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JPS62196826A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

Info

Publication number
JPS62196826A
JPS62196826A JP61041313A JP4131386A JPS62196826A JP S62196826 A JPS62196826 A JP S62196826A JP 61041313 A JP61041313 A JP 61041313A JP 4131386 A JP4131386 A JP 4131386A JP S62196826 A JPS62196826 A JP S62196826A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etched
photomask
mask
glass plate
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61041313A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Ozaki
尾崎 和男
Kazuo Kobashi
一夫 小橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Merutetsuku Kk
Original Assignee
Fuji Merutetsuku Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Merutetsuku Kk filed Critical Fuji Merutetsuku Kk
Priority to JP61041313A priority Critical patent/JPS62196826A/ja
Publication of JPS62196826A publication Critical patent/JPS62196826A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ 発明の目的 a 産業上の利用分野 本発明は電子工業その他の分野において、フォトエツチ
ングにより各種のパターンを形成する際に用いるハード
コンタクト方式の露光装置に関するものである。
b 従来の技術 フォトエツチングは写真製版技術から発展したものであ
るが、近時電子工業その池の分野に応用され重要な役割
を果している。例えばテレピプラクン管のシャドツマス
ク、トランジスタ・グイオードのメタルマスク、■C用
フォトマスク、リードフレーム、プリント基板、各種電
子部品等においては、各種のパターンをフォトエツチン
グによって形成している。
本発明は、そのフォトエツチングによる製造工程中で、
重要な位置を占める露光装置に関するものである。一般
にフォトエツチングにおける蕗光手段は、パターン形成
用の被エツチング板に、フォトマスク即ちソフトマスク
(写真乾ffl”iiIりまたはハードマスク(ガラス
板製)を密着(ハードコンタクト)させ、紫外線等の照
射によりフォトマスクのパターン画像を感光させ又いる
。この露光手段で問題となるのが、精密性と生産性であ
る。
なぜなら、フォトエツチングは上記の如く写真製版技術
に基くものであるが、電子工業の分野に応用するには、
それに対応して高精度と高速性が要求されるのである。
そこで従来の露光装置では、パターンを形成すべき物に
フォトマスクを密着させる手段として、吸引バキューム
法がとられ又いる。しかしこの吸引バキューム法では、
未た精密性と生産性の面で次の如き問題がある。■吸引
バキュームでは、フォトマスクの中央部に空気抜き口を
形成する必要があるが、その設計如何によっては充分な
密着が得られぬ場合かある。そのため分解能がおちたり
、パターンがぼやけたり、パターンの境界線がはっきり
出す、精度を損なう結果となる。■フォトマスクが、吸
引バキュームによって僅かながら内側へ歪曲を生じるこ
とがあり、それはパターンの寸法精度に影響を及ぼすこ
とになり、またそれを防止するため真空密着させるのに
手間を要する。■吸引バキュームでは、パターン形成用
の被エツチング板にフォトマスクをセントする際、その
密着作業に約60〜90秒を要し、またそれを解除する
のにも約10〜20秒を要する。そのため他の工程の処
理時間とバランスかとれず、連続処理による生産性を著
しく損ねている。@ilさらに、露光中の光源による発
熱でフォトマスクが膨張するのを防止するため、クーラ
等により強制的にクーリングしている。しかしその効果
は必ずしも安定的でなく、また大型のクーラを設けるの
は不経済でもある。
C発明が解決しようとする問題点 フォトエツチングのための従来の露光装置は、上記の如
く精度面や生産性に関し未だ不充分て′、多くの問題点
゛かある。本発明はそれら問題点の解決を目的としてい
る。即ち、シンプルな構成ながう、パターン形成用の被
エツチング板にフォトマスクを確実に密着できて、パタ
ーンが鮮明で特に境界線をはっきりさせ、また歪曲が生
じず寸法精度が高いとともに、充分な密1のための検査
や手間を不要とし、かつ処理時間を大幅に短縮できて連
続処理による生産性を向上させ、かつ大型クーラ等を設
置する不経済性もなくせるような露光装置を提供しよう
とするものである。
口 発明の構成 a 問題点を解決するだめの手段 本発明に係る露光装置は、被エツチング板(りに密着さ
せるフォトマスク(2)と紫外線照射光源(3)との間
に、紫外線透過率がよく前記マスク(2)との接合面が
平滑状で、歪曲せぬ厚みをもつ加圧用ガラス板(4)を
設け、かつ該加圧用ガラス板(4)によりマスク(2)
を被エツチング& +11へ密着させる加圧手段(5)
を設けてなるものである。
上記構成を上・下両面蕗光式のものについて具体的に示
すと、被エツチングI’h (Itとはパターンを形成
すべき板で、例えば酸化膜を形成したシリコンクエバや
、表面に金属層を設けであるプリント基材、4・2合金
、銅、銅糸材その他の金属板等をいう。フォトマスク(
2)は、形成すべきパターンを形成したソフトマスクま
たはハードマスクであり、前記被エツチング板f1+を
間にして対称位置に各々設けである。同様に紫外線照射
光源(3)も対称位置に設けてあり、一般に水銀灯が用
いられる。
加圧用ガラス扱(4)も、前記各フォトマスク(21を
加圧aJ能に対称位置に設けてあり、紫外線透過率の良
いものとし、例えば石英ガラスを用いる。
前記フォトマスク(2)との接合面は、各々充分な平滑
性を有するものとする。また該ガラス板f4iの厚さは
歪曲せぬように例えば20〜50履程度とするが、前記
石英ガラス(密度2.2 g / cyl )を用いて
面積を500X500mmとした場合、その自重は厚さ
が20+mのもので111g、同じく50間のもので2
7.5 kgとなる。
加圧手段+5] I/′i、加圧用ガラス板(4)を押
圧することでフォトマスク(2)を被エツチング板(1
)へ密着させるものであり、例えば油圧シリングやエア
シリンダを用いる。
図において、(6)はマスクセット枠であり、2枚以上
のフォトマスク(2)を平面的に並べて保合可能で、か
つ前記被エツチング板[1+と各加圧用ガラス板(4)
との間で各々横方向にスライド可能として、フォトマス
ク(2)のプレセットを図るものである。
(7)は加圧手段(5)による押え杆、t8H−j下側
のガラス板(4)の支丞杆、(9)は遮光板である。
なお前記被エツチング板mは連続した帯状のもので、図
では手前方向へ間欠移動させるようにしであるが、単板
を1枚毎に置くようにしてもよい。また前記は上・下両
面露光式であるが、片面露光式にすることも可能である
b  作   用 本発明の露光装置の作動状態を、図示した両面露光式に
ついて説明する。予じめ各面のフォトマスク(2)を、
各々マスクセット枠(6)内にセントし又おくが、この
場合ブリセント用に次回使用のマスク(2)も並べてセ
ットし又おけばよい。
次に被エツチング板[1+を本装置内に送り込んで停止
させ、同時に前記各マスクセット枠(6)をスライドさ
せて、所望パターンの各フォトマスク(2)を被エツチ
ング板(1)間に位置させる。
この状態で上側の加圧用ガラス板(4)を自重により降
下させ、上側のフォトマスク(2)を押下ける。
これにより第2図で示される如く、被エツチング板(1
)・下側のフォトマスク(2)も押下けられて下側のガ
ラス板(4)上に載置され、被エツチング板f1+を間
にして、上・下にフォトマスク(2)・ガラス板(4)
が重なることになる。この場合、上側のガラス板(4)
の自重は、前記の如く面積が500X500flのもの
の場合、厚さが20Wnnで11に7、同50mmで2
7.5に9程度ある。そのため該加圧用ガラス板(4)
の自重によって、上・下のフォトマスク(2)が被エツ
チング板(1)の両面に各々仮固定される。その後加圧
手段(5)にて、本格的に加圧用ガラス板(4)を加圧
することにより、各フォトマスクf2) k 被エツチ
ング板(1)K密着させる。
上記において加圧手段(5)Kよる加圧力は、密着に必
要な力から上側のガラス板(4)の自重による圧力を差
し引いたものである。また各ガラス板(4)の各フォト
マスク(2)への接合面が平滑であり、かつ歪曲せぬ厚
さを有するので、各フォトマスク(2)の被エツチング
板f1+への密#は、確実かつ充分なものとなる。
続いて、紫外線照射光源(3)としての例えば水銀灯を
、各々点灯して露光する。その際、各光源(3)とマス
ク(2)との間に各々加圧用ガラス板(4)が介在して
いるが、該ガラス&+484石英ガラスの如く紫外線透
過率の良いものを用いているため、少々厚さがあっても
光の損失は殆んどない。また前記の如く各ガラス板[4
)l’i、フォトマスク(2)との接合面か充分に平滑
性を有して、各フォトマスク(2)を被エツチング板f
1)に充分に密着させている。そのためこの露光は分解
能がよくパターンは鮮明となるとともに、境界線もはっ
きり出て精度がよくなる。同時に各ガラス板(4)は歪
曲せぬ厚みをもたせてあり、各フォトマスク(2)を均
一に加圧しているため、この点からも寸法精度が良好な
露光を行なえる。
その後は加圧手段(5)により上側の加圧用ガラス板(
4)を上昇して間をあけ、両フォトマスク(2)間に次
の被エツチング板f+)を送り込めばよい。また[][
I記の如きプレセント用のマスクセット枠(6)を用い
ておれば、それをスライドさせることで次のフォトマス
ク(2)へのマスク変更を容易・迅速に行なえる。
上記場合において、両フォトマスク(2)を被エツチン
グ板(1)へ密着させるだめのセット時間は約10秒、
また密着状態を解くオフセント時間も約10秒間である
。これは、従来の吸引バキューム法が吸引によるセット
時間に約60〜90秒、それを解除するオフセット時間
に約10〜20秒間を要するのに比べると、1回の処理
時間を約10〜20秒間節約でき、1 / 3.5〜l
 / 5.5に短縮できることになる。
さらに本発明では、各フォトマスク(2)と光源(3)
との間に加圧用ガラス板(4)があるので、露光時に光
源(3)からの熱がフォトマスク(2)へ直接的に伝わ
るのを防止する断熱作用がある。そのためフォトマスク
(2)の熱膨張を押えることができ、大型の冷却装置を
設けずともパターンの寸法精度は安定している。
ハ 発明の効果 a 本発明は従来の吸引バキューム法に比べると、精密
性に優れる。即ち、従来の吸引バキューム法では、空気
抜き口の設計如何によってはフォトマスクが被エツチン
グ板に密行せず、そのため分解能がおちたり、パターン
がぼやけたり、パターンの境界線がはっきり出す、精度
が損なわれることかあった。これに対して本発明ではフ
ォトマスクを、それとの接合面が平滑な加圧用ガラス板
にて加圧するものである。それゆえ、ガラス板の自重に
より初期加圧がなされてg、固定され、続く加圧手段に
よる本加圧により、この平滑な接合面をもつガラス板を
介して、フォトマスクe[エツチング板へ充分に密着さ
せることができる。したがって本発明によれば、分解能
がよく、パターンがぼやけぬとともに、パターンの境界
線もはっきり出た高精度な露光ができるものである。
しかも本発明の加圧用ガラス板は、歪曲せぬ厚さのもの
としであるので、これがフォトマスクを均一に被エツチ
ング板へ密着させることになり、この点からも精密性が
確保できる。さらにこの厚めの加圧用ガラス板が、フォ
トマスクと露光光源との聞にあることにより、該ガラス
板が断熱材の役割をも果たすことになって、フォトマス
クが光源からの発熱で熱膨張するのを押えられる。その
ため大型の冷却装置を設けるような不経済なことをせず
とも、パターンの寸法精度を良好に維持することができ
る。
b 本発明は従来の吸引バキューム法に比べると、処理
時間を短縮でき生産性を向上できる。
即ち、従来のバキューム吸引法では、航記の如くフォト
マスクを被エツチング板に密着させるためのセット時間
が約60〜90秒、密着状態を解くオフセント時間が約
10〜20秒を要した。これでは他の処理工程の時間と
バランスがとれず、連続処理による量産をはかれない。
これに対し1本発明では、フォトマスクを加圧用ガラス
板の自重と加圧手段により被エツチング板へ密着させる
ものである。それゆえ、本発明によりフォトマスクを被
エツチング板へ密着させるセント時間は、前記の如く約
10秒、またオフセット時間も約10秒でよい。したが
って1回の処理時間で約50〜90秒問を節約でき、1
 / 3.5〜175.5程度に短縮できるので、露光
処理時開が他の工程の処理時間とバランスをとれること
になり、全工程を通じての連続処理ができ、生産性を大
幅に向上できるものである。
【図面の簡単な説明】
図は本発明を上・下両面露光式とした実施例を示すもの
で、第1図はフォトマスクを密着前の縦断正面図、第2
図はフォトマスクを密着させ露光中の縦断正面図である
。 図面符号(1)・・・被エツチング板、(2)・・・フ
ォトマスク、(3)・・・光源、(4)・・・加圧用ガ
ラス板、(5)・・・加圧手段。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. [1]被エッチング板(1)に密着させるフォトマスク
    (2)と紫外線照射光源(3)との間に、紫外線透過率
    がよく前記マスク(2)との接合面が平滑状で、歪曲せ
    ぬ厚さをもつ加圧用ガラス板(4)を設け、かつ該ガラ
    ス板(4)によりマスク(2)を被エッチング板(1)
    へ密着させる加圧手段(5)を設けたことを特徴とする
    、露光装置。
JP61041313A 1986-02-24 1986-02-24 露光装置 Pending JPS62196826A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61041313A JPS62196826A (ja) 1986-02-24 1986-02-24 露光装置

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JP61041313A JPS62196826A (ja) 1986-02-24 1986-02-24 露光装置

Publications (1)

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JPS62196826A true JPS62196826A (ja) 1987-08-31

Family

ID=12605016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61041313A Pending JPS62196826A (ja) 1986-02-24 1986-02-24 露光装置

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JP (1) JPS62196826A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7754131B2 (en) 2002-08-27 2010-07-13 Obducat Ab Device for transferring a pattern to an object
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CN108089408A (zh) * 2017-12-12 2018-05-29 中国科学院光电技术研究所 一种应用于光刻装置的被动式调平锁紧机构

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