JPS61278587A

JPS61278587A - 研磨用組成物

Info

Publication number: JPS61278587A
Application number: JP60121200A
Authority: JP
Inventors: Hiroto Kitano; 北野　寛人; Hisaki Owaki; 大脇　寿樹; Koji Baba; 馬場　孝司
Original assignee: Fujimi Abrasives Co Ltd; Fujimi Kenmazai Kogyo Co Ltd
Current assignee: Fujimi Kenmazai Kogyo Co Ltd; Fujimi Inc
Priority date: 1985-06-04
Filing date: 1985-06-04
Publication date: 1986-12-09
Also published as: KR940000662B1; KR870000401A; US4696697A; DE3681504D1; EP0204408A2; EP0204408A3; JPS64436B2; EP0204408B1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、プラスチック製品や無電解ニッケルめっき層
等を研磨する組成物に関する。

従来、プラスチックレンズのようなプラスチック製品の
研磨用組成物は、特公昭５３−３！；１１号公報に開示
されているように、水に酸化アルミ二つベ研磨剤を懸濁
して硝酸アルミニウムの研磨促進剤ご添加したスラリー
でちる。

このスラリーは、プラスチック製品を高能率。

高品質に研磨することができるが、しかし１強酸性のス
ラリーであり、ｐＨ値がμ〜２位である。

従って、酸性が強いので、研磨機や治具が錆び易く、ま
た１作業者の手が荒れ易く１機械や作業者にとって好ま
しいものではない。

また、最近では、コンピュータやワードプロセッサ等の
メモリーディヌクは、アルミニウムの基板の表面に、化
学ニッケルめっきとも言われる無電解ニッケルめっき又
はアルマイトの層Ｐ形成して下地処理を施し、この下地
処理面を研磨して。

平滑にした下地処理面に記憶用磁気媒体のＨを形成し念
ものが試作された。そして、上記の下地処理面を研磨す
る組成物には、水に酸化アルミニウムの研磨剤を懸濁し
た調設用研磨スラリーが用いられた。

ところが、一般用研磨スラリーは、無電解ニッケルめっ
き層等の研磨能率が低く、実用的ではない。そこで、無
電解ニッケルめっき層等の研磨用組成物の開発が望まれ
た。

本発明の目的は、上記のような従来の状況からして、プ
ラスチック製品や無電解ニッケルめっき層等を高能率、
高品質に研磨することができ、かつ１機械や作業者を害
し難い研磨用組成物を提供することである。

本発明者は、水に酸化アルミニウムの研磨剤を懸濁した
スラリーに硫酸ニッケルを添加したところ、このスラリ
ーは、中性ないし弱酸性であり、また、プラスチック製
品や無電解ニッケルめっき層等の研磨能率が高く、研磨
面の品質が高いことを発見した。

本発明は、上記の発見に基いて完成したものである。即
ち、水と、酸化アルミニウムの研磨剤及び硫酸ニッケル
の竹磨促進剤からなり、中性ないし弱酸性である研磨用
組成物である。

次に１本発明の実施例について説明する。

本例の研磨用組成物は、純水にα型酸化アルミニウム（
α−Ａｌｚ　Ｏｓ　）　（ＤｆＲｆＭ剤を懸濁し、これ
に硫酸＝ツケｙｖ　（Ｎｉ　８０４・６ＨｚＯ）の研磨
促進剤号添加した中性ないし弱酸性のスラリーである。

このスラリー中の研磨促進剤の重量割合は７〜２０％で
あシ、ｐ■値は７〜ｊである。

ま九、研磨剤の重量割合は＝２〜３０％であり。

研磨剤の平均粒子径はａ７〜佐Ｏμｍであり、研磨剤の
最大粒子径は２０μｍ以下である。

また、研磨剤のα型酸化アルミニウムは、粒状のベーマ
イト（Ａ（ｂ　Ｏｘ・Ｈ２０アＡｌ！０　（ＯＨ）　　
）を／１００〜／２００″Ｃで２〜３時間仮焼し、その
後。

粉砕して整粒したものである。

本例の研磨用組成物を用いてプラスチック製品や無電解
ニッケルめっき層等を研磨Ｔる場合は、従来の研磨用組
成物を用いる場合と同様であり、研磨用組成物をプラス
チック製品や無電解ニッケルめっき層等の表面とその表
面を摺動する研磨バットの表面の間に供給する。

次に１本発明の効果を確認する比較実験について説明す
る。

（１）　　プラスチック製品を研磨する実験本発明の研
磨用組成物には、純水にα型酸化アルミニウム（α−Ａ
ｎｚ　Ｏｓ　）の研磨剤を懸濁し、これニ硫酸ニッケル
（Ｎｉ８０４・乙Ｈ７０）の研磨促進剤ヲｔ　ｆｉ　割
合−”ｃ／、ｏ　、　ｓ、ｏ　、　ｉｏ、ｏ又は２０．
０％添加したスラリーを用いる。このスラリーのｐＨ値
は、表１に示す通りである。

従来の研磨用組成物には、純水にα型酸化アルミニウム
（α−Ａｌｚ　Ｏｓ　）の研磨剤を懸濁し、これに硝酸
アルミニウム（Ａｌ　（ＮＯ３）ｉ・りＨ，Ｏ）の研磨
促進剤を重量割合で／、　０　、５．０　、　／　０．
０又は２０゜０％添加したスラリーを用いる。このスラ
リー。

ｐＨ値は、表／に示す通りである。

本発明と従来の上記の研磨スラリーにおいて。

研磨剤の重量割合は２０％であり、研磨剤の平均粒子径
は／、３μｍであり、研磨剤の最大粒子径は２０μｍ以
下である。

また、研磨剤のα型酸化アルミニウムは１粒状のベーマ
イト（Ａ／２０ｓ・Ｈ，０，Ａ１０　（ＯＨ）　　）を
ｌ・　　１５０″Ｃで３時間仮焼し、その後、粉砕して
整粒したものである。

プラスチック製品には、アリルジグリコールカーゴネー
ト樹脂のる５１ａｌ径の眼鏡用レンズを用いる。

このレンズは、非球面レンズ研磨機に装填し。

レンズの表面に植毛布の研磨バットを当接し、レンズと
研磨バットを相対的に摺動して、１０分間研磨する。研
磨の間、レンズと研磨パッドの間に本発明の研磨スラリ
ー又は従来の研磨スラリーを、２　ｌ　／　ｍｘｎの割
合で供給する。なお、研磨圧け２７ｏｙ／ｒｔｔ？テあ
る。

研磨の後、レンズの研磨表面号検査して、オレンジビー
ルやスクラッチのような表面欠陥の有無を調べる。次に
、レンズの重量を計測し、研磨による重量損失を算出し
て、研磨量を求める。

、この実験結果は、第１表に示す通りである。

第１表　研磨スラリーのｐＨ値と研磨結果この第１表か
ら明らかなように、本発明の研磨ス？リーは、ｐＨ値が
乙、６〜！、乙であって中性ないし弱酸性であり、これ
に対し、従来の研磨スラリーは、ｐＨ値がｔＡ、０〜．
２．５であって強酸性である。ところが１本発明の研磨
スラリーを用いると。

従来のそれを用いた場合と同様に、研磨量が多くて研磨
能率が高く、また、表面欠陥が認められず。

研磨表面の品質が高い。

（２）　　メモリーディスクの無電解ニッケルめっき層
等分研磨する実験ａ、ａｔ解ニッケル・りんめつき本発明の研磨用組成物には、上記のブラスチッグ製品の
研磨実験におけるのと同じスラリーを用いる。

従来の研磨用組成物には１本発明の研磨用組成物におい
て？ｉ７′Ｆ磨促進剤全促進剤ていないスラリーを用い
る。

メモリーディスクには、アルミニウムの／３０鱈外径の
円輪板状基板の両面に、それぞれ、３０μｍ厚さの無電
解ニッケル・りん（Ｎｉ−Ｐ）めっき層を形成したもの
を用いる。めっき層の化学組成は、ニッケルが９０〜７
２％でちり、りんがに〜７０％である。

このディスクは１両面間時研磨機に装填し、ディスクの
両面のめつき層にそれぞれスウエードクロスの研磨バッ
トを当接し、ディスクと両研磨バットを相対的に摺動し
て、１０分間研磨する。研磨の間、ディスクと両研磨バ
ットの間に本発明の研磨スラリー又は従来の研磨スラリ
ーを０．／　７３７ｒｈｉｎの割合で供給する。なお、
研磨圧は５０　ｙ　／　ａｌである。

研磨の後、ディスク両面のめつき層の研磨表面を検査し
て表面欠陥の有無を調べる。次に、ディスクの厚さを計
測し、研磨による両面のめつき層の厚さ減少触を算出し
て、研磨量を求める。

この実験結果は、第２表に示す通りである。

第２表　研磨促進剤と研磨結果この第−表から明らかなように０本発明の研磨スラリー
は、従来のそれに比し、研ＩＩＩ！ｉが多くて研磨能率
が高く、また１表面欠陥が認められず、研磨表面の品質
が高い。

ｂ、無電解ニッケル・は′）累めっきメモリーディスクには、アルミニウムの７３０寵外径の
円輪板状基板の両面に、それぞれ、３０μｍ厚さの無電
解ニッケル・はう素＜　Ｎ１−Ｂ＞メっき層を形成した
ものを用いる。めっき層の化学組成は、ニッケルがり９
．０〜り５！５％であり、はり素が０．３−　／、　Ｑ
％である。

このディスクは、上記の無電解ニッケル・りんめ９き層
の研磨実験におけるのと同様に研磨する。

この実＃結果は、第３表に示す通りである。

この第３表から明らかなように１本発明の研磨スラリー
は、従来のそゎに比し、研ＨＲが多くて研磨能率が高く
、また、表面欠陥が認められず、研磨表面の品質が高い
。

Ｃ，アルマイトメモリーディスクには、無電解ニッケルめっき層に代え
てアルマイト層分形成したものを用いる。

このディスクは、無電解ニッケルめっき層の研磨実験に
おけるのと同様に研磨する。その結果は。

第を表に示す通りである。

この第１表から明らかなように１本発明の研磨スラリー
は、従来のそれに比し、研磨能率が高く。

また、研磨表面の品質が高い。

ｄ、アルミニウムメモリーディスクには、無電解ニッケルめっき層やアル
マイト層ご形成していないアルミニウムの基板そのもの
を用いる。

二のディスクは、同様に研磨し、その結果は。

第５表に示す。

この第５表から明らかなように、本発明の研磨スラリー
は、従来のそれに比し、優れている。

発明の効果本発明の研磨用組成物は、プラスチック製品を。

従来品におけるのと同様に、高能率かつ高品質に研磨す
ることができる。しかも、従来品とは異なり、中性ない
し弱酸性であるので、研磨機や治具が錆び難く、また１
作業者の手が荒れ難く１機械や作業者にとって好ましい
。

また１本発明の研磨用組成物は、無電解ニッケルめっき
府等を、従来品におけるよりも、高能率かつ高品質に研
磨することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）水と、酸化アルミニウムの研磨剤及び硫酸ニッケ
ルの研磨促進剤からなり、中性ないし弱酸性である研磨
用組成物。
（２）研磨促進剤の重量割合が１〜２０％であり、ｐＨ
値が７〜５である特許請求の範囲第１項記載の研磨用組
成物。
（３）研磨剤の重量割合が２〜３０％であり、研磨剤の
平均粒子径が０．７〜４．０μｍであり、研磨剤の最大
粒子径が２０μｍ以下である特許請求の範囲第１項又は
第２項記載の研磨用組成物。