JPS61278752A - Electrophoretic instrument - Google Patents
Electrophoretic instrumentInfo
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- JPS61278752A JPS61278752A JP60120141A JP12014185A JPS61278752A JP S61278752 A JPS61278752 A JP S61278752A JP 60120141 A JP60120141 A JP 60120141A JP 12014185 A JP12014185 A JP 12014185A JP S61278752 A JPS61278752 A JP S61278752A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の分野)
本発明は、蛋白質、核酸等のように溶液中で電離基を持
つ物質をその粒子の荷電および分子量の相違に基づいて
分離分析を行なうため等に用いられる電気泳動装置に関
するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of the Invention) The present invention is useful for separating and analyzing substances that have ionizing groups in solution, such as proteins and nucleic acids, based on the differences in charge and molecular weight of their particles. The present invention relates to the electrophoresis device used.
(発明の背景)
緩衝液を浸み込ませたゲル膜、m紙などのシート状支持
媒体中において蛋白質、蛋白質分解物。(Background of the Invention) Proteins and protein decomposition products are produced in a sheet-like support medium such as a gel membrane or m-paper impregnated with a buffer solution.
核酸、核酸分解物などの荷電分子または粒子が電場の影
響下で移動する現象を利用して、それらの物質の分離を
行なうことを骨子とする電気泳動操作は以前から知られ
ており、特に上記のような生体高分子物質の分離と固定
に利用されている。Electrophoresis operations have been known for some time, and their main purpose is to separate charged molecules or particles, such as nucleic acids and nucleic acid decomposition products, by utilizing the phenomenon in which they move under the influence of an electric field. It is used for the separation and fixation of biopolymer substances such as.
特に最近注目されている遺伝子工学の分野においては、
オートラジオグラフィーを利用したDNAなどの核酸の
塩基配列の決定のために電気泳動操作の実施が必須とさ
れている。この目的にお番プる電気泳動操作は一般に、
放射性標識が付されたDNAあるいはDNA断片の塩基
特異的反応物混合物を電気泳動用支持媒体の電界方向に
沿って複数種並行して泳動させる操作が含まれる。そし
て、その泳動により得られた複数列の泳動パターン(電
気泳動により支持媒体上に形成されるゾーンの集合体)
をオートラジオグラフとして得たのち、各列のゾーンを
相互に対照比較することにより塩基配列の決定が行なわ
れる。すなわち、同一の分子量を有する塩基特異的反応
物は電気泳動の開始点が同一であれば、同一の位置に移
動するとの電気泳動の原理を利用して、それらの対照比
較をおこなっている。Especially in the field of genetic engineering, which has recently attracted attention,
In order to determine the base sequence of a nucleic acid such as DNA using autoradiography, it is essential to perform an electrophoretic operation. Electrophoretic procedures used for this purpose are generally
This involves an operation in which a plurality of base-specific reaction mixtures of radioactively labeled DNA or DNA fragments are migrated in parallel along the direction of an electric field in a support medium for electrophoresis. Then, a multi-row migration pattern (a collection of zones formed on the support medium by electrophoresis) is obtained by the migration.
After obtaining an autoradiograph, the base sequence is determined by comparing the zones in each row with each other. In other words, the comparison is made using the principle of electrophoresis that base-specific reactants having the same molecular weight migrate to the same position if the starting point of electrophoresis is the same.
一般に電気泳動用支持媒体としてはヂ紙、メンブランフ
ィルタ、澱粉ゲル躾、ポリアクリルアミドゲル膜などが
用いられており、厚さの均一なシート状のものである。Generally, paper, membrane filters, starch gel membranes, polyacrylamide gel membranes, etc. are used as support media for electrophoresis, and they are in the form of sheets of uniform thickness.
これらの支持媒体のうち、澱粉ゲル膜、ポリアクリルア
ミドゲル膜などのゲル膜は、電気非伝導性のガラス板、
有機ポリマーフィルムなどからなる平坦な支持体(支持
具)の周囲に支持枠(スペーサ)を設置して形成したモ
ールド上にゲル調製液を導入し、必要に応じてさらに別
の支持体で上面を密閉したのちゲル化させることにより
形成される。以下、2枚の支持体の間に挾持されたゲル
膜も単に電気泳動用支持媒体ということがある。Among these supporting media, gel membranes such as starch gel membranes and polyacrylamide gel membranes are supported by electrically non-conductive glass plates,
The gel preparation solution is introduced onto a mold formed by setting a support frame (spacer) around a flat support (support) made of an organic polymer film, etc., and if necessary, cover the top surface with another support. It is formed by sealing it and then gelling it. Hereinafter, the gel membrane sandwiched between two supports may also be simply referred to as an electrophoresis support medium.
しかしながら、このようにして形成される厚さの均一な
長方形のシート状支持媒体を用いて上記のような電気泳
動操作を行なった場合に、同一の分子量を有する物質で
あってもそれらの泳動位置の相違に基づいて泳動距離が
不均一になる現象が発生しやすい。すなわち、荷電物質
の移動速度(すなわちゾーンの移動距離)は一般に中央
部よりも両側部の方が小さくなる傾向があり、このため
一定時間経過後の泳動パターンは、第7図に例示したよ
うに、両側部におけるゾーンの移動距離が、中央部にL
13【ノるゾーンの移動距離よりも短くなったパターン
になりゃすい。なお第7図は、支持板(支持具>70の
上に形成された支持媒体71上にて上端開始点72から
電気泳動させて得られたゾーン73.73=の泳動パタ
ーンを模式的に示すものである。この現象はスマイリン
グ効果と呼ばれ、DNAなどの塩基配列の決定操作のよ
うに複数の泳動列を対照比較する工程を含む操作におい
ては、塩基配列などの得られる情報の精度の低下を引き
起こす大きな原因となっている。上記のスマイリング効
果の発生の主な原因としては、支持媒体中を電流が通る
ことにより発生した熱(ジュール熱)が側面縁部から放
熱されるために中央部と側面部とで温度差が生ずること
が挙げられる。すなわち、発生したジュール熱は支持媒
体の中央部では表および裏面からのみ放熱されるが、側
面部では更に側面縁部からの放熱が加わる。なa3、こ
れらの放熱を補うためのジュール熱の幅方向に沿った移
動も発生するが、この熱の移動についても、支持媒体の
中央部は両側からの熱の流入により放熱が補償されやす
いが、両側面部では一方の側から熱の流入があるのみと
なり放熱の補償が不十分となる。これらの理由により、
側面部の温度は中央部の温度に比較して低く゛なる傾向
があり、その結果、温度の低い側面部では荷電物質の移
動速度が中央部より小さくなり、泳動パターン上にはス
マイリング効果が発生する◎
このため、従来からスマイリング効果の発生を防止する
ため、支持板の電気泳動用媒体に接しない側の表面に熱
伝導率の良い金属板などからなる放熱板を付設して温度
差の発生を抑制するという工夫がなされている。このよ
うにすればある程度の効果は得ら、れるが、金属板の平
面度を高めるのが難しいため金属板と支持体を全面にわ
たって密着させるのが難しく、放熱板の放熱にむらが生
じ易いなどの問題があり、充分なスマイリング効果の防
止を図るのは困難であり、放熱板を付設する作業も煩雑
である。However, when the above electrophoresis operation is performed using the rectangular sheet-like support medium of uniform thickness formed in this way, even if substances have the same molecular weight, their migration positions differ. Due to the difference in the electrophoresis distance, the phenomenon of uneven migration tends to occur. In other words, the moving speed of charged substances (i.e., the moving distance of the zone) generally tends to be smaller on both sides than in the center, and therefore the migration pattern after a certain period of time is as illustrated in Figure 7. , the moving distance of the zone on both sides is L in the center
13 [The pattern is likely to be shorter than the travel distance of the noru zone. Note that FIG. 7 schematically shows the electrophoresis pattern of zone 73.73= obtained by electrophoresis from the upper end starting point 72 on the support medium 71 formed on the support plate (supporter>70). This phenomenon is called the smiling effect, and in operations that involve comparing and contrasting multiple electrophoresis columns, such as determining the base sequence of DNA, etc., the accuracy of the information obtained, such as the base sequence, decreases. The main cause of the above-mentioned smiling effect is that the heat (Joule heat) generated by the passage of current through the support medium is dissipated from the side edges, and the central part In other words, the generated Joule heat is radiated only from the front and back surfaces in the central portion of the support medium, but in the side portions, heat is further radiated from the side edges. A3: To compensate for these heat dissipations, Joule heat also moves along the width direction, but in the center of the support medium, the heat dissipation is easily compensated for by the inflow of heat from both sides. In the case of both side surfaces, heat inflows only from one side, resulting in insufficient compensation for heat radiation.For these reasons,
The temperature at the side portions tends to be lower than that at the center, and as a result, the moving speed of charged substances at the lower temperature side portions is lower than that at the center, creating a smiling effect on the migration pattern. ◎ Therefore, in order to prevent the smiling effect from occurring, a heat dissipation plate made of a metal plate with good thermal conductivity is attached to the surface of the support plate on the side not in contact with the electrophoresis medium to create a temperature difference. Efforts are being made to suppress this. Although some effect can be obtained by doing this, it is difficult to increase the flatness of the metal plate, so it is difficult to make the metal plate and support stick closely together over the entire surface, and the heat radiation of the heat sink is likely to be uneven. Due to this problem, it is difficult to sufficiently prevent the smiling effect, and the work of attaching a heat sink is also complicated.
このようなことから、第8図に示すように、緩衝液を入
れた上部緩衝液槽81を、支持媒体84を挾持する支持
板83の裏面にまで伸ばして、上部緩衝液槽81内の緩
衝液が支持板83の裏面全体に接触するようにしたもの
も使用されている。For this reason, as shown in FIG. A device in which the liquid comes into contact with the entire back surface of the support plate 83 is also used.
このようにすれば、上部電極82と下部電極86との間
に印加された電圧は、上部緩衝液槽81および下部Mm
液槽85内の緩衝液を介して支持媒体84に印加され、
この時支持板83の裏面全体に接触する上部緩衝液槽8
1内の緩衝液によって支持板83および支持媒体84の
温度勾配が小さくなり、スマイリング効果の発生を押え
ることができる。In this way, the voltage applied between the upper electrode 82 and the lower electrode 86 can be applied to the upper buffer tank 81 and the lower Mm
applied to the support medium 84 via the buffer solution in the liquid tank 85;
At this time, the upper buffer tank 8 contacts the entire back surface of the support plate 83.
The buffer solution in 1 reduces the temperature gradient of the support plate 83 and the support medium 84, making it possible to suppress the occurrence of the smiling effect.
しかしながら、この場合には1ili液に温度差が生じ
ないようにするためには比較的高価な緩衝液を大量に必
要とするため、電気泳動を行なわせるための経費が高く
なるという問題がある。さらに、電気泳動のため上部お
よび下部電極間に付加される電圧は通常1500〜30
00Vと高電圧であり、且つ11m液は導電性が良いた
め、上部緩衝液槽を下方へ伸ばして下部緩衝液槽に近づ
けると、両者の電気絶縁性不良の設題も生じやすい。However, in this case, a large amount of relatively expensive buffer solution is required in order to prevent a temperature difference from occurring in the 1ili solution, so there is a problem in that the expense for performing electrophoresis becomes high. Furthermore, the voltage applied between the upper and lower electrodes for electrophoresis is usually 1500 to 300
Since the voltage is as high as 00V and the 11m liquid has good conductivity, if the upper buffer solution tank is extended downward and brought closer to the lower buffer solution tank, the problem of poor electrical insulation between the two is likely to occur.
また、緩衝液によって温度勾配を小さくできると言って
も、緩衝液も側方部からの放熱が中央部からの放熱より
大きく、ある程度のスマイリング効果の発生は避けられ
ない。Further, even though the temperature gradient can be reduced by using the buffer solution, the heat dissipation from the side portions of the buffer solution is greater than the heat dissipation from the center portion, and the occurrence of the smiling effect to some extent is unavoidable.
(発明の目的)
本発明は、このような問題に鑑み、緩衝液を大量に必要
とすることなく、比較的低コストでスマイリング効果を
押えることができ、且つ上部および下部緩衝液槽の間の
電気絶縁も行ない易いような、電気泳動装置を提供する
ことを目的とするものである。(Object of the Invention) In view of these problems, the present invention is capable of suppressing the smiling effect at a relatively low cost without requiring a large amount of buffer solution, and in addition, it is possible to suppress the smiling effect at a relatively low cost without requiring a large amount of buffer solution. It is an object of the present invention to provide an electrophoresis device that can be easily electrically insulated.
(発明の構成)
本発明の電気泳動装置は、シート状の電気泳動用支持体
を両側から挾持する実質的に電気非伝導性かつ非可撓性
の平板状支持板を定位置に載置固定し、該支持板を水密
に固定しうる支え台と、該支持板の上端開口と連通し、
内部に緩衝液を収容保持しうる上部緩衝液槽と、前記支
持板の下端開口と連通し、内部に緩衝液を収容保持しう
る下部緩衝液槽と、前記上部および下部緩衝液槽の各々
に配された上部および下部電極とを有し、該上部および
下部電極間に所定電圧を印加することにより前記上部お
よび下部緩衝液槽内に収容保持された緩衝液を介して前
記支持媒体の上下方向に電位勾配を与えて電気泳動を行
なわせるようにした電気泳動装置であり、前記支持板の
少なくとも一方の外表面を壁面とする保温水槽を設け、
この保温水槽内に支持板の両側端に沿って支持媒体に印
加された電界方向に延びた水温調整用ヒーターを配し、
このヒーターによって水温が均一化された水によって支
持媒体の温度を均一化し、温度勾配が生じるのを防止す
るようにしたことを特徴とする。(Structure of the Invention) The electrophoresis device of the present invention includes a substantially electrically non-conductive and non-flexible flat support plate that holds a sheet-like electrophoresis support from both sides and is fixed in place. a support base capable of watertightly fixing the support plate, and communicating with the upper end opening of the support plate;
an upper buffer solution tank capable of containing and holding a buffer solution therein, a lower buffer solution tank communicating with the lower end opening of the support plate and capable of containing and holding a buffer solution therein, and each of the upper and lower buffer solution tanks. The upper and lower electrodes are arranged, and by applying a predetermined voltage between the upper and lower electrodes, the support medium is moved in the vertical direction through the buffer solution contained and held in the upper and lower buffer solution tanks. An electrophoresis device is configured to perform electrophoresis by applying a potential gradient to the electrophoresis device, and the electrophoresis device is provided with a heat-retaining water tank whose wall is at least one outer surface of the support plate,
Water temperature adjusting heaters extending in the direction of the electric field applied to the support medium are arranged along both sides of the support plate in this heat-retaining water tank.
It is characterized in that the temperature of the support medium is made uniform by the water whose temperature has been made uniform by the heater, thereby preventing the occurrence of temperature gradients.
(実施態様)
以下、図面により本発明の好ましい実施態様について説
明する。(Embodiments) Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図は本発明に係る電気泳動装置の好ましい実[Q様
の1例を示す斜視図で、第2図はこの装置を前方から見
た正面図、第3図はこの装置の矢印A−Aに沿った断面
図であり、以下第1図から第3図を併用して本装置につ
いて説明する。FIG. 1 is a perspective view showing a preferred embodiment of the electrophoresis device according to the present invention [Q-type], FIG. 2 is a front view of this device as seen from the front, and FIG. 3 is an arrow A-- 3 is a sectional view taken along line A, and the present device will be described below using FIGS. 1 to 3 together.
本装置は支え台1上に上部緩衝液槽2、保温水(n5お
よび下部緩衝液槽7を取り付けたことを基本構成とする
。上部緩衝液槽2および下部緩衝液槽7内には夫々幅方
向に延びた1本の白金線からなる上部電極3および下部
電極8が配され、各緩耐液槽2,7内に緩衝液が入れら
れた時には、各電極3.8は緩衝液中に位置するように
なっている。これら両電極3.8は夫々、各緩衝液槽2
゜7の側壁外部に突出して取り付けられた外部端子3a
、8aと繋がる。The basic configuration of this device is that an upper buffer solution tank 2, warm water (n5) and a lower buffer solution tank 7 are mounted on a support stand 1. An upper electrode 3 and a lower electrode 8 made of a single platinum wire extending in the direction are arranged, and when a buffer solution is placed in each of the slow liquid tanks 2 and 7, each electrode 3.8 is placed in the buffer solution. These two electrodes 3.8 are located in each buffer tank 2, respectively.
External terminal 3a protruding and attached to the outside of the side wall of ゜7
, connected to 8a.
上W1116itj槽2は、側面ブ1/−ト12,13
、後下面プレート14および前面プレートT1により囲
まれた上面が開口する函体で、前面プレート11には切
り欠き11bが形成されている。保温水PI35は上部
緩衝液12の後ろ側から下側へまわりこみ、そのまま下
部緩衝液槽7の近傍まで下方に延びる函体で、側面プレ
ート12,13、背面プレート15および前面プレート
11から形成される。ここで、上部wJ衝液液槽と保温
水1115の側面プレート12.13および前面プレー
ト11は共通であることから分るように上部緩衝液[2
と保温水槽5は一体に構成されている。なお、保温水槽
5の前面には前面開口11aが形成されている。The upper W1116itj tank 2 has side panels 1/-to 12, 13.
, a box whose upper surface is open and surrounded by the rear lower surface plate 14 and the front plate T1, and the front plate 11 has a notch 11b formed therein. The warm water PI 35 is a box that flows around from the rear side of the upper buffer solution 12 to the bottom side and extends downward to the vicinity of the lower buffer solution tank 7, and is formed of side plates 12, 13, a back plate 15, and a front plate 11. . Here, as can be seen from the fact that the upper wJ buffer solution tank and the side plates 12.13 and front plate 11 of the warm water 1115 are common, the upper buffer solution [2
and the heat-retaining water tank 5 are integrally constructed. Note that a front opening 11a is formed at the front of the heat-retaining water tank 5.
また、保温水槽5の左右側端近傍には上下に延びた左右
一対の水温調整用ヒーター9.10が配設されており、
このヒーター9.10によって、保温水槽5内において
中央部と側端部とで水@め差が生ずるのを防止できるよ
うになっている。In addition, a pair of left and right water temperature adjustment heaters 9.10 extending vertically are arranged near the left and right ends of the heat-retaining water tank 5.
The heaters 9 and 10 can prevent a difference in water from occurring between the center and the side edges in the heat-retaining water tank 5.
このように一体に構成された上部緩衝液槽2と保温水槽
5は、各側面プレート12.13が、支え台1の上面に
固設された一対の垂直プレート16.17を外側から挟
むようにして該垂直プレート16.17と係合し、支え
台1に保持される。The upper buffer solution tank 2 and the heat-retaining water tank 5, which are integrally constructed in this way, are constructed such that each side plate 12.13 sandwiches a pair of vertical plates 16.17 fixedly installed on the upper surface of the support base 1 from the outside. It engages the vertical plates 16, 17 and is held on the support base 1.
側面プレート12.13と垂直プレート16,17の係
合は、具体的には次のようにして行なう。Specifically, the engagement between the side plates 12, 13 and the vertical plates 16, 17 is carried out as follows.
各側面プレート12.13の下端には下方に開口した第
1係合溝12a、13aが形成され、各垂直プレート1
6.17の上端には上方に開口したm2係合溝16a、
17aが形成されるとともに、各側面プレート12.1
3の内側面には図示の如く第2係合溝16a、17aと
係合する第2係合ビン12b、13bが内方に突出して
取り付けられ、各垂直プレート16.17の外側面には
図示の如く第1係合溝12a、13aと係合する第1係
合ピン161)、17t)が取り付けられている。First engaging grooves 12a and 13a opening downward are formed at the lower end of each side plate 12.13, and each vertical plate 1
6. M2 engagement groove 16a opened upward at the upper end of 17,
17a is formed and each side plate 12.1
Second engagement pins 12b and 13b that engage with second engagement grooves 16a and 17a are attached to the inner surfaces of the vertical plates 16 and 17 as shown in the figure, protruding inward, and the outer surfaces of each vertical plate 16 and 17 are provided with second engagement pins 12b and 13b that engage with the second engagement grooves 16a and 17a, respectively, as shown in the figure. First engaging pins 161) and 17t) that engage with the first engaging grooves 12a and 13a are attached as shown in FIG.
このため、側面プレート12.13が垂直プレート16
.176を挟むようにして、一体になった上部緩衝液槽
2と保温水槽5とを上方から降ろすだけで、第1係合溝
12a、13aと第1係合ビン161)、17bが係合
し、且つ、第2係合溝12b、13bと第2係合ピン1
6a、17aが係合して、一体になった上部緩衝液槽2
と保温水槽5とを支え台1に取り付けることができる。For this reason, the side plates 12.13 and the vertical plates 16
.. By simply lowering the integrated upper buffer solution tank 2 and heat-retaining water tank 5 from above with the upper buffer tank 176 sandwiched therebetween, the first engagement grooves 12a, 13a and the first engagement bins 161), 17b are engaged with each other. , second engagement grooves 12b, 13b and second engagement pin 1
6a and 17a are engaged to form an integrated upper buffer tank 2
and a heat-retaining water tank 5 can be attached to the support stand 1.
また、上部緩衝液槽2と保温水1fF5とを支え台1か
ら取り外す時には、これを上方に持ち上げるだけでよく
、取り付け、取り外しが容易に行なえるようになってい
る。Furthermore, when removing the upper buffer solution tank 2 and the warm water 1fF5 from the support stand 1, it is sufficient to simply lift them upward, making it easy to attach and remove them.
下部緩衝液槽7は、支え台1に取り付(プ、取り外しが
容易に行なえるように保持されており、第3図で2点鎖
線で示すように、前面板11の前面に、2枚のガラス板
からなる支持板により厚さがほぼ均一なシート状の支持
媒体を挾持した支持具アセンブリ20を取り付けた後、
上記のようにして上部緩衝液槽7と保温水槽5を支え台
1に取り付ける。このようにすると支持具アセンブリ2
0が、上部緩衝液槽2の前面の切り欠き11bおよび保
温水[5の前面間口11aを塞ぐが、この時の支持具ア
センブリ20と前面プレート11の接触面の間から緩衝
液もしくは水が漏れないように緩衝液槽パツキン4およ
び水槽パツキン6が前面プレート11上に設けられてい
る。アセンブリ20は実質的に電気非伝導性かつ実質的
に非可撓性であり、例えば、ガラス、セラミックス、有
機ポリマー(例:ポリメチルメタクリレート;ビスフェ
ノールへのポリカルボネート:セルロースアセテートブ
ロビオネート等)からなり、透明または白色であること
が好ましい。The lower buffer tank 7 is attached to the support stand 1 and held so that it can be easily removed.As shown by the two-dot chain line in FIG. After attaching the support assembly 20 in which a sheet-like support medium having a substantially uniform thickness is held between support plates made of glass plates,
The upper buffer solution tank 7 and the heat-retaining water tank 5 are attached to the support base 1 as described above. In this way, the support assembly 2
0 closes the front notch 11b of the upper buffer solution tank 2 and the front opening 11a of the insulating water [5], but at this time, the buffer solution or water leaks from between the contact surface of the support assembly 20 and the front plate 11. A buffer tank gasket 4 and a water tank gasket 6 are provided on the front plate 11 so that the water tank gas is not removed. Assembly 20 is substantially electrically non-conductive and substantially inflexible, such as glass, ceramics, organic polymers (e.g., polymethyl methacrylate; polycarbonate to bisphenol: cellulose acetate brobionate, etc.). It is preferably transparent or white.
なお、支持具アセンブリ20は第4A図および第4B図
(第4A図の矢印B−8に沿った断面図)に示すように
、支持板としての2枚のガラス板21a、21bの左右
に所定厚さのスペーサ23a。As shown in FIGS. 4A and 4B (a sectional view taken along arrow B-8 in FIG. 4A), the support assembly 20 is mounted on the left and right sides of two glass plates 21a and 21b serving as support plates. Thick spacer 23a.
231)を挟み、このスペー1+23a−,23bに囲
まれた2枚のガラス板21a、21bの間にゲル調整液
を注入してこれをゲル化させ、厚さの均一なシート状ゲ
ル膜からなる支持媒体22を形成させたものを用いる。231) and between the two glass plates 21a and 21b surrounded by the spaces 1+23a- and 23b, a gel conditioning solution is injected between the two glass plates 21a and 21b to gel it, resulting in a sheet-like gel film with a uniform thickness. A support medium 22 is used.
また、これに代えて、第5図に示すように2枚の電気非
伝導性有機ポリマーフィルムからなる支持体24a、2
4bの左右に所定厚さのスペーサ23a 、23bを挾
み、このスペーサ23a 、23bに囲まれた2枚のプ
ラスチックフィルム24a 、24bの間に厚さ均一な
ゲル膜(支持媒体)22を挾持したものを、2枚のガラ
ス板21a、21bで挾持したものを用いてもよい。Alternatively, as shown in FIG. 5, supports 24a, 2 made of two electrically non-conductive organic polymer films may
Spacers 23a and 23b of a predetermined thickness are sandwiched on the left and right sides of 4b, and a gel film (supporting medium) 22 of uniform thickness is sandwiched between two plastic films 24a and 24b surrounded by the spacers 23a and 23b. An object may be held between two glass plates 21a and 21b.
以上のようにして、電気泳動装置の前面に第3図の鎖線
で示すように支持具アセンブリ2oを取り付けた後、上
部および下部緩衝液1112.7に緩衝液を入れ、保温
水槽5内に水を入れる。この後、外部端子3a、8a間
に所定電圧を印加し、電気泳動を行なう。なお、支持具
アセンブリ2oを構成するガラス板21a、21bのう
ち前面プレート11と対向するガラス板21の上端は前
面プレート11の上端の切り欠きと同様の切り火きが形
成されており、上部緩衝液槽2内の緩衝液はこの切り欠
きを介してゲル族(支持媒体)22の上端と接触するよ
うになっており、且つ、支持具アセンブリ20の下端は
下部緩衝液槽7内に突出してゲル膜22の下端が下部緩
衝液槽7内の!1衝液と接触するようになっている。こ
のため、外部端子3a、8aに印加された電圧はgm液
を介してゲルII 22に作用し、ゲル膜22の上端か
ら注入された蛋白質、核酸等の被電気泳動物質の電気泳
動がなされる。After attaching the support assembly 2o to the front of the electrophoresis apparatus as shown by the chain line in FIG. Put in. Thereafter, a predetermined voltage is applied between the external terminals 3a and 8a to perform electrophoresis. Note that, among the glass plates 21a and 21b constituting the support assembly 2o, the upper end of the glass plate 21 facing the front plate 11 is formed with a cutout similar to the notch at the upper end of the front plate 11, and an upper buffer The buffer solution in the liquid tank 2 comes into contact with the upper end of the gel family (supporting medium) 22 through this notch, and the lower end of the support assembly 20 protrudes into the lower buffer solution tank 7. The lower end of the gel membrane 22 is inside the lower buffer tank 7! 1. It is designed to come into contact with a buffer solution. Therefore, the voltage applied to the external terminals 3a and 8a acts on the gel II 22 through the gm liquid, and the electrophoresed substances such as proteins and nucleic acids injected from the upper end of the gel membrane 22 are electrophoresed. .
この場合において、支持具アセンブリ2oが、保温水槽
5の前面開口11aを水密に塞いでいるので、この部分
においては保温水WI5内の水が支持具アセンブリ20
と接触しており、これにより支持具アセンブリ20の温
度が均一化される。この時、保温水槽5内の左右側端に
設けられた水温調整用ヒーター9.10によって中央部
と左右両側部との水温に差が生じないようにして、保温
水1f15内の水湯全体を常に均一で且つ一定に保持で
き、このため、支持媒体22の冷却(もしくは保温)効
果が前面にわたってほぼ均一になり、スマイリング効果
の発生を防止できる。In this case, since the support assembly 2o watertightly closes the front opening 11a of the heat-retaining water tank 5, the water in the heat-retaining water WI5 flows into the support assembly 20 in this part.
, which equalizes the temperature of the support assembly 20. At this time, the water temperature adjustment heaters 9.10 provided at the left and right ends of the heat retention water tank 5 are used to prevent any difference in water temperature between the center and the left and right sides, and the entire hot water in the heat retention water 1f15 is heated. It can be kept uniform and constant at all times, so that the cooling (or heat retention) effect of the support medium 22 is almost uniform over the front surface, and the smiling effect can be prevented from occurring.
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によれば、上部および下部
atVE液槽の聞において電圧を印加される支持媒体を
挾持する平板上支持板の外表面に保温水槽中の水を接触
させるようになすとともに、保温水槽中の両、側端部近
傍に、支持媒体に印加された電界方向に延びた水温調整
用ヒーターを配設しているので、保温水槽中の水を該ヒ
ーターにより均一に保持することができ、この潟度均−
な水により支持体表面の温度をほぼ均一に保持すること
ができ、支持媒体の温度もほぼ均一になり電気泳動時に
スマイリング効果が発生するのを防止することができる
。(Effects of the Invention) As explained above, according to the present invention, the water in the heat-retaining water tank is applied to the outer surface of the flat support plate that sandwiches the support medium to which a voltage is applied between the upper and lower atVE liquid tanks. In addition, water temperature adjustment heaters extending in the direction of the electric field applied to the support medium are installed near both side edges of the water tank, so that the water in the water tank is heated This lagoon degree can be maintained evenly by
The temperature of the surface of the support can be maintained substantially uniform by using water, and the temperature of the support medium is also made substantially uniform, making it possible to prevent the smiling effect from occurring during electrophoresis.
さらに、本発明の場合には、保温水槽に入れるのは通常
の水で良く、上部および下部緩衝液槽に入れる緩衝液の
量は各電極の電圧を支持媒体に伝えるのに必要な最小限
の絹で良いので、コスト低減を図ることができる。Furthermore, in the case of the present invention, the insulating water bath may be filled with ordinary water, and the amount of buffer solution placed in the upper and lower buffer baths is the minimum amount necessary to transfer the voltage of each electrode to the supporting medium. Since silk can be used, costs can be reduced.
また、上部Ill衝液槽と下部m*液槽との間隔を離す
ことができ両液種間の絶縁も行ない易い。In addition, the upper Ill liquid tank and the lower m* liquid tank can be spaced apart from each other, making it easy to insulate both types of liquids.
以下に本発明の実施態様について実施例によって説明す
るが、本発明の内容はこれに限定されるものではない。Embodiments of the present invention will be described below with reference to Examples, but the content of the present invention is not limited thereto.
実施例および比較例
2枚のガラス板(0,5X20X40a) 、ただし、
一方のガラス板は上部緩衝液槽2と連通ずるための切り
欠き部分を有する、を用意し、そのガラス板の間に40
0μ■のスペーサを設はクリップによりガラス板を固定
した。別に下記組成のアクリルアミド水溶液を調製した
。Example and Comparative Example Two glass plates (0.5X20X40a), however,
One glass plate has a notch for communication with the upper buffer tank 2.
A spacer of 0 μm was provided and the glass plate was fixed with a clip. Separately, an acrylamide aqueous solution having the following composition was prepared.
アクリルアミド 11.87gN、N’ −メ
チレンビスアクリルアミド0.639
尿 素 42. (
1トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン[CAS
Reuistry NQ77−86−1コ、、08
g
ホ ウ 酸 0.
55 gEDTA−2Na塩 0.0939水を
加えて100dとする。Acrylamide 11.87gN, N'-methylenebisacrylamide 0.639 Urea 42. (
1 Tris(hydroxymethyl)aminomethane [CAS
Reuistry NQ77-86-1,,08
g boric acid 0.
55 gEDTA-2Na salt 0.0939 Add water to make 100d.
該水溶液に重合開始剤としてベルオクソニ硫酸アンモニ
ウム1.3d(5重量%)、N、N、N′、N′−テト
ラメチルエチレンジアミン33μ応を加え、上記ガラス
板の間に流し込んで、ポリアクリルアミドゲル膜を形成
させた。ゲルが固まらないうちに、ゲルの上部に厚さ4
00μ乳のスロット形成用のさし込みを挿入しておいた
。To the aqueous solution were added 1.3 d (5% by weight) of ammonium beroxonisulfate and 33 µm of N, N, N', N'-tetramethylethylenediamine as a polymerization initiator, and the mixture was poured between the glass plates to form a polyacrylamide gel film. Ta. Before the gel hardens, add a layer of 4.
An insert for forming a slot for 00μ milk was inserted.
電気泳動用のDNA試料は次のようにしてII製した。A DNA sample for electrophoresis was prepared as follows.
TAK A RA製DNAシーケンスキットを使用し、
その指示lに従って、M−13108および[α−Pコ
d CTP (アマジャムジャパン製)を用いてT反応
を行ないPで標識されたDNAを調製した。Using TAK A RA DNA sequence kit,
According to the instructions, a T reaction was performed using M-13108 and [α-Pcod CTP (manufactured by Ama Jam Japan) to prepare P-labeled DNA.
上記の電気泳動支持媒体(ポリアクリルアミドゲル膜)
を有する2枚のガラス板を、切り欠き部分が上部sl衝
耐液切り欠き11bと合うようにして固定した。次いで
保温水槽5の部分に水を入れ、また上部および下部の!
ll液液槽緩衝液を入れた。Electrophoresis support medium (polyacrylamide gel membrane) as described above
Two glass plates having the same structure were fixed in such a way that the cutout portions matched with the upper SL impact-resistant liquid cutouts 11b. Next, fill water into the heat-retaining water tank 5, and then fill the upper and lower parts!
11 liquid bath buffer was added.
保温水槽5内の両側端に沿って配設された水温調製用ヒ
ーター9.10(30Wカートリツジヒーター)に通電
し、保温水槽5内の水温を常に均一で且つ一定に保つよ
うにした。上部緩衝液槽5を陰極、下部緩衝液槽7を陽
極として Pで標識したDNAで全スロットを用いて電
気泳動を行なった。1500Vの電圧を印加し、約3時
間泳動を行なったのら、ガラス板をはずし、ゲル膜をヂ
紙に移した。次いでゲル膜をザランラツプで覆い、−7
0℃で15時間オートラジオグラフィを行なって結果を
得た。電気泳動後の泳動パターンは、第6図に示されて
いるようなほぼ直線を示し、スマイリング効果の発生は
無視できる程度であった。Water temperature adjustment heaters 9 and 10 (30W cartridge heaters) disposed along both sides of the heat-retaining water tank 5 were energized to keep the water temperature in the heat-retaining water tank 5 uniform and constant. Electrophoresis was performed using all the slots with P-labeled DNA using the upper buffer tank 5 as a cathode and the lower buffer tank 7 as an anode. After applying a voltage of 1500 V and performing electrophoresis for about 3 hours, the glass plate was removed and the gel film was transferred to paper. The gel film was then covered with Zalan wrap and heated to -7
Results were obtained by performing autoradiography for 15 hours at 0°C. The migration pattern after electrophoresis showed a nearly straight line as shown in FIG. 6, and the occurrence of the smiling effect was negligible.
また比較実験として、保温水槽5に水を入れない場合の
電気泳動を同様に行なった。電気泳動後の泳動パターン
には第7図に示されているようなスマイリング効果が現
われ中央部の泳動距離と両側面部の泳動距離とでは約3
1の差があった。Further, as a comparative experiment, electrophoresis was conducted in the same manner without adding water to the heat-retaining water tank 5. A smiling effect appears in the migration pattern after electrophoresis as shown in Figure 7, and the migration distance in the center and on both sides is about 3.
There was a difference of 1.
第1図は本発明に係る電気泳動装置の1例を示す斜視図
、
第2図は上記装置を前方から見た正面図、第3図は第2
図の矢印A−Aに沿った断面図、第4A図および第4B
図は上記装置に取り付けて電気泳動を行なわせる支持具
アセンブリを示す断面図、
第5図は支持具アセンブリの異なる例を示す断面図、
第6図は本発明の電気泳動装置による泳動実施例で、支
持媒体上に展開された泳動パターンのスマイリング効果
が発生するのを防止した状態を示す模式図、
第7図は従来の支持具による支持媒体上に展開された泳
動パターンのスマイリング効果の状態を示す模式図、
第8図は従来の電気泳動装置の1例を示す断面図である
。
1・・・支え台 2・・・上部緩衝液槽3・・
・上部電極 5・・・保温水槽
7・・・下部緩衝液槽 8・・・下部電極9.10・
・・水温調整用ヒーター
12.13・・・側面プレート
16.17・・・垂直プレート
20・・・支持具アセンブリ
22・・・ゲル膜
第4B図
第6図 第7図
第8図FIG. 1 is a perspective view showing an example of an electrophoresis device according to the present invention, FIG. 2 is a front view of the device seen from the front, and FIG.
Cross-sectional view along arrow A-A in the figure, Figures 4A and 4B
The figure is a sectional view showing a support assembly that is attached to the above device to perform electrophoresis, Figure 5 is a sectional view showing different examples of the support assembly, and Figure 6 is an example of electrophoresis using the electrophoresis apparatus of the present invention. , a schematic diagram showing a state in which the smiling effect of an electrophoretic pattern developed on a support medium is prevented from occurring; FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view showing an example of a conventional electrophoresis device. 1... Support stand 2... Upper buffer tank 3...
・Upper electrode 5...Heat water tank 7...Lower buffer tank 8...Lower electrode 9.10.
...Water temperature adjustment heater 12.13...Side plate 16.17...Vertical plate 20...Support assembly 22...Gel film Fig. 4B Fig. 6 Fig. 7 Fig. 8
Claims (1)
実質的に電気非伝導性かつ非可撓性の平板状支持板を定
位置に載置固定し、該支持板を水密に固定しうる支え台
と、該支持板の上端開口と連通し、内部に緩衝液を収容
保持しうる上部緩衝液槽と、前記支持板の下端開口と連
通し、内部に緩衝液を収容保持しうる下部緩衝液槽と、
前記上部および下部緩衝液槽の各々に配された上部およ
び下部電極とを有し、、 該上部および下部電極間に所定電圧を印加することによ
り前記上部および下部緩衝液槽内に収容保持された緩衝
液を介して前記支持媒体の上下方向に電位勾配を与えて
電気泳動を行なわせるようにした電気泳動装置において
、 前記支持板の少なくとも一方の外表面の、前記支持媒体
を挾持する部分を壁面とする保温水槽を形成し、該保温
水槽内において前記支持板の両側端に沿って前記支持媒
体に印加された電界の方向に延びた側端部に水温調整用
のヒーターを配設したことを特徴とする電気泳動装置。 2)前記平板状支持板が、実質的に電気非伝導性かつ非
可撓性のガラス板、セラミックス板または有機ポリマー
板であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
電気泳動装置。[Scope of Claims] 1) A substantially electrically non-conductive and non-flexible flat support plate that sandwiches a sheet-shaped support medium for electrophoresis from both sides is placed and fixed in a fixed position, and the support plate a support base capable of watertightly fixing the support plate, an upper buffer solution tank communicating with the upper end opening of the support plate and capable of containing and holding a buffer solution therein, and an upper buffer tank communicating with the lower end opening of the support plate containing the buffer solution therein. a lower buffer tank capable of containing and holding;
and upper and lower electrodes disposed in each of the upper and lower buffer tanks, and is housed and held in the upper and lower buffer tanks by applying a predetermined voltage between the upper and lower electrodes. In an electrophoresis device in which electrophoresis is performed by applying a potential gradient in the vertical direction of the support medium via a buffer solution, a portion of the outer surface of at least one of the support plates that clamps the support medium is a wall surface. A heat-retaining water tank is formed, and in the heat-retaining water tank, heaters for water temperature adjustment are disposed at side ends extending in the direction of the electric field applied to the support medium along both side edges of the support plate. Characteristic electrophoresis device. 2) The electrophoresis device according to claim 1, wherein the flat support plate is a substantially electrically non-conductive and non-flexible glass plate, ceramic plate or organic polymer plate. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60120141A JPS61278752A (en) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | Electrophoretic instrument |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60120141A JPS61278752A (en) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | Electrophoretic instrument |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61278752A true JPS61278752A (en) | 1986-12-09 |
Family
ID=14778978
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60120141A Pending JPS61278752A (en) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | Electrophoretic instrument |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61278752A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2424282A (en) * | 2005-03-09 | 2006-09-20 | Shimadzu Corp | Electrophoresis Method Using Capillary Plate Where Solution Is Maintained At Temperature Substaintially Same As Maintained Temperature Of Capillary Plate |
-
1985
- 1985-06-03 JP JP60120141A patent/JPS61278752A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2424282A (en) * | 2005-03-09 | 2006-09-20 | Shimadzu Corp | Electrophoresis Method Using Capillary Plate Where Solution Is Maintained At Temperature Substaintially Same As Maintained Temperature Of Capillary Plate |
GB2424282B (en) * | 2005-03-09 | 2009-11-18 | Shimadzu Corp | Electrophoresis method using capillary plate |
US7850834B2 (en) | 2005-03-09 | 2010-12-14 | Shimadzu Corporation | Electrophoresis method using capillary plate |
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