JPS62125536A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS62125536A JPS62125536A JP26532185A JP26532185A JPS62125536A JP S62125536 A JPS62125536 A JP S62125536A JP 26532185 A JP26532185 A JP 26532185A JP 26532185 A JP26532185 A JP 26532185A JP S62125536 A JPS62125536 A JP S62125536A
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Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、基体上に磁性層を形成してなる磁気記録媒体
に関し、特に磁性層表面の平滑性および耐摩耗性の改善
に関する。
に関し、特に磁性層表面の平滑性および耐摩耗性の改善
に関する。
(従来の技術)
従来、ポリエステルフィルム等の基体上に、塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体等のプレポリ
マーの水酸基の一部を利用してビニル基を導入した放射
線硬化性樹脂に金属磁性粉を分散させた磁性層を形成し
、その上に電磁気変換特性を改善する目的でパーフルオ
ロアルキルポリエーテル等の含フッ素系樹脂を含む保護
層を設ける方法が知られている。この含フッ素系樹脂を
含む保護層は、磁性層上に極めて薄く、かつ均一に形成
され、磁性層表面の平滑性および耐摩耗性を向上させ、
良好な電磁気変換特性の達成を目的とするにもかかわら
ず、磁性層表面での該含フッ素系樹脂のぬれが一般に悪
く、保護層の形成には困難さを伴っていた。また上記の
パーフルオロアルキルポリエーテル等の含フッ素系樹脂
による磁性層表面の保護層は表面平滑性および耐摩耗性
の面で充分に満足できるものではなかった。そこで、界
面活性剤、レベリング剤、分散剤等を上記パーフルオロ
アルキルポリエーテル等の含フッ素系樹脂に少量添加し
、保護層とする方法などが提案されているが、上記問題
点の解決策とはなっていない。
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体等のプレポリ
マーの水酸基の一部を利用してビニル基を導入した放射
線硬化性樹脂に金属磁性粉を分散させた磁性層を形成し
、その上に電磁気変換特性を改善する目的でパーフルオ
ロアルキルポリエーテル等の含フッ素系樹脂を含む保護
層を設ける方法が知られている。この含フッ素系樹脂を
含む保護層は、磁性層上に極めて薄く、かつ均一に形成
され、磁性層表面の平滑性および耐摩耗性を向上させ、
良好な電磁気変換特性の達成を目的とするにもかかわら
ず、磁性層表面での該含フッ素系樹脂のぬれが一般に悪
く、保護層の形成には困難さを伴っていた。また上記の
パーフルオロアルキルポリエーテル等の含フッ素系樹脂
による磁性層表面の保護層は表面平滑性および耐摩耗性
の面で充分に満足できるものではなかった。そこで、界
面活性剤、レベリング剤、分散剤等を上記パーフルオロ
アルキルポリエーテル等の含フッ素系樹脂に少量添加し
、保護層とする方法などが提案されているが、上記問題
点の解決策とはなっていない。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は、基体上に形成された磁性層表面の平滑
性および耐摩耗性に優れた磁気記録媒体を提供すること
にある。
性および耐摩耗性に優れた磁気記録媒体を提供すること
にある。
(問題点を解決するための手段)
本発明者は、鋭意検討の結果、ポリエステルフシクロア
ルキルビニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよび
ヒドロキシアルキルビニルエーテルを主たる構成成分と
する共重合体からなる保護層を設けることにより、磁性
層表面の平滑性および耐摩耗性が著しく改善されること
を見出し、本発明に到達した。
ルキルビニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよび
ヒドロキシアルキルビニルエーテルを主たる構成成分と
する共重合体からなる保護層を設けることにより、磁性
層表面の平滑性および耐摩耗性が著しく改善されること
を見出し、本発明に到達した。
本発明は、基体上に磁性層を形成した磁気記録媒体にお
いて、この磁性層上にパーハロオレフィン、シクロアル
キルビニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよびヒ
ドロキシアルキルビニルエーテルを主たる構成成分とす
る共重合体からなる保護層を設けてなる磁気記録媒体に
関する。
いて、この磁性層上にパーハロオレフィン、シクロアル
キルビニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよびヒ
ドロキシアルキルビニルエーテルを主たる構成成分とす
る共重合体からなる保護層を設けてなる磁気記録媒体に
関する。
本発明において使用するパーハロオレフィン、シクロア
ルキルビニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよび
ヒドロキシアルキルビニルエーテルを主たる構成成分と
する共重合体は、例えば特開昭57−34107号公報
に示されるものが用いられ、それぞれの含有量がパーハ
ロオレフィン40〜60モル%、シクロアルキルビニル
エーテル5〜45モル%、アルキルビニルエーテル5〜
45モル%、ヒドロキシアルキルビニルエーテル3〜1
5モル%および他の単量体0〜30モル%であるものが
好ましい。他の単量体としては、エチレン、プロピレン
、イソブチレン等のオレフィン類、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン等のハロオレフィン類、メタクリル酸メチル等
の不飽和カルボン酸エステル類、酢酸ビニル、酪酸ビニ
ル等のカルボン酸ビニル等がこの共重合体の市販品とし
ては、旭硝子株式会社製の商品名ルミフロンLFI00
、LF200.LF300、およびLF400 (いづ
れもMn=8.OOO〜60,000、Mw=10,0
00〜150,000、ガラス転移温度45〜50°C
)等が挙げられる。
ルキルビニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよび
ヒドロキシアルキルビニルエーテルを主たる構成成分と
する共重合体は、例えば特開昭57−34107号公報
に示されるものが用いられ、それぞれの含有量がパーハ
ロオレフィン40〜60モル%、シクロアルキルビニル
エーテル5〜45モル%、アルキルビニルエーテル5〜
45モル%、ヒドロキシアルキルビニルエーテル3〜1
5モル%および他の単量体0〜30モル%であるものが
好ましい。他の単量体としては、エチレン、プロピレン
、イソブチレン等のオレフィン類、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン等のハロオレフィン類、メタクリル酸メチル等
の不飽和カルボン酸エステル類、酢酸ビニル、酪酸ビニ
ル等のカルボン酸ビニル等がこの共重合体の市販品とし
ては、旭硝子株式会社製の商品名ルミフロンLFI00
、LF200.LF300、およびLF400 (いづ
れもMn=8.OOO〜60,000、Mw=10,0
00〜150,000、ガラス転移温度45〜50°C
)等が挙げられる。
磁性層上に、上記パーハロオレフィン、シクロアルキル
ビニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよびヒドロ
キシアルキルビニルエーテルを主たる構成成分とする共
重合体からなる保護層を形成するには、まず、従来公知
の磁性粉、例えばγFe2O3、Fe304、Co含有
r−Fe203、co含有Fe304、CrO2、Fe
、C01Fe−Co合金、Fe−Ni合金、Co−Ni
合金、Go−Cr合金、リン含有Co等を、硬化性樹脂
に分散させて磁性塗料をつくり、このものをポリエステ
ルフィルム等の基体上に塗布し、フィン、シクロアルキ
ルビニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよびヒド
ロキシアルキルビニルエーテルを主たる構成成分とする
共重合体のキシレン、クレゾール等の有機溶剤溶液を適
宜の手段で塗布するか、または上記溶液中に前記磁性層
を基体と一体に浸漬処理すればよい。
ビニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよびヒドロ
キシアルキルビニルエーテルを主たる構成成分とする共
重合体からなる保護層を形成するには、まず、従来公知
の磁性粉、例えばγFe2O3、Fe304、Co含有
r−Fe203、co含有Fe304、CrO2、Fe
、C01Fe−Co合金、Fe−Ni合金、Co−Ni
合金、Go−Cr合金、リン含有Co等を、硬化性樹脂
に分散させて磁性塗料をつくり、このものをポリエステ
ルフィルム等の基体上に塗布し、フィン、シクロアルキ
ルビニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよびヒド
ロキシアルキルビニルエーテルを主たる構成成分とする
共重合体のキシレン、クレゾール等の有機溶剤溶液を適
宜の手段で塗布するか、または上記溶液中に前記磁性層
を基体と一体に浸漬処理すればよい。
この方法で形成される保護層の厚みは極めて薄くするこ
とができ、一般に20〜2000人、特に50〜100
0人が好ましい。保護層の厚みを薄くすることにより、
磁性層表面の良好な潤滑性が発現でき、かつ磁性層の表
面の平滑性および耐摩耗性の向上が可能となる。
とができ、一般に20〜2000人、特に50〜100
0人が好ましい。保護層の厚みを薄くすることにより、
磁性層表面の良好な潤滑性が発現でき、かつ磁性層の表
面の平滑性および耐摩耗性の向上が可能となる。
本発明に用いる磁性塗料は、硬化性樹脂、磁性粉および
必要に応じて、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等の?g 剤とを
、ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、ジェ
ットミル、三本ロール、ニーダ−等の種々の機器を用い
て混練することにより作製される。
必要に応じて、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等の?g 剤とを
、ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、ジェ
ットミル、三本ロール、ニーダ−等の種々の機器を用い
て混練することにより作製される。
磁性塗料に用いられる硬化性樹脂としては、放射線硬化
性樹脂および熱硬化性樹脂が用いられる。
性樹脂および熱硬化性樹脂が用いられる。
放射線硬化性樹脂は、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル−
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール−プロピ
オン酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレ
イン酸共重合体、けん化された塩化ビニル−酢酸ビニル
末端水酸基側鎖アルキル基共重合体(例えばUCC社製
VROH1VYNClVYMC,VYEC−X、VYM
S−X、VERR等)、ポリビニルアルコール、けん化
されたブチラール樹脂、けん化されたホルマール樹脂等
の水酸基を有するプレポリマー(a)とジーまたはトリ
イソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルメタクリレート等のヒドロキシア
ルキルアクリル酸エステルまたはヒドロキシアルキルメ
タクリル酸エステルとの付加反応により得られるモノビ
ニルモノイソシアネート化合物(b)とを、反応触媒と
して水酸基とイソシアネート基との付加反応に通常用い
られる触媒、(例えばジラウリン酸ジーn−ブチル錫等
)を用いて、トルエン、シクロヘキサノン、メチルイソ
ブチルケトン等の有機溶媒中で、50〜90°C15〜
10時間反応して得ることができる。上記モノビニルモ
ノイソシアネートの代わりにイソシアナトエチルメタク
リレートを用いてもよい。熱硬化性樹脂としては、例え
ば上記の水酸基を有するプレポリマーと、上記のジー、
トリーイソシアネート等のポリイソシアネートとの混合
物が用いられる。
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール−プロピ
オン酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレ
イン酸共重合体、けん化された塩化ビニル−酢酸ビニル
末端水酸基側鎖アルキル基共重合体(例えばUCC社製
VROH1VYNClVYMC,VYEC−X、VYM
S−X、VERR等)、ポリビニルアルコール、けん化
されたブチラール樹脂、けん化されたホルマール樹脂等
の水酸基を有するプレポリマー(a)とジーまたはトリ
イソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルメタクリレート等のヒドロキシア
ルキルアクリル酸エステルまたはヒドロキシアルキルメ
タクリル酸エステルとの付加反応により得られるモノビ
ニルモノイソシアネート化合物(b)とを、反応触媒と
して水酸基とイソシアネート基との付加反応に通常用い
られる触媒、(例えばジラウリン酸ジーn−ブチル錫等
)を用いて、トルエン、シクロヘキサノン、メチルイソ
ブチルケトン等の有機溶媒中で、50〜90°C15〜
10時間反応して得ることができる。上記モノビニルモ
ノイソシアネートの代わりにイソシアナトエチルメタク
リレートを用いてもよい。熱硬化性樹脂としては、例え
ば上記の水酸基を有するプレポリマーと、上記のジー、
トリーイソシアネート等のポリイソシアネートとの混合
物が用いられる。
磁性層を形成する基体としては公知の材料、例えばポリ
エチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポ
リプロピレン等のポリオレフィンフィルム、セルロース
トリアセテート等のセルロース誘導体フィルム、紙、ポ
リカーボネート板、ポリ塩化ビニル板、ポリイミド板、
ポリアミド板、銅、アルミ等の金属板などが用いられる
。
エチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポ
リプロピレン等のポリオレフィンフィルム、セルロース
トリアセテート等のセルロース誘導体フィルム、紙、ポ
リカーボネート板、ポリ塩化ビニル板、ポリイミド板、
ポリアミド板、銅、アルミ等の金属板などが用いられる
。
磁性塗料を基体に塗布し、これを硬化させるに際し用い
られる放射線源としては、例えばX線、電子線、紫外線
、赤外線等があげられるが、特に電子線が好ましい。電
子線加速器の照射線量としては基体の損傷を考慮すると
1〜20 M r a dの範囲が好ましく、ラインス
ピードを考慮すると2〜6 M r a dの範囲が特
に好ましい。具体的な照射システムとしては、例えば米
国エナージーサイエンス社のエレクトロカーテンシステ
ム、西独ポリマフィジクス社のスキャニング型電子線加
速器等が好適である。電子線の照射による重合架橋に際
しては、o3発生による装置の損傷を防止し、また重合
阻害を防止するために、Nz、He等の不活性ガス下で
行なうことが好ましい。磁気記録媒体としては、磁気デ
ィスク、磁気テープ、磁気カード等がある。
られる放射線源としては、例えばX線、電子線、紫外線
、赤外線等があげられるが、特に電子線が好ましい。電
子線加速器の照射線量としては基体の損傷を考慮すると
1〜20 M r a dの範囲が好ましく、ラインス
ピードを考慮すると2〜6 M r a dの範囲が特
に好ましい。具体的な照射システムとしては、例えば米
国エナージーサイエンス社のエレクトロカーテンシステ
ム、西独ポリマフィジクス社のスキャニング型電子線加
速器等が好適である。電子線の照射による重合架橋に際
しては、o3発生による装置の損傷を防止し、また重合
阻害を防止するために、Nz、He等の不活性ガス下で
行なうことが好ましい。磁気記録媒体としては、磁気デ
ィスク、磁気テープ、磁気カード等がある。
(実施例)
実施例中「部」は「重量部」を示す。
実施例1
エスレソクA(塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体、塩化ビニル成分91重量%、酢酸ビニル
成分3重量%、ビニルアルコール成分6重量%の共重合
体、積水化学工業株式会社商品名)300gをメチルエ
チルケトン800g中に溶解させた後、イソシアナトエ
チルメタクリレート46.8 gをジブチルスズジラウ
レートを反応触媒として付加させて得られた樹脂溶液3
64g1メチルエチルケトン300gおよびγ−Fe2
03磁性粉(戸田工業(株)製商標MX−450)44
0gをボールミル中で72時間混合分散して磁性塗料を
開裂した。
ール共重合体、塩化ビニル成分91重量%、酢酸ビニル
成分3重量%、ビニルアルコール成分6重量%の共重合
体、積水化学工業株式会社商品名)300gをメチルエ
チルケトン800g中に溶解させた後、イソシアナトエ
チルメタクリレート46.8 gをジブチルスズジラウ
レートを反応触媒として付加させて得られた樹脂溶液3
64g1メチルエチルケトン300gおよびγ−Fe2
03磁性粉(戸田工業(株)製商標MX−450)44
0gをボールミル中で72時間混合分散して磁性塗料を
開裂した。
こうして得られた磁性塗料を厚さ15μmポリエステル
フィルム(東し社製ルミラー)基体上にアプリケーター
を用いて塗膜厚が4μmになるように塗布した。次いで
90℃で1分間加熱乾燥を行なった後、電子線照射装置
、エレクトロカーテンCB−150(エナジーサイエン
ス社製)でN2パージ02濃度400ppm以下、6
M r a dの電子線を照射し、磁性層を基体上に形
成させた。
フィルム(東し社製ルミラー)基体上にアプリケーター
を用いて塗膜厚が4μmになるように塗布した。次いで
90℃で1分間加熱乾燥を行なった後、電子線照射装置
、エレクトロカーテンCB−150(エナジーサイエン
ス社製)でN2パージ02濃度400ppm以下、6
M r a dの電子線を照射し、磁性層を基体上に形
成させた。
次いでルミフロンLF200 (フッ素系樹脂、旭硝子
株式会社製、商品名)中に浸漬後乾燥して、厚み200
人の保護層を有する磁気テープをつくった。
株式会社製、商品名)中に浸漬後乾燥して、厚み200
人の保護層を有する磁気テープをつくった。
比較例1
ルミフロンLF200の代わりに、FOMBLIN−Z
(パーフルオロポリエーテル、モンテフルオス(Mo
ntefluos)社製商品名、分子量が約15,00
0)を用いて厚み200人の保護層を設けるようにした
以外は、実施例1と同様にして磁気テープをつくった。
(パーフルオロポリエーテル、モンテフルオス(Mo
ntefluos)社製商品名、分子量が約15,00
0)を用いて厚み200人の保護層を設けるようにした
以外は、実施例1と同様にして磁気テープをつくった。
比較例2
ルミフロンLF200の代わりに厚さ250人のシリコ
ーンオイル保護層を設けた以外は、実施例1と同様にし
て磁気テープをつくった。
ーンオイル保護層を設けた以外は、実施例1と同様にし
て磁気テープをつくった。
比較例3
ルミフロンLF200の代わりに厚さ280人のシリコ
ーンオイル保護層を設けるようにした以外は実施例Iと
同様にして磁気テープをつくった。
ーンオイル保護層を設けるようにした以外は実施例Iと
同様にして磁気テープをつくった。
上記実施例1および比較例1.2.3で得た各磁気テー
プについて、表面平滑性試験および耐摩耗性試験を行な
った結果を表1に示す。
プについて、表面平滑性試験および耐摩耗性試験を行な
った結果を表1に示す。
なお、試験は以下の方法により行なった。
(表面平滑性試験)
触針式粗さ針を使用し、触針速度0.06cm/秒、カ
ットオフ0.08 龍の条件で磁性層の表面平均粗さく
C,L、A)を測定し、実施例1のものを基準にして、
下記の式にしたがって算出される相対値で表面平滑性の
良否を判断した。
ットオフ0.08 龍の条件で磁性層の表面平均粗さく
C,L、A)を測定し、実施例1のものを基準にして、
下記の式にしたがって算出される相対値で表面平滑性の
良否を判断した。
(耐摩耗性試験)
各磁気テープをテープレコーダに装てんし、約4.3
am/ s e cの走行速度で1000回走行させた
後の出力変動を測定した。
am/ s e cの走行速度で1000回走行させた
後の出力変動を測定した。
表1
C発明の効果)
表1から明らかなように、本発明の磁気記録媒lネ
体、従来のものに比し、表面平滑性に優れ、出力す
変動が小さくなり、耐摩耗性も改良されたものになる。
代理人 弁理士 若 林 邦 彦・j ・。
Claims (1)
- 1、基体上に磁性層を形成した磁気記録媒体において、
この磁性層上にパーハロオレフィン、シクロアルキルビ
ニルエーテル、アルキルビニルエーテルおよびヒドロキ
シアルキルビニルエーテルを主たる構成成分とする共重
合体からなる保護層を設けてなる磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26532185A JPS62125536A (ja) | 1985-11-26 | 1985-11-26 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26532185A JPS62125536A (ja) | 1985-11-26 | 1985-11-26 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62125536A true JPS62125536A (ja) | 1987-06-06 |
Family
ID=17415567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26532185A Pending JPS62125536A (ja) | 1985-11-26 | 1985-11-26 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62125536A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6656140B2 (en) | 1999-07-07 | 2003-12-02 | France Bed Co., Ltd. | Massage apparatus having massage rollers mounted to an arm housing which includes improved slider arrangement |
-
1985
- 1985-11-26 JP JP26532185A patent/JPS62125536A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6656140B2 (en) | 1999-07-07 | 2003-12-02 | France Bed Co., Ltd. | Massage apparatus having massage rollers mounted to an arm housing which includes improved slider arrangement |
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