JPS6130585A - 置換ピリジンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、置換ピリジンスルホンアミド系化合物又はそ
れらを有効成分として含有する除草剤に関し、さらに詳
しくは、本発明は一般式（Ｉ）； す、Ｙ及びＺはメチル基又はメトキシ基であり、Ａは二
Ｎ−又は＝ＣＨ−である）で表わされる置換ピリジンス
ルホンアミド系化合物又はそれらを有効成分として含有
する除草剤である。

前記一般式（Ｉ）において、Ｘの定義中で示されるノ為
ロゲン原子としては、弗素、塩素、臭素又は沃素が挙げ
られる。

本発明の置換ピリノンスル、】、ンアミド系化合物は、
ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩、マグネシ
ウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属塩或はジメチ
ルアミン、トリエチルアミンなどの第四級アンモニウム
塩を形成することもで外る。

前記一般式（Ｉ）の本発明化合物は、例えば次のような
方法によって製造することができる。

（Ｂ） Ｚ及びＡは前述の通りである。） 上記反応は必要に応じて溶媒の存在下で行なわれる。

溶ｆｌ＆トシーＣハ、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類：クロロホルム
、四塩化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリク
ロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は
非環状脂肪族炭化水素類ニジエチルエーテル、メチルエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロ７ランなどの
エーテル類ニアセトニトリル、プロピオニトリル、アク
リロニトリルなとのニトリル類二ツメチルスルホキシド
、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げら
れる。

前記反応式中の（ｎ）及び（ＩＶ）で表わされる原料化
合物は、十 原料化合物の製造法における各反応の反応温度、反応時
間、必要に応じて使用される溶媒、アルカリ性物質など
の反応条件は、通常同様の反応における反応条件から適
宜選択できる。

次に本発明化合物の具体的合成例を記載する。

合成例Ｉ　　　　Ｎ−Ｃ（４，６−ノメトキシビリミジ
ンー２−イル）アミ７カルボニル）−３−（１，２，３
，３゜３−ペンタフルオロプロペン−１−イル）−２−
ピリジンスルホンアミドの合成 （１）　２−メルカプトピリジン５．０８を濃塩酸４０
ｍ（！に加え、−１０℃に冷却し、０℃以下で塩素ガス
を約２時間通しすこ。得られた溶液を氷水中に注ぎ、析
出した結晶を減圧濾過ｔこより採り、得られた結晶を氷
水洗浄した後、０℃に冷却した塩化メナレンに溶解し、
０°Ｃ付近で無水モ硝にて乾燥した。

この塩化メチレン溶液を氷冷したフラスコに入れ、攪拌
下０℃以下でｔｅｒｔ−ブチルアミン１０．を滴下した
。滴下後、−１５〜−５℃で１時間さらに室温で１０時
間攪拌しながら反応させた。反応終了後、生成物を水中
に投入し、氷酢酸を用いて酸性とし塩化メチレンで抽出
した。

抽出層を水洗し、無水モ硝で乾燥した後、溶媒を留去し
て、融点１．０８−１１０℃のＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−
２−ピリジンスルホンアミド５．２８ｇを得た。

（２）前記工程（１）で得られたスルホンアミド系化合
物２．０ｇを無水テトラヒドロ７ラン５０＋ｏｆｆに溶
解し、窒素雰囲気下、−７０〜−７８℃でｎ−ブチルリ
チウムの■−ヘキサン溶液（濃度１　、６５　Ｍ／Ｑ’
　）１１　、３ｍ０を滴下した。滴下後、−７８℃で２
時間攪拌し、この温度でヘキサフルオロプロペン１．６
ｇを導入し、−７０〜−７８°Ｃで４時間反応させた。

反応終了後、生成物を希塩酸中に投入し、酢酸エチルで
抽出した。抽出層を無水主硝で乾燥した後、溶媒を留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒：塩化メチレン）により精製して、融点１
１３−１２５℃のｈＬｔｅｒｔ−ブチル−３−（１，２
，３，３，３−ペンタフルオロプロペン−１−イル）＝
２−ピリジンスルホンアミド１．６５ｇを得た。

（３）前記工程（２）で得られたスルホンアミド系化合
物１．２Ｆｉとトリフルオロ酢酸５ｍρとを混合上室温
で１６時間、加熱還流下で３時間さらに室温で７日間攪
拌下に反応させた。反応終了後、生成物を水中に投入し
、析出した結晶を減圧濾過により採り、結晶をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；塩化メチレン
：酢酸エチル＝　３　：　１　、）により精製して、融
点１４０〜１４４℃の３−（１，２，３，３，３−ペン
タフルオロプロペン−１−イル）−２−ピリジンスルホ
ンアミド０．５９ｇを得た。

（４）前記工程（３）で得られた３−（１，２，３，３
，３−ペンタフルオロプロペン−１−イル）−２−ピリ
ジンスルホンアミド０．２ｇとＮ−＜４．６−シメトキ
シピリミジンー２−イル）フェニルカーバメー）　０．
１９ｇとを無水アセトニトリル８−に溶解し、室温で１
，８−ジアザビシクロＣ５，４゜０〕−７−ウンデセン
（ＤＢＵ）０．１ａＱを加え、１６時間攪拌下に反応さ
せた。反応終了後、反応物から大部分のア七ト二トリル
を留去し、残渣を水中に投入し、希塩酸で酸性にし、析
出した結晶を減圧濾過により採り、結晶をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒；塩化メチレン：酢
酸エチル＝１：１）により精製して、融点１５１〜１５
５℃の目的物５０ｍＨを得た。

合成例２　　　　Ｎ−（（４，６−シメトキシー１；３
，５−）リアジン−２−イル）アミ７カルボニル）−４
−（１゜２．３，３．３−ペンタフルオロプロペン−１
−イル）−３−ピリジンスルホンアミドの合成（１）　
３−ピリ、ジルスルホン酸９．４ｇと五塩化リン１５ｇ
を混合し、１８０〜１９０℃で１２時間攪拌しながら反
応させた。冷却後、氷水中に投入し、塩化メチレンで抽
出した。抽出層を水洗し、無水モ硝で乾燥した後、溶媒
を留去し、得られた油状物７．９４ｇをトルエン２５−
に溶解させ、室温でｊｅｒｋ−ブチルアミン１０ｇのト
ルエン溶液２０拍Ｑを滴下し、滴下後９０〜１００°Ｃ
で１８時間攪拌しながら反応させた。冷却後反応物を水
中に投入し、氷酢酸にてｐＨを５程度にして、酢酸エチ
ルで抽出した。

抽出層を無水星硝で乾燥した後、溶媒を留去し、得られ
た結晶をｎ−ヘキサン中で粉砕して、減圧濾過により結
晶を採り、融点８６〜９０℃のＮ７ｔｅｒｔ−ブチル−
３−ピリジンスルホンアミｌ’７．２７ｇを得た。

（２）前記工程（１）で得られたスルホンアミド系化合
物３．０ｇを無水ジエチルエーテル４０ｍ（ｌ及び無水
テトラヒドロフラン１０−に溶解し窒素雰囲気下、−６
０〜−７０℃でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液
（濃度１．６５Ｍ／ρ）８．５ｍρを滴下して、この温
度で１時間攪拌しながら反応させた。次いで、−６０〜
−７０℃でリチウムジイソプロピルアミドの溶液（ジイ
ソプロピルアミン１．４ｉｇのジエチルエーテル溶液３
０−とｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶ａ（濃度１
．６５Ｍ／ρ）８．５ａＱとから調製したもの）を滴下
し、この温度で１．５時間攪拌下に反応させた。次いで
、ヘキサフルオロプロペン（液上させた状態で約２．５
ｍｆｆ）を導入し、−６０〜−７０゛Ｃで２時間さらに
室温で１．５時間反応させた。反応終了後、反応物を水
中に投入し、希塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出した
。抽出層を無水モ硝で乾燥した後、溶媒を留去し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
溶媒；塩化メチレン：酢酸エチル＝５：１）により精製
して、融点１２１〜１２５°ＣのＮ−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−（１，２，３，３，３−ペンタフルオａ　７’　
ｏベン−１−イル）−３−ピリジンスルホン７ミド１．
２０Ｂを得た。

（３）前記工程（２）で得られたスルホンアミド系化合
物１．０ｇを用いて、前記合成例１（３）の場合と同様
にして、融点１２４〜１２８℃の４−（１，２，３，３
，３−ペンタフルオロプロペン−１−イル）−３−ピリ
ジンスルホンアミド０．５５ｇを得た。

（４）前記工程（３）で得られたスルホンアミド系化合
物０．２ｇとＮ−（４，６−シメトキシー１．３．５−
）リアジン−２−イル）フェニルカーバメ−）０．２ｇ
とを用いて、前記合成例１（４）の場合と同様にして、
融点１４１〜１４５℃の目的物０．１３．を得た。

前記合成例に準じて製造された中間体としては、例えば
下記のものが挙げられる。

Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（２−クロロ−１，２−ジ
フルオロビニル）−２−ピリジンスルホンアミド（融点
１２４〜１２９’Ｃ）、３−（２−クロロ−１，２−ジ
フルオロビニル）−２−ピリジンスルホンアミド（融点
９９〜１０５℃）、４−（２−クロロ−１，２−ジフル
オロビニル）−３−ピリジンスルホンアミド（融点１２
７〜１３４℃） 前記一般的製造法並びに合成例１及び２に準じて製造さ
れた本発明化合物の代表例を下記する。

化合物Ｎｏ、Ｉ　　Ｎ−（（４，６−シメトキシー１．
３．５−）リアジン−２−イル）アミ７カルボニル〕−
３−（１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロペン−
１−イル）−２−ピリジンスルホンアミド融点　１２５
〜１３２℃ 化合物Ｎｏ、２　　Ｎ−［（４，６−ジメトキシビリミ
ジン−２−イル）アミ７カルボニル）−３−（１，２，
３゜３．３−ペンタフルオロプロペン−１−イル）−２
−ピリジンスルホンアミド 融点　１５１〜１５５℃ 化合物ＮＯ，３Ｎ−［（４−メトキシ−６−メチル−１
，３，５−トリアジン−２−イル）アミ７カルボニル〕
−３−（１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロヘン
−１−イル）−２−ピリジンスルホンアミド　　　融点
　１８４〜１９１℃ 化合物ＮＯ，４Ｎ−（（４−メトキシ−６−メチルピリ
ミシーンー２−イル）アミ７カルボニル）−３−（１゜
２．３，３．３．−ペンタフルオロプロペン−１−イル
）−２−ピリジンスルホンアミド融点　１４３〜１５０
℃ 化合物Ｎｏ、５　　Ｎ−（（４，６−シメチルビリミシ
ンー２−イル）アミ７カルボニル）−３−（１，２，３
゜３．３−ペンタフルオロプロペン−１−イル）−２−
ピリジンスルホンアミド 融点　１６９〜１７４℃ 化合物Ｎｏ、６　　Ｎ−（（４，６−シメチルピリミシ
ンー２−イル）アミ７カルボニル）−３−（２−クロロ
−１，２−ジフルオロビニル）−２−ピリジンスルホン
アミド 融点　１７６〜１８２°Ｃ 化合物Ｎｏ、７　　Ｎ−（（４，６−シメトキシー１，
３．５−）リアジン−２−イル）アミ７カルボニル）−
３−（２−クロロ−１，２−ジフルオロビニル）−２−
ピリジンスルホンアミド 融点　１２０〜１２９℃ 化合物Ｎｏ、８　　Ｎ−（（４，６−シメトキシー１，
３．５−トリアジン−２−イル）アミ７カルボニル〕−
４−（１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロペン−
１−イル）−３−ピリジンスルホンアミド融点　１４１
〜１４５°Ｃ 化合物Ｎｏ、９　　Ｎ−（（４＊６−シメチルピリミシ
ンー２−イル）アミ７カルボニル）−４−（１，２，３
゜３．３−ペンタフルオロプロペン−１−イル）−３−
ピリジンスルホンアミド 融点　　７３〜７８℃ 化合物Ｎｏ、１０　　Ｎ−Ｃ（４−メトキシ−６−メ÷
ルピリミジン−２−イル）アミノカルボニル）−４−（
２−クロロ−１，２−ジフルオロビニル）−３−ピリジ
ンスルホン７ミド 融点　１５５〜１５９℃ 本発明の置換ピリジンスルホンアミド系化合物は、後記
試験例にみる通り、除草剤の有効成分として使用した場
合に優れた除草効果を示す。

また、それら有害雑草が、比較的生育の進んだものであ
っても防除できるので好ましいものである。

本発明の除草剤の適用範囲は、畑地、果樹園、桑園など
の農耕地、山林、農道、グランド、工場敷地などの非農
耕地と多岐にわたり、また適用方法も土壌処理、茎葉処
理を適宜選択できる。

本発明除草剤を施用する場合、通常は担体、必要に応じ
て希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、界面活性剤などの各
種補助剤と混合して、粒剤、水和剤、乳剤、液剤などに
製剤して使用する。有効成分化合物と農薬用補助剤との
適当な配合重量比は、一般に０．５：９９．５〜９０：
１０、望ましくは、１：９９〜６０：４０である。有効
成分化合物の使用適量は、気象条件、−土壌条件、薬剤
の製剤形態、対象雑草の種類、施用時期などの相違によ
り一概に規定できないが、一般に１アール当りの施用有
効成分量としては、０．１・〜１００ｇ、望ましくは０
．５〜５０ｇである。

本発明除草剤は、他の農薬、肥料、土壌、薬害軽減剤な
どと混用或いは併用することができ、この場合に一層優
れた効果・作用性を示すことがある。他の除草剤と混用
或いは併用する場合、その混合相手除草剤の有効成分と
しては、例えば次のようなものが挙げられる。

４−７ミノー３，５．６−）ジクロロ−２−ピリジンカ
ルボン酸カリウム ２．４−ジクロＴ：Ｉフェノキシ酢酸エチル２−メチル
−４−クロロフェノキシ酢酸エチル４−アミノ−６−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−３−（メチルチオ）−１，２，４−ト
リアジン−５（４Ｈ）−オン ２−（２−クロロ−４・エチルアミノ−３−）リアジン
−６−イルアミノ）−２−メチルプロピオニトリル２−
クロロ−４，６−ビス（エチルアミノ）−８−トリアジ
ン２−クロロ−４−エチルアミノ−６−イツブロピルア
ミノーＳ−トリアジン Ｎ’　−（５−（１，１−ジメチルエチル）−３−イン
オキサゾール）−Ｎ、Ｎ−ジメチルウレア ３−（３、４−ジクロロフェニル）−１、１−ジメチル
ウレア３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メトキ
シ−１−メチルウレア ３．５−ジニトロ−Ｎ４．Ｎ４−ジプロピルスル７７ニ
ルアミド ２−メチルチオ−４−エチルアミノ−６−イツブロビル
アミノーＳ−）リアシ゛ン α−（４−（５−トリフルオロメチル−２−ピリジルオ
キシ）フェノキシ〕プロピオン酸−ｎ−ブチルα−（４
−（２，４−ジクロロフェノキシ）フェノキシ〕プロピ
オン酸メチル ＣＩ−Ｃ４−（３−クロロ−５−トリフルオロメチル−
２−ピリジルオキシ）フェノキシ〕プロピオン酸メチル
２−（１−（エトキシイミノ）−ブチル）−５−（２−
エチルチオプロピル）−３−ヒドロキシ−２−シクロヘ
キセン−１−オン１．１′−ジメチル−４，４′−ビピ
リジリウムジクロリドＮ−（ホスホノメチル）グリシン
のイソプロピルアミン塩Ｎ′−メトキシカルボニルスル
７アニルアミドナトリウム２．２−ジクロロプロピオン
酸ナトリウム３．４−ジクロロプロピオンアニリド １．２−ジメチル−３，５−ジフェニル−ＩＨ−ピラゾ
リウムメチルスルフェート Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−（３−クロロ−４−フルオロフェ
ニル）−２−アミ／プロピオン酸エチル ３．４−ジメチル−２，６−シニトローＮ−１−エチル
プロピルアニリン ａｌ　ａｌ　Ｑ　−）　’）　７　ルｌｒ　ロー　２　
ｊ　６−ジニトｔｊ−ＮＩＮ−ジプロピル−ｐ−トルイ
ジン ２−クロロ−２’　、６’−ジエチル−Ｎ−（メトキシ
メチル）アセトアニリＶ ２−クロロ〜Ｎ−（２−エチル−６−メチルフェニル）
−Ｎ−（２−メトキシ−１−メチルエチノリアセトアミ
ド５’−（）リフルオロメタンスルホンアミド）アセ１
２’。

４′−キシリジッド ２−クロロ−Ｎ−イソプロピルアセトアニリド３．５−
ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル３．５−ショ
ート−４−オクタノイルオキシベンゾニトリル４−クロ
ロブ＋−２−二ルーＮ−（３−クロロフェニル）カーバ
メート 次に本発明除草剤の試験例を記載する。

試験例１ １７５．０００７−ルポツトに水田土壌を詰め、ヒエ及
びホタルイの種子並びにウリカワの塊茎を播種し、湿潤
状態に保った。ヒエが１葉期に生育した後約５ｃｍ１：
潅水し、本発明除草剤の水和剤を水で希釈し、所定量を
ピペットで滴下処理した。薬剤処理２１日後に生育状態
を肉眼で観察し、下記の基準（１〜５の５点法）に基づ
いて生育抑制程度を評価し、その結果を表１に掲載した
。

生育抑制程度 ５　：　完全な枯死状態 １　：　無処理区と同様の生育 第１表 試験例２ １　／　１　、　ＯＯＯアールポットに畑地土壌を詰め
、各種植物の種子を播種した。その後、植物が一定の生
育段階に達したとき（大豆が１葉期、トウモロコシが４
葉期、小麦が４葉期、オナモミが４葉期、アサガオが２
葉期、タデが２葉期、メヒシバが３葉期及びヒエが３葉
期）、本発明除草剤の水利剤を５００１２　／ｈａの量
の水で希釈して、有効成分が所定量となるように小型ス
プレーで茎葉処理した。処理後３０日０に各種植物の生
育状態を肉眼で観察し、１０段階（１：無処理区と同様
〜１０：完全に抑制）で生育抑制程度を評価し、表２の
結果を得た。

第２表 次に、本発明除草剤の製剤例を記載する。

製剤例１ （１）ベントナイト　　　　　　　　　　　　６１重量
部（２）’）−クライト　　　　　　　　　　３３．８
重量部（３）　リグニンスルホン酸ソーダ　　　　　　
　５重量部（４）化合物Ｎｏ、２　　　　　　　　　　
　０．２重量部以上の各成分に適量の造粒所要水を加え
、混合、造粒して粒剤を得た。

製剤例２ （１）　ジ−クライト　　　　　　　　　　　　７８重
量部（２）ラベリンＳ（商品名：第−工業製薬波）　　
２重量部（３）　ツルポール５０３９（商品名二東邦化
学工業製）５重量部 （４）カープレックス（商品名：塩野義製薬製）１５重
量部以上（１）〜（４）の成分の混合物と化合物Ｎ０１
１とを４：１の重量割合で混合して水和剤を得た。

製剤例３ （１）キシレン　　　　　　　　　　　　　　６０重量
部（２）ツルポール２Ｂ０６Ｂ（商品名：東邦化学工業
製）２０重量部 （３）化合物Ｎｏ、６　　　　　　　　　　　２０重量
部以上の各成分を均一に混合して乳剤を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式； ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはハロゲン原子又はトリフルオロメチル基で
   あり、Ｙ及びＺはメチル基又はメトキシ基であり、Ａは
   ＝Ｎ−又は＝ＣＨ−である）で表わされる置換ピリジン
   スルホンアミド系化合物 ２、一般式； ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはハロゲン原子又はトリフルオロメチル基で
   あり、Ｙ及びＺはメチル基又はメトキシ基であり、Ａは
   ＝Ｎ−又は＝ＣＨ−である）で表わされる置換ピリジン
   スルホンアミド系化合物の少くとも１種を有効成分とし
   て含有することを特徴とする除草剤。 ３、一般式； ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはハロゲン原子又はトリフルオロメチル基で
   ある）で表わされる置換スルホンアミド系化合物と、一
   般式；▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒはアルキル基又はフェニル基であり、Ｙ及び
   Ｚはメチル基又はメトキシ基であり、Ａは＝Ｎ−又は＝
   ＣＨ−である）で表わされる置換カーバメート系化合物
   とを反応させることを特徴とする、一般式；▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びＡは前述の通りである）で表わ
   される置換ピリジンスルホンアミド系化合物の製造方法
   。 ４、一般式； ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはハロゲン原子又はトリフルオロメチル基で
   ある）で表わされる置換イソシアネート系化合物と、一
   般式； ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｙ及びＺはメチル基又はメトキシ基であり、Ａ
   は＝Ｎ−又は＝ＣＨ−である）で表わされる置換アミド
   系化合物とを反応させることを特徴とする、一般式；▲
   数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びＡは前述の通りである）で表わ
   される置換ピリジンスルホンアミド系化合物の製造方法
   。