[go: up one dir, main page]

JPS6173409A - 弾性表面波装置 - Google Patents

弾性表面波装置

Info

Publication number
JPS6173409A
JPS6173409A JP19561084A JP19561084A JPS6173409A JP S6173409 A JPS6173409 A JP S6173409A JP 19561084 A JP19561084 A JP 19561084A JP 19561084 A JP19561084 A JP 19561084A JP S6173409 A JPS6173409 A JP S6173409A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal substrate
cut
surface wave
euler
angle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19561084A
Other languages
English (en)
Inventor
Shingo Makino
真吾 牧野
Yasuhiro Shoji
正司 康宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Priority to JP19561084A priority Critical patent/JPS6173409A/ja
Publication of JPS6173409A publication Critical patent/JPS6173409A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Z又上勿且且立■ 本発明は弾性表面波装置に関し、詳しくは共振素子とし
て利用される弾性表面波共振子に関するものである。
従天二孜玉 一般に弾性表面波装置は、水晶、タンタル酸リチウム等
の単結晶やセラミックなどからなる圧電製基板の圧電効
果による弾性表面波を利用したもので、特に共振素子と
して使用される弾性表面波共振子(以下SAW共振子と
称す)では、上記圧電性基板に水晶基板を使用すること
が多い。
例えば水晶基板を使用したSAW共振子の具体例を第5
図及び第6図を参照しながら説明すると、(1)は圧電
性基板である水晶基板、(2)は一定間隔λ毎に区切ら
れた櫛形の電極体の一対を互いに櫛歯をかみ合わせて水
晶基板(1)上に形成したA4蒸M膜による櫛形電極、
(3)  (3)は櫛形電極(2)により励起された表
面波の反射器で、櫛形電極(2)の両側の水晶基板(1
)上に表面波の伝播方向と直交するぶ従長のパターンで
形成したAl蒸着膜によるグレーティング電極(4)(
4)からなる回折格子である。
上記SAW共振子における櫛形電極(2)にパルス電圧
を印加すると、圧電効果により隣り合う電極間の基板表
面に互いに逆位相の歪みが生じ、波長λの表面波が励起
される。この表面波は水晶基板(1)上を伝播し、反射
器(3)(3)の各グレーティング電極(4)(4)に
到達する毎に反射波と透過波に分かれる。そこで各グレ
ーティング電極(4)(4>からの反射波の位相が揃う
ように各グレーティング電極<4)(4)間の間隔を決
めれば第6図の破線に示すように各反射器(3)(3)
間に波長λの定在波が励起され共振子となる。上記表面
波又は反射波の共振周波数fはf=V/λ(Vは伝播速
度)で与えられ、波長λは電極間ピンチで決定され、且
つ、伝播速度Vは圧電性基板の材質によって決定される
ところで上記SAW共振子の製造において、圧電性基板
である水晶基板(1)は第7図に示すようなXYZ軸か
らなる結晶軸を有する水晶体(5)から切り出して製造
される。上記水晶基板(1)上を伝播する表面波の伝播
速度■は水晶体(5)からの水晶基板(1)の切出し方
によって決定され、例えば近年ではSTカットなる切出
し方により所定の伝播速度■を有する水晶基板(1)を
切り出している。このSTカットによる水晶基板(1)
の切出し方を以下に説明すると、まず第8図に示すよう
にカット面(m)を表示するため水晶体(5)のXYZ
軸に対してΦ、Θ、Ψの31固のパラメータからなるオ
イラー角表示を使用する。オイラー角φはZ軸を中心と
したX軸からの回転角、即ちZ−0の基準面(mo>上
でのX軸となす角度で、またオイラー角θはカット面(
m)の法線nとZ軸とのなす角度で、更にオイラー角型
はカット面(m)上において基準面(no)及びカフ)
面(m)の交線lとなす角度で表面波の伝播方向を示す
、上記オイラー角Φ、Θ、Ψによってカット面(m)を
決定し、例えばSTカプトの場合、Φ−〇°、e−13
2,75°、’F−0”からなるオイラー角によって第
9図に示すようにカット面(m′)が決定され、このカ
ット面(m′)が板面となるような水晶基板(1°)を
水晶体(5)から切出す。この時、上記オイラー角!=
0°であるため水晶基板(1′)上を伝播する表面波の
伝播方向は第10図の矢印に示すようにX軸方向となり
、このX軸方向と直交する方向に櫛歯がかみ合うように
櫛形電極(2′)を水晶基板(1″)上に形成して第1
1図に示すSAW共振子を得る。
■ ()I′シー゛と る。占 従来、上述したようにSTカットによる水晶基板(1゛
)における表面歯の伝播速度Vは3158 m/s程度
であり、近年のSAW共振子における共振周波数fの高
周波化に伴い、例えばUHF帯で使用するS A W共
振子の場合、表面波の波長λを小さくするため、電極間
ピンチを1μm程度に設定して櫛形電極(2°)を形成
しなければならない。この1μm程度の電極間ピッチを
有する櫛形電極(2°)を水晶基板(1°)上に形成す
るには、高度なフォトリソグラフィー技術を必要とし、
プロセス技術的に困難性を伴い、SAW共振子の高周波
化を図ることが容易ではなかった。
a行内を   るための 1 本発明は上記問題点に鑑み提案されたもので、この問題
点を解決する技術的手段は、XYZ軸からなる結晶軸を
有する水晶体から、Φ、e、甲のオイラー角で決定され
るSTカットで切り出された水晶基板上に、櫛歯がかみ
合うように薄膜状の電極体を形成したものであって、上
記STカー/ トのオイラー角ψを90°近傍に設定す
ることにより水晶基板上を伝播する表面波の伝播方向が
3T力7トによる伝播方向と略90゜の角度をなすよう
に上記水晶基板上に電極体を形成したものである。
五土医 以下に本発明を第5図及び第6図に示すSAW共振子に
適用した一実施例を第1図乃至第4図を参照しながら説
明する。本発明の特徴は、表面波の伝播速度Vが大きく
なるように水晶体から切り出された水晶基板を使用する
ことにある。即ち本発明で使用される水晶基板は第7図
に示すようなXYZ軸からなる結晶軸を有する水晶体〈
5)から切り出して製造される。この水晶基板の切出し
方は従来要領と同様に上記xyz軸に対してΦ、e、v
の3個のパラメータからなるオイラー角表示をf吏用す
る。これは前述した如く第8図にも示すようにオイラー
角甲はZ軸を中心としたX軸からの回転角、部ちXY面
と一致するZ=CI基準面(mo)上でのX軸となす角
度で、またオイラー角eはカット面(m)の法Ijtn
とZ軸とのなす角度で、更にオイラー角型はカット面(
阻)上において基準面(mo )及びカット面(m )
の交線βとなす角度で表面波の伝播方向を示し、このオ
イラー角Φ、o1甲によってカット面(m)を決定する
。本発明の場合、φ=0゛、θ−132,75°、!−
90’なるオイラー角によって第1閲に示すようにカッ
ト面(m−が決定され、このカット面(m”)が板面と
なるような水晶基板(1”)を水晶体(5)から切出す
、この時、上記オイラー角’P=90”であるため水晶
基板(1”〉上を伝播する表面波の伝播方向は第2図の
矢印に示すようにX!IlIと直交する方向となり、こ
の伝播方向と直交する方向に櫛歯がかみ合うように櫛形
電極(2′)を水晶基板(1”)上に形成して第3図に
示すS A W共振子を得る。このように従来のSTカ
フトにおけるオイラー角Φ=O°、θ=132.75°
、甲=0°の内、表面波の伝播方向を示すオイラー角型
を90°に変更して水晶体(5)をカットして水晶基板
(1”)を形成し、且つ、櫛形電極(2′)を形成する
と、従来のSTカフトで切り出された水晶基板(1′)
上での表面波の伝播方向(X軸方向)と直交する方向に
表面波の伝播方向が得られ、表面波の伝播速度■を大き
くすることができる。本出願人の実験結果によれば、第
4図に示すように共振周波数特性において、上記オイラ
ー角型が90゜近傍にて共振周波数[が略ピーク値を示
し、従来のSTカットでのオイラー角型が0°の場合の
約1.6倍の共振周波数fを得ることができる。
11の41巣 本発明によれば、従来のSTカットでのオイラー角゛y
を90°近傍に設定することにより水晶基板上を伝播す
る表面波の伝播方向がX軸方向と略90°の角度をなす
ように水晶基板上に電極体を形成したから、従来の共振
周波数を得ようとする場合には、電極間ピッチを大きく
設定することができ、即ち高度なフォトリソグラフィー
技術を必要とせず、プロセス技術的にも容易に高周波化
を図ることが実現可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第4図は本発明の一実施例を説明するための
もので、第1図は本発明におけるオー(ラー角表示によ
るカット面を示す説明図、第2図は本発明におけるカッ
ト面に形成した櫛形型を舅を示す説明図、第3図は本発
明に係る弾性表面波装置(SAW共振子)を示す平面図
、第4図は共振周波数特性を示す特性図である。第5図
は一般的な弾性表面波装置(SAw共振子)の具体例を
示す斜視図、第6図は第5図のA−A線に沿う断面図、
第7図は水晶体の一例を示す斜視図、第8図はオイラー
角表示を説明するための説明図、第9図は従来における
オイラー角表示によるSTカット面を示す説明図、第1
0図は従来のSTカプト面に形成した櫛形電極を示す説
明図、第11図は従来の弾性表面波装置(SAW共振子
)を示す平面図である。 (1)  (1’)−m−水晶基板、(2)  (2°
)−・電極体く櫛形電極)、(5)・−・水晶体。 と: 115  図 116  図 s 8 図 第 99 X軸方−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)XYZ軸からなる結晶軸を有する水晶体から、Φ
    、Θ、Ψのオイラー角で決定されるSTカットで切り出
    された水晶基板上に、櫛歯がかみ合うように薄膜状の電
    極体を形成したものであって、上記STカットのオイラ
    ー角Ψを90°近傍に設定することにより水晶基板上を
    伝播する表面波の伝播方向がSTカットによる伝播方向
    と略90°の角度をなすように上記水晶基板上に電極体
    を形成したことを特徴とする弾性表面波装置。
JP19561084A 1984-09-18 1984-09-18 弾性表面波装置 Pending JPS6173409A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19561084A JPS6173409A (ja) 1984-09-18 1984-09-18 弾性表面波装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19561084A JPS6173409A (ja) 1984-09-18 1984-09-18 弾性表面波装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6173409A true JPS6173409A (ja) 1986-04-15

Family

ID=16344022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19561084A Pending JPS6173409A (ja) 1984-09-18 1984-09-18 弾性表面波装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6173409A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5777419A (en) * 1995-08-15 1998-07-07 Motorola Inc. Surface acoustic wave device with minimized bulk scattering
WO2000024123A1 (fr) * 1998-10-16 2000-04-27 Seiko Epson Corporation Dispositif a ondes acoustiques de surface
US6856218B2 (en) * 2001-12-28 2005-02-15 Seiko Epson Corporation Surface acoustic wave device and communications apparatus using the same
US7336016B2 (en) 2003-08-20 2008-02-26 Seiko Epson Corporation Surface-acoustic wave device and method of manufacturing same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5777419A (en) * 1995-08-15 1998-07-07 Motorola Inc. Surface acoustic wave device with minimized bulk scattering
WO2000024123A1 (fr) * 1998-10-16 2000-04-27 Seiko Epson Corporation Dispositif a ondes acoustiques de surface
US6339277B1 (en) 1998-10-16 2002-01-15 Seiko Epson Corporation Surface acoustic wave device
US6566788B2 (en) 1998-10-16 2003-05-20 Seiko Epson Corporation Surface acoustic wave device
CN1130824C (zh) * 1998-10-16 2003-12-10 精工爱普生株式会社 弹性表面波元件
US6856218B2 (en) * 2001-12-28 2005-02-15 Seiko Epson Corporation Surface acoustic wave device and communications apparatus using the same
US7336016B2 (en) 2003-08-20 2008-02-26 Seiko Epson Corporation Surface-acoustic wave device and method of manufacturing same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI762832B (zh) 聲表面波器件
KR102156247B1 (ko) 탄성파 장치
GB2098395A (en) Gt-cut piezo-electric resonators
US4418299A (en) Face-shear mode quartz crystal vibrators and method of manufacture
EP1542361A2 (en) Surface acoustic wave element, method of manufacturing the same and surface acoustic wave device
JPH01129517A (ja) 表面波共振素子の製造方法
JPH07263998A (ja) 端面反射型表面波共振子
US4926086A (en) Piezoelectric resonator
JPS6173409A (ja) 弾性表面波装置
US4670681A (en) Singly rotated orientation of quartz crystals for novel surface acoustic wave devices
JPS61134111A (ja) タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハ
JPH0365046B2 (ja)
JP2006074136A (ja) 弾性表面波素子片および弾性表面波装置
JP2004146963A (ja) 超薄板圧電デバイスとその製造方法
JPH02295212A (ja) 弾性表面波共振子
JPS61222312A (ja) 弾性表面波装置
JP2565880B2 (ja) 弾性表面波装置の製造方法
JPH04294622A (ja) 圧電素子の製造方法
JPS6127929B2 (ja)
JP2002368573A (ja) 超薄板圧電振動子及びその製造方法
US20240014797A1 (en) Acoustic wave device and acoustic wave device manufacturing method
JPS6346605B2 (ja)
JPS616919A (ja) 弾性波素子
JPH10126208A (ja) 弾性表面波装置
JPS6382113A (ja) 弾性表面波素子