JPS6159762A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体チップの上に半導体チップを搭載してな
るChip on Chipの半導体装置に係り、高耐
圧の入出力をもったチップの上に、低電圧の通常レベル
の論理回路を形成したチップを載せて、両方のチップを
レベル変換回路と低電圧用レギュレータ回路を通じて結
線した構成に関する。
るChip on Chipの半導体装置に係り、高耐
圧の入出力をもったチップの上に、低電圧の通常レベル
の論理回路を形成したチップを載せて、両方のチップを
レベル変換回路と低電圧用レギュレータ回路を通じて結
線した構成に関する。
大規模集積回路(、L S I )の高機能化、高集積
化により、近年各!ff機能の回路を同−LSI内に構
成する場合が多くなってきた。例えば0MO5とTTL
、またはアナログとCMOSのディジタル、さらにイン
クフェイス回路を設けてCMOSとECL等の構成を有
するLSIの要求に対し、同一チップ内に構成すること
は困難である。無理をして強行しても製造工程上、また
その歩留りの上からも極めて不利である。
化により、近年各!ff機能の回路を同−LSI内に構
成する場合が多くなってきた。例えば0MO5とTTL
、またはアナログとCMOSのディジタル、さらにイン
クフェイス回路を設けてCMOSとECL等の構成を有
するLSIの要求に対し、同一チップ内に構成すること
は困難である。無理をして強行しても製造工程上、また
その歩留りの上からも極めて不利である。
従って回路機能別に独立のチップを用いれば、それぞれ
に最適なプロセスが適用でき、各機能毎の特徴、が生か
せることになり、そのため2チツプよりなる所謂Chi
p on ChipのLSIが検討されるようになった
。
に最適なプロセスが適用でき、各機能毎の特徴、が生か
せることになり、そのため2チツプよりなる所謂Chi
p on ChipのLSIが検討されるようになった
。
近年、プラズマ表示装置や、螢光表示管や、各種プリン
タのハンマ等を直接駆動する高耐圧LSIの需要が多く
なり、 この場合も、LSIの製造歩留り上、また信顛
性上高耐圧部と低圧部を2前記用途の高耐圧LSIの耐
圧は20〜30V、あるいはそれ以上が要求される。こ
の場合高耐圧素子だけでなく、内部論理回路まで線幅の
大きい設計ルールを適用しなければならず、従って集積
度、が低下する。
タのハンマ等を直接駆動する高耐圧LSIの需要が多く
なり、 この場合も、LSIの製造歩留り上、また信顛
性上高耐圧部と低圧部を2前記用途の高耐圧LSIの耐
圧は20〜30V、あるいはそれ以上が要求される。こ
の場合高耐圧素子だけでなく、内部論理回路まで線幅の
大きい設計ルールを適用しなければならず、従って集積
度、が低下する。
上記問題点の解決は、2個の半導体チップが結線されて
なり、第1の半導体チップには入出力回路が、第2の半
導体チップには入出力回路以外の回路が形成され、該入
出力回路の耐圧が該入出力回路以外の回路より高い本発
明による半導体装置により達成される。
なり、第1の半導体チップには入出力回路が、第2の半
導体チップには入出力回路以外の回路が形成され、該入
出力回路の耐圧が該入出力回路以外の回路より高い本発
明による半導体装置により達成される。
さらに前記第1の半導体チップには、入出力回路として
レベル変換回路と、前記第2の半導体チップ用の電源と
しての低電圧用レギュレータ回路とが形成されているこ
とにより、一層有効な手段が得られる。
レベル変換回路と、前記第2の半導体チップ用の電源と
しての低電圧用レギュレータ回路とが形成されているこ
とにより、一層有効な手段が得られる。
低電圧の論理LSI(5V用等)を形成した上側チップ
を、高耐圧の入出力をもった下側チップの上に載せる。
を、高耐圧の入出力をもった下側チップの上に載せる。
このとき高耐圧の下側チップ上には低電圧用のレギュレ
ータ回路を作っておき、上側のチップの電源とする。
ータ回路を作っておき、上側のチップの電源とする。
下側のチップは、上側のチップからの信号レベルをレベ
ル変換して外部とのやりとりを行う、従って外部から見
ると高音圧のLSIとなる。
ル変換して外部とのやりとりを行う、従って外部から見
ると高音圧のLSIとなる。
また下側のチップは大きくなるが、アクティブ領域はチ
ップの周辺のみでそれほど大きくなく、歩留りの低下を
きたさない。
ップの周辺のみでそれほど大きくなく、歩留りの低下を
きたさない。
上側のチップの内部論理回路は低圧の通常のLSIを使
えるため、高耐圧で作るより小さくなり、従って歩留り
も良く高集積化が可能となる。
えるため、高耐圧で作るより小さくなり、従って歩留り
も良く高集積化が可能となる。
第1図は本発明の実施例を示すLSIの平面図である。
図において、1は下側の高耐圧チップで、その中央部に
上側チップを載せるスペースをあけて、周辺部にレベル
変換回路2と、低電圧用レギュレータ3を配設し、その
外周にはパッケージに接続するパッド4、内周には上側
チップに接続するパッド5を設ける。
上側チップを載せるスペースをあけて、周辺部にレベル
変換回路2と、低電圧用レギュレータ3を配設し、その
外周にはパッケージに接続するパッド4、内周には上側
チップに接続するパッド5を設ける。
6は上側チップで、内部論理回路7を配設し、その外周
には下側チップに接続するパッド8を設ける。
には下側チップに接続するパッド8を設ける。
ワイヤ9により、パッド5,8間がボンディングされて
、上下のチップが結線される。
、上下のチップが結線される。
第2図は本発明の実施例を示すLSIをパッケージに組
み込んだ断面図である。
み込んだ断面図である。
図において、パンケージ10の上にチップ1を搭載し、
その上にチップ6をフェイスアップに載せ、パッド5.
8により両チップを結線する。つぎにワイヤ13により
アップ1の周辺のパッド4とパッケージ10にメタライ
ズされた内部リード11とをボンディングする。内部リ
ード11はパフケージの外部リード12に接続されてい
る。14はパッケージの蓋を示す。
その上にチップ6をフェイスアップに載せ、パッド5.
8により両チップを結線する。つぎにワイヤ13により
アップ1の周辺のパッド4とパッケージ10にメタライ
ズされた内部リード11とをボンディングする。内部リ
ード11はパフケージの外部リード12に接続されてい
る。14はパッケージの蓋を示す。
第3図はレベル変換回路2の論理回路図である。
図は3段のインパーク回路を示し、CMOSで構成する
場合は2、例えば高電源電圧を20v1低電源電圧を5
vとすれば、低電源電圧より高電源電圧に変換する場合
は各段の電源電圧を20Vにし、しきい値電圧を2.5
.10.10 Vにすればよい。また反対に高電源電圧
より低電源電圧に変換する場合は各段の電源電圧を20
.5.5Vにし、しきい値電圧を10.2.5.2.5
Vにすればよい。
場合は2、例えば高電源電圧を20v1低電源電圧を5
vとすれば、低電源電圧より高電源電圧に変換する場合
は各段の電源電圧を20Vにし、しきい値電圧を2.5
.10.10 Vにすればよい。また反対に高電源電圧
より低電源電圧に変換する場合は各段の電源電圧を20
.5.5Vにし、しきい値電圧を10.2.5.2.5
Vにすればよい。
インバータ回路は0MO5の代わりにバイポーラで構成
してもよい。
してもよい。
実施例では両チップの結線をパッド5.8間のボンディ
ングで行ったが、バンプ(配線層の隆起部)、ビームリ
ードで行ってもよい。
ングで行ったが、バンプ(配線層の隆起部)、ビームリ
ードで行ってもよい。
また実施例では、パフケ、−ジはセラミックを用いたが
、モールドでもよい。
、モールドでもよい。
以上説明したように本発明によれば、LSIを高耐圧チ
ップと通常のチップとに2分することにより、内部論理
は通常の高集積のLSIをその□まま用いて、高耐圧用
のLSIを高集積に歩留り良く得ることができる。
ップと通常のチップとに2分することにより、内部論理
は通常の高集積のLSIをその□まま用いて、高耐圧用
のLSIを高集積に歩留り良く得ることができる。
第1図は本発明の実施例を示すLSIの平面図、第2図
は本発明の実施例を示すLSIをパンケージに組み込ん
だ断面図、 第3図はレベル変換回路の論理回路図である。 図において、 1は下側の高耐圧チップ、 2はレベル変換回路、 3は低電圧用レギュレータ、 4と5と8はパッド、 6は上側チップ、7は内部
論理回路、 9と13はワイヤ、10はパフケー
ジ、 11は内部リード、12は外部リード、
14は蓋を示す。 系1 目 た2N −〉−〉−)−
は本発明の実施例を示すLSIをパンケージに組み込ん
だ断面図、 第3図はレベル変換回路の論理回路図である。 図において、 1は下側の高耐圧チップ、 2はレベル変換回路、 3は低電圧用レギュレータ、 4と5と8はパッド、 6は上側チップ、7は内部
論理回路、 9と13はワイヤ、10はパフケー
ジ、 11は内部リード、12は外部リード、
14は蓋を示す。 系1 目 た2N −〉−〉−)−
Claims (2)
- (1)2個の半導体チップが結線されてなり、第1の半
導体チップには入出力回路が、第2の半導体チップには
入出力回路以外の回路が形成され、該入出力回路の耐圧
が該入出力回路以外の回路より高いことを特徴とする半
導体装置。 - (2)前記第1の半導体チップには、入出力回路として
レベル変換回路と、前記第2の半導体チップ用の電源と
しての低電圧用レギュレータ回路とが形成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59181081A JPS6159762A (ja) | 1984-08-30 | 1984-08-30 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59181081A JPS6159762A (ja) | 1984-08-30 | 1984-08-30 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6159762A true JPS6159762A (ja) | 1986-03-27 |
Family
ID=16094476
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59181081A Pending JPS6159762A (ja) | 1984-08-30 | 1984-08-30 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6159762A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006080145A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Nec Electronics Corp | チップオンチップ型半導体集積回路装置 |
JP2006261603A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Ricoh Co Ltd | マルチチップ型半導体装置及びその製造方法 |
JP2010073951A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
US8713635B2 (en) | 2004-06-10 | 2014-04-29 | Nec Corporation | Information terminal, setting information distribution server, right information distribution server, network connection setting program and method |
WO2017038403A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | ソニー株式会社 | 積層体 |
-
1984
- 1984-08-30 JP JP59181081A patent/JPS6159762A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8713635B2 (en) | 2004-06-10 | 2014-04-29 | Nec Corporation | Information terminal, setting information distribution server, right information distribution server, network connection setting program and method |
JP2006080145A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Nec Electronics Corp | チップオンチップ型半導体集積回路装置 |
JP2006261603A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Ricoh Co Ltd | マルチチップ型半導体装置及びその製造方法 |
JP2010073951A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
JP2014060417A (ja) * | 2008-09-19 | 2014-04-03 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
WO2017038403A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | ソニー株式会社 | 積層体 |
JPWO2017038403A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2018-08-16 | ソニー株式会社 | 積層体 |
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