JPS6148528A - レ−ザ−ビ−ム走査処理装置 - Google Patents
レ−ザ−ビ−ム走査処理装置Info
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- JPS6148528A JPS6148528A JP16890584A JP16890584A JPS6148528A JP S6148528 A JPS6148528 A JP S6148528A JP 16890584 A JP16890584 A JP 16890584A JP 16890584 A JP16890584 A JP 16890584A JP S6148528 A JPS6148528 A JP S6148528A
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- laser beam
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、高出力パルスレーザ−ビームにより被処理物
体、例えば電磁鋼板の磁気特性を向上させるようにした
レーザービーム走査処理装置に関する。
体、例えば電磁鋼板の磁気特性を向上させるようにした
レーザービーム走査処理装置に関する。
方向性電磁鋼板の表面にＹＡＧレーザー等の高出力パル
スレーザ−ビームを照射することによって、電磁鋼板（
以下鋼板という）の磁気特性を改善できる技術は特公昭
５７−２２５２号公報等によって公知である。 しかし
、このような従来の技術を工業的規模で実施する際には
種々の解決すべき問題があり、特に、レーザー走査機構
に振動ミラーを使用する場合には、走査の直線性と複数
の振動ミラーによる走査長さの制御及びレーザー装置の
台数の削減方法が問題であった。
スレーザ−ビームを照射することによって、電磁鋼板（
以下鋼板という）の磁気特性を改善できる技術は特公昭
５７−２２５２号公報等によって公知である。 しかし
、このような従来の技術を工業的規模で実施する際には
種々の解決すべき問題があり、特に、レーザー走査機構
に振動ミラーを使用する場合には、走査の直線性と複数
の振動ミラーによる走査長さの制御及びレーザー装置の
台数の削減方法が問題であった。
例えば、幅の広い鋼板をレーザー照射するためには、振
動ミラーの走査幅の制限から多数の振動ミラーが必要で
あって、レーザー走査機の台数を削減することは困難で
あった。 また、振動ミラ−は一般に第５図（Ａ）の曲
線Ｑ１に示すような鋸歯状信号によって曲線れに示す如
く正弦波駆動する場合が多い。 第５図（Ａ）において
、０は振動ミラー角度、■は駆動信号電圧、ｔは時間を
示す。 振動ミラーを第５図（Ａ）のように駆動する場合は、振
動周波数を高くできないこと、及び曲線Ω２のように過
渡現象により非直線部分が必ず存在する問題があった。 また、振動周波数を高くするために、第５図ＣＢ）の
曲線Ｑ３ に示すように正弦波信号で駆動した場合は、
直線性の得られる範囲が狭くなることや走査軌跡が平行
にならない等の問題があった。 さらに、第６図に示す
ように、隣接する振動ミラーによる鋼板ｌｏ上の走査軌
跡１５ａ、１５ｂの重なり具合を適正に調節することも
端部の非直線性のため問題があった。
動ミラーの走査幅の制限から多数の振動ミラーが必要で
あって、レーザー走査機の台数を削減することは困難で
あった。 また、振動ミラ−は一般に第５図（Ａ）の曲
線Ｑ１に示すような鋸歯状信号によって曲線れに示す如
く正弦波駆動する場合が多い。 第５図（Ａ）において
、０は振動ミラー角度、■は駆動信号電圧、ｔは時間を
示す。 振動ミラーを第５図（Ａ）のように駆動する場合は、振
動周波数を高くできないこと、及び曲線Ω２のように過
渡現象により非直線部分が必ず存在する問題があった。 また、振動周波数を高くするために、第５図ＣＢ）の
曲線Ｑ３ に示すように正弦波信号で駆動した場合は、
直線性の得られる範囲が狭くなることや走査軌跡が平行
にならない等の問題があった。 さらに、第６図に示す
ように、隣接する振動ミラーによる鋼板ｌｏ上の走査軌
跡１５ａ、１５ｂの重なり具合を適正に調節することも
端部の非直線性のため問題があった。
本発明は上記の問題点を解決したものであって、必要な
レーザー走査機の台数を削減し、走査の直線性を高め、
かつ隣接する走査の重なり具合も自由に調節でき、高出
力パルスレーザー走査システムの効率、信頼性、性能、
及びコスト等の点を著しく改善することを目的としてい
る。 しかして、本発明の目的はレーザー光源から出
射されるレーザービームを複数方向に時分割するための
回転分割ミラーを含む光路選択部と、上記回転分割ミラ
ーによって時分割されたレーザービームを走査する複数
の振動ミラーからなるレーザービーム走査部と、上記回
転分割ミラーの回転角度と上記振動ミラーの角度の関係
を制御する位相制御部と、この位相制御部の制御出力信
号に関連して上記振動ミラーの振幅を制御する振幅制御
部と、走査されたレーザービームを被処理物体上に集束
させる光学系と、上記被処理物体の移動速度に対応して
上記回転分割ミラーの回転数と上記振動ミラーの振動周
波数を制御する制御部とによって構成したレーザービー
ム走査処理装置により達成され、上記被処理物体上に任
意のピッチ及び走査幅でレーザービームを有効に照射で
きるものである。
レーザー走査機の台数を削減し、走査の直線性を高め、
かつ隣接する走査の重なり具合も自由に調節でき、高出
力パルスレーザー走査システムの効率、信頼性、性能、
及びコスト等の点を著しく改善することを目的としてい
る。 しかして、本発明の目的はレーザー光源から出
射されるレーザービームを複数方向に時分割するための
回転分割ミラーを含む光路選択部と、上記回転分割ミラ
ーによって時分割されたレーザービームを走査する複数
の振動ミラーからなるレーザービーム走査部と、上記回
転分割ミラーの回転角度と上記振動ミラーの角度の関係
を制御する位相制御部と、この位相制御部の制御出力信
号に関連して上記振動ミラーの振幅を制御する振幅制御
部と、走査されたレーザービームを被処理物体上に集束
させる光学系と、上記被処理物体の移動速度に対応して
上記回転分割ミラーの回転数と上記振動ミラーの振動周
波数を制御する制御部とによって構成したレーザービー
ム走査処理装置により達成され、上記被処理物体上に任
意のピッチ及び走査幅でレーザービームを有効に照射で
きるものである。
以下に、本発明の一実施例を第１図〜第４図を参照しな
がら説明する。 第１図は本発明の実施例に係るレーザービーム走査処理
装置を示し、１はＹＡＧレーザー等の高出力パルスレー
ザ−光源、２は光路選択部であって、この光路選択部２
は光路切替部材、例えば回転分割ミラー３と、この回転
分割ミラー３を回転駆動する回転駆動部、例えばモータ
４からなる。 回転分割ミラー３は第２図に示すように回転板３１と、
この回転板３１の外縁部に円周方向に沿ってほぼ等間隔
に取付けた反射部材、例えば平面鏡３２ａ〜３２ｄによ
って構成されている。 また、５は回転分割ミラー３を
透過または反射したレーザービームの光路上に配置され
た第１の光路変更部で、この第１の光路変更部５はレー
ザービームの直進路上に設けた平面鏡５ａと、回転分割
ミラー３によって反射された反射光路上に設けた平面鏡
５ｂとによって構成される。 ６は第２の光路変更部で
平面鏡５ａによる反射光路上に設けた平面鏡６ａと、平
面鏡５ｂによる反射光路上に設けた平面鏡６ｂとによっ
て構成されている。 ７はレーザービーム走査部で、第２の光路変更部６の平
面鏡６ａによって反射したレーザービームの光路上に設
けた第１の振動ミラー７ａと、平面鏡６ｂによって反射
したレーザービームの光路上に設けた第２の振動ミラー
７ｂからなる。 振動ミラー７ａの走査光路上には第１
のｆ−θレンズ８ａを・、また振動ミラー７ｂの走査光
路上には第２のｆｌｌレンズ８ｂをそれぞれ設け、これ
ら第１のｆ−θレンズ８ａと第２のｆ−θレンズ８ｂは
集束部８を構成し、レーザービームは被処理物体である
鋼板１０の表面をスポット９ａ、９ｂで走査する仕組に
なっている。 しかして、平面鏡５ａ、６ａ、振動ミラー７ａ及びｆ−
θレンズ８ａは第１の光学系を、また、平面鏡５ｂ、６
ｂ、振動ミラー７ｂ及びｆ−０レンズ８ｂは第２の光学
系をそれぞれ形成する。 さらに、１１はモータ４の回
転角度を検出する回転角度検出器、１２は鋼板１０の移
動速度信号Ｓ□と回転角度検出器１１の検出信号Ｓ２を
特徴とする特許制御装置である。 １３ａ、１３ｂは回
転角度検出器１１の検出信号Ｓ２を入力とする第１．第
２の位相制御部、１４ａ、１４ｂは第１．第２の位相制
御部１３ａ、１３ｂの位相制御信号Ｓ４８．Ｓ４ｂを入
力とする第１．第２の振幅制御部であって、第１の振幅
制御部１４ａはその振幅制御信号Ｓ５ａによって第１の
振動ミラー７ａの振幅を制御し、第２の振幅制御部１４
ａはその振幅制御信号Ｓ５ａによって第２の振動ミラー
７ｂの振幅を制御する。 上記構成のレーザービーム走査処理装置において、レー
ザー光源１から出射されたレーザービーム１８は光路選
択部２の回転分割ミラー３によって時分割的に透過、反
射の切替が行なわれる。 レーザービーム１８が回転分割ミラー３の平面鏡３２ａ
〜３２ｄに当らなければ透過し、平面鏡３２ａ〜３２ｄ
に当れば反射する。 レーザービーム１８の直径が十分
小さければ透過と反射の切替が効率よく行なわれる。
レーザービーム１８の直径が十分小さくない場合には
、レンズ１６で集束させ、再び透過ビーム１９ａと反射
ビーム１９ｂをそれぞれレンズ１７ａ、１７ｂによって
平行にすると効果がある。 この場合、レンズ１７ａ。 １７ｂを透過した後のビーム径をより大きくして以後の
光学系の結像性能を高めることも可能であり、また、レ
ンズの代りに放物面鏡を組合せることも可能である。
回転分割ミラー３によって時分割されたレーザービーム
のうち、透過ビーム１９ａは平面鏡５ａ、６ａを経て振
動ミラー７ａによって走査され、ｆ−＆レンズ８ａによ
って鋼板１０の表面に微小なスポット９ａで走査し、反
射ビーム１９ｂは平面鏡５ｂ、６ｂを経て振動ミラー７
ｂによって走査され、ｆ−ｅレンズ８ｂによって鋼板１
０の表面にスポット９ｂで走査することになる。 一方、回転分割ミラー３の回転数は鋼板１０の移動速度
信号Ｓ１を基準に回転制御装置１２によって制御される
と共に、回転角度検出器１１の検出信号Ｓ２を基準に、
回転分割ミラー３の回転角度と振動ミラー７ａ及び７ｂ
の振れ角が特定の位相関係になるように位相制御部１３
ａ及び１３ｂによって制御される。 位相制御部１３ａ
、１３ｂの出力信号Ｓ４８．Ｓ４ｂは回転分割ミラー３
の回転角度と特定の位相関係にある鋸歯状波となるが、
さらに第１．第２の振幅制御部１４ａ、１４ｂによって
振幅が制御され、その制御出力信号Ｓ ５ａ。 Ｓ５ｂによって第１．第２の振動ミラー７ａ、７ｂの振
幅も制御されることになる。 回転分割ミラー３を透過
するビーム１９ａの強度は第３図（Ａ）の曲線Ｑ４ａの
ように変化し、反射するビーム１９ｂの強度は第３図（
Ｂ）の曲線Ω４ｂのように変化する。 また、これらの
ビーム切替えタイミングと特定の位相関係にある第１の
振動ミラー７ａは第３図（Ｃ）に示す鋸歯状波信号Ｑｉ
ａで制御され曲線Ｑ２ａのように駆動される。 第２の
振動ミラー７ｂは第３図（Ｄ）の曲線Ｑ□ｂ、 Ｑ２ｂ
のように駆動制御される。 ここで、各々の鋸歯状波信
号（Ｑｌａ、Ｑ□ｂ）で駆動された振動ミラー７ａ、７
ｂは過渡特性により曲線ρ２ａ、 Ｄ２ｂのように各周
期の初期の部分で直線性が悪くなるが、振動ミラーにレ
ーザービームが当るタイミングは回転分割ミラー３によ
って制御されるため、最終的なレーザービームの走査は
第３＠ （Ｅ）のＱ 、ａ、 Ｑ 、ｂのように直線性
の良い部分が使用される。 すなわち、第３図（Ｅ）で
直線Ｑ５ａ、は第１の振動ミラー７ａの走査特性、Ｑ、
ｂは第２の振動ミラー７ｂの駆動特性である。 このよ
うな走査によって、実際の鋼板上の走査は第４図の走査
軌跡４０ａのように直線性、平行性とともに良好なもの
となる。 さらに振幅制御ぶ１４ａ、１４ｂによって第３図（Ｆ）
の直線Ｑ Ｇａｔ Ｑ 、ｂおよび第４図の走査軌跡４
０ｂのようになり、複数の振動ミラーによる走査を最適
に組合せることが可能となる。 なお、上述の実施例では振動ミラーが２個の場合につい
て述べたが、さらに多くの振動ミラーを使用した場合も
同様の効果が得られるものである。 【発明の効果１ 以上説明したように、本発明によれば高出力のレーザー
ビームにより被処理物体、例えば電磁鋼板の磁気特性を
向上させる装置において、同じ数の振動ミラーを半分の
数のレーザーで駆動できるとともに、走査の直線性を高
め、また、隣接する振動ミラーによる走査の重なり具合
いを適正に調節することが可能となり、高出力レーザー
走査システムの効率、信頼性、性能及びコストの面でも
著しく改善することができる効果がある。
がら説明する。 第１図は本発明の実施例に係るレーザービーム走査処理
装置を示し、１はＹＡＧレーザー等の高出力パルスレー
ザ−光源、２は光路選択部であって、この光路選択部２
は光路切替部材、例えば回転分割ミラー３と、この回転
分割ミラー３を回転駆動する回転駆動部、例えばモータ
４からなる。 回転分割ミラー３は第２図に示すように回転板３１と、
この回転板３１の外縁部に円周方向に沿ってほぼ等間隔
に取付けた反射部材、例えば平面鏡３２ａ〜３２ｄによ
って構成されている。 また、５は回転分割ミラー３を
透過または反射したレーザービームの光路上に配置され
た第１の光路変更部で、この第１の光路変更部５はレー
ザービームの直進路上に設けた平面鏡５ａと、回転分割
ミラー３によって反射された反射光路上に設けた平面鏡
５ｂとによって構成される。 ６は第２の光路変更部で
平面鏡５ａによる反射光路上に設けた平面鏡６ａと、平
面鏡５ｂによる反射光路上に設けた平面鏡６ｂとによっ
て構成されている。 ７はレーザービーム走査部で、第２の光路変更部６の平
面鏡６ａによって反射したレーザービームの光路上に設
けた第１の振動ミラー７ａと、平面鏡６ｂによって反射
したレーザービームの光路上に設けた第２の振動ミラー
７ｂからなる。 振動ミラー７ａの走査光路上には第１
のｆ−θレンズ８ａを・、また振動ミラー７ｂの走査光
路上には第２のｆｌｌレンズ８ｂをそれぞれ設け、これ
ら第１のｆ−θレンズ８ａと第２のｆ−θレンズ８ｂは
集束部８を構成し、レーザービームは被処理物体である
鋼板１０の表面をスポット９ａ、９ｂで走査する仕組に
なっている。 しかして、平面鏡５ａ、６ａ、振動ミラー７ａ及びｆ−
θレンズ８ａは第１の光学系を、また、平面鏡５ｂ、６
ｂ、振動ミラー７ｂ及びｆ−０レンズ８ｂは第２の光学
系をそれぞれ形成する。 さらに、１１はモータ４の回
転角度を検出する回転角度検出器、１２は鋼板１０の移
動速度信号Ｓ□と回転角度検出器１１の検出信号Ｓ２を
特徴とする特許制御装置である。 １３ａ、１３ｂは回
転角度検出器１１の検出信号Ｓ２を入力とする第１．第
２の位相制御部、１４ａ、１４ｂは第１．第２の位相制
御部１３ａ、１３ｂの位相制御信号Ｓ４８．Ｓ４ｂを入
力とする第１．第２の振幅制御部であって、第１の振幅
制御部１４ａはその振幅制御信号Ｓ５ａによって第１の
振動ミラー７ａの振幅を制御し、第２の振幅制御部１４
ａはその振幅制御信号Ｓ５ａによって第２の振動ミラー
７ｂの振幅を制御する。 上記構成のレーザービーム走査処理装置において、レー
ザー光源１から出射されたレーザービーム１８は光路選
択部２の回転分割ミラー３によって時分割的に透過、反
射の切替が行なわれる。 レーザービーム１８が回転分割ミラー３の平面鏡３２ａ
〜３２ｄに当らなければ透過し、平面鏡３２ａ〜３２ｄ
に当れば反射する。 レーザービーム１８の直径が十分
小さければ透過と反射の切替が効率よく行なわれる。
レーザービーム１８の直径が十分小さくない場合には
、レンズ１６で集束させ、再び透過ビーム１９ａと反射
ビーム１９ｂをそれぞれレンズ１７ａ、１７ｂによって
平行にすると効果がある。 この場合、レンズ１７ａ。 １７ｂを透過した後のビーム径をより大きくして以後の
光学系の結像性能を高めることも可能であり、また、レ
ンズの代りに放物面鏡を組合せることも可能である。
回転分割ミラー３によって時分割されたレーザービーム
のうち、透過ビーム１９ａは平面鏡５ａ、６ａを経て振
動ミラー７ａによって走査され、ｆ−＆レンズ８ａによ
って鋼板１０の表面に微小なスポット９ａで走査し、反
射ビーム１９ｂは平面鏡５ｂ、６ｂを経て振動ミラー７
ｂによって走査され、ｆ−ｅレンズ８ｂによって鋼板１
０の表面にスポット９ｂで走査することになる。 一方、回転分割ミラー３の回転数は鋼板１０の移動速度
信号Ｓ１を基準に回転制御装置１２によって制御される
と共に、回転角度検出器１１の検出信号Ｓ２を基準に、
回転分割ミラー３の回転角度と振動ミラー７ａ及び７ｂ
の振れ角が特定の位相関係になるように位相制御部１３
ａ及び１３ｂによって制御される。 位相制御部１３ａ
、１３ｂの出力信号Ｓ４８．Ｓ４ｂは回転分割ミラー３
の回転角度と特定の位相関係にある鋸歯状波となるが、
さらに第１．第２の振幅制御部１４ａ、１４ｂによって
振幅が制御され、その制御出力信号Ｓ ５ａ。 Ｓ５ｂによって第１．第２の振動ミラー７ａ、７ｂの振
幅も制御されることになる。 回転分割ミラー３を透過
するビーム１９ａの強度は第３図（Ａ）の曲線Ｑ４ａの
ように変化し、反射するビーム１９ｂの強度は第３図（
Ｂ）の曲線Ω４ｂのように変化する。 また、これらの
ビーム切替えタイミングと特定の位相関係にある第１の
振動ミラー７ａは第３図（Ｃ）に示す鋸歯状波信号Ｑｉ
ａで制御され曲線Ｑ２ａのように駆動される。 第２の
振動ミラー７ｂは第３図（Ｄ）の曲線Ｑ□ｂ、 Ｑ２ｂ
のように駆動制御される。 ここで、各々の鋸歯状波信
号（Ｑｌａ、Ｑ□ｂ）で駆動された振動ミラー７ａ、７
ｂは過渡特性により曲線ρ２ａ、 Ｄ２ｂのように各周
期の初期の部分で直線性が悪くなるが、振動ミラーにレ
ーザービームが当るタイミングは回転分割ミラー３によ
って制御されるため、最終的なレーザービームの走査は
第３＠ （Ｅ）のＱ 、ａ、 Ｑ 、ｂのように直線性
の良い部分が使用される。 すなわち、第３図（Ｅ）で
直線Ｑ５ａ、は第１の振動ミラー７ａの走査特性、Ｑ、
ｂは第２の振動ミラー７ｂの駆動特性である。 このよ
うな走査によって、実際の鋼板上の走査は第４図の走査
軌跡４０ａのように直線性、平行性とともに良好なもの
となる。 さらに振幅制御ぶ１４ａ、１４ｂによって第３図（Ｆ）
の直線Ｑ Ｇａｔ Ｑ 、ｂおよび第４図の走査軌跡４
０ｂのようになり、複数の振動ミラーによる走査を最適
に組合せることが可能となる。 なお、上述の実施例では振動ミラーが２個の場合につい
て述べたが、さらに多くの振動ミラーを使用した場合も
同様の効果が得られるものである。 【発明の効果１ 以上説明したように、本発明によれば高出力のレーザー
ビームにより被処理物体、例えば電磁鋼板の磁気特性を
向上させる装置において、同じ数の振動ミラーを半分の
数のレーザーで駆動できるとともに、走査の直線性を高
め、また、隣接する振動ミラーによる走査の重なり具合
いを適正に調節することが可能となり、高出力レーザー
走査システムの効率、信頼性、性能及びコストの面でも
著しく改善することができる効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す構成概略図、第２図は
回転分割ミラーの正面図、第３図（Ａ）〜（Ｆ）は第１
図に示した装置の各部の特性図、第４図は同上装置の走
査処理特性図、第５図（Ａ）、ＣＢ）は従来のレーザー
ビーム走査処理装置の特性図、第６図は従来のレーザー
ビーム走査処理装置の走査処理特性図である。 図中、１はレーザー光源、２は光路選択部、３は回転分
割ミラー、５は第１の光路変更部、５ａ。 ５ｂは平面鏡、６は第２の光路変更部＋ ６ａ、６ｂは
平面鏡、７はレーザービーム走査部、７ａ。 ７ｂは振動ミラー、８は集束部、８ａ、８ｂはｆ−０レ
ンズ、１０は被処理物体である電磁鋼板、１１は回転角
度検出器、１２は回転制御装置、１３ａ、１３ｂは位相
制御部、１４ａ、１４ｂは振幅制御部である。 特許出願人 山田光学工業株式会社 外１名 第４図 第５図 （Ａ） 負 （Ｂ） θ
回転分割ミラーの正面図、第３図（Ａ）〜（Ｆ）は第１
図に示した装置の各部の特性図、第４図は同上装置の走
査処理特性図、第５図（Ａ）、ＣＢ）は従来のレーザー
ビーム走査処理装置の特性図、第６図は従来のレーザー
ビーム走査処理装置の走査処理特性図である。 図中、１はレーザー光源、２は光路選択部、３は回転分
割ミラー、５は第１の光路変更部、５ａ。 ５ｂは平面鏡、６は第２の光路変更部＋ ６ａ、６ｂは
平面鏡、７はレーザービーム走査部、７ａ。 ７ｂは振動ミラー、８は集束部、８ａ、８ｂはｆ−０レ
ンズ、１０は被処理物体である電磁鋼板、１１は回転角
度検出器、１２は回転制御装置、１３ａ、１３ｂは位相
制御部、１４ａ、１４ｂは振幅制御部である。 特許出願人 山田光学工業株式会社 外１名 第４図 第５図 （Ａ） 負 （Ｂ） θ
Claims (1)
- レーザー光源から出射されるレーザービームを複数方向
に時分割するための回転分割ミラーを含む光路選択部と
、上記回転分割ミラーによって時分割されたレーザービ
ームを走査する複数の振動ミラーからなるレーザービー
ム走査部と、上記回転分割ミラーの回転角度と上記振動
ミラーの角度の関係を制御する位相制御部と、この位相
制御部の制御出力信号に関連して上記振動ミラーの振幅
を制御する振幅制御部と、走査されたレーザービームを
被処理物体上に集束させる光学系と、上記被処理物体の
移動速度に対応して上記回転分割ミラーの回転数と上記
振動ミラーの振動周波数を制御する制御部とによって構
成したことを特徴とするレーザービーム走査処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16890584A JPS6148528A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | レ−ザ−ビ−ム走査処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16890584A JPS6148528A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | レ−ザ−ビ−ム走査処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6148528A true JPS6148528A (ja) | 1986-03-10 |
| JPH0323610B2 JPH0323610B2 (ja) | 1991-03-29 |
Family
ID=15876733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16890584A Granted JPS6148528A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | レ−ザ−ビ−ム走査処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6148528A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63222483A (ja) * | 1987-03-12 | 1988-09-16 | Toshiba Corp | レ−ザパルス発生装置 |
| CN102095688A (zh) * | 2011-03-08 | 2011-06-15 | 中国人民解放军总装备部工程兵科研一所 | 一种用于材料激光性能的测量设备 |
| WO2013099219A1 (ja) | 2011-12-27 | 2013-07-04 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の鉄損改善装置 |
| CN110106320A (zh) * | 2019-05-07 | 2019-08-09 | 南京苏星智能装备有限公司 | 一种智能多头取向硅钢激光刻痕装备及其控制方法 |
-
1984
- 1984-08-14 JP JP16890584A patent/JPS6148528A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63222483A (ja) * | 1987-03-12 | 1988-09-16 | Toshiba Corp | レ−ザパルス発生装置 |
| CN102095688A (zh) * | 2011-03-08 | 2011-06-15 | 中国人民解放军总装备部工程兵科研一所 | 一种用于材料激光性能的测量设备 |
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