245U (ja) * | 1978-08-08 | 1980-02-21 | ||
JPS5520244B2 (ja) * | 1977-09-01 | 1980-05-31 |
-
1986
- 1986-02-24 JP JP61041313A patent/JPS62196826A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5520244B2 (ja) * | 1977-09-01 | 1980-05-31 | ||
JPS5527245U (ja) * | 1978-08-08 | 1980-02-21 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7754131B2 (en) | 2002-08-27 | 2010-07-13 | Obducat Ab | Device for transferring a pattern to an object |
US9513551B2 (en) | 2009-01-29 | 2016-12-06 | Digiflex Ltd. | Process for producing a photomask on a photopolymeric surface |
CN108089408A (zh) * | 2017-12-12 | 2018-05-29 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种应用于光刻装置的被动式调平锁紧机构 |
CN108089408B (zh) * | 2017-12-12 | 2020-03-20 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种应用于光刻装置的被动式调平锁紧机构 |
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