JPS62184455A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
- Publication number
- JPS62184455A JPS62184455A JP62014320A JP1432087A JPS62184455A JP S62184455 A JPS62184455 A JP S62184455A JP 62014320 A JP62014320 A JP 62014320A JP 1432087 A JP1432087 A JP 1432087A JP S62184455 A JPS62184455 A JP S62184455A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photopolymerizable composition
- composition according
- formula
- nitro
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/16—Chemical modification with polymerisable compounds
- C08J7/18—Chemical modification with polymerisable compounds using wave energy or particle radiation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/116—Redox or dye sensitizer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
- Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/163—Radiation-chromic compound
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、正賓成分としてポリマー結合剤、エナレン性
不飽和の重合性化合物及び光囲始剤ン含有する光重合性
組成物に閃する〇 従来の技術 この系の組成物は印刷板、レリーフ曲1像及びフォトレ
ジストン製造するために使用し、例えはドイツ特許第1
171267号、第2027467号及びg!4203
9861号明細l及びドイツ公開特許第1522515
号、第2[J64L179号及び第2064080号明
紺壺(−木1府計第3804631号明細曹〕から公知
である。
不飽和の重合性化合物及び光囲始剤ン含有する光重合性
組成物に閃する〇 従来の技術 この系の組成物は印刷板、レリーフ曲1像及びフォトレ
ジストン製造するために使用し、例えはドイツ特許第1
171267号、第2027467号及びg!4203
9861号明細l及びドイツ公開特許第1522515
号、第2[J64L179号及び第2064080号明
紺壺(−木1府計第3804631号明細曹〕から公知
である。
この組成物に、特に平版印刷版の写真製版用及びフオト
レジス)Iffiの複写材料として使用される。
レジス)Iffiの複写材料として使用される。
それぞれこれらの組成物の光重合性層又は複写材料には
、通常現像ン伴なうレリーフ画1氷の可視良を改良する
ために染料又は顔料が含まれている・海色か加削は本来
に九急定性でなけれはならない。それというのも元硬化
層成分かりなり現像後に得られたステ/シルに范大のコ
ントラストン示すかもである。
、通常現像ン伴なうレリーフ画1氷の可視良を改良する
ために染料又は顔料が含まれている・海色か加削は本来
に九急定性でなけれはならない。それというのも元硬化
層成分かりなり現像後に得られたステ/シルに范大のコ
ントラストン示すかもである。
他方では、光]lL合性抜性複写材g党す後に、非露光
帯域から明確に区別される露光帯域の要求がある。この
目的Y:得るためには、なかんずく露光すると漂白され
ろアゾ染料が使用される。
帯域から明確に区別される露光帯域の要求がある。この
目的Y:得るためには、なかんずく露光すると漂白され
ろアゾ染料が使用される。
多くの場合には、これらの染料ン用いて得られた画像は
極めて明るい。即ちコントラストが不十分である。
極めて明るい。即ちコントラストが不十分である。
ドイツ公開特許第2807956号明細1・には、逆に
漂白される特別のアゾ染料が記載されている。4元する
と、このアゾ染料は漂白されて原図の吸光の50%にな
りこのようにして比較的太ぎい画像のコントラストが得
られる。しかしながら画i&に露光直後に現像しなけれ
はならない。それというのも殊に空気からの酸素の存在
で原図の色密度はもとに戻り、露光によるコントラスト
が消滅するからである。
漂白される特別のアゾ染料が記載されている。4元する
と、このアゾ染料は漂白されて原図の吸光の50%にな
りこのようにして比較的太ぎい画像のコントラストが得
られる。しかしながら画i&に露光直後に現像しなけれ
はならない。それというのも殊に空気からの酸素の存在
で原図の色密度はもとに戻り、露光によるコントラスト
が消滅するからである。
ヨーロッパ%杆願第24916号によれは、癲当な染料
はトリアリールメタン染料、シス−又はトランス−アゾ
ベンゼン、ナオインジゴ染料、0−ニトロベンゼン誘導
体及びスピロぎラン化合物であり、これにポジで作用す
るフォトレジストでフォトクロミック性ン示す。
はトリアリールメタン染料、シス−又はトランス−アゾ
ベンゼン、ナオインジゴ染料、0−ニトロベンゼン誘導
体及びスピロぎラン化合物であり、これにポジで作用す
るフォトレジストでフォトクロミック性ン示す。
ドイツ公開特許第3131448号明細書には、アミノ
基又はイミノ基Y:有する結合剤ヶ有する元ik会性混
−8−@が記載されて2ジ、これは付加的に染料、コン
トラスト形瓜剤又にフォトクロミック化合物Y:を有し
ていてもよい。ロイコ染料、例えはロイコクリスタルバ
イオレットがフォトクロミック化合物として挙げられて
いる。なかんずクトリフェニルメタン染料及び6′−フ
ェニルー7−ジメチルアミノー2.z−スピロジー[2
H−1−ベンゾビラン〕が、適当なコントラスト染料と
して挙げられている。
基又はイミノ基Y:有する結合剤ヶ有する元ik会性混
−8−@が記載されて2ジ、これは付加的に染料、コン
トラスト形瓜剤又にフォトクロミック化合物Y:を有し
ていてもよい。ロイコ染料、例えはロイコクリスタルバ
イオレットがフォトクロミック化合物として挙げられて
いる。なかんずクトリフェニルメタン染料及び6′−フ
ェニルー7−ジメチルアミノー2.z−スピロジー[2
H−1−ベンゾビラン〕が、適当なコントラスト染料と
して挙げられている。
発明が解決しようとする問題点
本発明の目的は、4元直後に濃い画像のコントラスト乞
生じ、長時間の保存後にさえも保持される烏感光性の光
重合性組成物ン得ることであった。更に露光層帯域と層
支持体、殊に層支持体との十分なコントラストが現像後
に得、られなけれはならない。七の上この組成物は、光
ム会性層として銅ン有する層支持体に使用する場合に少
くとも2週間変化しないで保存することができなければ
ならない。
生じ、長時間の保存後にさえも保持される烏感光性の光
重合性組成物ン得ることであった。更に露光層帯域と層
支持体、殊に層支持体との十分なコントラストが現像後
に得、られなけれはならない。七の上この組成物は、光
ム会性層として銅ン有する層支持体に使用する場合に少
くとも2週間変化しないで保存することができなければ
ならない。
問題点ン解決するための手段
この目的は、本発明によれは
主情成分として
(al ポリマー結合剤、
(bl 末端エチレン性二重結合少くとも1個及び沸
点(標準圧で)100℃以上ン有し、フリーラジカル法
で開始する重合によってポリマー乞形成し得る化分物、 (C) 元画始剤及び (d)トリアリールメタン染料のロイコ塩基ン貧有する
光′M会性組奴物を得ることによって得られる。
点(標準圧で)100℃以上ン有し、フリーラジカル法
で開始する重合によってポリマー乞形成し得る化分物、 (C) 元画始剤及び (d)トリアリールメタン染料のロイコ塩基ン貧有する
光′M会性組奴物を得ることによって得られる。
本発明の組成物は、付加的に一般式l:c式中Rは水系
原子又はcl〜016−アルキル基乞表わし、R1、R
2、R3及びR4はl1lrl−か又は異なジ、水系原
子又はハロゲン原子、C工〜C4−アルキル基又にアル
コキシ基又はニトロ基ン表わし B5 、Hd XB?
及びR8は同一か又は異なり、水系又はハロゲン原子、
ニトロ基又はアミノ基、01〜C6−アルキル基又はア
ルコキシ基又はc、、 5C10−アリールm′F!:
表わす〕のフォトクロミックスピロ−インドリノ−ベン
ゾピランを含有することン特徴とする・ トリアリールメタン染料の過当なロイコ塩基に、なかん
ずくクリスタルバイオレット、ビクトリアブルーBH1
ビクトリアピュアブルーBOH、メチルバイオレット、
フシジン、マラシテグリーン、アシドバイオレット5B
% メチルシアニン6B、ブリヤントグリーン及びアシ
ランバイオレット日のロイコ塩基である。
原子又はcl〜016−アルキル基乞表わし、R1、R
2、R3及びR4はl1lrl−か又は異なジ、水系原
子又はハロゲン原子、C工〜C4−アルキル基又にアル
コキシ基又はニトロ基ン表わし B5 、Hd XB?
及びR8は同一か又は異なり、水系又はハロゲン原子、
ニトロ基又はアミノ基、01〜C6−アルキル基又はア
ルコキシ基又はc、、 5C10−アリールm′F!:
表わす〕のフォトクロミックスピロ−インドリノ−ベン
ゾピランを含有することン特徴とする・ トリアリールメタン染料の過当なロイコ塩基に、なかん
ずくクリスタルバイオレット、ビクトリアブルーBH1
ビクトリアピュアブルーBOH、メチルバイオレット、
フシジン、マラシテグリーン、アシドバイオレット5B
% メチルシアニン6B、ブリヤントグリーン及びアシ
ランバイオレット日のロイコ塩基である。
一般式lに相応するスピロ−C2H−1−ベンゾピラン
−2,z−インドリン〕のうち、ベンゾピラン環系には
候分Y:有する誘導体及びインドリン系に重換分ン■す
る誘導体ン、本発明による光11会性組成物で使用する
ことができる。
−2,z−インドリン〕のうち、ベンゾピラン環系には
候分Y:有する誘導体及びインドリン系に重換分ン■す
る誘導体ン、本発明による光11会性組成物で使用する
ことができる。
置換されている適当なベンゾピランは、次のものである
: 6−アセテルー、5−ブロム−8−メトキシ−6−ニト
ロ−15−ブロム−6−二トロー、6−ブロム−8−二
トロー、8−ブロム−6−ニトロ−16−クロル−17
−クロル−16−クロル−b、7−ジメテルー8−二ト
ロー、8−クロル−5,6−シニトロー、5−クロル−
6−ニトロ−15−クロル−8−二トロー、6−ジアツ
ー、5,7−ジクロル−6−二トロー、6.8−ジクロ
ル−5−二トロー、5,7−ジメトキシ−6−ニトロ−
,8−フルオル−16−フルオル−8−二トロー、8−
フルオル−6−ニトロ−17−ヒドロキシ−16−イン
トー8−ニトロ−18−インド−6−ニトロ−17−メ
ドキシー5−メナルー◇−二トロー、6−メドキシー5
−ニトロ−18−メトキシ−5−二トロー、8−メトキ
シ−6−ニトロ−15−ニトロ−,6−ニトロ−17−
ニトロ−18−ニトロ−16−ニトロ−5,7,8−)
リメチルー、6−(β−ニトロビニル)−及び7−メチ
ル−ベンゾぎラン。
: 6−アセテルー、5−ブロム−8−メトキシ−6−ニト
ロ−15−ブロム−6−二トロー、6−ブロム−8−二
トロー、8−ブロム−6−ニトロ−16−クロル−17
−クロル−16−クロル−b、7−ジメテルー8−二ト
ロー、8−クロル−5,6−シニトロー、5−クロル−
6−ニトロ−15−クロル−8−二トロー、6−ジアツ
ー、5,7−ジクロル−6−二トロー、6.8−ジクロ
ル−5−二トロー、5,7−ジメトキシ−6−ニトロ−
,8−フルオル−16−フルオル−8−二トロー、8−
フルオル−6−ニトロ−17−ヒドロキシ−16−イン
トー8−ニトロ−18−インド−6−ニトロ−17−メ
ドキシー5−メナルー◇−二トロー、6−メドキシー5
−ニトロ−18−メトキシ−5−二トロー、8−メトキ
シ−6−ニトロ−15−ニトロ−,6−ニトロ−17−
ニトロ−18−ニトロ−16−ニトロ−5,7,8−)
リメチルー、6−(β−ニトロビニル)−及び7−メチ
ル−ベンゾぎラン。
置換されている過当なインドリンは、次のものである:
1′−ブチル−13’、3’−ジエナルー、3’、3’
−ジフェニル−51、7/−ジフェニル−16′−エナ
ルー、1′−ヘキサデシル−11′−インアミル−15
′−二トロー6′−フェニル−16′−フェニル−11
′、 61 、3/−トリメナル−14′−クロル−1
5′−クロル−16′−クロル−15’、7’−ジクロ
ル−11′、6′、6′−トリメナル−5′−クロル−
14′、ダージメトキシー、4’ 、 7’−ジメチル
−51,7−ジメナルー 41 、6/−ジフェニル−
15’ 、 7’−ジフェニル−14′−フルオル−1
5′−フルオル−15′−(β−ヒドロキシーエナル)
、5′−メトキシ−17′−メトキシ、−15′−メチ
ル−16′−メナルー、7′−メナルー、5′−ニトロ
−17′−二トロー、5′−フェニル−17′−フェニ
ル−及び4’、 6’、 7’−)リフェニルーインド
リン。
−ジフェニル−51、7/−ジフェニル−16′−エナ
ルー、1′−ヘキサデシル−11′−インアミル−15
′−二トロー6′−フェニル−16′−フェニル−11
′、 61 、3/−トリメナル−14′−クロル−1
5′−クロル−16′−クロル−15’、7’−ジクロ
ル−11′、6′、6′−トリメナル−5′−クロル−
14′、ダージメトキシー、4’ 、 7’−ジメチル
−51,7−ジメナルー 41 、6/−ジフェニル−
15’ 、 7’−ジフェニル−14′−フルオル−1
5′−フルオル−15′−(β−ヒドロキシーエナル)
、5′−メトキシ−17′−メトキシ、−15′−メチ
ル−16′−メナルー、7′−メナルー、5′−ニトロ
−17′−二トロー、5′−フェニル−17′−フェニ
ル−及び4’、 6’、 7’−)リフェニルーインド
リン。
基HA〜R8の1個又は数個はアルキル基であり、これ
らは好ましくは炭素原子1個又は2個を有し、特にメチ
ル基が好ましい。Rは好ましくは、特に炭素原子1〜5
個馨有するアルキル基である;好ましくは多くはメチル
基である。
らは好ましくは炭素原子1個又は2個を有し、特にメチ
ル基が好ましい。Rは好ましくは、特に炭素原子1〜5
個馨有するアルキル基である;好ましくは多くはメチル
基である。
殊にベンゾぎラン糸にニトロミツくとも111!ン有す
る式lの化合物によって、物に一色のコントラストが得
られ、それ故Tkftしい・過当なスピロ−(2H−1
−ベンゾビラン−2,2′−インドリン〕に、肉塊糸に
置換分(前記に4に、f+シた原則上可能の一1俣分)
ン有するものである。特に好ましいのは、インドリン系
の1′−位でメチル基1個で置換されかつインドリン糸
の6′−位でメチル基2餉で11供されている徴候化合
物、及びベンゾビラン糸の6−位でニトロ恭で&換され
かつベンゾビラン糸の8−位で付加的にアルコキシ泰、
船にメトキシ基で置換されてい6に換化合物である。
る式lの化合物によって、物に一色のコントラストが得
られ、それ故Tkftしい・過当なスピロ−(2H−1
−ベンゾビラン−2,2′−インドリン〕に、肉塊糸に
置換分(前記に4に、f+シた原則上可能の一1俣分)
ン有するものである。特に好ましいのは、インドリン系
の1′−位でメチル基1個で置換されかつインドリン糸
の6′−位でメチル基2餉で11供されている徴候化合
物、及びベンゾビラン糸の6−位でニトロ恭で&換され
かつベンゾビラン糸の8−位で付加的にアルコキシ泰、
船にメトキシ基で置換されてい6に換化合物である。
更に適当なスピロ−インドリノ−ベンゾビランは、プラ
ウy (G、 H,Brovrn ) :il ”フォ
トクロミズム(Photochromism )″〔ウ
イシー・インターサイx :y ス(Wiley−In
terscience )版、ニューヨーク、(1レフ
1年)、第165〜169員、淋に第169員〕に記載
されている。
ウy (G、 H,Brovrn ) :il ”フォ
トクロミズム(Photochromism )″〔ウ
イシー・インターサイx :y ス(Wiley−In
terscience )版、ニューヨーク、(1レフ
1年)、第165〜169員、淋に第169員〕に記載
されている。
元重合性組成物中に含まれ九ロイコ塩基の亀は、m酸物
の非揮発性成分に対して0.(J 5〜5、OIL量係
、好ましくは0.4〜4.01負%で変動する。一般に
スピロ化合物の過当な含量は、組成物の非揮発性成分の
0.01〜2.03tii%、好ましくは0.05〜1
.0憲jg、%である。ロイコ塩暴均スピロ化合物の好
ましい割合に、12:1S2:1である。
の非揮発性成分に対して0.(J 5〜5、OIL量係
、好ましくは0.4〜4.01負%で変動する。一般に
スピロ化合物の過当な含量は、組成物の非揮発性成分の
0.01〜2.03tii%、好ましくは0.05〜1
.0憲jg、%である。ロイコ塩暴均スピロ化合物の好
ましい割合に、12:1S2:1である。
多くの物質t1本発明による組成物の光重合開始剤とし
て使用することができる。例はベンゾフェノン、ナオキ
サントン、ベンゾイン及びこれらの誘導体である。
て使用することができる。例はベンゾフェノン、ナオキ
サントン、ベンゾイン及びこれらの誘導体である。
これらの物質のうち、好ましいものに軸会塊2〜5個及
びヘテロ原子として窒素原子少くとも1個を有する煩累
環式化合物特にアクリジン誘導体、例えは9−フェニル
アクリジン、9−p−メトキシフェニルアクリジン、9
−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン;キノ
リン誘導体、例えば2〜ステリルキノリン、シナミリデ
ンーキナルジン;フェナジン誘導体、例えば9,10−
ジメチル−ベンズフェナジン、10−メトキシ−ベンズ
フェナジン:キノキサリン誘導体、例えは6.4’、4
“−トリメトキシ−2,6−ジフェニルキノキサリン、
4’、4“−ジメトキシ−2,6−ジフェニル−5−ア
ゾキノキサリン;又はキナゾリン誘導体である。これら
の好ましい開始剤は、ドイツ特許第2027467号及
びM2O39861号明細豊及びドイツ特許出願第35
67580号に記載されている。
びヘテロ原子として窒素原子少くとも1個を有する煩累
環式化合物特にアクリジン誘導体、例えは9−フェニル
アクリジン、9−p−メトキシフェニルアクリジン、9
−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン;キノ
リン誘導体、例えば2〜ステリルキノリン、シナミリデ
ンーキナルジン;フェナジン誘導体、例えば9,10−
ジメチル−ベンズフェナジン、10−メトキシ−ベンズ
フェナジン:キノキサリン誘導体、例えは6.4’、4
“−トリメトキシ−2,6−ジフェニルキノキサリン、
4’、4“−ジメトキシ−2,6−ジフェニル−5−ア
ゾキノキサリン;又はキナゾリン誘導体である。これら
の好ましい開始剤は、ドイツ特許第2027467号及
びM2O39861号明細豊及びドイツ特許出願第35
67580号に記載されている。
−散に開始剤に、組成物の非揮発性成分に対して0.0
1〜10.0重t%、好ましくは0.05〜4.0電蓄
%の量で使用する。
1〜10.0重t%、好ましくは0.05〜4.0電蓄
%の量で使用する。
本発明の目的に有用なl−付性化合物は公知であシ、例
えは米国%fF第2760865号及び第506002
5号明細曹に記Mされている。
えは米国%fF第2760865号及び第506002
5号明細曹に記Mされている。
好ましい例は、21ilII又は%価アルコールのアク
リル鹸エステル及びメタクリル嫁エステル、例えばエナ
レングリコールジアクリレート、ポリエテレンダリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールエタン、トリメチ
ロールプロパン、ペンタエリトリット、ジペンタエリト
リット及び多価脂環式アルコールの7クリレート及びメ
タクリレートである。ジイソシアネートと多価アルコー
ルのb公的エステルとの反応缶Vj、物も好ましく使用
される。この鑞の化ツマ−に1 ドイツ公開叫許第20
64079号、第2561041号及び第282219
0号明細誉に記載されている。
リル鹸エステル及びメタクリル嫁エステル、例えばエナ
レングリコールジアクリレート、ポリエテレンダリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールエタン、トリメチ
ロールプロパン、ペンタエリトリット、ジペンタエリト
リット及び多価脂環式アルコールの7クリレート及びメ
タクリレートである。ジイソシアネートと多価アルコー
ルのb公的エステルとの反応缶Vj、物も好ましく使用
される。この鑞の化ツマ−に1 ドイツ公開叫許第20
64079号、第2561041号及び第282219
0号明細誉に記載されている。
層に含まれた化ツマ−の割合は、一般に約10〜80重
知4、好まL<1Sc2o 〜6Omta係である。
知4、好まL<1Sc2o 〜6Omta係である。
多くの可溶性有懺ポリマーは、結合剤として使用しても
よい。例は次のものである:ボリアミド、ポリビニルエ
ステル、ポリビニル7セタール、ポリビニルエステル、
エポキシド樹脂、ポリアクリル酸エステル、ポリメタク
リル酸エステル、ポリエステル、アルキド樹脂、ポリア
クリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオ
キシド、ポリジメナルアクリルアミド、ポリビニルピロ
リドン、ホリビニルメテルホルムアミド、ボスノビニル
メチルアセトアミド、列挙し次ホモボリマーン形成する
モノマーのコーポリマー。
よい。例は次のものである:ボリアミド、ポリビニルエ
ステル、ポリビニル7セタール、ポリビニルエステル、
エポキシド樹脂、ポリアクリル酸エステル、ポリメタク
リル酸エステル、ポリエステル、アルキド樹脂、ポリア
クリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオ
キシド、ポリジメナルアクリルアミド、ポリビニルピロ
リドン、ホリビニルメテルホルムアミド、ボスノビニル
メチルアセトアミド、列挙し次ホモボリマーン形成する
モノマーのコーポリマー。
他の可能な粘合剤は天然?J負、又は変性された天然物
置、例えはゼラチン又はセルロースエステルである。
置、例えはゼラチン又はセルロースエステルである。
特に好ましくに水に不俗であるが、アルカリ性水陪泡に
OJ浴か又は少くとも膨潤する結合剤乞使用する。それ
というのもか−る粘合剤を含有する層は、好ましく使用
されろアルカリ水性現&剤で現像することができるから
である。この糸の#5会剤に、例えば次の晶ン含有して
いてもよい: −COOH,−PO3H2、−8O3H
% −802NH%−802〜NH−8o2〜 及び
−8o2〜’NH−Co 。
OJ浴か又は少くとも膨潤する結合剤乞使用する。それ
というのもか−る粘合剤を含有する層は、好ましく使用
されろアルカリ水性現&剤で現像することができるから
である。この糸の#5会剤に、例えば次の晶ン含有して
いてもよい: −COOH,−PO3H2、−8O3H
% −802NH%−802〜NH−8o2〜 及び
−8o2〜’NH−Co 。
これらの粘合剤の例に次のものである:マレイン鈑塩樹
脂、β−メタクリロイルオキシーエナルーN −(p
−) ’Jルースルホニル〕−カルバメートのポリマー
、及びこれら並ひに類似モノマーと他のモノマーとのコ
ーポリマー、及びスチレン/無水マレイン敵コーホリマ
ー。メタクリル販アルキルとメタクリル級とのコーポリ
マー及びメタクリル酸、筒メタクリル酸アルキル及びメ
タクリル酸メチル及び/又はスナレン、アクリロニトリ
ルのコーポリマー、及びドイツ公開特許第2064[J
80号及び第2565806号明細書に記載されている
類似物が好ましく使用される。
脂、β−メタクリロイルオキシーエナルーN −(p
−) ’Jルースルホニル〕−カルバメートのポリマー
、及びこれら並ひに類似モノマーと他のモノマーとのコ
ーポリマー、及びスチレン/無水マレイン敵コーホリマ
ー。メタクリル販アルキルとメタクリル級とのコーポリ
マー及びメタクリル酸、筒メタクリル酸アルキル及びメ
タクリル酸メチル及び/又はスナレン、アクリロニトリ
ルのコーポリマー、及びドイツ公開特許第2064[J
80号及び第2565806号明細書に記載されている
類似物が好ましく使用される。
一賎に粘合剤の飽加蓋に、1−成分の20〜90に蓋%
、好ましくは40−40−8O%である。
、好ましくは40−40−8O%である。
目的の使用及び所望の性質によって、*;惠合性組取物
に曳々の付加的物質ン富有していてもよい。これらの例
は次のものであるニ ーモノマーの熱重合乞避ける几めの抑制剤、−水素供与
体、 −この系の層の感度測定性性ン調節する物質、−染料、 一看色及び非着色顔料、 一可塑剤、例えばポリグリコール又はp−ヒドロキシ−
安息香酸エステル。
に曳々の付加的物質ン富有していてもよい。これらの例
は次のものであるニ ーモノマーの熱重合乞避ける几めの抑制剤、−水素供与
体、 −この系の層の感度測定性性ン調節する物質、−染料、 一看色及び非着色顔料、 一可塑剤、例えばポリグリコール又はp−ヒドロキシ−
安息香酸エステル。
これらの成分は、好ましくは開始工程に1鴬な化学線放
射帯域中の吸収を最小にするために選ばなければならな
い。
射帯域中の吸収を最小にするために選ばなければならな
い。
本発明範囲内では化学脚放射に、そのエネルギーが少く
とも短波の可視光線のエネルギーに相応する任意の放射
である。長波の、紫外紛放射及びレザー放射が適当であ
る。
とも短波の可視光線のエネルギーに相応する任意の放射
である。長波の、紫外紛放射及びレザー放射が適当であ
る。
本発明の元l会性組成物は多くの分野の使用で、例えは
元の作用で故化するワ子スとして、及び竹に抜写の分野
で感光性複写材料として使用することができる。
元の作用で故化するワ子スとして、及び竹に抜写の分野
で感光性複写材料として使用することができる。
本発明の工費目的はこの最後の使用分野に対するが、ご
れのみに限定されるものではない。
れのみに限定されるものではない。
この分野の可能な使用例は、次のものであるニレリーフ
印刷、平版印刷、グラビア印刷又はスクリーン印刷に過
当な印刷板の写、g製版製造用の複写層;例えば点字の
本ン製造する除のレリーフ複写;単複写;タンド(ca
nned )画像;着色画像その他。更に組成?l!l
に、腐刻レジストの写真製版、例えは名前のプレート、
プリント配縁及びケミカルミリング(Chemical
mi:Lling)に使用することかできる。本発明
の組成物は、平版印刷板の写真製版の装造及びフォトレ
ジストの技術に対して物に1j1女である。
印刷、平版印刷、グラビア印刷又はスクリーン印刷に過
当な印刷板の写、g製版製造用の複写層;例えば点字の
本ン製造する除のレリーフ複写;単複写;タンド(ca
nned )画像;着色画像その他。更に組成?l!l
に、腐刻レジストの写真製版、例えは名前のプレート、
プリント配縁及びケミカルミリング(Chemical
mi:Lling)に使用することかできる。本発明
の組成物は、平版印刷板の写真製版の装造及びフォトレ
ジストの技術に対して物に1j1女である。
本組成v/lに工業上前述の便用に浴液又は分散液、例
えは適当な支狩体に使用するフォトレジスト浴数として
、ケミカルミリングにプリント配線、スクリーン印刷ス
テンシル等の製造に使用することかできろ。この組成′
@は適当な支持体に被慢した般住感元性IQとして、即
ち保存し得る感光性複写材料として、例えは印布11&
、ン袈造するために存任していてもよい。該組成物は、
乾燥レジストの製造に使用することもできる。
えは適当な支狩体に使用するフォトレジスト浴数として
、ケミカルミリングにプリント配線、スクリーン印刷ス
テンシル等の製造に使用することかできろ。この組成′
@は適当な支持体に被慢した般住感元性IQとして、即
ち保存し得る感光性複写材料として、例えは印布11&
、ン袈造するために存任していてもよい。該組成物は、
乾燥レジストの製造に使用することもできる。
一般に組成物ン、元i合の間に大気の鉄索の影響から絶
縁するのが好ましい。組成物を簿い複写層の形で使用す
る場合には、空気に対して低透過性7有する過当なカバ
ーフィルムを使用する0カバーフ・イルムは自己支持性
であり、現b Th+1に複写層から除去することがで
きろ。例えはポリエステルフィルムがこのために適当で
ある。カバーフィルムは、胡、像剤浴敢に俗解するか又
は現像の間に少くとも非硬化帯域から除去することので
きる材料からなっていてもよい。
縁するのが好ましい。組成物を簿い複写層の形で使用す
る場合には、空気に対して低透過性7有する過当なカバ
ーフィルムを使用する0カバーフ・イルムは自己支持性
であり、現b Th+1に複写層から除去することがで
きろ。例えはポリエステルフィルムがこのために適当で
ある。カバーフィルムは、胡、像剤浴敢に俗解するか又
は現像の間に少くとも非硬化帯域から除去することので
きる材料からなっていてもよい。
このための過当な材料の例は、なかんずくワックス、ポ
リビニルアルコール、ポリホスフェート、シュガーその
他である。
リビニルアルコール、ポリホスフェート、シュガーその
他である。
本発明の組成物ン削いてa構造した複写材料に過当な層
支持体は、例えばアルミニクム、スチール、亜鉛、銅、
プラスチックフィルム、例えはポリエチレンテレフタレ
ート又は酢絃セルロ・−スのフィルム、及びスクリーン
印刷の支持体、例えはバーロン(perlon )ガー
ゼである。
支持体は、例えばアルミニクム、スチール、亜鉛、銅、
プラスチックフィルム、例えはポリエチレンテレフタレ
ート又は酢絃セルロ・−スのフィルム、及びスクリーン
印刷の支持体、例えはバーロン(perlon )ガー
ゼである。
本発明の組成物ン使用する感光性材料は常法で製造する
。
。
即ち、組成物は溶剤に吸収させ、得られ良俗液又は分散
液に薄フィルムとしての支持体に注型、スグシー、浸漬
又はローラによって使用し、乾燥することができる。厚
いm (fllえは250μrIL以上)は、好ましく
は元づ自己叉持性フイルムン押出地形又は注型成形して
作り、次いでこれン任意に支持座に貼合せる。乾燥レジ
ストの場合には、組成物の浴准乞透シjな中世叉持体に
使用し、乾燥する。次いで厚さ約10〜100μ#!を
有する感光層に、Br望の支持座にがりの支持体と一緒
に貼合せて積層する。
液に薄フィルムとしての支持体に注型、スグシー、浸漬
又はローラによって使用し、乾燥することができる。厚
いm (fllえは250μrIL以上)は、好ましく
は元づ自己叉持性フイルムン押出地形又は注型成形して
作り、次いでこれン任意に支持座に貼合せる。乾燥レジ
ストの場合には、組成物の浴准乞透シjな中世叉持体に
使用し、乾燥する。次いで厚さ約10〜100μ#!を
有する感光層に、Br望の支持座にがりの支持体と一緒
に貼合せて積層する。
Q写材料に公知方法によって処理することができる。こ
の材料は、過当な現し該、例えは有機酸剤浴液(しかし
ながら好ましくは弱アルカリ往水fct液)で処理して
現像し、これによって)dの非蕗元帯域ン療解し、複写
層の皇光帯域は支持体上に残留する。
の材料は、過当な現し該、例えは有機酸剤浴液(しかし
ながら好ましくは弱アルカリ往水fct液)で処理して
現像し、これによって)dの非蕗元帯域ン療解し、複写
層の皇光帯域は支持体上に残留する。
N九すると、本発明によって製造した材料は、蕗元帯域
の譲い着色によって鮮明に目にみえる色のコントラス)
Y示す。暗所に保存する間色のコントラストは殆んど変
らないで保持され、数日及び数週rt1gえも十分に維
持される。光重合性組成物の光感&は、コントラスト形
成剤に影響されないで十分に存在する。
の譲い着色によって鮮明に目にみえる色のコントラス)
Y示す。暗所に保存する間色のコントラストは殆んど変
らないで保持され、数日及び数週rt1gえも十分に維
持される。光重合性組成物の光感&は、コントラスト形
成剤に影響されないで十分に存在する。
意外なことにも、所望の結果は一般式lに相応するスピ
ロ化合物ン本発明による組成物に一便用する場合に得ら
れるが、ドイツ公開特許第6161448号明細畳に染
料として記載されり6′−フェニル−7−ヅメナルアミ
ノ−2,z−スピロジーC2H−1−ベンゾピランツー
七の構造は式lのス♂ロ化名物の構造と著しく似ている
ーは、単独か又はロイコトリアリールメタン染料と組合
せて使用するのにも拘らず、組成物で7オトクロミツク
色変化ンもたらさない。
ロ化合物ン本発明による組成物に一便用する場合に得ら
れるが、ドイツ公開特許第6161448号明細畳に染
料として記載されり6′−フェニル−7−ヅメナルアミ
ノ−2,z−スピロジーC2H−1−ベンゾピランツー
七の構造は式lのス♂ロ化名物の構造と著しく似ている
ーは、単独か又はロイコトリアリールメタン染料と組合
せて使用するのにも拘らず、組成物で7オトクロミツク
色変化ンもたらさない。
しかしながら一般式Iの化会吻ン単独で、即ちロイコ塩
きン疵加しないで使用する場合には、着色は画像に応じ
て4元した後に迅速に減退し、1時間の間に実際に消失
する。
きン疵加しないで使用する場合には、着色は画像に応じ
て4元した後に迅速に減退し、1時間の間に実際に消失
する。
ロイコ塩基ン単独で使用する場合にに、画像のコントラ
ストは露光直後に目には見えない。
ストは露光直後に目には見えない。
単に暗所での一定時間の保存後に、著しい画像のコント
ラストが得られ、最大の強さは斧り1日後に得られる。
ラストが得られ、最大の強さは斧り1日後に得られる。
実施例
例 1
浴液1a−1ft、先づ
2 、2 、4.− トリメ+ルーへ+? 20憲t
mメナレンジイソシアネート1モル 及び2〜ヒドロキシエチルメタク リレート2七ルから得られた反応 生成物 スチレン、n−へキシルメタクリ 20 N、 1fr
fG%レート及びメタクリル酸(1o: 60 : 50 ) カら得うレ、kfR190を有す
るターポリマー 1.4−ビス−(4−tert−プ 0.02 ik
k ff1sトキシーフエニルアミノ〕−5゜ 8−ジヒドロキシアントラキノン 9−フェニルアクリジン 0.2iit部ブタ
ノン 46!It部エタノール
25IiL量部からなる原1
に乞製造し、これに次の成分の1つン各々の場合に姫加
した: 1a(C) : 添加剤ン有しない 1k)(C) : 3’−フェニル−7−0,043
iE童部ジメナルーアミノー2.z−スピ クジ−C2H−1−ベンゾビラン〕 1a(c) : 1 、 5’
# 5’−) リ メ 0.04k
mBチルー6−ニトロー8−メトキシ 一スピロー(2H−1−ベンゾピ ラン−2,z−インドリン 1(L(C) : ロイコ−クリスタル 0.55
m負部バイオレット 1e(C) : ロイコ−クリスタル0.55iik
バイオレツト 及び6′−フェニル−7−ジメチル 0.04i量Hf
1−アミノ−2,2′−スピロジー (2H−1−ベンゾビラン〕 1f: ロイコ−クリスタル 0.65東鉦部バ
イオレット 及び1/ 、 5/、ジートリメナルー 0.04重
量邸6−ニトロー8−メトキシ−ス ピロ−(2H−1−ベンゾビラ ン]−2.2’−インドリン C−比較 これらの治敵の各々ン、厚さ25μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルムに菜布し、乾燥量中でi (10
”0で2分間乾燥した。′iL鈷509/mに Y:有
する乾燥レジストが得られた。
mメナレンジイソシアネート1モル 及び2〜ヒドロキシエチルメタク リレート2七ルから得られた反応 生成物 スチレン、n−へキシルメタクリ 20 N、 1fr
fG%レート及びメタクリル酸(1o: 60 : 50 ) カら得うレ、kfR190を有す
るターポリマー 1.4−ビス−(4−tert−プ 0.02 ik
k ff1sトキシーフエニルアミノ〕−5゜ 8−ジヒドロキシアントラキノン 9−フェニルアクリジン 0.2iit部ブタ
ノン 46!It部エタノール
25IiL量部からなる原1
に乞製造し、これに次の成分の1つン各々の場合に姫加
した: 1a(C) : 添加剤ン有しない 1k)(C) : 3’−フェニル−7−0,043
iE童部ジメナルーアミノー2.z−スピ クジ−C2H−1−ベンゾビラン〕 1a(c) : 1 、 5’
# 5’−) リ メ 0.04k
mBチルー6−ニトロー8−メトキシ 一スピロー(2H−1−ベンゾピ ラン−2,z−インドリン 1(L(C) : ロイコ−クリスタル 0.55
m負部バイオレット 1e(C) : ロイコ−クリスタル0.55iik
バイオレツト 及び6′−フェニル−7−ジメチル 0.04i量Hf
1−アミノ−2,2′−スピロジー (2H−1−ベンゾビラン〕 1f: ロイコ−クリスタル 0.65東鉦部バ
イオレット 及び1/ 、 5/、ジートリメナルー 0.04重
量邸6−ニトロー8−メトキシ−ス ピロ−(2H−1−ベンゾビラ ン]−2.2’−インドリン C−比較 これらの治敵の各々ン、厚さ25μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルムに菜布し、乾燥量中でi (10
”0で2分間乾燥した。′iL鈷509/mに Y:有
する乾燥レジストが得られた。
乾燥レジストンダスト及び黴械的損楊から保−するため
に、レジストに厚さ20μmのポリエテレンのカバーフ
ィルム乞被覆した。このフィルムは、レジストに対して
にポリエステルフィルムよりも向くに付層しない。この
ようにして得られた材料は、九〇俵近ン排除すると長時
間保存することができる。
に、レジストに厚さ20μmのポリエテレンのカバーフ
ィルム乞被覆した。このフィルムは、レジストに対して
にポリエステルフィルムよりも向くに付層しない。この
ようにして得られた材料は、九〇俵近ン排除すると長時
間保存することができる。
カバーフィルムの除去後に、乾燥レジスト層ン、恢負エ
ポキシド/ガフス極維ラミネートに結合し九予清浄鋼フ
ォイルに市場で得られる貼合せ磯乞用いて、温度120
℃及び進行速度1.5m/分で貼合せた。
ポキシド/ガフス極維ラミネートに結合し九予清浄鋼フ
ォイルに市場で得られる貼合せ磯乞用いて、温度120
℃及び進行速度1.5m/分で貼合せた。
一面に貼@rセたレジスト材料のサンプル1a〜1b乞
、支持体フィルムによって透明視野4X 4 cm 、
暗色視野4X40、線図案及び密度の増加量0.15’
!に有する16段階のm光侯からなる原図下で露光した
。各々の墳曾に露光は、銑のドープ塗料を塗布した5
kWの)10デン化物ランプによって間隔90cmで5
秒間行なった。
、支持体フィルムによって透明視野4X 4 cm 、
暗色視野4X40、線図案及び密度の増加量0.15’
!に有する16段階のm光侯からなる原図下で露光した
。各々の墳曾に露光は、銑のドープ塗料を塗布した5
kWの)10デン化物ランプによって間隔90cmで5
秒間行なった。
次いで視野4×4儂の明度1賑、即ちこれらの視野によ
って減退した光乞ハンターラブ(HUNTIICRLA
B )色測定機で測定した。Lイーに明摂の測定値であ
る(10〇一完全な白色、〇一完全な黒色)。撫々の組
成物に対して測定したL(−は第1表に記載されている
。
って減退した光乞ハンターラブ(HUNTIICRLA
B )色測定機で測定した。Lイーに明摂の測定値であ
る(10〇一完全な白色、〇一完全な黒色)。撫々の組
成物に対して測定したL(−は第1表に記載されている
。
第 1 表
J@ a 〜fのL!(4元後の時間
の間歇として測定)
結果:
1 b :
比較化合物1bの(6′−フェニル−7−ヅメナルアミ
ノ−2,z−スぎロジー(2H−1−ベンゾピラン〕)
は、単独に使用する場合(第11)及びロイコ塩基と組
合せて使用する場合(1e)に効力Y:有しない。
ノ−2,z−スぎロジー(2H−1−ベンゾピラン〕)
は、単独に使用する場合(第11)及びロイコ塩基と組
合せて使用する場合(1e)に効力Y:有しない。
1C:
化合?l!l 1 cの(1’、 5’、 5’−)サ
メナル−6−ニトo−8−メトキシ−スピロ−(2H−
1−ベンゾビラン−2,z−インドリン))!cよって
、路光hhに十分なコントラストが得られるが、このコ
ントラストは持続しない(第2図)。
メナル−6−ニトo−8−メトキシ−スピロ−(2H−
1−ベンゾビラン−2,z−インドリン))!cよって
、路光hhに十分なコントラストが得られるが、このコ
ントラストは持続しない(第2図)。
1d;
ロイコバイオレットだけでは、容認し得るコントラスト
か得られるまで数時間生じる(#IIA図〕。
か得られるまで数時間生じる(#IIA図〕。
1f:
本発明の組成物によって、時間とに無関係に十分に均一
なコントラストが得られる(処4図)。
なコントラストが得られる(処4図)。
プレート1a〜1fの他のサンプル6種述のようにして
露光し、支持体フイルムン取除い友後に、濃度8受の炭
酸ナトリウム浴液ン25°Gで60秒間スグレーして現
像した。
露光し、支持体フイルムン取除い友後に、濃度8受の炭
酸ナトリウム浴液ン25°Gで60秒間スグレーして現
像した。
光感度は松卯剤によって影曽は3れなかった。
サンプル6種の各々の場合に、連転的色調の段階楔の段
階1〜4は完全に無感覚であり、段階7〜12は完全に
現像された。羽に対する最良のコントラストハ、本発明
によってhaしたサンプル1fの場合に認められた。
階1〜4は完全に無感覚であり、段階7〜12は完全に
現像された。羽に対する最良のコントラストハ、本発明
によってhaしたサンプル1fの場合に認められた。
例 2
トリメナロールプロパント 100m1重都リアクリ
レート n−ヘキシルメタクリレ−100m誓Thト、n−ブト
キシメチルメタ クリルアミド及びメタクリル [(50:25:25)から 得られ、I!l*1tll 166 ’kW丁bターポ
リマー 2〜メトキシエタノール 1200!量部ブタノン
200重量部6−ペンジリデンー9
−メ 1重′Jl1部チルー2,6−シヒドロー
1 H−シクロペンタ(k))キノリ ン及び a)(リ 6′−フェニル−72重量部−ジメチルアミ
ノ −2,z−スピロ ジー(2H−1− ベンゾビラン〕又 は b) (リ 1’、 5’、
5’−) リ
2 重 −m 部メチル−6−ニト ロ−8−メトキシ 一スピロー[2H −ベンゾぎラン− 2,2′−インドリ ン〕又は C) (C) ロイコクリスタル 6′N1
部バイオレット又は ’l) (C) ロイコクリスタル 6重負
部バイオレット 及 び 1/ 、 y、I 、
sl −ト リ
21区 ′ii γbメチル−6−二ト ロー8−メトキシ− スピロ−〔2H− 1−ベンゾピラン −2,z−インド リ ン 〕 からなる塗布敵ン、寛気化宇によって粗面にし陽極処理
した厚さ肌6#II+のアルミニウムに回転塗布し、各
々の場合に層のl負2.4.9 / m” が得られ
るように100°Cで2分間乾燥した。
レート n−ヘキシルメタクリレ−100m誓Thト、n−ブト
キシメチルメタ クリルアミド及びメタクリル [(50:25:25)から 得られ、I!l*1tll 166 ’kW丁bターポ
リマー 2〜メトキシエタノール 1200!量部ブタノン
200重量部6−ペンジリデンー9
−メ 1重′Jl1部チルー2,6−シヒドロー
1 H−シクロペンタ(k))キノリ ン及び a)(リ 6′−フェニル−72重量部−ジメチルアミ
ノ −2,z−スピロ ジー(2H−1− ベンゾビラン〕又 は b) (リ 1’、 5’、
5’−) リ
2 重 −m 部メチル−6−ニト ロ−8−メトキシ 一スピロー[2H −ベンゾぎラン− 2,2′−インドリ ン〕又は C) (C) ロイコクリスタル 6′N1
部バイオレット又は ’l) (C) ロイコクリスタル 6重負
部バイオレット 及 び 1/ 、 y、I 、
sl −ト リ
21区 ′ii γbメチル−6−二ト ロー8−メトキシ− スピロ−〔2H− 1−ベンゾピラン −2,z−インド リ ン 〕 からなる塗布敵ン、寛気化宇によって粗面にし陽極処理
した厚さ肌6#II+のアルミニウムに回転塗布し、各
々の場合に層のl負2.4.9 / m” が得られ
るように100°Cで2分間乾燥した。
次いで感光性プレートに、竣度15%のポリビニルアル
コール1m(残留アセナル−JiS12%、K値4)ン
狽布し、丹び乾保した(塗布亘−4〜597FIL”)
。
コール1m(残留アセナル−JiS12%、K値4)ン
狽布し、丹び乾保した(塗布亘−4〜597FIL”)
。
このようにして得られ次印刷板を、スクリーン原図によ
って5 kWの金属ハロゲン化物ランプで距離110−
で10秒間露光した。得られたコントラストン、現詠前
に評価した。
って5 kWの金属ハロゲン化物ランプで距離110−
で10秒間露光した。得られたコントラストン、現詠前
に評価した。
蕗元後(税像前〕の画像のコントラストの評価。
印刷板を1露元直後に
ベラルピン酸 15m童部水酸化ナ
トリウム 101箪部プロピレンオキ
シド90%及び 92]1tWivS工チレンオキシ
ド10%からな るプロツクポリマー テトラボリg4酸ナトリウム 12m1tfi
i水 55
0重量都からなる現像剤乞用いて決像すると、本発によ
って製造したサンプル+(11i十分なコントラストン
有するmi像ン示し、比較サンプル(C1及び[(11
に不十分なコントラストの−i像ン示し、比較例ta+
はコントラス)Y全く示さなかった。4冗及び非露光の
帯域が、互いに六回のつやの若干の差異によって区別さ
れる仇討ン見つけることができるのに過ぎなかった。
トリウム 101箪部プロピレンオキ
シド90%及び 92]1tWivS工チレンオキシ
ド10%からな るプロツクポリマー テトラボリg4酸ナトリウム 12m1tfi
i水 55
0重量都からなる現像剤乞用いて決像すると、本発によ
って製造したサンプル+(11i十分なコントラストン
有するmi像ン示し、比較サンプル(C1及び[(11
に不十分なコントラストの−i像ン示し、比較例ta+
はコントラス)Y全く示さなかった。4冗及び非露光の
帯域が、互いに六回のつやの若干の差異によって区別さ
れる仇討ン見つけることができるのに過ぎなかった。
例 6
2.2.4−)リンテルーへ 60皿′M部キサメ
ナレンジインシアネー ト1モル及び2〜ヒドロキシ ーエテルメタクリレート2モ ルから得られた反厄生成物 ボリエテレングリコールジメ 101killlタ
クリレート(ポリエテレン グリコールの平均分子晃5bO) メチルメタクリレート、n−60皿量部へキシルメタク
リレート及び メタクリル酸(10:60: 60ンから得られ、酸1曲190 を有するターポリマー 9−アセチルアミン−アクリ 1[を部ジン エタノール 60λ量部ブタノ
ン 1251勤部からなシ、これ
に lal 冷加剤を有しない lbl ロイコマラカイトグリ−2m、fi1mン又
は (cl 1/ 、 5’ 、 5’−トリメチル
1重皿部−6−二トロースぎロー (2H−1−ベンゾビラ ノー2.フーインドリン] 又は (+1) ロイコマラカイトグリ−2に11部ン 及び1’、 5’、 5’−)リン 1皿隻部チ
ル−6−ニトロースビ ロー[2H−1−ベンゾ ビラン−2,2′−インド リン〕又は (el ロイコマラカイトグリ−2’m輩tftSン 及び1’、 3’、 3’−)リン 0.Ezki
部チル−6−二トロー8− メトキシ−スピロ−〔2 H−1−ベンゾビラン− 2、z−インドリン〕 l添加した塗布gン、厚さ25μ扉のポリエチレンテレ
フタレートフィルムに塗布し、乾燥した(乾燥層のl量
45117m”)。
ナレンジインシアネー ト1モル及び2〜ヒドロキシ ーエテルメタクリレート2モ ルから得られた反厄生成物 ボリエテレングリコールジメ 101killlタ
クリレート(ポリエテレン グリコールの平均分子晃5bO) メチルメタクリレート、n−60皿量部へキシルメタク
リレート及び メタクリル酸(10:60: 60ンから得られ、酸1曲190 を有するターポリマー 9−アセチルアミン−アクリ 1[を部ジン エタノール 60λ量部ブタノ
ン 1251勤部からなシ、これ
に lal 冷加剤を有しない lbl ロイコマラカイトグリ−2m、fi1mン又
は (cl 1/ 、 5’ 、 5’−トリメチル
1重皿部−6−二トロースぎロー (2H−1−ベンゾビラ ノー2.フーインドリン] 又は (+1) ロイコマラカイトグリ−2に11部ン 及び1’、 5’、 5’−)リン 1皿隻部チ
ル−6−ニトロースビ ロー[2H−1−ベンゾ ビラン−2,2′−インド リン〕又は (el ロイコマラカイトグリ−2’m輩tftSン 及び1’、 3’、 3’−)リン 0.Ezki
部チル−6−二トロー8− メトキシ−スピロ−〔2 H−1−ベンゾビラン− 2、z−インドリン〕 l添加した塗布gン、厚さ25μ扉のポリエチレンテレ
フタレートフィルムに塗布し、乾燥した(乾燥層のl量
45117m”)。
このようにして製造した乾燥レジストン予め清浄にしf
c鋼フォイルに貼合せ、これ乞硬質エポキシド/ガラス
ファイバーラミネートに貼合セ、絖いて原図ン介して露
光した( 5 kWの金属ハロゲン化物ランプ;山陥9
0口;10秒間)。
c鋼フォイルに貼合せ、これ乞硬質エポキシド/ガラス
ファイバーラミネートに貼合セ、絖いて原図ン介して露
光した( 5 kWの金属ハロゲン化物ランプ;山陥9
0口;10秒間)。
凹I像に応じる繕′″X’Y抛こした表面ン評価し九。
結果は法衣に記載されている:
問題なく、4元板6a〜6eンa友0.8%の炭鈑す)
IJウム浴液で担像し、むき出しの銅面Y:篭気気メ
ッキ補強することかできた。
IJウム浴液で担像し、むき出しの銅面Y:篭気気メ
ッキ補強することかできた。
例 4
メタクリル酸メチル及びメタ 40mfi部クリル
酸のコーポリマー(# 価115) 1.1.1−トリメナロルエ 401i愈部タン
トリアクリレート 6 、4’ 、 4“−トリメトキシ−゛1重量部2.
5−ジフェニルキノキサ リン ロイコクリスタルバイオレツ 2X:&tmト 1’、 5’、 5’−)リンナルーゴ 0.5X
量部−クロルー6−ニトロー8− メトキシ−スピロ−〔2日− 1−ベンゾビラン−2,z− インドリン〕及び メトキシエタノール 5201肯すからなる
塗布液ン、電気分解によって粗面にし陽極処理したアル
ミニウムフォイル(E燥3ftm3.4 、@ / m
に〕に塗布した。次いでポリビニルアルコールのカバー
MA C417mに)ンフレートに設けた。
酸のコーポリマー(# 価115) 1.1.1−トリメナロルエ 401i愈部タン
トリアクリレート 6 、4’ 、 4“−トリメトキシ−゛1重量部2.
5−ジフェニルキノキサ リン ロイコクリスタルバイオレツ 2X:&tmト 1’、 5’、 5’−)リンナルーゴ 0.5X
量部−クロルー6−ニトロー8− メトキシ−スピロ−〔2日− 1−ベンゾビラン−2,z− インドリン〕及び メトキシエタノール 5201肯すからなる
塗布液ン、電気分解によって粗面にし陽極処理したアル
ミニウムフォイル(E燥3ftm3.4 、@ / m
に〕に塗布した。次いでポリビニルアルコールのカバー
MA C417mに)ンフレートに設けた。
このようにして得られた印刷板ン、原図に5kWの金属
ハロゲン化物ランfン用いて60秒間露光し、次いで メタ珪酸ナトリウムX9H2015mf都ポリグリコー
ル6000 5hiit部レブリン酸
C1,6mk都水tlt化ス) o 7
テクムX 8 H2O0−5k*f!15水
IDL]0fflL量都
の現(&&で1分間ぬぐい、こfL、によって層の非μ
元部分ン除去した。枳像の前及び後に、原図の鮮明でコ
ントラストの大きいネガのlt l&、7Di板上にみ
られた。
ハロゲン化物ランfン用いて60秒間露光し、次いで メタ珪酸ナトリウムX9H2015mf都ポリグリコー
ル6000 5hiit部レブリン酸
C1,6mk都水tlt化ス) o 7
テクムX 8 H2O0−5k*f!15水
IDL]0fflL量都
の現(&&で1分間ぬぐい、こfL、によって層の非μ
元部分ン除去した。枳像の前及び後に、原図の鮮明でコ
ントラストの大きいネガのlt l&、7Di板上にみ
られた。
次いで、板に黒色の脂肪性インキン塗布、した。
印刷試1gI!は、完全な印刷版10000(J叔が有
られた後にボミ了した。
られた後にボミ了した。
4 簡単な図面の説明
第1図に比較化合物(6′−フェニル−7−ジメテルア
ミノー2.z−スピロジー(2E −1−ベンゾビラン
〕〕、第2図は< 11.6/、 61−トリメチル−
6−ニトロ−8−メトキシ−スピロ−(2)1−1−ベ
ンゾビラン−2,z−インドリン))、h6図はロイコ
バイオレット及び第4図に本発明による組成物ン象加し
た場合の明度/時1司図である。
ミノー2.z−スピロジー(2E −1−ベンゾビラン
〕〕、第2図は< 11.6/、 61−トリメチル−
6−ニトロ−8−メトキシ−スピロ−(2)1−1−ベ
ンゾビラン−2,z−インドリン))、h6図はロイコ
バイオレット及び第4図に本発明による組成物ン象加し
た場合の明度/時1司図である。
Fl(37
Flに 2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、主要成分として (a)ポリマー結合剤、 (b)末端エチレン性二重結合少くとも1個及び沸点(
標準圧で)100℃以上を有し、フリーラジカル法で開
始する重合によつてポリマーを形成し得る化合物、 (c)光開始剤及び (d)トリアリールメタン染料のロイコ塩基を含有する
光重合性組成物において、付加的に一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中Rは水素原子又はC_1〜C_1_6−アルキル
基を表わし、R^1、R^2、R^3及びR^4は同一
か又は異なり、水素原子又はハロゲン原子、C_1〜C
_4−アルキル基又はアルコキシ基又はニトロ基を表わ
し、R^5、R^6、R^7及びR^8は同一か又は異
なり、水素又はハロゲン原子、ニトロ基又はアミノ基、
C_1〜C_5−アルキル基又はアルコキシ基又はC_
6〜C_1_0−アリール基を表わす〕のフォトクロミ
ックスピロ−インドリノ−ベンゾピランを含有する光重
合性組成物。 2、基R^1、R^2、R^3及びR^4の少くとも1
つがニトロ基である式 I の化合物を含有する、特許請
求の範囲第1項記載の光重合性組成物。 3、基R^5、R^6、R^7及びR^8のうちの3つ
がメチル基である式 I の化合物を含有する、特許請求
の範囲第1項記載の光重合性組成物。 4、ロイコ塩基はトリス−(4−ジアルキルアミノフェ
ニル)−メタンである、特許請求の範囲第1項記載の光
重合性組成物。 5、ロイコ塩基0.05〜5.0重量%及び式 I の化
合物0.01〜2.0重量%を含有する、特許請求の範
囲第1項記載の光重合性組成物。 6、光開始剤は、縮合環2〜5個及びヘテロ原子として
窒素原子少くとも1個を有する複素環式化合物である、
特許請求の範囲第1項記載の光重合性組成物。 7、光開始剤はキノリン、キノキサリン、フェナジン又
はアクリジンの誘導体である、特許請求の範囲第6項記
載の光重合性組成物。 8、ポリマー結合剤は水に不溶であり、アルカリ性水溶
液に可溶である、特許請求の範囲第1項記載の光重合性
組成物。 9、ポリマー結合剤は酸価50〜350を有する、特許
請求の範囲第7項記載の光重合性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863602215 DE3602215A1 (de) | 1986-01-25 | 1986-01-25 | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
DE3602215.2 | 1986-01-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62184455A true JPS62184455A (ja) | 1987-08-12 |
Family
ID=6292607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62014320A Pending JPS62184455A (ja) | 1986-01-25 | 1987-01-26 | 光重合性組成物 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4780393A (ja) |
EP (1) | EP0230941B1 (ja) |
JP (1) | JPS62184455A (ja) |
KR (1) | KR870007225A (ja) |
AU (1) | AU589249B2 (ja) |
BR (1) | BR8700313A (ja) |
CA (1) | CA1302769C (ja) |
DE (2) | DE3602215A1 (ja) |
FI (1) | FI870275A (ja) |
ZA (1) | ZA87506B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01161001A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-06-23 | Hoechst Ag | 光重合可能な混合物 |
JPH02262658A (ja) * | 1989-04-03 | 1990-10-25 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
JPH0436381A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-06 | Ookurashiyou Insatsu Kyokucho | フォトクロミック組成物 |
JP2004272212A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性画像形成材料及び感光性画像形成材 |
Families Citing this family (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0360255B1 (en) * | 1988-09-22 | 1995-02-22 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive relief printing plate and photosensitive intaglio printing plate |
DE3834300A1 (de) * | 1988-10-08 | 1990-04-12 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch und hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches kopiermaterial |
DE3834299A1 (de) * | 1988-10-08 | 1990-04-12 | Hoechst Ag | Verfahren zum stabilisieren einer leukofarbstoffloesung und durch strahlung polymerisierbares, einen leukofarbstoff enthaltendes gemisch |
US5376511A (en) * | 1990-04-18 | 1994-12-27 | Masahiro Irie | Optical recording medium |
JPH0798934B2 (ja) * | 1990-10-05 | 1995-10-25 | 松下電器産業株式会社 | フォトクロミック材料および光学記録媒体 |
US5230986A (en) * | 1991-02-01 | 1993-07-27 | Stereographics Limited Partnership | Photosensitive compositions containing benzospiropyrans and uses thereof |
DE4127810C2 (de) * | 1991-08-22 | 1997-04-24 | Rodenstock Optik G | Optisch transparentes photochromes Kunststoffmaterial |
JP3258423B2 (ja) * | 1992-04-16 | 2002-02-18 | 三洋電機株式会社 | 光学記録材料及びそれを用いた光記録媒体ならびにその記録再生方法 |
JP3422550B2 (ja) * | 1994-03-08 | 2003-06-30 | 三洋電機株式会社 | 光学記録材料 |
US5989462A (en) | 1997-07-31 | 1999-11-23 | Q2100, Inc. | Method and composition for producing ultraviolent blocking lenses |
US6228289B1 (en) * | 1998-09-25 | 2001-05-08 | Q2100, Inc. | Plastic lens systems and methods |
US6060001A (en) * | 1998-12-14 | 2000-05-09 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Alkoxyacrylamide photochromic coatings compositions and photochromic articles |
US6419873B1 (en) | 1999-03-19 | 2002-07-16 | Q2100, Inc. | Plastic lens systems, compositions, and methods |
US6716375B1 (en) | 2000-03-30 | 2004-04-06 | Q2100, Inc. | Apparatus and method for heating a polymerizable composition |
US6723260B1 (en) | 2000-03-30 | 2004-04-20 | Q2100, Inc. | Method for marking a plastic eyeglass lens using a mold assembly holder |
US6698708B1 (en) | 2000-03-30 | 2004-03-02 | Q2100, Inc. | Gasket and mold assembly for producing plastic lenses |
US6960312B2 (en) | 2000-03-30 | 2005-11-01 | Q2100, Inc. | Methods for the production of plastic lenses |
US6528955B1 (en) | 2000-03-30 | 2003-03-04 | Q2100, Inc. | Ballast system for a fluorescent lamp |
US6309797B1 (en) * | 2000-04-26 | 2001-10-30 | Spectra Group Limited, Inc. | Selectively colorable polymerizable compositions |
US6632535B1 (en) | 2000-06-08 | 2003-10-14 | Q2100, Inc. | Method of forming antireflective coatings |
US7051290B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-05-23 | Q2100, Inc. | Graphical interface for receiving eyeglass prescription information |
US6893245B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-05-17 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a computer system controller |
US6726463B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-04-27 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a dual computer system controller |
US6758663B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-07-06 | Q2100, Inc. | System for preparing eyeglass lenses with a high volume curing unit |
US7124995B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-10-24 | Q2100, Inc. | Holder for mold assemblies and molds |
US7004740B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-02-28 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a heating system |
US6676399B1 (en) | 2001-02-20 | 2004-01-13 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having sensors for tracking mold assemblies |
US6790022B1 (en) * | 2001-02-20 | 2004-09-14 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a movable lamp mount |
US6612828B2 (en) | 2001-02-20 | 2003-09-02 | Q2100, Inc. | Fill system with controller for monitoring use |
US6875005B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-04-05 | Q1200, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a gating device |
US6709257B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-03-23 | Q2100, Inc. | Eyeglass lens forming apparatus with sensor |
US6899831B1 (en) | 2001-02-20 | 2005-05-31 | Q2100, Inc. | Method of preparing an eyeglass lens by delayed entry of mold assemblies into a curing apparatus |
US7074352B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-07-11 | Q2100, Inc. | Graphical interface for monitoring usage of components of a lens forming apparatus |
US7139636B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-11-21 | Q2100, Inc. | System for preparing eyeglass lenses with bar code reader |
US6808381B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-10-26 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller |
US7011773B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-03-14 | Q2100, Inc. | Graphical interface to display mold assembly position in a lens forming apparatus |
US7052262B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-05-30 | Q2100, Inc. | System for preparing eyeglasses lens with filling station |
US6702564B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-03-09 | Q2100, Inc. | System for preparing an eyeglass lens using colored mold holders |
US6840752B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-01-11 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing multiple eyeglass lenses |
US7083404B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-08-01 | Q2100, Inc. | System for preparing an eyeglass lens using a mold holder |
US6655946B2 (en) | 2001-02-20 | 2003-12-02 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for conveyor and curing units |
US7060208B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-06-13 | Q2100, Inc. | Method of preparing an eyeglass lens with a controller |
US7045081B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-05-16 | Q2100, Inc. | Method of monitoring components of a lens forming apparatus |
US6752613B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-06-22 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for initiation of lens curing |
US6712331B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-03-30 | Q2100, Inc. | Holder for mold assemblies with indicia |
US7037449B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-05-02 | Q2100, Inc. | Method for automatically shutting down a lens forming apparatus |
US6863518B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-03-08 | Q2100, Inc. | Mold filing apparatus having multiple fill stations |
US7025910B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-04-11 | Q2100, Inc | Method of entering prescription information |
US6676398B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-01-13 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a prescription reader |
US6962669B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-11-08 | Q2100, Inc. | Computerized controller for an eyeglass lens curing apparatus |
US6790024B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-09-14 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having multiple conveyor systems |
US6569600B2 (en) * | 2001-03-30 | 2003-05-27 | Eastman Kodak Company | Optical recording material |
US7044429B1 (en) | 2002-03-15 | 2006-05-16 | Q2100, Inc. | Methods and systems for coating eyeglass lens molds |
US6464484B1 (en) | 2002-03-30 | 2002-10-15 | Q2100, Inc. | Apparatus and system for the production of plastic lenses |
US6969578B2 (en) * | 2002-08-19 | 2005-11-29 | Eastman Kodak Company | Optical recording material |
US20060065989A1 (en) * | 2004-09-29 | 2006-03-30 | Thad Druffel | Lens forming systems and methods |
DE602005017147D1 (de) | 2005-08-26 | 2009-11-26 | Agfa Graphics Nv | photopolymer Druckplattenvorläufer |
US8034538B2 (en) * | 2009-02-13 | 2011-10-11 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
DE102009002231A1 (de) * | 2009-04-06 | 2010-10-07 | Wacker Chemie Ag | Bei Raumtemperatur selbsthaftende Pt-katalysierte additions-vernetzende Siliconzusammensetzungen |
US8900798B2 (en) | 2010-10-18 | 2014-12-02 | Eastman Kodak Company | On-press developable lithographic printing plate precursors |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50122302A (ja) * | 1974-03-08 | 1975-09-25 | ||
JPS5379528A (en) * | 1976-12-23 | 1978-07-14 | Fujitsu Ltd | Pattern formation process |
JPS5532070A (en) * | 1978-08-29 | 1980-03-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPS55110240A (en) * | 1979-02-19 | 1980-08-25 | Fujitsu Ltd | Photoresist |
JPS58156928A (ja) * | 1982-03-12 | 1983-09-19 | Hitachi Ltd | 放射線感応性組成物 |
JPS59107344A (ja) * | 1982-12-13 | 1984-06-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPS59178448A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-09 | Sekisui Chem Co Ltd | 光重合可能な画像形成用組成物 |
JPS59219742A (ja) * | 1983-05-27 | 1984-12-11 | Fuotopori Ouka Kk | 発色画像形成性組成物 |
JPS59226002A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
JPS60140236A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-25 | Toppan Printing Co Ltd | 画像形成材料 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1550705B2 (de) * | 1965-06-28 | 1975-05-22 | Caterpillar Tractor Co., (N.D.Ges. D.Staates Kalifornien), San Leandro, Calif. (V.St.A.) | Hydrodynamisch-mechanisches Wechselgetriebe |
US3526504A (en) * | 1966-07-07 | 1970-09-01 | Du Pont | Photocrosslinkable elements and processes |
NL6712658A (ja) * | 1966-09-26 | 1968-03-27 | ||
US3528926A (en) * | 1966-10-27 | 1970-09-15 | Ncr Co | Mixed photochromic compound composition |
DE1929375A1 (de) * | 1968-06-11 | 1970-09-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche Druckplatte |
US3469982A (en) * | 1968-09-11 | 1969-09-30 | Jack Richard Celeste | Process for making photoresists |
DE2064080C3 (de) * | 1970-12-28 | 1983-11-03 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
JPS542720A (en) * | 1977-06-08 | 1979-01-10 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Forming method of photopolymerized image |
DE2807933A1 (de) * | 1978-02-24 | 1979-08-30 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
US4225661A (en) * | 1978-05-10 | 1980-09-30 | The Richardson Company | Photoreactive coating compositions and photomechanical plates produced therewith |
JPS5635130A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-07 | Fujitsu Ltd | Resist material and method for forming resist pattern |
DE3131448A1 (de) * | 1981-08-07 | 1983-02-24 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Fuer die herstellung von photoresistschichten geeignete photopolymerisierbare aufzeichnungsmasse |
JPS5969752A (ja) * | 1982-10-14 | 1984-04-20 | Sekisui Chem Co Ltd | 光重合可能な画像形成用組成物 |
JPH0723468B2 (ja) * | 1984-12-10 | 1995-03-15 | ソニー株式会社 | フオトクロミツク感光性組成物 |
EP0717789B1 (en) * | 1994-07-07 | 1999-09-22 | SAFETY-KLEEN SYSTEMS, Inc. | Compositions and methods for treating cleaning solvents |
-
1986
- 1986-01-25 DE DE19863602215 patent/DE3602215A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-01-17 DE DE8787100590T patent/DE3781562D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-01-17 EP EP87100590A patent/EP0230941B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-01-22 FI FI870275A patent/FI870275A/fi not_active Application Discontinuation
- 1987-01-22 US US07/005,949 patent/US4780393A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-01-23 CA CA000527975A patent/CA1302769C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-01-23 ZA ZA87506A patent/ZA87506B/xx unknown
- 1987-01-23 AU AU68030/87A patent/AU589249B2/en not_active Ceased
- 1987-01-24 KR KR870000568A patent/KR870007225A/ko not_active Application Discontinuation
- 1987-01-26 JP JP62014320A patent/JPS62184455A/ja active Pending
- 1987-01-26 BR BR8700313A patent/BR8700313A/pt not_active Application Discontinuation
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50122302A (ja) * | 1974-03-08 | 1975-09-25 | ||
JPS5379528A (en) * | 1976-12-23 | 1978-07-14 | Fujitsu Ltd | Pattern formation process |
JPS5532070A (en) * | 1978-08-29 | 1980-03-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPS55110240A (en) * | 1979-02-19 | 1980-08-25 | Fujitsu Ltd | Photoresist |
JPS58156928A (ja) * | 1982-03-12 | 1983-09-19 | Hitachi Ltd | 放射線感応性組成物 |
JPS59107344A (ja) * | 1982-12-13 | 1984-06-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPS59178448A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-09 | Sekisui Chem Co Ltd | 光重合可能な画像形成用組成物 |
JPS59219742A (ja) * | 1983-05-27 | 1984-12-11 | Fuotopori Ouka Kk | 発色画像形成性組成物 |
JPS59226002A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
JPS60140236A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-25 | Toppan Printing Co Ltd | 画像形成材料 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01161001A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-06-23 | Hoechst Ag | 光重合可能な混合物 |
JPH02262658A (ja) * | 1989-04-03 | 1990-10-25 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
JPH0436381A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-06 | Ookurashiyou Insatsu Kyokucho | フォトクロミック組成物 |
JP2004272212A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性画像形成材料及び感光性画像形成材 |
JP4581387B2 (ja) * | 2003-02-21 | 2010-11-17 | 三菱化学株式会社 | 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性画像形成材料及び感光性画像形成材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU589249B2 (en) | 1989-10-05 |
DE3781562D1 (de) | 1992-10-15 |
EP0230941A2 (de) | 1987-08-05 |
ZA87506B (en) | 1987-09-30 |
FI870275A (fi) | 1987-07-26 |
EP0230941A3 (en) | 1987-10-28 |
AU6803087A (en) | 1987-07-30 |
CA1302769C (en) | 1992-06-09 |
FI870275A0 (fi) | 1987-01-22 |
KR870007225A (ko) | 1987-08-17 |
US4780393A (en) | 1988-10-25 |
EP0230941B1 (de) | 1992-09-09 |
DE3602215A1 (de) | 1987-07-30 |
BR8700313A (pt) | 1987-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62184455A (ja) | 光重合性組成物 | |
US4481276A (en) | Photopolymerizable composition containing a combination of photoinitiators | |
US4410621A (en) | Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan | |
EP0374705B1 (de) | Photopolymerisierbare Verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
US3479185A (en) | Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers | |
SU505383A3 (ru) | Фотополимеризующа с композици | |
US4459349A (en) | Photosensitive resin composition | |
JPS5815503A (ja) | 光重合性組成物 | |
US4264708A (en) | Radiation sensitive element having a thin photopolymerizable layer | |
JPS6060104A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH02135351A (ja) | 光重合性混合物、それから作製された記録材料、及びコピーの製造方法 | |
JPS6057340A (ja) | 焼出し性組成物 | |
EP0071789A1 (de) | Für die Herstellung von Photoresistschichten geeignetes Schichtübertragungsmaterial | |
AU611721B2 (en) | Improved composition | |
JPS61172139A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPS6212801B2 (ja) | ||
JPS6231844A (ja) | 平版用版材 | |
JPS62276542A (ja) | 光重合性組成物及び光重合性記録材料 | |
CA1058943A (en) | Light sensitive copying composition comprising a synergistic initiator system | |
US4308338A (en) | Methods of imaging photopolymerizable materials containing diester polyether | |
CA1288629C (en) | Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording materialcontaining said composition | |
GB1587476A (en) | Photopolymerizable compositions and elements and methods of imaging | |
CA1088057A (en) | Light-sensitive copying compositions and photoinitiators contained therein | |
JPH0284647A (ja) | 感光性記録材料、その応用及びそれに適した新規のロイコ化合物 | |
JPS60202437A (ja) | 感光性像形成性組成物 |