JPS6177031A - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は液晶パネルの不表示領域を減少させ、コントラ
ストのより良い液晶パネルの製造方法に関するものであ
る。

液晶による表示は電子２通信機器を始め、玩具や雑貨に
まで利用されている。液晶パネルは消費電力が少なく、
また薄形表示として各方面に幅広く活用されている。

〔従来の技術〕

第３図は従来技術による液晶パネルの要部構成を示す図
である。

第３図において、ガラス基板１の表面にインジューム化
合物を主成分とする透明電極層２を、厚さＣでコーティ
ングされている。

この透明電極Ｎ２の表面に図示されていないフォトリソ
工程を行い、透明電極層２を５０μｍ〜６０μｍの溝幅
ａで工゛ツチング加工を行う。このことは、隣接する透
明電極２の最小間隙すを１０μｍ〜２０μｍ確保するた
めのものである。このようにして得られたガラス基板１
．１１を、透明電極２，１２が格子伏に交わり、かつ対
向するように係着し、ガラス基板１．１１間に液晶を封
入して作られている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記による液晶パネル製造法において透明電極の導体抵
抗を一定とするために透明電極層の厚さを小型液晶パ名
ルでは数百人、大型液晶パネルではそれ以上と厚くコー
ティングする必要がある。

透明電極層が厚くなれば当然エツチング処理時間も長く
なるため、エツチング液と透明電極層との反応速度か場
所により差異を生じてくる。またフォトレジストと透明
電極との密着が均一でないため１．密着性の悪い場所に
おいては、透明電極層とフォトレジストの眉間よりエツ
チング液が浸透し透明電極層と反応してしまう。透明電
極間隙はフォトレジストにて指示した間隙より１０μｍ
〜２０ｐｍ広い７０μｍ〜８０μｍになる場所もあれば
、フォトレジストと透明電極層の密着のよい場所におい
てはフォトレジストにて指示した通りの間隙となる場所
もある。

このため液晶パネル全体において透明電極の溝幅を一定
とするような精度の高い加工が困難であった。

〔問題を解決するための手段〕

本発明の目的は上記問題を解決し、高コントラストの液
晶パネルの製造方法を提供するもので、その手段は、透
明電極を設けた基板間に液晶を封入してなる液晶パネル
において、該透明電極上に金属層を重設し該金属層をマ
スクとして透明電極層のエツチング加工を行うことによ
りなされる。

〔作　用〕

上記液晶パネルにおいて、透明電極層上に金属層を設の
たことにより透明電極層と金属層との密着が強固に、か
つ均一になった為、透明電極層と金属層の間にエツチン
グ液の浸透がなくなったこと、また金属層を透明電極の
配線パターンとして用いることにより、導体抵抗を減す
ることができ透明電極の厚みを薄くできる。このことに
より、エツチング時間を短くし、溝間隙も従来５０μｍ
〜６０μｍであったが３μｍ以上と微細な加工を可能と
した。

〔実施例〕

以下図面を参照して、本発明の実施例を詳細に説明する
。

第１図は本発明の・一実施例である液晶パネルの要部構
成を示す図。

第２図は本発明の一実施例である液晶パネルのパターン
形成工程を示した図。

第１図において、ガラス基板１の片面にコーティングさ
れた透明電極層２を対向する透明電極１２との間隙ｄよ
り広い間隙の溝ａで分割した透明電極パターン２を多数
設け、さらに透明電極パターン２の溝に沿って金属４配
線パターン３が重設されている。この金属４配線パター
ン３を透明電極パターン２の配線パターンとして用いる
。

このような構成により成されているガラス基板１．１１
をそれぞれ透明電極パターン２，１２および金属層配線
パターン３，１３が格子状に交わり１．かつ対向するよ
うに係着し、その間に液晶７を封入して作られている液
晶パネル。

次にパターン形成について第２図を用いて詳細に説明す
る。

第２図（ａｌはカラス基板１の片方の表面に透明電極層
２０を厚さＣ約５００人と薄くコーティングする。さら
に透明電極層２０の表面に金泥層３０を重設する。

重設された金属ｌ１ｉ３０に対し透明電極層２０を分割
するのと同一寸法のマスク１６の上面より平行光線１５
を照射し、金属層３０の表面に焼付ける。

金Ｗ５３０は焼付されたパターンに沿ってエツチングが
行われ、第２図（ｂｌで示す溝寸法ａで分割された金属
層３１が得られる。

金属層３０を分割する溝寸法ａは透明電極２０と対向す
るガラス基板［１にコーティングされている透明電極１
２との距離ｄより大とするが溝寸法ａは３μｍ以上であ
れば自由に設定できる。

次に金属層３１をマスクとして、透明電極層２０をエツ
チング加工する。金属層３１と透明電極層２０との密着
（ｉｔがよいこと、また透明電極層２０の厚みＣが薄い
ことにより、金属層３１の溝寸法ａの幅で透明電極層２
０を分割し、第２図（Ｃ）で示す透明電極パターンを得
ることができる。

次に第２図（ｄｉにて示すとうり金属層３１に対し配線
パターンを設けたマスク１７を用いフォトレジストを金
属層３１に焼付ける。焼付けられたバターンに沿ってエ
ツチングが行われ、第２図（ｅ）に示す金属層による配
線パターン３が透明電極２の溝に沿って形成される。こ
のようにして各パターンが完成される。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、透明電極表面に
金属層を設けることにより透明電極の導体抵抗を減じ、
透明電極層を薄することを可能にし、金属層が透明電極
層との密着性が強固であるためエツジの鋭い透明電極パ
ターンを形成させることが可能となった。このことから
微細なパターン形成も可能となり不表示領域を小とする
ことによりコントラストの良い表示が得られ液晶パネル
の応用分野も拡がり好都合である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である液晶パネルの要部構成
を示す図、第２図は本発明の一実施例であるパターン形
成を示した図、第３図は従来技術による液晶パネルの要
部構成を示す図。 １、】１はガラス基板、２．１２は透明電極パターン、
２０は透明電極層、３．１３は金属配線パターン、３（
１，３］は金属層、７は液晶１１５は平行光線、１６．
１７はマスクパターンをそれぞれ示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）透明電極を設けた基板間に液晶を封入してなる液晶
   パネルにおいて、該透明電極上に金属層を重設し、該金
   属層をマスクとして透明電極のエッチング加工を行うこ
   とを特徴とした液晶パネルの製造方法。 ２）前記透明電極のエッチングマスクとして用いた金属
   層の開口部の幅を３μｍ以上としたことを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の液晶パネルの製造方法。