JPS62173731A - 被検査物の表面検査装置 - Google Patents
被検査物の表面検査装置Info
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- JPS62173731A JPS62173731A JP61014701A JP1470186A JPS62173731A JP S62173731 A JPS62173731 A JP S62173731A JP 61014701 A JP61014701 A JP 61014701A JP 1470186 A JP1470186 A JP 1470186A JP S62173731 A JPS62173731 A JP S62173731A
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- Japan
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はたとえばバターニングされた半導体ウェファの
表面状態を検査するのに適した被検査物の表面検査装置
に関する。
表面状態を検査するのに適した被検査物の表面検査装置
に関する。
たとえば集積回路の製造過程において、ウェファ↓4に
フカ1〜レジストを塗布し、このウェファにマスクパタ
ーンを露光するフォトリゾグラフィ現像工程でのウェフ
ァ検査は製造の歩出り向上のために重要な課題の1つで
ある。
フカ1〜レジストを塗布し、このウェファにマスクパタ
ーンを露光するフォトリゾグラフィ現像工程でのウェフ
ァ検査は製造の歩出り向上のために重要な課題の1つで
ある。
従来、上記ウェファ検査は専門の検査員が斜光照明によ
るウェファ全面検査、すなわちマクロ検査、および顕微
鏡を用いてウェファ表面上の定点検査、すなわちミクロ
検査の2つの検査を行な一講て現像工程の良否を判定す
るようにしていも。
るウェファ全面検査、すなわちマクロ検査、および顕微
鏡を用いてウェファ表面上の定点検査、すなわちミクロ
検査の2つの検査を行な一講て現像工程の良否を判定す
るようにしていも。
最近1j定点検査の定点座標を装置に記憶させておき、
検査員はウェファに手を触れることなく全面検査と顕微
鏡での検査を目視により行なうことができる搬送部を備
えた検査装置が実用化されている。
検査員はウェファに手を触れることなく全面検査と顕微
鏡での検査を目視により行なうことができる搬送部を備
えた検査装置が実用化されている。
しかしながら5従来は専門の検査員がマクロ的な全面検
査およびミクロ的な定点検査をすへて[]視により行な
い判定を行なっていたため、専門的な検査員の養成が必
要であり、かつ検査精度にも問題を有するなどの欠点が
あった。
査およびミクロ的な定点検査をすへて[]視により行な
い判定を行なっていたため、専門的な検査員の養成が必
要であり、かつ検査精度にも問題を有するなどの欠点が
あった。
本発明は被検査物の表面全体の状態を人間の目視により
検査し判定を行なっていたマクロ的な全面検査と、ミク
ロ的な定点検査を自動的に行なうことができ、かつ微小
な異常をも検出可能となって検査精度を向上させること
ができる被検査物の表面検査装置を提供することを目的
とする。
検査し判定を行なっていたマクロ的な全面検査と、ミク
ロ的な定点検査を自動的に行なうことができ、かつ微小
な異常をも検出可能となって検査精度を向上させること
ができる被検査物の表面検査装置を提供することを目的
とする。
本発明は上記目的を達成するために被検査物の表面全体
をウェファ面に撮像して検査を行なうマクロ的検査部に
おいて、不良箇所あるいは−疑わしい箇所を発見したと
き、上記ウェファ上での座標値をミクロ的検査部に送り
、このミクロ的検査部における定点検査に加えて上記疑
わしい箇所を顕微鏡によるミクロ的検査の対象とするこ
とにより検査精度を向」−させるようにしたことを特徴
とするものである。
をウェファ面に撮像して検査を行なうマクロ的検査部に
おいて、不良箇所あるいは−疑わしい箇所を発見したと
き、上記ウェファ上での座標値をミクロ的検査部に送り
、このミクロ的検査部における定点検査に加えて上記疑
わしい箇所を顕微鏡によるミクロ的検査の対象とするこ
とにより検査精度を向」−させるようにしたことを特徴
とするものである。
(発明の実施例〕
以1ζ1本発明を第1図および第2図に示す一実施例に
もとづいて説明する。第1図は上半分がウェファの表面
全体を検査するためのマクロ検査部(Δ)と、下半分が
顕微鏡によりウェファ表面の特定点を詳細に検査するた
めのミクロ検査部(B)とに大別される自動表面検査装
置を示したものである。上記マグロ検査部(Δ)におい
て、検査の対象であるウェファ(1)は支持台■上に載
置されており、光源■に5より照明光が1.記ウェファ
(1)をほぼ水平方向に照射し−Cいる。そして、〆ノ
エファ(1)面側には工業用テレビカメラ(4)(以下
、TTVカメラという)が設置されていて、ウェファ(
1)面からの反射光によりウェファ(1)面をjQ &
し、その画像が画像処理部■に送られる。画像処理部(
ハ)ではあらかじめ設定された手法により1’rVカメ
ラ(イ)から入力した画像の処理、解析を行ない、不良
の有無および不良箇所が制御部0へ送られるようになっ
ている。ここで、不良箇所の指定は第2図に示すように
ウェファ(1)の表面をメツシュ状に分割し、どの分割
座標に不良があるか、または疑わしい問題があるかを制
御部0へ伝達する。
もとづいて説明する。第1図は上半分がウェファの表面
全体を検査するためのマクロ検査部(Δ)と、下半分が
顕微鏡によりウェファ表面の特定点を詳細に検査するた
めのミクロ検査部(B)とに大別される自動表面検査装
置を示したものである。上記マグロ検査部(Δ)におい
て、検査の対象であるウェファ(1)は支持台■上に載
置されており、光源■に5より照明光が1.記ウェファ
(1)をほぼ水平方向に照射し−Cいる。そして、〆ノ
エファ(1)面側には工業用テレビカメラ(4)(以下
、TTVカメラという)が設置されていて、ウェファ(
1)面からの反射光によりウェファ(1)面をjQ &
し、その画像が画像処理部■に送られる。画像処理部(
ハ)ではあらかじめ設定された手法により1’rVカメ
ラ(イ)から入力した画像の処理、解析を行ない、不良
の有無および不良箇所が制御部0へ送られるようになっ
ている。ここで、不良箇所の指定は第2図に示すように
ウェファ(1)の表面をメツシュ状に分割し、どの分割
座標に不良があるか、または疑わしい問題があるかを制
御部0へ伝達する。
一方、ミクロ検査部(B)を説明すると、1−記マクロ
検査部(A)において全面検査を終了したウェファ(1
)は図示しない搬送手段によりミクロ検査部(B)に設
けられている支持台ω上に搬送して載置される。上記支
持台■には移動手段(8)が結合されており、互いに直
交するx−Y方向へ移動し得るように構成されている。
検査部(A)において全面検査を終了したウェファ(1
)は図示しない搬送手段によりミクロ検査部(B)に設
けられている支持台ω上に搬送して載置される。上記支
持台■には移動手段(8)が結合されており、互いに直
交するx−Y方向へ移動し得るように構成されている。
すなわち、(9)は上記支持台■の移動手段(8)を制
御するコントローラで、このコントローラ0)は上記制
御部(へ)にあらかじめ記憶されている座標値を読み出
し1、その特定点に上記ウェファ(1)が位置決めされ
るよう移動手段(8)を駆・肋することにより、上記支
持台■の移動が制御されるようになっている。特定点に
位置決めされたウェファ■の上方には図示しない光源を
備えた顕微鏡(10)およびこの顕微鏡(10)の上部
に取付けられて撮像するITVカメラ(11)が設けら
れていて、上記ITVカメラ(11)は顕微鏡(10)
m介してウェファ(1)上の特定点におけるミクロ画
像を撮像し、その画像が画像処理部(12)に送られる
。画像処理部(12)ではあらかじめ設定された手法に
よりITVカメラ(11)から入力した画像の処理、解
析を行なった後、不良の有無が制御部■へ送られるよう
になっている。
御するコントローラで、このコントローラ0)は上記制
御部(へ)にあらかじめ記憶されている座標値を読み出
し1、その特定点に上記ウェファ(1)が位置決めされ
るよう移動手段(8)を駆・肋することにより、上記支
持台■の移動が制御されるようになっている。特定点に
位置決めされたウェファ■の上方には図示しない光源を
備えた顕微鏡(10)およびこの顕微鏡(10)の上部
に取付けられて撮像するITVカメラ(11)が設けら
れていて、上記ITVカメラ(11)は顕微鏡(10)
m介してウェファ(1)上の特定点におけるミクロ画
像を撮像し、その画像が画像処理部(12)に送られる
。画像処理部(12)ではあらかじめ設定された手法に
よりITVカメラ(11)から入力した画像の処理、解
析を行なった後、不良の有無が制御部■へ送られるよう
になっている。
なお、上記画像処理部05)、 (11)はそれぞれ別
体として構成したが同一であっても差支えない。
体として構成したが同一であっても差支えない。
つぎに、上記構成にもとづく本発明の作用について説明
する。まず、マクロ検査部(A)において、検査対象の
ウェファ(1)を支持台■上に載置し、光源■によりほ
ぼ水平方向からウェファ■の表面に照明光を照射する。
する。まず、マクロ検査部(A)において、検査対象の
ウェファ(1)を支持台■上に載置し、光源■によりほ
ぼ水平方向からウェファ■の表面に照明光を照射する。
すると、ウェファ(ト)からの反射光はITVカメラ(
イ)に入光してウェファ■表面を撮像し、その画像が画
像処理部■に送られる。
イ)に入光してウェファ■表面を撮像し、その画像が画
像処理部■に送られる。
画像処理部0はあらかじめ決められた手法により、上記
ITVカメラG)からの入力画像の処理、解析を行ない
、不良の有無および不良箇所を指定する。
ITVカメラG)からの入力画像の処理、解析を行ない
、不良の有無および不良箇所を指定する。
すなわち、不良箇所の指定は第2図に示すようにウェフ
ァO)表面をメツシュ状(1,1−n、m)に分割し、
どの分割座標に不良、または疑わしい箇所が存在してい
るかを制御部0に伝送して記憶させられる。
ァO)表面をメツシュ状(1,1−n、m)に分割し、
どの分割座標に不良、または疑わしい箇所が存在してい
るかを制御部0に伝送して記憶させられる。
一方、ミクロ検査部(B)では上記マクロ検査部(A)
で全面検査を終了したウェファ(1)が図示しない搬送
手段によりミクロ検査部(B)に設けられている支持台
■に載置される。すると、コン1〜ローラ■は上記制御
部(Qにあらかじめ記憶されている座標値を読出して指
定された特定点に上記ウェファ(1)が位置決めされろ
よう移動手段(8)に伝達することにより支持台■はX
−Y方向への移動が制御される。このようにして、ウェ
ファQ)が位置決めされると、ウェファ0)の直上に配
置されている顕微鏡(10)およびITVカメラ(11
)はウェファ0)表面に存在する不良または疑わしい箇
所のミクロ両像を撮像し、その画像を画像処理部(12
)に伝送する。すると、画像処理部(12)はあらかじ
め決められた手法により、上記ITVカメラ(11)か
ら入力したミクロ画像の処理、解析を行なって不良の有
無を上記制御部0に伝送し自動的に判定することができ
る。
で全面検査を終了したウェファ(1)が図示しない搬送
手段によりミクロ検査部(B)に設けられている支持台
■に載置される。すると、コン1〜ローラ■は上記制御
部(Qにあらかじめ記憶されている座標値を読出して指
定された特定点に上記ウェファ(1)が位置決めされろ
よう移動手段(8)に伝達することにより支持台■はX
−Y方向への移動が制御される。このようにして、ウェ
ファQ)が位置決めされると、ウェファ0)の直上に配
置されている顕微鏡(10)およびITVカメラ(11
)はウェファ0)表面に存在する不良または疑わしい箇
所のミクロ両像を撮像し、その画像を画像処理部(12
)に伝送する。すると、画像処理部(12)はあらかじ
め決められた手法により、上記ITVカメラ(11)か
ら入力したミクロ画像の処理、解析を行なって不良の有
無を上記制御部0に伝送し自動的に判定することができ
る。
このように、マクロ検査部(A)で不良、もしくは微小
な不良で疑わしい箇所がウェファ(υの表面に認められ
た場合、制御部0はウェファ(1)−hでの分割座標を
記憶し、さらにコントローラ(9)に座標値が送られて
記憶させられる。つぎに、上記ウェファ(1)がミクロ
検査部(B)に搬送され支持台■上にa置されると、制
御部0はあらかしめ決められた特定点の座標値に加え、
上記不良箇所の座標値もコントローラ0に伝達する。す
ると、コントローラ(9)からの出力信号により移動手
段(8)が1ψ動されて支持台■はX方向及びY方向に
移動し、ウェファ(1)の位置決めが行なわれるため、
疑わしい箇所のミクロ検査を行なうことができろもので
ある。
な不良で疑わしい箇所がウェファ(υの表面に認められ
た場合、制御部0はウェファ(1)−hでの分割座標を
記憶し、さらにコントローラ(9)に座標値が送られて
記憶させられる。つぎに、上記ウェファ(1)がミクロ
検査部(B)に搬送され支持台■上にa置されると、制
御部0はあらかしめ決められた特定点の座標値に加え、
上記不良箇所の座標値もコントローラ0に伝達する。す
ると、コントローラ(9)からの出力信号により移動手
段(8)が1ψ動されて支持台■はX方向及びY方向に
移動し、ウェファ(1)の位置決めが行なわれるため、
疑わしい箇所のミクロ検査を行なうことができろもので
ある。
第3図は本発明の他の実施例を示したものである。すな
わち、ミクロ検査部(B)において、顕微fi (1
0)およびITVカメラ(11)によるミクロ画像とマ
クロ検査部(A)が全面検査した画像とを例えばディス
プレーモニターの表示装置(13)に表示させるもので
、これによりマクロ検査部(A)で疑わしい箇所はミク
ロ検査部(B)における再検査と上記表示装置(13)
に表示された検査員の目視による検査の両方でチェック
することができるため。
わち、ミクロ検査部(B)において、顕微fi (1
0)およびITVカメラ(11)によるミクロ画像とマ
クロ検査部(A)が全面検査した画像とを例えばディス
プレーモニターの表示装置(13)に表示させるもので
、これによりマクロ検査部(A)で疑わしい箇所はミク
ロ検査部(B)における再検査と上記表示装置(13)
に表示された検査員の目視による検査の両方でチェック
することができるため。
検査精度、あるいは信頼性をさらに向上し得る+Iので
ある。
ある。
以上説明したように本発明によれば被検査物の表面検査
時において、マクロ的な全面検査と、ミクロ的な特定点
の定点検査とを自動的に行なうことができる」−1微小
な異常をも検出可能であるため、検査精度を大幅に向上
させることができるという優れた効果を奏するものであ
る。
時において、マクロ的な全面検査と、ミクロ的な特定点
の定点検査とを自動的に行なうことができる」−1微小
な異常をも検出可能であるため、検査精度を大幅に向上
させることができるという優れた効果を奏するものであ
る。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図はマク
ロ検査部におけろウェファ表面の画へが分割された座標
を示す乎面図、第;3図は本発明の他の実JfTji例
を示す構成図である。 A・マクロ検斤部(第1の検査手段) B・ミクロ検査部(第2の検査手段) 1 ・ウェファ(被検査物) 2.7・・支持台 3・)IC源 1.11・・丁TVカメラ(1最像器)5.12・・・
画像処理部 6・・・制御部(制御り段) 8・・移動手段 9・・コントローラ 10・・顕?を鏡 13・・及示装置 代理人 弁理士 li −1: −ワシデ
8 第 1 図
ロ検査部におけろウェファ表面の画へが分割された座標
を示す乎面図、第;3図は本発明の他の実JfTji例
を示す構成図である。 A・マクロ検斤部(第1の検査手段) B・ミクロ検査部(第2の検査手段) 1 ・ウェファ(被検査物) 2.7・・支持台 3・)IC源 1.11・・丁TVカメラ(1最像器)5.12・・・
画像処理部 6・・・制御部(制御り段) 8・・移動手段 9・・コントローラ 10・・顕?を鏡 13・・及示装置 代理人 弁理士 li −1: −ワシデ
8 第 1 図
Claims (4)
- (1)被検査物の表面全体を検査する第1の検査手段と
、 上記被検査物表面のうち特定点の状態を上記第1の検査
手段よりも高い解像度で検査する第2の検査手段と、 上記第1の検査手段および第2の検査手段を制御する制
御手段と、 を具備し、上記第1の検査手段で被検査物表面の不良箇
所、または微小な異常箇所が認められたとき、その不良
箇所または微小な異常箇所の位置情報を制御手段に伝達
し、第2の検査手段が上記被検査物を検査するときに上
記制御手段より位置情報を第2の検査手段に伝達して再
度検査することを特徴とする被検査物の表面検査装置。 - (2)第1の検査手段は被検査物の表面を照射する光源
と、 上記被検査物の直上に設けられて被検査物からの反射光
を撮像する撮像器と、 この撮像器から送られてくる画像をあらかじめ設定され
た手法により両像の処理、解析を行なう画像処理部と から構成されることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の被検査物の表面検査装置。 - (3)第2の検査手段は被検査物の直上に設けられて特
定点を照射する光源を備えた顕微鏡およびこの顕微鏡か
らの画像を撮像する撮像器と、上記被検査物を移動し、
特定点に位置決めするためのコントローラと、 このコントローラにより位置決めされた位置情報にもと
づき上記撮像器からの画像をあらかじめ設定された手法
により画像の処理、解析を行なう画像処理部と、 から構成されることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の被検査物の表面検査装置。 - (4)制御手段は第1の検査手段および第2の検査手段
により処理、解析された画像信号をモニターに出力して
表示する表示装置を設けたことを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の被検査物の表面検査装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61014701A JPS62173731A (ja) | 1986-01-28 | 1986-01-28 | 被検査物の表面検査装置 |
KR870000643A KR870007561A (ko) | 1986-01-28 | 1987-01-27 | 피검사물의 표면 검사 장치 |
US07/007,092 US4764969A (en) | 1986-01-28 | 1987-01-27 | Apparatus for inspecting the surface of a material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61014701A JPS62173731A (ja) | 1986-01-28 | 1986-01-28 | 被検査物の表面検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62173731A true JPS62173731A (ja) | 1987-07-30 |
Family
ID=11868481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61014701A Pending JPS62173731A (ja) | 1986-01-28 | 1986-01-28 | 被検査物の表面検査装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4764969A (ja) |
JP (1) | JPS62173731A (ja) |
KR (1) | KR870007561A (ja) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01265368A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 印刷パターンの検査装置 |
JPH0346544A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-27 | Nippon Steel Corp | 帯状体の自動検査装置 |
WO1992015864A1 (en) * | 1991-03-06 | 1992-09-17 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Method of automatically detecting defects of object to be inspected |
JPH1151622A (ja) * | 1997-08-07 | 1999-02-26 | Hitachi Ltd | 異物検査方法および装置 |
JP2002277412A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-25 | Olympus Optical Co Ltd | 検査画面の表示方法及び基板検査システム |
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