JPS6127399B2 - - Google Patents
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- JPS6127399B2 JPS6127399B2 JP2588474A JP2588474A JPS6127399B2 JP S6127399 B2 JPS6127399 B2 JP S6127399B2 JP 2588474 A JP2588474 A JP 2588474A JP 2588474 A JP2588474 A JP 2588474A JP S6127399 B2 JPS6127399 B2 JP S6127399B2
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- JP
- Japan
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- formula
- reaction
- diazide
- methyl
- compound
- Prior art date
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は2−アジド−2−セフエム化合物の製
造方法に関し、更に詳細には式
(式中R1はアシルアミノ基を示し、R2はアルキル
基又は置換アルキル基を示し、R3は水素原子又
はアセトキシを示す。)で示される化合物を塩基
で処理し脱アジ化水素反応を行うことよりなる式
(式中R1、R2及びR3は式と同じ意味を有す。)
で示される2−アジド−2−セフエム化合物の製
造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a 2-azido-2-cephem compound, more specifically, a compound having the formula (In the formula, R 1 represents an acylamino group, R 2 represents an alkyl group or a substituted alkyl group, and R 3 represents a hydrogen atom or acetoxy.) The compound represented by the formula is treated with a base to perform a dehydrogenation reaction. formula consisting of
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as in the formula.)
セフアロスポリン系抗生物質の多くはグラム陽
性菌、陰性菌に対して有効である上、酸及びペニ
シリナーゼに対して安定で且つペニシリンに対し
て過敏な体質の患者にも投与しうるという利点が
あるので各方面から注目され、今日までに数種の
すぐれた抗生物質が開発されている。しかしなが
ら、これらの抗生物質についてもいずれ耐性菌の
出現がさけられないことから、これらの領域にお
いて更に新しい抗生物質の開発が要求されてい
る。一方、いままでに数多く開発されているセフ
アロスポリン系抗生物質はそのほとんどが7位、
又は3位へ種々の置換基を導入したものであり、
2位に置換基を導入したものはほとんど知られて
いない。 Many of the cephalosporin antibiotics are effective against Gram-positive and Gram-negative bacteria, and have the advantage that they are stable against acids and penicillinase, and can be administered to patients who are hypersensitive to penicillin. It has attracted attention from all over the world, and several excellent antibiotics have been developed to date. However, since the emergence of resistant bacteria with these antibiotics is inevitable, there is a need for the development of newer antibiotics in these areas. On the other hand, most of the many cephalosporin antibiotics that have been developed so far are ranked 7th.
Or, various substituents have been introduced into the 3-position,
There are almost no known compounds with a substituent introduced at the 2-position.
本発明者等は先に、2−セフエム化合物の2位
にアジド基を、又3位にハロゲン原子或はアジド
基を導入する方法を発明したが、更に種々研究の
結果、上記の方法により得られる2・3−ジアジ
ド−セフアム化合物を塩基で処理するときは脱ア
ジ化水素反応が起こり新規な2−アジド−2−セ
フエム化合物が得られるという新知見を得、本発
明を完成した。 The present inventors previously invented a method for introducing an azide group into the 2-position of a 2-cephem compound, and a halogen atom or an azide group into the 3-position. The present invention was completed based on the new finding that when a 2,3-diazide-cephalic compound is treated with a base, a dehydrogenation reaction occurs and a novel 2-azido-2-cephalic compound is obtained.
本発明によれば式で表わされる2−アジド−
2−セフエム化合物は、式で表わされる2・3
−ジアジド−セフアム化合物を不活性溶媒の存在
下あるいは非存在下、塩基で処理し脱アジ化水素
反応を行うことにより合成される。 According to the invention, 2-azido-
2-Cefem compound is represented by the formula 2.3
It is synthesized by treating a -diazide-cephame compound with a base in the presence or absence of an inert solvent to perform a dehydrogenation reaction.
本発明においては原料として種々の2・3−ジ
アジド−セフアム化合物が用いられるが、本発明
の方法は2・3−ジアジド−セフエム化合物の3
位のアジド基と2位の水素原子との脱アジ化水素
反応に関するものであり、これらの化合物の3
位、4位、7位に結合している側鎖の基は本発明
の反応に直接に関与しない。したがつて、一般的
にはこれらの2・3−ジアジド−セフアム化合物
は本発明における反応条件、即ち、塩基による脱
アジ化水素反応において、実質的に不都合な副反
応を生起しない限り如何なるものも使用すること
が可能である。このような2・3−ジアジド−セ
フエム化合物の好ましい例としては、例えば式
で示される化合物が挙げられる。式R1で示さ
れる基の具体例としては、例えばフエニルアセト
アミド、アミノ基が保護されたα−アミノ−α−
フエニルアセトアミド、カルボキシ基が保護され
たα−カルボキシ−α−フエニルアセトアミド、
フエノキシアセトアミド、フエニルチオアセトア
ミド、アミノ基が保護されたα−アミノ−α−ア
リールアルキルアセトアミド、アミノ基が保護さ
れたα−アミノ−α−アルキルアセトアミド、α
−フエニル−αアシルオキシアセトアミド、スル
ホ基が保護されたα−スルホ−α−フエニルアセ
トアミド、α−アルキルオキシ−α−フエニルア
セトアミド、スルホ基が保護されたα−スルホ−
α−アルキルアセトアミド等のアシルアミノ基系
のものを挙げることができ、R2で示される基の
具体例としては、メチル、エチル、t−ブチル、
2・2・2−トリクロロエチル、ベンジル、p−
メトキシベンジル、p−ニトロベンジル、ベンズ
ヒドリル、トリチル、エトキシメチル、フエナシ
ル及びピバロイルメチルの如きアルキル基又は置
換アルキル基が挙げられ、そしてR3で示される
基の具体例としては、水素原子、又はアセトキシ
を挙げることができる。 In the present invention, various 2,3-diazide-cephaem compounds are used as raw materials.
It is related to the dehydrogenation reaction between the azide group at position and the hydrogen atom at position 2, and the 3
The side chain groups bonded to the 4-, 7-, and 7-positions do not directly participate in the reaction of the present invention. Therefore, in general, these 2,3-diazide-cephame compounds can be used under the reaction conditions of the present invention, that is, in the dehydrogenation reaction with a base, as long as they do not cause substantially undesirable side reactions. It is possible to use. Preferred examples of such 2,3-diazide-cephem compounds include compounds represented by the formula. Specific examples of the group represented by the formula R1 include, for example, phenylacetamide, α-amino-α- with a protected amino group,
Phenylacetamide, α-carboxy-α-phenylacetamide with protected carboxy group,
Phenoxyacetamide, phenylthioacetamide, α-amino-α-arylalkyl acetamide with amino group protected, α-amino-α-alkylacetamide with amino group protected, α
-Phenyl-α-acyloxyacetamide, sulfo-protected α-sulfo-α-phenylacetamide, α-alkyloxy-α-phenylacetamide, sulfo-protected α-sulfo-
Acylamino group-based ones such as α-alkylacetamide can be mentioned, and specific examples of the group represented by R2 include methyl, ethyl, t-butyl,
2,2,2-trichloroethyl, benzyl, p-
Alkyl groups or substituted alkyl groups such as methoxybenzyl, p-nitrobenzyl, benzhydryl, trityl, ethoxymethyl, phenacyl and pivaloylmethyl may be mentioned, and specific examples of the group represented by R3 include a hydrogen atom or acetoxy. be able to.
本発明において原料として使用される式で示
される2・3−ジアジド−セフアム化合物は式
(式中R1、R2及びR3は式と同じ意味を有す。)
で示される2−セフエム化合物をニトロメタン、
四塩化炭素等の不活性溶媒中においてハロゲン化
アジドを発生せしめる条件下(ICl 1モルに対し
て2モル以上のNaN3を使用)で反応させること
により製造される。 The 2,3-diazide-cephame compound represented by the formula used as a raw material in the present invention is represented by the formula (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as in the formula.)
It is produced by reacting in an inert solvent such as carbon tetrachloride under conditions that generate a halogenated azide (using 2 or more moles of NaN 3 per 1 mole of ICl).
脱アジ化水素反応を行うために使用される塩基
としては、1・4−ジアザビシクロ〔2・2・
2〕オクタン、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリプロピルアミン及びトリブチルアミン
等の第3級アミン、ジメチルアミン、ジエチルア
ミン、ジプロピルアミン及びジブチルアミン等の
第2級アミン等が挙げられる。これらの塩基のう
ち特によいのは1・4−ジアザビシクロ〔2・
2・2〕オクタンである。 The base used for carrying out the dehydrogenation reaction is 1,4-diazabicyclo[2,2,
2] Tertiary amines such as octane, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine and tributylamine; secondary amines such as dimethylamine, diethylamine, dipropylamine and dibutylamine; and the like. Among these bases, 1,4-diazabicyclo[2.
2.2] Octane.
塩基の使用量は、原料となる式で示される
2・3−ジアジド−セフアム化合物の種類、塩基
の種類及び不活性溶媒の種類又はその存在の有無
等の反応条件により異なるが、多くの場合式で
示される2・3−ジアジド−セフアム化合物1モ
ルに対し1モルないし過剰モル用いられる。 The amount of base used varies depending on the reaction conditions, such as the type of 2,3-diazide-cefam compound represented by the formula as a raw material, the type of base, and the type of inert solvent or its presence or absence. It is used in an amount of 1 mole to an excess mole per mole of the 2,3-diazide-cepham compound represented by the formula.
不活性溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノール及びブタノール等のアルコール
類、アセトン及びメチルエチルケトン類、酢酸メ
チル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル等のエス
テル類、エーテル、テトラヒドロフラン及び1・
4−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン及びト
ルエン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、
クロロホルム及び四塩化炭素等の含塩素類、アセ
トニトリル等のニトリル類、ニトロメタン及びニ
トロエタン等の含ニトロ基類、N・N−ジメチル
ホルムアミド、N・N−ジメチルアセトアミド及
びヘキサメチルホスホルアミド等のアミド類、ス
ルホラン、ジメチルスルホキシド及び二硫化炭素
等の硫黄含有類等が挙げられる。これらの不活性
溶媒は塩基による脱アジ化水素反応を円滑にする
ため用いられるが、塩基及び原料2・3−ジアジ
ド−セフアム化合物の種類により存在しなくても
よい。 Examples of inert solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and butanol, acetone and methyl ethyl ketones, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and methyl propionate, ether, tetrahydrofuran, and 1.
Ethers such as 4-dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, dichloromethane,
Chlorine-containing compounds such as chloroform and carbon tetrachloride, nitriles such as acetonitrile, nitro group-containing compounds such as nitromethane and nitroethane, amides such as N/N-dimethylformamide, N/N-dimethylacetamide, and hexamethylphosphoramide. , sulfolane, dimethyl sulfoxide and carbon disulfide. These inert solvents are used to facilitate the dehydrogenation reaction with a base, but may not be present depending on the type of the base and the raw material 2,3-diazide-cephame compound.
反応時間及び反応温度は、式で示される2・
3−ジアジド−セフアム化合物の種類、塩基の種
類及び量、不活性溶媒の種類及びその存在の有無
等により大きく影響を受けるため一定ではない
が、多くの場合60〜−30℃で30分〜3日間行なわ
れる。 The reaction time and reaction temperature are 2.
Although it is not constant because it is greatly affected by the type of 3-diazide-cephaam compound, the type and amount of the base, the type of inert solvent and its presence or absence, etc., in most cases the temperature is 30 minutes to 3 at 60 to -30°C. It is held for days.
反応終了後、反応混合物より式の2−アジド
−2−セフエム化合物を分離、精製するには何等
格別の方法を用いる必要はなくかかる目的のため
に通常用いられる周知の手段、例えば溶媒抽出、
洗浄、溶媒留去、結晶化、再結晶或は場合により
カラムクロマトグラフイー等により容易に目的を
達成することができる。 After completion of the reaction, it is not necessary to use any special method to separate and purify the 2-azido-2-cephem compound of the formula from the reaction mixture, and any well-known means commonly used for such purpose, such as solvent extraction, etc.
The objective can be easily achieved by washing, solvent distillation, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc. in some cases.
本発明の方法で得られる式の化合物は、3−
セフエム化合物に誘導する、或は2位のアジド基
を変化させることにより、新しいタイプのセフア
ロスポリン系抗生物質の合成を可能とするもので
あり、2位にこれらの置換基を有するセフアロス
ポリン系抗生物質の合成用中間体として極めて有
用である。 The compound of formula obtained by the method of the invention is 3-
By deriving a cefem compound or changing the azide group at the 2-position, it is possible to synthesize a new type of cephalosporin antibiotic. Extremely useful as a synthetic intermediate.
以下に本発明の参考例及び実施例を示し、本発
明を更に詳細かつ具体的に説明するが、これは本
発明の範囲を限定するものではない。 The present invention will be explained in more detail and concretely by referring to Reference Examples and Examples of the present invention, but these are not intended to limit the scope of the present invention.
参考例 1
p−メトキシベンジル−7−フエニルアセトア
ミド−2・3−ジアジド−3−メチル−セフア
ム−4−カルボキシレート
NaN32.60gを乾燥ニトロメタンに懸濁し−5
℃〜−10℃に保ちながら撹拌下ICl 2.98gを乾燥
ニトロメタンに溶かした液を10分間で滴下する。
暫時撹拌後−30℃に冷却し、p−メトキシベンジ
ル−7−フエニルアセトアミド−3−メチル−2
−セフアム−4−カルボキシレート1.81gを小量
ずつ加える。−30℃に10分間保つた後徐々に室温
にもどしながら2時間10分撹拌を続ける。反応終
了後、反応液を減圧留去し、残渣を酢酸エチルに
溶かし、水洗し、希チオ硫酸ソーダ溶液で洗い、
水洗乾燥後溶媒を減圧留去すると、p−メトキシ
ベンジル−7−フエニルアセトアミド−3−メチ
ル−2・3−ジアジド−セフアム−4−カルボキ
シレートを2.117g(98.5%)の得量で得る。Reference Example 1 p-Methoxybenzyl-7-phenylacetamide-2,3-diazide-3-methyl-cepham-4-carboxylate 2.60 g of NaN 3 was suspended in dry nitromethane -5
A solution of 2.98 g of ICl dissolved in dry nitromethane was added dropwise over 10 minutes while stirring while maintaining the temperature at -10°C.
After stirring for a while, it was cooled to -30°C, and p-methoxybenzyl-7-phenylacetamido-3-methyl-2
- Add 1.81 g of cephaam-4-carboxylate in small portions. After keeping at -30°C for 10 minutes, the mixture was gradually returned to room temperature and stirring was continued for 2 hours and 10 minutes. After the reaction was completed, the reaction solution was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in ethyl acetate, washed with water, and washed with diluted sodium thiosulfate solution.
After washing with water and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 2.117 g (98.5%) of p-methoxybenzyl-7-phenylacetamido-3-methyl-2,3-diazide-cepham-4-carboxylate.
IRνKBr naxcm-1:3280(NH)、2110(N3)1775(
β
−lactam)、1740(CO2R)1660(CONH)
参考例 2
p−メトキシベンジル−7−(α−t−ブトキ
シカルボニルアミノ−α−フエニルアセトアミ
ド)−3−メチル−2・3−ジアジド−セフア
ム−4−カルボキシレート
NaN3497mgを乾燥ニトロメタンに懸濁し、−5
℃〜−10℃に保ちながら撹拌下ICl 561mgを乾燥
ニトロメタンに溶かした液を10分間で滴下する。
暫時撹拌後−40℃に冷却しp−メトキシベンジル
−7−(α−t−ブトキシカルボニルアミノ−α
−フエニルアセトアミド)−3−メチル−2−セ
フエム−4−カルボキシレート350mgを少量ずつ
加える。−35℃〜−30℃に30分間保つた後徐々に
室温にもどしながら2時間撹拌を続ける。反応終
了後、反応液を減圧留去し、残渣を酢酸エチルに
溶かし、水洗し、希チオ硫酸ソーダ溶液で洗い、
水洗乾燥後溶媒を減圧留去すると、粗p−メトキ
シベンジル−7−(α−t−ブトキシカルボニル
アミノ−α−フエニルアセトアミド)−3−メチ
ル−2・3−ジアジド−セフアム−4−カルボキ
シレートを397mg(98.8%)の得量で得る。これ
はほぼ純粋であるが、シリカゲルのカラムを用い
ベンゼンと酢酸エチルの混液(容積比4:1)を
溶出液としてカラムクロマトグラフイーを行なう
と純粋になる。IRν KBr nax cm -1 : 3280 (NH), 2110 (N 3 ) 1775 (
β
-lactam), 1740 (CO 2 R) 1660 (CONH) Reference example 2 p-methoxybenzyl-7-(α-t-butoxycarbonylamino-α-phenylacetamide)-3-methyl-2,3-diazide- Cepham-4-carboxylate NaN 3 497 mg was suspended in dry nitromethane, -5
A solution of 561 mg of ICl dissolved in dry nitromethane is added dropwise over 10 minutes while stirring while maintaining the temperature between ℃ and -10℃.
After stirring for a while, it was cooled to -40°C and p-methoxybenzyl-7-(α-t-butoxycarbonylamino-α
350 mg of -phenylacetamide)-3-methyl-2-cephem-4-carboxylate are added in small portions. After keeping at -35°C to -30°C for 30 minutes, stirring was continued for 2 hours while gradually returning the temperature to room temperature. After the reaction was completed, the reaction solution was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in ethyl acetate, washed with water, and washed with diluted sodium thiosulfate solution.
After washing with water and drying, the solvent was distilled off under reduced pressure. yield of 397 mg (98.8%). This is almost pure, but it becomes pure when column chromatography is performed using a silica gel column and a mixture of benzene and ethyl acetate (volume ratio 4:1) as the eluent.
IRνKBr naxcm-1:3320(NH)、2120(N3)1780(
β
−lactam)、1740(CO2R)1685(OCONH)
実施例 1
p−メトキシベンジル−7−フエニルアセトア
ミド−2−アジド−3−メチル−2−セフエム
−4−カルボキシレート
p−メトキシベンジル−7−フエニルアセトア
ミド−2・3−ジアジド−3−メチル−セフアム
−4−カルボキシレート2.04gをジクロロメタン
に溶かし、氷冷撹拌下1・4−ジアザビシクロ
〔2・2・2〕オクタン658mgをジクロロメタンに
溶かした液を滴下し、一夜氷室に放置する。反応
終了後、反応液を水洗し、希塩酸で洗い、水洗乾
燥後溶媒を留去すると、p−メトキシベンジル−
7−フエニルアセトアミド−2−アジド−3−メ
チル−2−セフエム−4−カルボキシレートを
1.84g(98.0%)の得量で得る。これをメタノー
ルを用いて純化すると融点124℃〜127℃(分解)
の結晶となる。IRν KBr nax cm -1 : 3320 (NH), 2120 (N 3 ) 1780 (
β
-lactam), 1740 (CO 2 R) 1685 (OCONH) Example 1 p-methoxybenzyl-7-phenylacetamido-2-azido-3-methyl-2-cephem-4-carboxylate p-methoxybenzyl-7 -Phenylacetamide-2,3-diazide-3-methyl-cepham-4-carboxylate (2.04 g) was dissolved in dichloromethane, and while ice-cooled and stirred, 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (658 mg) was dissolved in dichloromethane. Add the solution dropwise and leave it in an ice room overnight. After the reaction is completed, the reaction solution is washed with water, washed with dilute hydrochloric acid, washed with water, dried, and the solvent is distilled off, p-methoxybenzyl-
7-phenylacetamido-2-azido-3-methyl-2-cephem-4-carboxylate
Obtained in yield of 1.84g (98.0%). When this is purified using methanol, the melting point is 124°C to 127°C (decomposition).
becomes a crystal.
元素分析C24H23N5O5S1として
C H N
計算値 58.41 4.70 14.19
実測値 58.06 4.64 13.93
IRνKBr naxcm-1:3270(NH)、2110(N3)1785(
β
−lactam)、1730(CO2R)1650(CONH)
NMR τ(CDCl3、60MHz)
8.30(3H、s)、6.43(2H、s)
6.24(3H、s)、5.26(1H、s)
4.93(2H、s)、4.65(1H、d)
4.45(1H、q)、2.97(4H、q)
2.75(5H、s)
実施例 2
p−メトキシベンジル−7−(α−t−ブトキ
シカルボニルアミノ−α−フエニルアセトアミ
ド)−2−アジド−3−メチル−2−セフエム
−4−カルボキシレート
p−メトキシベンジル−7−(α−t−ブトキ
シカルボニルアミノ−α−フエニルアセトアミ
ド)−2・3−ジアジド−3−メチル−セフアム
−4−カルボキシレート187.9mgをジクロロメタ
ンに溶かし、氷冷撹拌下1・4−ジアザビシクロ
〔2・2・2〕オクタン51.6mgをジクロロメタン
に溶かした液を滴下し、一夜氷室に放置する。反
応終了後、反応液を水洗し、希塩酸で洗い、水洗
乾燥後溶媒を留去すると、p−メトキシベンジル
−7−(α−t−ブトキシカルボニルアミノ−α
−フエニルアセトアミド)−2−アジド−3−メ
チル−2−セフエム−4−カルボキシレートを
165mg(94.2%)の得量で得る。Elemental analysis C 24 H 23 N 5 O 5 S 1 C H N Calculated value 58.41 4.70 14.19 Actual value 58.06 4.64 13.93 IRν KBr nax cm -1 : 3270 (NH), 2110 (N 3 ) 1785 (
β
-lactam), 1730 (CO 2 R) 1650 (CONH) NMR τ (CDCl 3 , 60MHz) 8.30 (3H, s), 6.43 (2H, s) 6.24 (3H, s), 5.26 (1H, s) 4.93 ( 2H, s), 4.65 (1H, d) 4.45 (1H, q), 2.97 (4H, q) 2.75 (5H, s) Example 2 p-methoxybenzyl-7-(α-t-butoxycarbonylamino-α p-methoxybenzyl-7-(α-t-butoxycarbonylamino-α-phenylacetamide)-2,3-diazide 187.9 mg of -3-methyl-cepham-4-carboxylate was dissolved in dichloromethane, and a solution of 51.6 mg of 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane dissolved in dichloromethane was added dropwise under ice-cooling and stirring, and the mixture was kept in an ice room overnight. put. After completion of the reaction, the reaction solution was washed with water, washed with dilute hydrochloric acid, washed with water and dried, and the solvent was distilled off to give p-methoxybenzyl-7-(α-t-butoxycarbonylamino-α
-phenylacetamido)-2-azido-3-methyl-2-cephem-4-carboxylate
Obtained in a yield of 165 mg (94.2%).
IRνKBr naxcm-1:2110(NN3)1785(β−lactam
)
NMR τ(CDCl3、60MHz)
8.59(9H、s)、8.28(3H、s)
6.21(3H、s)、5.23(1H、s)
4.93(2H、s)、4.79(1H、d)
4.66(1H、d)、4.37(1H、q)
2.96(4H、q)、2.67(5H、s)IRν KBr nax cm -1 : 2110 (NN 3 ) 1785 (β-lactam
) NMR τ (CDCl 3 , 60MHz) 8.59 (9H, s), 8.28 (3H, s) 6.21 (3H, s), 5.23 (1H, s) 4.93 (2H, s), 4.79 (1H, d) 4.66 ( 1H, d), 4.37 (1H, q) 2.96 (4H, q), 2.67 (5H, s)
Claims (1)
基又は置換アルキル基を示し、R3は水素原子又
はアセトキシを示す。)で示される化合物を塩基
で処理し脱アジ化水素反応を行うことを特徴とす
る式 (式中R1、R2及びR3は式と同じ意味を有す。) で示される2−アジド−2−セフエム化合物の製
造方法。[Claims] 1 formula (In the formula, R 1 represents an acylamino group, R 2 represents an alkyl group or a substituted alkyl group, and R 3 represents a hydrogen atom or acetoxy.) The compound represented by the formula is treated with a base to perform a dehydrogenation reaction. An expression characterized by (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as in the formula.) A method for producing a 2-azido-2-cephem compound represented by the formula.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2588474A JPS6127399B2 (en) | 1974-03-06 | 1974-03-06 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2588474A JPS6127399B2 (en) | 1974-03-06 | 1974-03-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS50117794A JPS50117794A (en) | 1975-09-16 |
JPS6127399B2 true JPS6127399B2 (en) | 1986-06-25 |
Family
ID=12178197
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2588474A Expired JPS6127399B2 (en) | 1974-03-06 | 1974-03-06 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6127399B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62145397U (en) * | 1986-03-07 | 1987-09-12 | ||
JPH0282698A (en) * | 1988-09-20 | 1990-03-23 | Kitagawa Kogyo Kk | Electromagnetic wave shielding member |
-
1974
- 1974-03-06 JP JP2588474A patent/JPS6127399B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62145397U (en) * | 1986-03-07 | 1987-09-12 | ||
JPH0282698A (en) * | 1988-09-20 | 1990-03-23 | Kitagawa Kogyo Kk | Electromagnetic wave shielding member |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS50117794A (en) | 1975-09-16 |
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