[go: up one dir, main page]

JPS62106630A - processing equipment - Google Patents

processing equipment

Info

Publication number
JPS62106630A
JPS62106630A JP24617785A JP24617785A JPS62106630A JP S62106630 A JPS62106630 A JP S62106630A JP 24617785 A JP24617785 A JP 24617785A JP 24617785 A JP24617785 A JP 24617785A JP S62106630 A JPS62106630 A JP S62106630A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
section
ipa
processing liquid
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24617785A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshio Nonaka
野中 利夫
Hiroshi Nishizuka
西塚 弘
Masayoshi Kanematsu
雅義 兼松
Yuichi Kawabata
川畑 裕一
Hiroyuki Takeno
浩行 竹野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Priority to JP24617785A priority Critical patent/JPS62106630A/en
Publication of JPS62106630A publication Critical patent/JPS62106630A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

PURPOSE:To perform a low-cost and highly reliable processing when such processing as drying and cleaning is performed on a matter to be processed by a method wherein a refining means capable of reproducing the processing liquid in the collection part is connected to the main body of a processing device. CONSTITUTION:A lead-out port for crude isopropyl alcohol IPA is formed at a lower end part of a recovery tank 12 and the lead-out port is connected to a water content removal part 18. The removal part 18 is connected to a distillation part 20 beyond it and the distillation part 20 is connected to a storage tank 21. The crude IPA is transported with a pump 19 from the recovery tank 12 to the removal part 18 and a removal of the water content dissolved in the crude IPA is executed at the removal part 18. The IPA removed the water content is precisely distilled at the distillation part 20, is completely cleared of impurities other than the water content and is refined into pure IPA. The refined IPA is stored in the tank 21 and is replenished in a vapor generating part 3 through an introducing part 22 by opening and closing a valve 11a. In this way, a low-cost and highly reliable processing is performed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野) 本発明は、たとえば電子部品等の精密製品の乾燥、洗浄
等の処理に適用して有効な技術に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a technique that is effective when applied to processing such as drying and cleaning of precision products such as electronic parts.

〔背景波マネテ〕[Background wave manete]

水洗後の被処理物を乾燥ずS方法に、いわゆる蒸気乾燥
方法がある。
There is a so-called steam drying method as an S method that does not dry the processed object after washing with water.

茶気乾燥方法は、たとえばイソプロピルアルコール(以
下、IPAともいう。)のような水との親和性が高く、
かつ低沸点の有機溶剤からなる乾燥液を用いて行われる
The tea drying method has a high affinity with water, such as isopropyl alcohol (hereinafter also referred to as IPA),
It is carried out using a drying liquid consisting of an organic solvent with a low boiling point.

具体的には、たとえば基本的構成が上方に冷却部を有し
下部に加熱可能な蒸気発生部を有す装置を用いて行うこ
とができる。上記の蒸気発生部の上方空間部に被乾燥物
を位置せしめると、加熱された蒸気発生部から蒸発した
IPA蒸気が被処理物表面に凝縮する。凝縮したIPA
は付着していた水分をともなって流下していくため、そ
の凝縮、流下の繰り返しにより被乾燥物の乾燥が達成さ
れる。
Specifically, for example, this can be carried out using an apparatus whose basic configuration includes a cooling section at the top and a heatable steam generating section at the bottom. When the object to be dried is placed in the space above the steam generating section, the IPA vapor evaporated from the heated steam generating section condenses on the surface of the object. Condensed IPA
Since the water flows down with the attached moisture, drying of the material to be dried is achieved by repeating the condensation and flow down.

被乾燥物の表面に凝縮したIPAを、上記の蒸気発生部
へ落下させたのでは、すぐに該発生部のIPAに溶存す
る水分の濃度が高くなり、必然的に蒸発するIPA蒸気
中の水分濃度も高くなっていく。その結果、乾燥効率の
低下を来す等の間がか生しる。
If the IPA that has condensed on the surface of the object to be dried is dropped into the steam generation section, the concentration of water dissolved in the IPA in the generation section will immediately increase, and the moisture in the IPA vapor that will inevitably evaporate will increase. The concentration also increases. As a result, drying efficiency is reduced and a gap occurs.

そこで、被乾燥物の表面に凝縮したIPAは全て廃棄し
、蒸気発生部には入り込まない構造にすることが考えら
れる。このようにすると、蒸気発生部のIPAに直接水
分が入り込むことを防止できることになる。
Therefore, it is conceivable to discard all of the IPA that has condensed on the surface of the object to be dried, and to create a structure that prevents it from entering the steam generation section. In this way, it is possible to prevent moisture from directly entering the IPA in the steam generating section.

しかし、上記のような構造にすると、常に新たなIPA
の補充を続けなければならないため、コストの上昇を招
来し、また使用済IPへの廃棄処理の問題も生してくる
However, with the above structure, new IPAs are always created.
The need to continue replenishing IP leads to an increase in costs, and also creates the problem of disposing of used IP.

さらには、茶気発生部では蒸発が繰り返されるため、該
発生部におけるIPAは次第に7農縮されることになる
。したがって、上記茶気発生部に、たとえば補充用IP
Aとともに微■の金属イオン等の不純物が入り込んだ場
合には徐々に蓄積され、該不純物による被乾燥物への影
響が生じることになると考えられる。
Furthermore, since evaporation is repeated in the tea generation area, the IPA in the generation area is gradually reduced by 7 degrees. Therefore, for example, a replenishing IP is applied to the brownish generation part.
If impurities such as small amounts of metal ions are introduced together with A, they will gradually accumulate, and it is thought that the impurities will have an effect on the material to be dried.

上記問題は、被乾燥物が特にその精度を要求される半導
体ウェハである場合には極めて重要であることが本発明
者により見い出された。
The inventors have found that the above problem is extremely important when the object to be dried is a semiconductor wafer that particularly requires precision.

なお、いわゆる蒸気乾燥に関する技術については、特願
昭57−89664号の明細書に説明されている。
Note that the technology related to so-called steam drying is explained in the specification of Japanese Patent Application No. 89664/1983.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、被処理物を乾燥、洗浄等の処理を行う
場合に、安価でかつ信頼性の高い処理を行うことができ
る技術を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a technique that enables inexpensive and highly reliable processing when drying, washing, etc. are performed on an object to be processed.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、装置本体が処理液の蒸気発生部、処理用空間
および処理済後の処理液の捕集部が設けられてなる処理
装置であって、捕集部における処理液を再生することが
できる精製手段を、該手段による精製後の処理液を上記
の茶気発生部へ導入可能な状態に前記装置本体に接続し
た装置とすることにより、不純物濃度の高い凝縮処理液
を選択的に再生使用することができると同時に茎発濃縮
された蒸気発生部の処理液を抜き取り精製後回使用する
ことができ、さらに蒸散等により不足した処理液を必要
に応し容易に補充することができることにより、安定し
た信頼性の高い処理条件を合理的に実現することができ
る。しかも、処理液を全て廃棄することなく繰り返し使
用するため、処理後の補充および廃棄処理が不要となり
大1+なコストの低減を達成でき、上記目的が達成され
るものである。
That is, it is a processing apparatus in which the main body of the apparatus is provided with a steam generation section for processing liquid, a processing space, and a collection section for the processing liquid after processing, and the processing liquid in the collection section can be regenerated. The means is a device connected to the apparatus main body in such a manner that the treated liquid purified by the means can be introduced into the brownish generation section, whereby the condensed treated liquid with a high impurity concentration is selectively reused. At the same time, the processing liquid from the steam generating part that is concentrated from the stems can be extracted and used again after purification, and the processing liquid that is insufficient due to transpiration can be easily replenished as necessary, making it stable. It is possible to rationally achieve highly reliable processing conditions. Moreover, since the processing liquid is used repeatedly without being completely discarded, replenishment and disposal after processing are unnecessary, and a significant cost reduction can be achieved, thus achieving the above object.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明による一実施例である処理装置を示す概
略説明図である。
FIG. 1 is a schematic explanatory diagram showing a processing device as an embodiment of the present invention.

本実施例の処理装置は水洗後の半4体ウェハの乾燥に用
いる、いわゆる蒸気乾燥装置であり、その本体lはほぼ
円筒状の容器からなり、その上端は中央部で開閉可能な
シャッター2により閉鎖されている。上記容器の底部に
は乾燥液(処理液)であるイソプロピルアルコール(I
PA)が貯えられた蒸気発生部3が形成されている。上
記IPAは蒸気発生部3の底面下に取付けられたヒータ
ブロック4により加熱され、該蒸気発生部3の上方の処
理用空間1aに強制的に蒸発させられる。
The processing apparatus of this embodiment is a so-called steam drying apparatus used for drying semi-quadruple wafers after washing with water.The main body l consists of a substantially cylindrical container, and the upper end is closed by a shutter 2 that can be opened and closed in the center. Closed. The bottom of the container contains isopropyl alcohol (I), which is a drying liquid (processing liquid).
A steam generating section 3 in which PA) is stored is formed. The IPA is heated by a heater block 4 attached below the bottom surface of the steam generating section 3, and is forcibly evaporated into the processing space 1a above the steam generating section 3.

上記処理用空間1aの下部に位置する蒸気発生部上方に
は、被乾燥物(被処理物)上で凝縮し、落下するIPA
の受皿(捕集部)5が設置されている。ここで、被乾燥
物は上記受皿5の上方に位置されたカートリッジ6に収
納された半導体ウェハ7である。なお、上記カートリッ
ジ6は、ホルダ8で所定位置に保持されている。その際
、上記ホルダ8の把手8aは前記ンヤノタ−2の中心に
ある孔(図示せず)に挿通され、その上方で搬送冶具(
図示せず)に接続されている。
Above the steam generation section located at the bottom of the processing space 1a, IPA condenses on the material to be dried (material to be processed) and falls.
A receiving tray (collection section) 5 is installed. Here, the object to be dried is a semiconductor wafer 7 housed in a cartridge 6 positioned above the saucer 5. Note that the cartridge 6 is held in a predetermined position by a holder 8. At that time, the handle 8a of the holder 8 is inserted into a hole (not shown) in the center of the holder 2, and the transport jig (
(not shown).

また、上記処理用空間1aの上部には、本体容器の内壁
に沿って螺旋状の冷却蛇管(冷却部)9が設けられ、該
冷却蛇管9の下方には容器内壁からやや上向きに突出さ
れたつば状の捕集部10が設けられている。
Further, a spiral cooling corrugated tube (cooling section) 9 is provided above the processing space 1a along the inner wall of the main container, and a spiral cooling corrugated tube (cooling section) 9 is provided below the cooling corrugated tube 9, projecting slightly upward from the container inner wall. A collar-shaped collection section 10 is provided.

そして、前記蒸気発生部3はバルブ11を介して回収タ
ンク12に連通され、また受皿5および捕集部10も同
一の回収タンク12に連通されている。上記バルブ11
の開閉は、該バルブllsこ接続された制御部13を介
して上記の蒸気発生部3におけるIPAの液面センサ1
4および純度モニタ15に連動して行われる。
The steam generating section 3 is communicated with a recovery tank 12 via a valve 11, and the receiving tray 5 and the collecting section 10 are also communicated with the same recovery tank 12. The above valve 11
The opening/closing of the IPA liquid level sensor 1 in the steam generating section 3 is controlled via the control section 13 connected to the valve.
4 and purity monitor 15.

前記回収タンク12には、新たなIPAを補給するため
のキャニスタ(補給手段)16が接続されている。その
補給は、上記回収タンク12内に溜まった凝縮水などの
不純物が混入したIPA(以下、粗IPAという)の液
面センサ14aに連動させて気体用バルブI7を開き、
上記キャニスタ16内に窒素ガス(N2)を導入し、該
キャニ、116内のII’への液面を加圧してサイホン
方式で行うものである。
A canister (replenishment means) 16 for replenishing new IPA is connected to the recovery tank 12. To replenish the gas, the gas valve I7 is opened in conjunction with the liquid level sensor 14a of IPA (hereinafter referred to as crude IPA) mixed with impurities such as condensed water accumulated in the recovery tank 12.
Nitrogen gas (N2) is introduced into the canister 16, and the liquid level to II' in the canister 116 is pressurized using a siphon method.

また、回収タンク12の下端部には粗IPAの取出口(
図示せず)が形成され、酸敗出口は水分除去部(精製手
段)18に接続され、その途中には上記粗IPAを輸送
するためのポンプ19が設置されている。
In addition, the bottom end of the recovery tank 12 has a crude IPA outlet (
(not shown) is formed, and the rancidity outlet is connected to a water removal section (purification means) 18, and a pump 19 for transporting the crude IPA is installed in the middle thereof.

上記水分除去部18は、その先の蒸留部(精製手段)2
0に接続され、さらに該蒸留部20は精製したIPAを
溜めて置くための貯留タンク21に接続されている。そ
して、この貯留タンク21はバルブIlaを介してIP
Aの導入部22に接続されており、該バルブIlaは前
記バルブ11の場合と同様に制御部13を介してその開
閉が行われる。
The water removal section 18 is connected to a distillation section (purification means) 2
0, and the distillation section 20 is further connected to a storage tank 21 for storing purified IPA. Then, this storage tank 21 is connected to the IP via valve Ila.
The valve Ila is connected to the introduction section 22 of A, and the valve Ila is opened and closed via the control section 13 in the same way as the valve 11 described above.

次に、本実施例の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

本実施例の乾燥装置の処理用空間1aは、ヒータブロッ
ク4で加熱された蒸気発生部3から蒸発したIPAの蒸
気で充満されている。上記処理用空間1aにウェハ7を
位置させるとその表面に■PA蒸気が凝縮する。親水性
の高い凝縮TPAは該ウェハ7の表面に付着している水
分および不純物を同伴して流下していく。この凝縮およ
び流下を繰り返すことにより、上記ウェハ7の乾燥が達
成されるものである。なお、その際にウェハ7の表面に
水板外の金属イオン等の異物が付着している場合には、
該ウェハ7の表面の洗浄も同時に行われる。
The processing space 1a of the drying apparatus of this embodiment is filled with IPA vapor evaporated from the vapor generating section 3 heated by the heater block 4. When the wafer 7 is placed in the processing space 1a, PA vapor condenses on its surface. The highly hydrophilic condensed TPA flows down, taking with it moisture and impurities adhering to the surface of the wafer 7. By repeating this condensation and flowing down, drying of the wafer 7 is achieved. In addition, if foreign matter such as metal ions outside the water plate adheres to the surface of the wafer 7 at this time,
The surface of the wafer 7 is also cleaned at the same time.

本実施例においては、上記のようにウェハ7の表面を流
下する水分等の不純物が溶存する凝縮IPAが落下する
位置に受皿5が設置されており、決して凝縮IPAは前
記蒸気発生部3へ直接混入することはない。そのため、
上記茎気発生部3におけるIPAは、ウェハ7およびカ
ートリッジ6等の表面に凝縮した不純物を含む粗IPへ
により汚染されることはない。
In this embodiment, as described above, the tray 5 is installed at a position where the condensed IPA containing dissolved impurities such as water flowing down the surface of the wafer 7 falls, and the condensed IPA never directly flows into the steam generating section 3. There will be no contamination. Therefore,
The IPA in the stink generation section 3 is not contaminated by crude IP containing impurities condensed on the surfaces of the wafer 7, cartridge 6, etc.

上記受皿5で捕集された凝縮IPAは、そのまま本体容
器外に設置された回収タンク12に導かれる。
The condensed IPA collected in the receiving tray 5 is directly led to a recovery tank 12 installed outside the main container.

また、処理用空間1aの上部には、冷却蛇管が設置され
ている。この蛇管は、余分なIPA蒸気を凝縮させ、該
蒸気が外部に漏れないようにするものである。上記蛇管
で凝縮したIPAは、その!′1Ii4i部10に落下
し、そのまま回収タンクI2に導かれる。
Moreover, a cooling corrugated pipe is installed at the upper part of the processing space 1a. This corrugated pipe condenses excess IPA vapor and prevents the vapor from leaking outside. The IPA condensed in the above-mentioned snake pipe is that! '1Ii4i It falls into the section 10 and is led directly to the recovery tank I2.

1記冷却蛇管9で凝縮するIPAは、前記受皿5に捕集
されるIPAと異なり、水分等の不純物が直接混入する
ことはない。しかし、処理用空間laには僅かではある
がウェハ7の付着しいた水滴からの水薄気がIPA蒸気
とともに存在する。
1. Unlike the IPA collected in the saucer 5, the IPA condensed in the cooling spiral tube 9 is not directly contaminated with impurities such as moisture. However, in the processing space la, a small amount of water from the water droplets attached to the wafer 7 exists together with the IPA vapor.

そのため、上記蛇管9で凝縮したIPAにも、僅かに水
分が溶存している。
Therefore, the IPA condensed in the flexible tube 9 also has a slight amount of water dissolved in it.

したがって、上記のような構造にすることにより、前記
蒸気発生部3にはIPAが還流しないために、if W
気発生部3におけるIPAの純度は安定して維持される
ことになる。
Therefore, with the above structure, since IPA does not flow back into the steam generating section 3, if W
The purity of IPA in the air generating section 3 will be maintained stably.

以上説明したように、本実施例の乾燥装置では、凝縮し
たIPAが全て本体容器外に導出されるため、茎気発生
部3におけるIPAは徐々に痰発し減少していくことに
なる。そこで、上記の蒸気発生部3にIPAを補充する
必要が生しるが、その補充を前記回収タンク12に導か
れた凝縮IPAをもって行うものである。
As explained above, in the drying apparatus of this embodiment, all of the condensed IPA is led out of the main container, so that the IPA in the stem air generation part 3 gradually becomes phlegm and decreases. Therefore, it becomes necessary to replenish IPA to the steam generating section 3, and this replenishment is performed using the condensed IPA led to the recovery tank 12.

すなわち、上記回収タンク12から粗IPAをポンプ1
9で水分除去部18へ輸送し、該水分除去部18で粗I
PAに溶存している水分の除去を行う。この水分が除去
された粗IPAは、さらに藤留部20で情宋茎留され、
水分以外の不純物が完全に除去され、純粋なIPAに精
製される。この精製IPAは貯留タンク21に貯えられ
、必要に応してバルブllaを開閉して導入部22を通
して前記蒸気発生部3に補充される。
That is, the crude IPA is pumped from the recovery tank 12 to the pump 1.
9, the crude I is transported to the moisture removal section 18, and the
Removes water dissolved in PA. The crude IPA from which this water has been removed is further processed in the Fujidome section 20.
Impurities other than water are completely removed and purified to pure IPA. This purified IPA is stored in a storage tank 21, and is replenished into the steam generating section 3 through the introduction section 22 by opening and closing the valve lla as needed.

なお、上記バルブllaの開閉は蒸気発生部3における
IPAの液面位置および3g IP A自体の純度の両
者に連動させ制御部13を介して行うものである。すな
わち、IPAの液面が下がった場合には、それを液面セ
ンサ14で感知し、またIPAの純度が低下した場合に
は純度モニタ15で感知し、前記バルブllaを開は精
’A I P Aの補充が行われるものである。
The opening and closing of the valve lla is performed via the control section 13 in conjunction with both the liquid level position of the IPA in the steam generating section 3 and the purity of the 3g IPA itself. That is, when the liquid level of IPA falls, it is sensed by the liquid level sensor 14, and when the purity of IPA falls, it is sensed by the purity monitor 15, and the valve lla is opened. PA is replenished.

なお、上記純度モニタ15に連動させてバルブ1taを
開ける場合は、その前に蒸気発生部3における低純度の
IPAの全部または一部の抜き取りが、同しく制御部1
3を介してバルブ11を開けて行われる。その後に、抜
き取ったIPAの補充が前記のように行われるものであ
る。
Note that when opening the valve 1ta in conjunction with the purity monitor 15, before opening the valve 1ta, all or part of the low-purity IPA in the steam generation section 3 is removed by the control section 1.
This is done by opening the valve 11 via 3. Thereafter, the extracted IPA is replenished as described above.

上記の抜き取られたIPAは、前記凝縮IPAの場合と
同一の回収タンク12に導かれ、同様に精製され、再使
用に供される。したがって、IPAは一切廃棄されるこ
となく、全て循環再使用される。そのため、[PAの有
効利用が図れ、コスト低酸および公害発生防止等の種々
の利益が得られる。
The extracted IPA is led to the same recovery tank 12 as for the condensed IPA, purified in the same way, and reused. Therefore, none of the IPA is discarded, and all of it is recycled. Therefore, [PA can be used effectively, and various benefits such as low acid cost and prevention of pollution can be obtained.

なお、本実施例の乾燥装置には、新しいIPAの補給の
ためキャニスタ(補給手段)16が接続されているが、
該キャニスタ16からはIPAが前記回収タンク12へ
導入される。このように、新しいIPAを直接に蒸気発
生部3へ補給せず、回収タンク12に導くことにより、
新たなIPAをも水分除去、精密蒸留を行った後に、供
給することができるため、常に安定した高純度の状態で
IPAの補給が達成されるものである。したがって、補
給用のIPAO中に、たとえば数十%の水分を含むIP
Aなどのように水分が多く含まれていたり、異物が混入
していたとしても、本装置においては、水分含有量のな
いものでしかも異物除去されたIPAを処理液として使
用できる。このことより、安定した信頼性の高い乾燥処
理を行うことができるものである。
Note that a canister (replenishment means) 16 is connected to the drying apparatus of this embodiment for replenishing new IPA.
IPA is introduced into the recovery tank 12 from the canister 16 . In this way, by guiding new IPA to the recovery tank 12 instead of directly supplying it to the steam generation section 3,
Since fresh IPA can also be supplied after water removal and precise distillation, IPA replenishment can always be achieved in a stable and highly pure state. Therefore, in IPAO for replenishment, for example, IPAO containing several tens of percent water is used.
Even if IPA contains a lot of water or contains foreign matter, such as in A, the present apparatus can use IPA with no water content and from which foreign matter has been removed as a processing liquid. This makes it possible to perform stable and highly reliable drying processing.

本実施例の乾燥装置においては、以上説明した利点に加
え、次のような効率化が達成されている。
In addition to the advantages described above, the drying apparatus of this embodiment achieves the following efficiency improvements.

すなわち、被乾燥物の下方の受皿5と冷却蛇管9におけ
る捕集部IOとに捕集された純度が低下した凝縮IPA
を選択的に精製循環させることができることから、効率
よく再使用に供することができるものである。
In other words, the condensed IPA with reduced purity is collected in the tray 5 below the material to be dried and in the collection section IO in the cooling corrugated pipe 9.
Since it can be selectively purified and circulated, it can be efficiently reused.

〔効果〕〔effect〕

(1)、装置本体が処理液の蒸気発生部、処理用空間お
よび該処理用空間の一部にrA気気冷郡部を備え、上記
処理用空間の下部には該空間の所定部に被処理物を位置
せしめた場合に、該被処理物上に凝縮し落下する凝縮処
理液の捕集部が設けられてなる処理装置について、上記
の蒸気発生部における処理液と捕集部における凝縮処理
液とを再生することができる精製手段を、精製済処理液
を上記の仄気発生部へ導入可能な状態に前記装置本体に
接続し、かつ処理液の補給手段を所定位置に接続するこ
とにより、不純物4度の高い凝縮処理液を選択的に再生
使用することができると同時に、茎発/;縮された蒸気
発生部の処理液を抜き取り精製後再使用することができ
、さらに蒸散等により不足した処理液を容易に補給する
ことができることにより、安定した信頼性の高い処理条
件を合理的に実現することができる。
(1) The main body of the apparatus is equipped with a steam generation part for the processing liquid, a processing space, and an rA air cooling section in a part of the processing space, and a predetermined part of the processing space is provided at the lower part of the processing space. Regarding a processing device that is provided with a collection section for the condensed processing liquid that condenses and falls on the object to be processed when the object is placed, the processing liquid in the steam generation section and the condensed processing liquid in the collection section are By connecting a refining means capable of regenerating and regenerating the purified processing liquid to the apparatus main body in a state in which the purified processing liquid can be introduced into the aeration generating section, and connecting a processing liquid replenishment means to a predetermined position, It is possible to selectively reuse the condensed liquid with high impurity level 4, and at the same time, it is possible to extract and reuse the processed liquid from the steam generating section that has been distilled/condensed, and to reuse it after purification. By easily replenishing the treated processing liquid, stable and highly reliable processing conditions can be rationally realized.

(2)、全ての処理液を精製し、循環再使用することに
より、IPAの使用量を大巾に低減できるので、コスト
を大巾に低減できる。
(2) By purifying and circulating and reusing all of the processing liquids, the amount of IPA used can be significantly reduced, and thus costs can be significantly reduced.

(3)、前記(2)と同様の理由により、使用済処理液
の廃棄が不要となるので、該廃棄処理に要する費用が不
要となる。
(3) For the same reason as in (2) above, it is not necessary to dispose of the used processing liquid, and therefore the cost required for the disposal process is unnecessary.

(4)、前記(11において、蒸気冷却部に凝縮処理液
の捕集部を形成し、該捕集部を精製手段に連結すること
により、上記の凝縮処理をも選択的に精製し、再使用す
ることができるので、さらに信頼性の高い処理条件を安
定して維持することができる。
(4) In (11) above, by forming a collection part for the condensed treatment liquid in the steam cooling part and connecting the collection part to the purification means, the above condensation treatment can also be selectively purified and recycled. Therefore, more reliable processing conditions can be stably maintained.

(5)、処理液の補給手段を精製手段に連結し、補給用
処理液を精製した後に、上記発生部に供給することによ
り、補給用処理液の品質の如何にかかわらず安定した処
理条件を維持できる。
(5) By connecting the processing liquid replenishment means to the refining means and supplying the replenishment processing liquid to the generation section after refining it, stable processing conditions can be maintained regardless of the quality of the replenishment processing liquid. Can be maintained.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.

たとえば、蒸気乾燥装置の構造は前記実施例のものに限
るものでなく、実質」1同−の目的が達成できるもので
あれば、その構造の如何は問わないものである。また、
乾燥液はIPAに限るものでない。
For example, the structure of the steam drying apparatus is not limited to that of the embodiment described above, and any structure may be used as long as the above objectives can be achieved. Also,
The drying liquid is not limited to IPA.

また、茎気発生部のI P A、受皿および冷却蛇管の
下捕集部における凝縮IPA並びにキャニスタからの補
給用IPAの全てを同一の回収タンクに導く構造のもの
を示したが、これに限るものでない。複数の回収タンク
を備えたものであっても、場合によっては回収タンクを
経ないで精製手段に直結するものであってもよい。
In addition, we have shown a structure in which all of the IPA in the stem air generation part, the condensed IPA in the collecting tray and lower collecting part of the cooling spiral pipe, and the replenishment IPA from the canister are led to the same collection tank, but this is not limited to this. It's not something. It may be equipped with a plurality of recovery tanks, or it may be directly connected to the purification means without passing through the recovery tanks, depending on the case.

精製手段も、水分除去部と舊留部に限るものでない。The purification means is also not limited to the water removal section and the distillation section.

さらに、精製後のIPAを貯留タンクに溜める方法の装
置を示したが、これに限るものでなく、直接本体容器内
に導く方式のものであってもよい。
Furthermore, although an apparatus for storing purified IPA in a storage tank has been shown, the present invention is not limited to this, and may be of a type in which the purified IPA is directly introduced into the main body container.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である茶気乾燥装置に適用
した場合について説明したが、それに限定されるもので
はなく、たとえば、有機溶剤等で洗浄を行う洗浄装面に
適用しても荷動な技術である。
The above explanation has mainly been about the application of the invention made by the present inventor to a tea drying device, which is the background field of application, but the invention is not limited thereto. This technology is useful even when applied to cleaning surfaces.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による一実施例である処理’2i’ll
を示す概略説明図面の簡単な説明である。 1・・・本体、1a・・・処理用空間、2・・・シャッ
ター、3・・・茎気発生部、4・・・ヒータブロック、
5・・・受皿(捕集部)、6・・・カートリッジ、7・
・・半導体ウェハ、8・・・ホルダ、8a・・・把手、
9・・・冷却蛇管(冷却部)、10・・・捕集部、11
.11a・・・バルブ、12・・・回収タンク、13・
・・制j卸部、14.14a・・・7夜面センサ、15
・・・純度モニタ、16・・・キャニスタ(補給手段)
、17 ・・気体用バルブ、18・・・水分除去部(精
製手段)、19・ ・ポンプ、20・・・遺留部(精製
手段)、21・・・貯留タンク、22・・・導入部。
FIG. 1 shows a process '2i'll which is an embodiment of the present invention.
It is a simple explanation of the schematic explanatory drawing showing. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Main body, 1a... Processing space, 2... Shutter, 3... Stem air generation part, 4... Heater block,
5... saucer (collection part), 6... cartridge, 7...
...Semiconductor wafer, 8...Holder, 8a...Handle,
9... Cooling corrugated tube (cooling section), 10... Collection section, 11
.. 11a...Valve, 12...Recovery tank, 13.
...Controller wholesale department, 14.14a...7 Night surface sensor, 15
...Purity monitor, 16...Canister (supply means)
, 17... Gas valve, 18... Moisture removal section (purification means), 19... Pump, 20... Retention section (purification means), 21... Storage tank, 22... Introduction section.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、処理液の蒸気発生部と、処理用空間と処理済後の処
理液の捕集部とが設けられてなる処理装置であって、上
記捕集部における処理液を再生する精製手段が、精製処
理液を上記蒸気発生部へ導入可能な状態で接続されてな
る処理装置。 2、精製手段が水分除去部と蒸留部とからなることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の処理装置。 3、処理装置が蒸気乾燥器であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の処理装置。 4、処理液の蒸気発生部、処理用空間および該処理用空
間の一部に蒸気冷却部を備え、上記処理用空間の下部に
は、該空間の所定部に被処理物を位置せしため場合に、
該被処理物上に凝縮し落下する凝縮処理液の捕集部が設
けられてなる処理装置であって、上記蒸気発生部におけ
る処理液および捕集部における凝縮処理液を再生する精
製手段が、精製処理液を上記蒸気発生部へ導入可能な状
態で接続され、かつ処理液の補給手段が接続されてなる
処理装置。 5、蒸気冷却部には該蒸気冷却部における凝縮処理液の
捕集部が形成され、該捕集部が精製手段に連結されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の処理装
置。 6、処理液の補給手段が精製手段に連結され、補給用処
理液は該精製手段を通して蒸気発生部に供給されること
を特徴とする特許請求の範囲第4項記載の処理装置。 7、精製手段が水分除去部と蒸留部とからなることを特
徴とする特許請求の範囲第4項記載の処理装置。 8、処理装置が蒸気乾燥器であることを特徴とする特許
請求の範囲第4項記載の処理装置。
[Scope of Claims] 1. A processing device comprising a steam generation section for a processing liquid, a processing space, and a collection section for the processing liquid after processing, wherein the processing liquid is collected in the collection section. A processing device in which a regenerating purification means is connected in a state in which a purified treatment liquid can be introduced into the steam generation section. 2. The processing apparatus according to claim 1, wherein the purification means comprises a water removal section and a distillation section. 3. The processing apparatus according to claim 1, wherein the processing apparatus is a steam dryer. 4. A steam generating section for the processing liquid, a processing space, and a steam cooling section in a part of the processing space, and the object to be processed is positioned in a predetermined part of the processing space at the lower part of the processing space. In case,
A processing apparatus is provided with a collecting section for the condensed processing liquid that condenses and falls onto the object to be processed, and a purification means for regenerating the processing liquid in the steam generating section and the condensed processing liquid in the collecting section, A processing device, which is connected to the steam generating section in a state in which a purified processing liquid can be introduced thereto, and is connected to a processing liquid replenishment means. 5. The process according to claim 4, wherein the vapor cooling section is provided with a collecting section for the condensed processing liquid in the vapor cooling section, and the collecting section is connected to a purification means. Device. 6. The processing apparatus according to claim 4, wherein the processing liquid replenishment means is connected to the purification means, and the replenishment processing liquid is supplied to the steam generation section through the purification means. 7. The processing apparatus according to claim 4, wherein the purification means comprises a water removal section and a distillation section. 8. The processing apparatus according to claim 4, wherein the processing apparatus is a steam dryer.
JP24617785A 1985-11-05 1985-11-05 processing equipment Pending JPS62106630A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24617785A JPS62106630A (en) 1985-11-05 1985-11-05 processing equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24617785A JPS62106630A (en) 1985-11-05 1985-11-05 processing equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62106630A true JPS62106630A (en) 1987-05-18

Family

ID=17144659

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24617785A Pending JPS62106630A (en) 1985-11-05 1985-11-05 processing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62106630A (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03154338A (en) * 1989-11-10 1991-07-02 Canon Sales Co Inc Vapor cleaning drying device
JPH04155924A (en) * 1990-10-19 1992-05-28 Hitachi Ltd steam drying equipment
JPH04155923A (en) * 1990-10-19 1992-05-28 Ube Ind Ltd Steam drying method and device
JPH04155922A (en) * 1990-10-19 1992-05-28 Ube Ind Ltd Steam drying method and its equipment
JPH06104223B1 (en) * 1989-11-21 1994-12-21
US5556539A (en) * 1993-02-26 1996-09-17 Mitsubishi Chemical Corporation Apparatus for separating a liquid mixture by pervaporation
KR100357316B1 (en) * 1993-10-29 2002-10-19 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 Substrate drying apparatus and substrate drying method
CN103272797A (en) * 2013-05-31 2013-09-04 陈春 Method and device for cleaning workpieces
JP2014168748A (en) * 2013-03-04 2014-09-18 Denso Corp Cleansing apparatus

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03154338A (en) * 1989-11-10 1991-07-02 Canon Sales Co Inc Vapor cleaning drying device
JPH06104223B1 (en) * 1989-11-21 1994-12-21
JPH04155924A (en) * 1990-10-19 1992-05-28 Hitachi Ltd steam drying equipment
JPH04155923A (en) * 1990-10-19 1992-05-28 Ube Ind Ltd Steam drying method and device
JPH04155922A (en) * 1990-10-19 1992-05-28 Ube Ind Ltd Steam drying method and its equipment
US5556539A (en) * 1993-02-26 1996-09-17 Mitsubishi Chemical Corporation Apparatus for separating a liquid mixture by pervaporation
KR100357316B1 (en) * 1993-10-29 2002-10-19 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 Substrate drying apparatus and substrate drying method
JP2014168748A (en) * 2013-03-04 2014-09-18 Denso Corp Cleansing apparatus
CN103272797A (en) * 2013-05-31 2013-09-04 陈春 Method and device for cleaning workpieces

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4984597A (en) Apparatus for rinsing and drying surfaces
US4911761A (en) Process and apparatus for drying surfaces
US7931782B2 (en) Method for recovering a liquid medium and system for recover a liquid medium
KR101813360B1 (en) Vapor supplying apparatus, vapor drying apparatus, vapor supplying method, and vapor drying method
KR20130086557A (en) Liquid processing apparatus, liquid processing method, and storage medium
JPS62106630A (en) processing equipment
KR100665559B1 (en) Method and apparatus for reclaiming used solvent
JPH06103686B2 (en) Surface drying treatment method and device
US4745690A (en) Method of replenishing and/or preparing treating liquids
EP0428784B1 (en) Process for drying surfaces
JPH04155924A (en) steam drying equipment
JPS63182818A (en) drying equipment
JPH1116873A (en) Cleaning drying method and cleaning drying device
JP3275044B2 (en) Drying processing equipment
KR20030079797A (en) Method and apparatus for treating organic exhaust gas
RU2008989C1 (en) Method of cleaning parts with solvent and device for its realization
JPH0590240A (en) Vapor drying device
JP4360765B2 (en) Development waste liquid concentration apparatus and concentration method
JP2610062B2 (en) Steam drying method and its apparatus
JPH06262042A (en) Apparatus for purification of liquid
JPH0631255A (en) Cleaning device using anhydrous solvent as cleaning solvent
KR950006642Y1 (en) Cleaning chemical filter of vapor dry system
JP3298037B2 (en) Drying processing equipment
JPH0985007A (en) Distillation and regeneration apparatus for polluted cleaning liquid
JPH06204202A (en) Cleaning drier