JPS61250999A - X線検査方法及び装置 - Google Patents
X線検査方法及び装置Info
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- JPS61250999A JPS61250999A JP61099271A JP9927186A JPS61250999A JP S61250999 A JPS61250999 A JP S61250999A JP 61099271 A JP61099271 A JP 61099271A JP 9927186 A JP9927186 A JP 9927186A JP S61250999 A JPS61250999 A JP S61250999A
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- ray
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- H05G1/08—Electrical details
- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
- H05G1/30—Controlling
- H05G1/38—Exposure time
- H05G1/42—Exposure time using arrangements for switching when a predetermined dose of radiation has been applied, e.g. in which the switching instant is determined by measuring the electrical energy supplied to the tube
- H05G1/44—Exposure time using arrangements for switching when a predetermined dose of radiation has been applied, e.g. in which the switching instant is determined by measuring the electrical energy supplied to the tube in which the switching instant is determined by measuring the amount of radiation directly
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/30—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from X-rays
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/08—Electrical details
- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
- H05G1/30—Controlling
- H05G1/46—Combined control of different quantities, e.g. exposure time as well as voltage or current
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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- X-Ray Techniques (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、X線管を具えるX線検査装置1乎おいて、ス
イッチオン管電流の大きさを制御し、予め定められた持
続時間TI!xpを有する露出の結果として与えられる
放射線露出密度Eを提案し、X線管に夫々予め定められ
た管電圧■と管電流Iとを与えることにより露出測定を
行うステップと、X線露出制御装置に結合され、これか
らスイッチオン管電流に対する露出値IEXPを導くよ
うに配設されているセンサ手段によりX線管からのX線
の通路内に位置する被検体を通り抜けたX線の強さを測
定するステップとを含み、スイッチオン管電流と予め定
められた管電圧■とが予め定められた持続時間TI!X
Pを有する露出により提案される放射線露出密度Eを与
えるX線検査方法に関するものである。
イッチオン管電流の大きさを制御し、予め定められた持
続時間TI!xpを有する露出の結果として与えられる
放射線露出密度Eを提案し、X線管に夫々予め定められ
た管電圧■と管電流Iとを与えることにより露出測定を
行うステップと、X線露出制御装置に結合され、これか
らスイッチオン管電流に対する露出値IEXPを導くよ
うに配設されているセンサ手段によりX線管からのX線
の通路内に位置する被検体を通り抜けたX線の強さを測
定するステップとを含み、スイッチオン管電流と予め定
められた管電圧■とが予め定められた持続時間TI!X
Pを有する露出により提案される放射線露出密度Eを与
えるX線検査方法に関するものである。
本発明はまたX線管及び制御自在の電源を具備するX線
発生器と、X線管からのX線通路内に位置する被検体を
通り抜けたX線を検出するセンサ手段と、このセンサ手
段に結合され、X線管に夫々予め定められた管電圧■及
び管電流Iを加えた時、センサ手段で検出される放射線
を測定する露出測定と、スイッチオン管電流の露出値す
、XPを導きだすのに使用される測定とを行うように構
成され、このスイッチオン管電流と、予め定められた管
電流とが一緒になって予め定められた持続時間T1.X
Pを有する露出により予め定められた露出密度Eを与え
るX線露出制御装置とを具えるX線検査装置に関するも
のである。
発生器と、X線管からのX線通路内に位置する被検体を
通り抜けたX線を検出するセンサ手段と、このセンサ手
段に結合され、X線管に夫々予め定められた管電圧■及
び管電流Iを加えた時、センサ手段で検出される放射線
を測定する露出測定と、スイッチオン管電流の露出値す
、XPを導きだすのに使用される測定とを行うように構
成され、このスイッチオン管電流と、予め定められた管
電流とが一緒になって予め定められた持続時間T1.X
Pを有する露出により予め定められた露出密度Eを与え
るX線露出制御装置とを具えるX線検査装置に関するも
のである。
このようなX線検査装置及びそこにおいて−回の露出に
対するスイッチオン管電流の大きさを制御する方法は、
例えば、英国特許第Gel、 489.377号明細書
から既知であるが、これは、被検体を通るX線の量を測
定できるように位置する電離箱のようなX線感応要素を
開示している。このX線感応要素の出力はX線露出制御
装置に供給される。
対するスイッチオン管電流の大きさを制御する方法は、
例えば、英国特許第Gel、 489.377号明細書
から既知であるが、これは、被検体を通るX線の量を測
定できるように位置する電離箱のようなX線感応要素を
開示している。このX線感応要素の出力はX線露出制御
装置に供給される。
このX線露出制御装置はまた管電流、管電圧及び露出時
間を受は取る入力端子を具えている。X線露出制御装置
の出力は所定の管電圧で予め定められた露出密度Eを求
めるのに必要な管スイッチオン電流IEXPを示す。実
際には最初の露出は管電圧及び管電流をX線管の動作範
囲の限界内の適当な初期値VTESTI hl:sTに
とったテスト露出である。
間を受は取る入力端子を具えている。X線露出制御装置
の出力は所定の管電圧で予め定められた露出密度Eを求
めるのに必要な管スイッチオン電流IEXPを示す。実
際には最初の露出は管電圧及び管電流をX線管の動作範
囲の限界内の適当な初期値VTESTI hl:sTに
とったテスト露出である。
英国特許第GB1.489.377号明細書に記載され
、権利請求されている装置は、管電流の自然対数に対し
て管電圧をプロットすることにより形成される一定の露
出密度関数と、管動作範囲を限界づける境界関数との交
点を計算し、同じ露出密度に対して使用できる最低管電
圧と、対応する管電流を求めている。蓋し、これより電
圧が低ければ、一般に、コントラストが最大のラジオグ
ラフが与えられるからである。しかし、被検体は、一定
の露出密度関数を作る時仮定されるのと同じ透過性の変
化、その結果としてのX線の硬さの変化を示さないから
、最初の表置的な最低管電圧を求めた後、別のテスト露
出が必要となる。これはX線管の動作範囲限界内で行う
必要がある。次に計算を繰り返す。これを2〜3回繰り
返すと、予め定められた露出時間に対し、十分に正確な
最低管電圧/最高照射強度の露出条件が求まる。
、権利請求されている装置は、管電流の自然対数に対し
て管電圧をプロットすることにより形成される一定の露
出密度関数と、管動作範囲を限界づける境界関数との交
点を計算し、同じ露出密度に対して使用できる最低管電
圧と、対応する管電流を求めている。蓋し、これより電
圧が低ければ、一般に、コントラストが最大のラジオグ
ラフが与えられるからである。しかし、被検体は、一定
の露出密度関数を作る時仮定されるのと同じ透過性の変
化、その結果としてのX線の硬さの変化を示さないから
、最初の表置的な最低管電圧を求めた後、別のテスト露
出が必要となる。これはX線管の動作範囲限界内で行う
必要がある。次に計算を繰り返す。これを2〜3回繰り
返すと、予め定められた露出時間に対し、十分に正確な
最低管電圧/最高照射強度の露出条件が求まる。
英国特許第Gel、 489.377号に記載されてい
る装置は患者を付加的なテストa出にさらし、露出測定
を直接入射X線につき行うという欠点を抱えている。そ
こでX線映像増倍管を用い、写真のカメラを用いてこの
X線映像増倍管の出力像に対し露出を行うと、データが
十分信頼できない。この欠点を小さく、更には除くため
には、更に計算を行う必要がある。
る装置は患者を付加的なテストa出にさらし、露出測定
を直接入射X線につき行うという欠点を抱えている。そ
こでX線映像増倍管を用い、写真のカメラを用いてこの
X線映像増倍管の出力像に対し露出を行うと、データが
十分信頼できない。この欠点を小さく、更には除くため
には、更に計算を行う必要がある。
本発明の目的は、これらの欠点を小さくした前述した種
類の装置及び方法を提供するにある。
類の装置及び方法を提供するにある。
この目的を達成するため、本発明によれば、前述した種
類の方法において、装置がX線映像増倍管と、このX線
映像増倍管の出力像の少なくとも一部の輝度を求めるよ
うに配設された感光手段とを有するX線検査方法におい
て、フルオロスコピー検査のために与えられる管電圧V
FL及び管電流IFLを用いるフルオロスコピー時に露
出測定を行い、フルオロスコピー検査時にX線映像増倍
管の出力像の少なくとも一部の輝度LIを測定し、管電
圧VFLに関連するスイッチオン管電流の露出値Ir:
xpを管電流1.L1輝度LI及び予め定められた露出
持続時間TEXPから計算することを特徴とする。
類の方法において、装置がX線映像増倍管と、このX線
映像増倍管の出力像の少なくとも一部の輝度を求めるよ
うに配設された感光手段とを有するX線検査方法におい
て、フルオロスコピー検査のために与えられる管電圧V
FL及び管電流IFLを用いるフルオロスコピー時に露
出測定を行い、フルオロスコピー検査時にX線映像増倍
管の出力像の少なくとも一部の輝度LIを測定し、管電
圧VFLに関連するスイッチオン管電流の露出値Ir:
xpを管電流1.L1輝度LI及び予め定められた露出
持続時間TEXPから計算することを特徴とする。
この方法の好適な一実施例は、管電圧VFLに関連する
スイッチオン管電流の露出値1p:xpを、LAを予め
定められた校正定数とし、関係を用いて計算することに
より導出することを特徴とする。
スイッチオン管電流の露出値1p:xpを、LAを予め
定められた校正定数とし、関係を用いて計算することに
より導出することを特徴とする。
装置が表示用の螢光像を導き出すためにビデオカメラを
具える場合は、この方法はビデオ信号の振幅から輝度L
Iを求めるステップを含むことができる。フルオロスコ
ピー(f 1uoroscopy)時に用いる電圧vP
Lと異なる管電圧Vl!XPで露出を行うことが望まし
い場合の好適な一実施例は、フルオロスコピー時に使用
される管電圧VFLに対応する露出値1gxp lから
、pを管電圧の関数で且つ被検体の性質及びX線装置に
関連する高電圧依存ファクタにも依存するものとした時
、関係 に従って、スイッチオン管電流の対応する新しい露出値
l1xpzを導き出すステップを含むことを特徴とする
。符号たはX線映像増倍管に絞りを取り付ける場合に生
ずる状況を考慮に入れるために用いる。蓋し、新しい管
電流IEXP2が絞りを開く程度にも依存するからであ
る。
具える場合は、この方法はビデオ信号の振幅から輝度L
Iを求めるステップを含むことができる。フルオロスコ
ピー(f 1uoroscopy)時に用いる電圧vP
Lと異なる管電圧Vl!XPで露出を行うことが望まし
い場合の好適な一実施例は、フルオロスコピー時に使用
される管電圧VFLに対応する露出値1gxp lから
、pを管電圧の関数で且つ被検体の性質及びX線装置に
関連する高電圧依存ファクタにも依存するものとした時
、関係 に従って、スイッチオン管電流の対応する新しい露出値
l1xpzを導き出すステップを含むことを特徴とする
。符号たはX線映像増倍管に絞りを取り付ける場合に生
ずる状況を考慮に入れるために用いる。蓋し、新しい管
電流IEXP2が絞りを開く程度にも依存するからであ
る。
本発明によれば、前述した種類のX線検査装置において
、・装置がX線映像増倍管と、このX線映像増倍管の出
力像の少なくとも一部の輝度を求めるように配置されて
いる感光手段とを具えるX線検査装置において、感光手
段がX線映像増倍管の出力像の少なくとも一部の輝度を
表わす出力信号LIを与えるように配置された手段を具
え、この出力信号をX線露出制御手段に与え、このX線
露出制御手段がフルオロスコピー時に管電圧VFLと管
電流IFLとを用いて露出測定を行い、管電流■、い輝
度LI及び予め定められた露出持続時間TI!XPから
管電圧VFLに関連するスイッチオン管電流の露出値1
!!XPIを計算することを特徴とする。 このX線検
査装置の一つの好適な実施例は、X線露出制御装置が、
LAを予め定められた校正定数とし、関係 を用いて、管電圧VFLに関連するスイッチオン管電流
の露出値IEXPを計算するように構成されていること
を特徴とする。
、・装置がX線映像増倍管と、このX線映像増倍管の出
力像の少なくとも一部の輝度を求めるように配置されて
いる感光手段とを具えるX線検査装置において、感光手
段がX線映像増倍管の出力像の少なくとも一部の輝度を
表わす出力信号LIを与えるように配置された手段を具
え、この出力信号をX線露出制御手段に与え、このX線
露出制御手段がフルオロスコピー時に管電圧VFLと管
電流IFLとを用いて露出測定を行い、管電流■、い輝
度LI及び予め定められた露出持続時間TI!XPから
管電圧VFLに関連するスイッチオン管電流の露出値1
!!XPIを計算することを特徴とする。 このX線検
査装置の一つの好適な実施例は、X線露出制御装置が、
LAを予め定められた校正定数とし、関係 を用いて、管電圧VFLに関連するスイッチオン管電流
の露出値IEXPを計算するように構成されていること
を特徴とする。
光検出手段は、光電子増倍管若しくは光トランジスタの
ようなホトセル又はX線管映像増倍管の出力スクリーン
から表ボモニタへの螢光像への伝達を行う撮像管及びこ
の撮像管からのビデオ出力信号のピーク値若しくは平均
値から輝度LIを表わす信号を導き出す適当な回路手段
を具えることができる。
ようなホトセル又はX線管映像増倍管の出力スクリーン
から表ボモニタへの螢光像への伝達を行う撮像管及びこ
の撮像管からのビデオ出力信号のピーク値若しくは平均
値から輝度LIを表わす信号を導き出す適当な回路手段
を具えることができる。
本発明は、写真手段によりX線映像増倍管の出力スクリ
ーンからラジオグラフィック記録を作るべき時は、X線
映像増倍管の出力スクリーン上の像の光の強さを測定す
ることにより必要な露出データの一層良好な目安かえら
れることを自覚したことに基づいている。このような測
定は露出時間と密度が与えられた時、スイッチオン管電
流を求めるのに使用することができる。これはX線映像
増倍管の伝達関数にしばしば生ずる変動にほとんど独立
している。
ーンからラジオグラフィック記録を作るべき時は、X線
映像増倍管の出力スクリーン上の像の光の強さを測定す
ることにより必要な露出データの一層良好な目安かえら
れることを自覚したことに基づいている。このような測
定は露出時間と密度が与えられた時、スイッチオン管電
流を求めるのに使用することができる。これはX線映像
増倍管の伝達関数にしばしば生ずる変動にほとんど独立
している。
本発明は、更に、このような出力像の光の強さの測定は
フルオロスコピー検査の進行中に容易に行うことができ
、付加的なテストB出、従って余分な患者に対する照射
を必要とせずにフルオログラフィック露出を行えること
を自覚したことに基づいている。
フルオロスコピー検査の進行中に容易に行うことができ
、付加的なテストB出、従って余分な患者に対する照射
を必要とせずにフルオログラフィック露出を行えること
を自覚したことに基づいている。
この発明の実施例は添付の図面を引用し、実施例によっ
て説明されよう。
て説明されよう。
この発明を具体化するX線検査装置が第1図に示されて
いる。X線管1は制御可能な電源2に接続されている。
いる。X線管1は制御可能な電源2に接続されている。
通常の二極管型X線管の場合に、陰極から陰極に流れる
電子放射電流を意味する管電流は、陽極と陰極の間に管
電圧、すなわち高電圧を印加することによって流されて
いる。管電流は制限された放射であり、そして陰極の温
度、従ってヒーター電流およびまた管電圧に依存してい
る。
電子放射電流を意味する管電流は、陽極と陰極の間に管
電圧、すなわち高電圧を印加することによって流されて
いる。管電流は制限された放射であり、そして陰極の温
度、従ってヒーター電流およびまた管電圧に依存してい
る。
さらに、実際の管電流は例えば露光の開始後の用な管電
圧の印加後においてのみ測定できる。もしこの電流が不
正確であると、所与の管電圧に対して陰極温度の変化に
よってのみそれは変更でき、そして熱慣性のために、少
なくとも運動による不鮮明化を最少にするために短くし
なければならぬ。
圧の印加後においてのみ測定できる。もしこの電流が不
正確であると、所与の管電圧に対して陰極温度の変化に
よってのみそれは変更でき、そして熱慣性のために、少
なくとも運動による不鮮明化を最少にするために短くし
なければならぬ。
典型的な螢光写真露光の期間と比べてこれは比較的ゆっ
くりした過程である。従って、選ばれた管電圧が印加さ
れる場合、スイッチオン管電流が所望の大きさである様
に、X線管の陰極は適当なヒーター電流によって予熱さ
れねばならないことは重要である。スイッチオン管電流
のプリセレクションは、例えば英国特許明細舎弟2.0
21.8108号、第1.599.707号および1.
486.198号に説明された装置のいずれかによって
実行でき、ここで制御可能な電源2が管電流前制御のい
くつかの形態に対する機能を含むものと仮定されている
。
くりした過程である。従って、選ばれた管電圧が印加さ
れる場合、スイッチオン管電流が所望の大きさである様
に、X線管の陰極は適当なヒーター電流によって予熱さ
れねばならないことは重要である。スイッチオン管電流
のプリセレクションは、例えば英国特許明細舎弟2.0
21.8108号、第1.599.707号および1.
486.198号に説明された装置のいずれかによって
実行でき、ここで制御可能な電源2が管電流前制御のい
くつかの形態に対する機能を含むものと仮定されている
。
第1図に示されたX線検査装置はさらに、検査している
物体3の先のX線放射通路において、X線映像増倍管4
のアセンブリの形をした、物体3の先のX線放射を感知
する感知手段、光分古鏡(light distrib
ution m1rror) 5および筺体7の中の撮
像管6を具えている。光分古鏡5はX線映像増倍管4の
出力スクリーンから光通路の中に、そして外え偏位可能
である。螢光写真検査の間、映像増倍管出力スクリーン
から中継されたすべての光が撮像管6に向けられる様に
、鏡5は光通路から移動される。螢光写真露光が写真フ
ィルムカメラ8の使用によって行われる場合、鏡5は光
通路に戻され、フィルムカメラ8への光の約85%を反
射し、撮像管6に約10%の光が通過する様に配列され
、従って露光が行われている間に映像フィールドは螢光
写真表示スクリーン10上で連続してモニターされる様
になっている。
物体3の先のX線放射通路において、X線映像増倍管4
のアセンブリの形をした、物体3の先のX線放射を感知
する感知手段、光分古鏡(light distrib
ution m1rror) 5および筺体7の中の撮
像管6を具えている。光分古鏡5はX線映像増倍管4の
出力スクリーンから光通路の中に、そして外え偏位可能
である。螢光写真検査の間、映像増倍管出力スクリーン
から中継されたすべての光が撮像管6に向けられる様に
、鏡5は光通路から移動される。螢光写真露光が写真フ
ィルムカメラ8の使用によって行われる場合、鏡5は光
通路に戻され、フィルムカメラ8への光の約85%を反
射し、撮像管6に約10%の光が通過する様に配列され
、従って露光が行われている間に映像フィールドは螢光
写真表示スクリーン10上で連続してモニターされる様
になっている。
光電セル12の形をした光感短手段(光増倍器あるいは
光半導体装置が適当である)が、X線映像倍増管4の出
力映像の少なくとも一部分の発光強度を感知するために
配列されている。フォトセル12の出力は増幅器13に
よって増幅され、螢光透視の間に制御アセンブリ14に
供給され、ここでそれは映像増倍管4の出力に所定の(
低い)平均輝度レベルを維持する様に、螢光透視の間に
X線管1の管電流を制御するために制御可能な電源2に
対して制御信号を与えるプレセット基準と比較されてい
る。
光半導体装置が適当である)が、X線映像倍増管4の出
力映像の少なくとも一部分の発光強度を感知するために
配列されている。フォトセル12の出力は増幅器13に
よって増幅され、螢光透視の間に制御アセンブリ14に
供給され、ここでそれは映像増倍管4の出力に所定の(
低い)平均輝度レベルを維持する様に、螢光透視の間に
X線管1の管電流を制御するために制御可能な電源2に
対して制御信号を与えるプレセット基準と比較されてい
る。
制御アセンブリ14は、マイクロプロセッサ15、揮発
性および不揮発性RAM 16と17、およびO8と種
々の動作ルーチンを実行するプログラムを蓄積するRf
lM 18を含む蓄積プログラム・マイクロプロセッサ
制御装置の形を己でいる。制御アセンブリ14はまたデ
ータと命令アクセスおよび出力指令実行のための入出力
装置19と20を備えている。オペレータは種々の制御
命令を入力するためのく略図的に示さ゛れた)キーボー
ド21の形態をした制御パネルが備えられ、表示22は
装置の動作状態を示すのに備えられている。
性および不揮発性RAM 16と17、およびO8と種
々の動作ルーチンを実行するプログラムを蓄積するRf
lM 18を含む蓄積プログラム・マイクロプロセッサ
制御装置の形を己でいる。制御アセンブリ14はまたデ
ータと命令アクセスおよび出力指令実行のための入出力
装置19と20を備えている。オペレータは種々の制御
命令を入力するためのく略図的に示さ゛れた)キーボー
ド21の形態をした制御パネルが備えられ、表示22は
装置の動作状態を示すのに備えられている。
光電セル12は累積光メータ(curnulative
lightmeter)としてX線検査装置に使用さ
れており、この光メータは制御アセンブリ14に含まれ
たX線露光制御装置と共に所定の露光線量(expos
ure dose )の端で電源2を経てX線管1をス
イッチオフするのに使われている。しかし、この動作モ
ードでは、露光期間は不確定であり、そして検査のある
形態の場合には所定の露光期間(これはまた用いられた
X線管の動作限界内でできる限り短いことが好ましい)
を使えることが望ましい。
lightmeter)としてX線検査装置に使用さ
れており、この光メータは制御アセンブリ14に含まれ
たX線露光制御装置と共に所定の露光線量(expos
ure dose )の端で電源2を経てX線管1をス
イッチオフするのに使われている。しかし、この動作モ
ードでは、露光期間は不確定であり、そして検査のある
形態の場合には所定の露光期間(これはまた用いられた
X線管の動作限界内でできる限り短いことが好ましい)
を使えることが望ましい。
従って、所定の期間TI!XPを有する露光の結果とし
て、予め定められた露光密度Eを与える様にX線管1の
スイッチオン電流を大きさを制御する方法を実行するた
めに、この発明に従って第1図の実施例は螢光透視の間
に露光測定を行うために配列され、その目的で電源2は
管電圧VFLと管電流IFLをX線管1に印加し、その
間映像増倍管4の少なくとも出力映像の部分の発光強度
LIはフォトセル12によって測定され、そして制御ア
センブリ14中のX線露光制御装置はその測定および管
電流IFL、 露光期間TEXP後に所望の露光密度E
とる管電流VFLと関連するスイッチオン管電流値II
!xplの測定から、関係式 %式% を用いた計算によって導かれる様に配列されている。こ
こでLAは所定の校正定数である。スイッチオン管電流
IEXPIの計算値は、次の対応する螢光写真露光を実
行する際に電源2の管電流制御回路に制御に用いる様に
用意された状態でメモリ16に蓄積されている。
て、予め定められた露光密度Eを与える様にX線管1の
スイッチオン電流を大きさを制御する方法を実行するた
めに、この発明に従って第1図の実施例は螢光透視の間
に露光測定を行うために配列され、その目的で電源2は
管電圧VFLと管電流IFLをX線管1に印加し、その
間映像増倍管4の少なくとも出力映像の部分の発光強度
LIはフォトセル12によって測定され、そして制御ア
センブリ14中のX線露光制御装置はその測定および管
電流IFL、 露光期間TEXP後に所望の露光密度E
とる管電流VFLと関連するスイッチオン管電流値II
!xplの測定から、関係式 %式% を用いた計算によって導かれる様に配列されている。こ
こでLAは所定の校正定数である。スイッチオン管電流
IEXPIの計算値は、次の対応する螢光写真露光を実
行する際に電源2の管電流制御回路に制御に用いる様に
用意された状態でメモリ16に蓄積されている。
校正因数LAは光センサ校正因数であって、これは螢光
透視中の平均映像増倍管光出力と次の螢光写真露光の中
の平均光出力との間の関係を与え、そして対応する値は
、X線検査と結び付いたX線ビームで用いられた補助装
置の各形態に対し決定され、かつ適当に蓄積されなくて
はならない。この決定を行う際に、輝度値LIと管電流
IFLは管電圧VFLで測定され、そして一連の露光は
、所望の露光密度Eを与える対応の管電流■。、をきめ
るために管電圧VFLを使用して標準のファントムで実
行されている。校正因数は関係式から見出され、これは
不揮発性メモリ17に蓄積される。
透視中の平均映像増倍管光出力と次の螢光写真露光の中
の平均光出力との間の関係を与え、そして対応する値は
、X線検査と結び付いたX線ビームで用いられた補助装
置の各形態に対し決定され、かつ適当に蓄積されなくて
はならない。この決定を行う際に、輝度値LIと管電流
IFLは管電圧VFLで測定され、そして一連の露光は
、所望の露光密度Eを与える対応の管電流■。、をきめ
るために管電圧VFLを使用して標準のファントムで実
行されている。校正因数は関係式から見出され、これは
不揮発性メモリ17に蓄積される。
螢光透視の間に用いられた管電流IFLにおける映像増
倍管の出力映像の光強度を測定し、それから線形変換を
施すことにより、この発明に基づく露光に対し要求され
た管電流を決定する方法は、所与の露光期間と管電圧に
対する露光密度と、X線管電流の大きさとの間の関係(
この関係は映像増倍管のガンマ−として考慮されている
)が、線形関係にあると言う事実に依存している。しか
しX線管電圧の変化を含む対応関係は非線形である。
倍管の出力映像の光強度を測定し、それから線形変換を
施すことにより、この発明に基づく露光に対し要求され
た管電流を決定する方法は、所与の露光期間と管電圧に
対する露光密度と、X線管電流の大きさとの間の関係(
この関係は映像増倍管のガンマ−として考慮されている
)が、線形関係にあると言う事実に依存している。しか
しX線管電圧の変化を含む対応関係は非線形である。
それにもかかわらず、螢光透視の間に用いられたものと
異なる管電圧において螢光写真露光を実行することがし
ばしば要望されている。管電圧の変化は生成されたX線
放射の硬さを変化し、従って合成映像のコントラストを
変化する。
異なる管電圧において螢光写真露光を実行することがし
ばしば要望されている。管電圧の変化は生成されたX線
放射の硬さを変化し、従って合成映像のコントラストを
変化する。
かくして、この発明による方法によって螢光透視の間に
用いられた管電圧vPLから異なっている管電圧VEX
Pにおいて螢光写真露光を実行することが要望されてい
る場合、先ず管電圧VFLに対するスイッチオン管電流
II!XP lの値は上に説明された様に決定される。
用いられた管電圧vPLから異なっている管電圧VEX
Pにおいて螢光写真露光を実行することが要望されてい
る場合、先ず管電圧VFLに対するスイッチオン管電流
II!XP lの値は上に説明された様に決定される。
スイッチオン管電流の新しい値II!XP2は関係式
を使用する計算によって決定することができる。
ここでpは管電圧の所定の関数であり、かつまた検査中
の物体の性質およびX線装置に関連する高電圧依存因数
に依存しでいる。
の物体の性質およびX線装置に関連する高電圧依存因数
に依存しでいる。
七記号は、式の左辺(例えば管電流II!XP2)がた
記号の右側の表現に比例していることを意味し、そして
これは、例えば管電流IEXP2はダイアフラムカ4X
線映像増倍管にマウントされている場合にダイアフラム
の開口の程度に依存することを示すのに用いられ、そし
てこれは存在する場合に対応するダイアフラム調節因数
を関係式(1)、 (2)、(3)に導入することにな
ろう。
記号の右側の表現に比例していることを意味し、そして
これは、例えば管電流IEXP2はダイアフラムカ4X
線映像増倍管にマウントされている場合にダイアフラム
の開口の程度に依存することを示すのに用いられ、そし
てこれは存在する場合に対応するダイアフラム調節因数
を関係式(1)、 (2)、(3)に導入することにな
ろう。
関係式(3)は、光エネルギーの平均量あるいは記録フ
ィルム上の所与の露光密度を与えるE値と、捜 E=KXVPXIXTEXP (4)によって与
えられる管電圧■、管電流■および露光時間TEXPを
具えるX線管パラメータとの間の関係から導かれる。こ
こでKは適当な定数であり、これはなかんずくダイアプ
ラム開口の程度を考慮に入れている。式(4)より、か
つ一連の実測によって、一連の一定露光あるいは8曲線
は、管電流(管電流の自然対数が便利であるが)と一定
置光時間に対する管電圧との間の相互関係を与えるため
に、例えば異なった厚さの水ファントムである異なった
物体に対してプロットされよう。測定から8曲線がプロ
ットされ、そして対応する近似関係が nhT =AXVB XC(K) (5)の形
であると決定される。ここでAとBは実験的に決められ
た定数でしり、C(K)はKに依存する定数である。
ィルム上の所与の露光密度を与えるE値と、捜 E=KXVPXIXTEXP (4)によって与
えられる管電圧■、管電流■および露光時間TEXPを
具えるX線管パラメータとの間の関係から導かれる。こ
こでKは適当な定数であり、これはなかんずくダイアプ
ラム開口の程度を考慮に入れている。式(4)より、か
つ一連の実測によって、一連の一定露光あるいは8曲線
は、管電流(管電流の自然対数が便利であるが)と一定
置光時間に対する管電圧との間の相互関係を与えるため
に、例えば異なった厚さの水ファントムである異なった
物体に対してプロットされよう。測定から8曲線がプロ
ットされ、そして対応する近似関係が nhT =AXVB XC(K) (5)の形
であると決定される。ここでAとBは実験的に決められ
た定数でしり、C(K)はKに依存する定数である。
以下の表に設定された値を与えるフィリップスのタイプ
0M20OX線発生器を用いて測定がおこなれ、対応す
る8曲線は第2図にプロットされている。
0M20OX線発生器を用いて測定がおこなれ、対応す
る8曲線は第2図にプロットされている。
表
これ等の曲線は、もちろん特定の装置と露光時間に関す
るものである。所与の任意の装置において、そして所与
の任意の組の露光条件に対し、他の測定系列が処理を設
定する間の装置の校正の一部分として実施されるべきで
あろう。異なった厚さの水ファントムの測定によって一
度E曲線が決定されてしまうと、式(5)に対し最良の
適合を与える定数ΔとBの値を実際に決定する必要は無
い。
るものである。所与の任意の装置において、そして所与
の任意の組の露光条件に対し、他の測定系列が処理を設
定する間の装置の校正の一部分として実施されるべきで
あろう。異なった厚さの水ファントムの測定によって一
度E曲線が決定されてしまうと、式(5)に対し最良の
適合を与える定数ΔとBの値を実際に決定する必要は無
い。
と言うのは、例えば管電圧vhに関連するアドレスを使
用する不揮発性メモリー7および8曲線が測定された物
体の厚さにおいて、各8曲線上の測定された管電流値I
7の表が蓄積できるからである。
用する不揮発性メモリー7および8曲線が測定された物
体の厚さにおいて、各8曲線上の測定された管電流値I
7の表が蓄積できるからである。
新しい電流値I、を導くために、メモリは関連する8曲
線と新しい電圧値V、に関連するアドレスで供給される
。所与の管電圧v0における露光が管電流I。に線形的
に関連しているから、そのアドレスにおける所与の電圧
V。に関連するlrt Ih値よりも実際の電流値11
を蓄積するのが好ましい。この様にして、他の露光値あ
るいは異なった露光期間に対し、電圧Vl= VFLで
決められたスイッチオン電流1gxplは、例えば比1
゜ の決定によって乗算回数mを形成するためにVlに対応
するアドレスで蓄積さた電流値1.と共に使うことがで
き、そしてこの因数mは、乗算rtxpx = m X
I 2 (6)によって、選択された露光
電圧V2=VI!xpに対応するアドレスで蓄積された
電流値I2から新しいスイッチオン電流rgxpaを形
成するのに使用することができる。
線と新しい電圧値V、に関連するアドレスで供給される
。所与の管電圧v0における露光が管電流I。に線形的
に関連しているから、そのアドレスにおける所与の電圧
V。に関連するlrt Ih値よりも実際の電流値11
を蓄積するのが好ましい。この様にして、他の露光値あ
るいは異なった露光期間に対し、電圧Vl= VFLで
決められたスイッチオン電流1gxplは、例えば比1
゜ の決定によって乗算回数mを形成するためにVlに対応
するアドレスで蓄積さた電流値1.と共に使うことがで
き、そしてこの因数mは、乗算rtxpx = m X
I 2 (6)によって、選択された露光
電圧V2=VI!xpに対応するアドレスで蓄積された
電流値I2から新しいスイッチオン電流rgxpaを形
成するのに使用することができる。
II ” IEXPIの場合、mはもちろん1に等しい
が、しかし処理ルーチンを簡単可するために、割算と乗
算のステップが前と同様に遂行されよう。
が、しかし処理ルーチンを簡単可するために、割算と乗
算のステップが前と同様に遂行されよう。
この発明による方法は、最小管電圧を選択する技術を実
行するためにさら用いられ、この電圧は所与の露光を実
施するのに使えるが、一方、英国特許明細舎弟1.48
9.377号の放射線透過写真で説明された様なX線管
の動作限界内にとどまっている。現在の場合、X線管の
動作範囲の限定境界関数は、不揮発性メモリ17かRO
M 18のりずれかの関連電圧V。に対応する各アドレ
スにおいて最大電流値1.MAXhの表として蓄積でき
る。前と同様に、管電圧VFLにおけるスイッチオン管
電流1!!XP lは螢光透視の間に、測定された光強
度LIとこれもまた測定せねばならぬ螢光透視管電流I
FLから研讃によって決定される。それは自動線量制御
がまたフォトセル12を経て与えられるためにこの実施
例で変わろうとするからである。制御アセンブリ14に
右いて、マイクロプロセッサ15は、予定された次々の
各管電圧(例えばVFLあるいはVIPイ=vhに対応
している位置における限定境界関数表に蓄積された制限
電流IXAXr+とを比較するステップバイステップの
検索ルーチンを実施するために配置されている。もしI
EXP = LtAxhなら、位置に関連する低電圧v
h−1を表わす次の隣接アドレスはIBxp (n−1
) (=ml (h−11)の形成に対応して式(6)
を用いてE曲線表から対応するIEXPを先ず形成し、
それからこの値を限定境界関数表から同様に取って来た
hAX (n−11と比較するために使用されている。
行するためにさら用いられ、この電圧は所与の露光を実
施するのに使えるが、一方、英国特許明細舎弟1.48
9.377号の放射線透過写真で説明された様なX線管
の動作限界内にとどまっている。現在の場合、X線管の
動作範囲の限定境界関数は、不揮発性メモリ17かRO
M 18のりずれかの関連電圧V。に対応する各アドレ
スにおいて最大電流値1.MAXhの表として蓄積でき
る。前と同様に、管電圧VFLにおけるスイッチオン管
電流1!!XP lは螢光透視の間に、測定された光強
度LIとこれもまた測定せねばならぬ螢光透視管電流I
FLから研讃によって決定される。それは自動線量制御
がまたフォトセル12を経て与えられるためにこの実施
例で変わろうとするからである。制御アセンブリ14に
右いて、マイクロプロセッサ15は、予定された次々の
各管電圧(例えばVFLあるいはVIPイ=vhに対応
している位置における限定境界関数表に蓄積された制限
電流IXAXr+とを比較するステップバイステップの
検索ルーチンを実施するために配置されている。もしI
EXP = LtAxhなら、位置に関連する低電圧v
h−1を表わす次の隣接アドレスはIBxp (n−1
) (=ml (h−11)の形成に対応して式(6)
を用いてE曲線表から対応するIEXPを先ず形成し、
それからこの値を限定境界関数表から同様に取って来た
hAX (n−11と比較するために使用されている。
この検索は第2図に破線で示されており、そしてV、で
I!XP+a=IXAXmになるまで電圧アドレスを1
つづつステップすることによって続けられている。V、
に対応する電圧アドレスはV(+a++3にステップバ
ックされ、対応する値Vexp I(=V t□8))
とII!XP2(=I!!XPI n++)) は最大
コントラスト露光条件に対する予定された最小管電圧を
与える初期露光値として蓄積される。これは第2図にt
=i。
I!XP+a=IXAXmになるまで電圧アドレスを1
つづつステップすることによって続けられている。V、
に対応する電圧アドレスはV(+a++3にステップバ
ックされ、対応する値Vexp I(=V t□8))
とII!XP2(=I!!XPI n++)) は最大
コントラスト露光条件に対する予定された最小管電圧を
与える初期露光値として蓄積される。これは第2図にt
=i。
cmに対する厚さ曲線(thickness curv
e) に沿ってvl・vptから始まる検索によって示
されており、ここで(B−10)として示されている。
e) に沿ってvl・vptから始まる検索によって示
されており、ここで(B−10)として示されている。
tに対する値は最初にオペレータによって選択される。
電圧のこの変化、従ってX線放射の硬さの変化はその効
果として校正ファントムに対するその対応効果を持つ検
査の下で物体の映像の露光密度に対応しないから、英国
特許第1.489.377号に説明されている様に一層
の露光測定を追考することが望ましい。
果として校正ファントムに対するその対応効果を持つ検
査の下で物体の映像の露光密度に対応しないから、英国
特許第1.489.377号に説明されている様に一層
の露光測定を追考することが望ましい。
この発明によると、管電流IFL、Iを発生するために
自動螢光写真線量制御を許容する様に、予定された初期
露光電圧値VEXP Iに管電圧を設定することによっ
てこのことは実行される。電流値が安定化されるや否や
、映像光強度LIの新しい測定と管電流IFL、Iが行
われ、そしてスイッチオン管電流II!XP3の新しい
値は関係式〔1〕からIEXP lの場合と同様に計算
によって決定される。新しい値TEXP3は物体の性質
によって、II!XP lから8曲線によって決定され
た値IEXP2と同じではないであろう。
自動螢光写真線量制御を許容する様に、予定された初期
露光電圧値VEXP Iに管電圧を設定することによっ
てこのことは実行される。電流値が安定化されるや否や
、映像光強度LIの新しい測定と管電流IFL、Iが行
われ、そしてスイッチオン管電流II!XP3の新しい
値は関係式〔1〕からIEXP lの場合と同様に計算
によって決定される。新しい値TEXP3は物体の性質
によって、II!XP lから8曲線によって決定され
た値IEXP2と同じではないであろう。
もし2つの値II!XP2とIEXP3が所定の合格限
界内で同じであるなら、予定されたスイッチオン管電流
と螢光写真露光に対する電圧パラメータが要求されたこ
の値であるべきであるから、値bXP2は受入れられ、
そして予定された管電圧と共に蓄積される。
界内で同じであるなら、予定されたスイッチオン管電流
と螢光写真露光に対する電圧パラメータが要求されたこ
の値であるべきであるから、値bXP2は受入れられ、
そして予定された管電圧と共に蓄積される。
もし2つの電流値が合格限界を越える範囲で等しくない
なら、厚さt=lQcmとE−10表に関連する仮の等
価表依存電流値(provisional equiv
alenttable−based current
value) I、を発生するためにコンピュータは先
ずIEXP3を同じ因数mによって割算し、そして値■
2に対し最も近い値■□1゜(ト1)を与えるファント
ム厚さ曲線(トt)のVEXPに対応する電圧アドレス
V+a+ IでE曲線表を検索する。ここでtは第2図
で示された値5 、10.20゜30、40のいずれか
を持つことができる。このことはtの各位に対し l h a(E−tl =I inL++、(E−LI
−I!hlp lから比a (E−tl を発生するこ
と、およびa(E−1の最小値に対応するt値を選択す
ることによって実施できる。2つの等しく小さい値の場
合に、より小さいt値が選択される。このことは検査中
の器官あるいは進退部分に関連してオペレータによって
選択のできるところの元々続いている曲線に対応するこ
とが証明されよう。しかし第2図の例では、曲線(B−
20)が選択されている。いずれにしても、コンピュー
タはE値表の識別された厚さ領域を選択し、VExp+
(=V 、、+) テ蓄積されたl1ll+1゜(E
−204の値にI+!XP3で蓄積されたI+a+l+
Ie−201の値にIEXP3を同様に関連させるm
の新しい値(m /と示される)を計算し、そしてIE
XP3が電圧V0,1に対してIxAx(□1)より、
大きいか小さいかを決定する。その結果によって、コン
ピュータは電圧アドレス値を等しい方向にステップし、
毎回ItにP=m’Xl(こで■はE曲線メモリから取
られた管電流値である)からII!XPの新しい値を形
成し、IEXPがIIIIAXより丁度小さいアドレス
になった時あるいはそれに戻るとストップし、そして次
の螢光写真露光に対する管電圧としてそのアドレスに対
応する新しい電圧値V■P2およびスイッチオン管電流
として対応するE曲線決定値IEXP4”m′×■を選
択する。特にIEXP3がIEXP2と非常にことなっ
ているかおよび/またはVEXP2がVEXPIから著
しくことなっている場合に、電圧VFLと露光に対し用
いられるべき電圧との間で大きな差のあるケースでは、
上の処理は管電圧VEXP2を用いる螢光透視の間に一
層の露光測定を行うことから初めて繰返すことができる
。
なら、厚さt=lQcmとE−10表に関連する仮の等
価表依存電流値(provisional equiv
alenttable−based current
value) I、を発生するためにコンピュータは先
ずIEXP3を同じ因数mによって割算し、そして値■
2に対し最も近い値■□1゜(ト1)を与えるファント
ム厚さ曲線(トt)のVEXPに対応する電圧アドレス
V+a+ IでE曲線表を検索する。ここでtは第2図
で示された値5 、10.20゜30、40のいずれか
を持つことができる。このことはtの各位に対し l h a(E−tl =I inL++、(E−LI
−I!hlp lから比a (E−tl を発生するこ
と、およびa(E−1の最小値に対応するt値を選択す
ることによって実施できる。2つの等しく小さい値の場
合に、より小さいt値が選択される。このことは検査中
の器官あるいは進退部分に関連してオペレータによって
選択のできるところの元々続いている曲線に対応するこ
とが証明されよう。しかし第2図の例では、曲線(B−
20)が選択されている。いずれにしても、コンピュー
タはE値表の識別された厚さ領域を選択し、VExp+
(=V 、、+) テ蓄積されたl1ll+1゜(E
−204の値にI+!XP3で蓄積されたI+a+l+
Ie−201の値にIEXP3を同様に関連させるm
の新しい値(m /と示される)を計算し、そしてIE
XP3が電圧V0,1に対してIxAx(□1)より、
大きいか小さいかを決定する。その結果によって、コン
ピュータは電圧アドレス値を等しい方向にステップし、
毎回ItにP=m’Xl(こで■はE曲線メモリから取
られた管電流値である)からII!XPの新しい値を形
成し、IEXPがIIIIAXより丁度小さいアドレス
になった時あるいはそれに戻るとストップし、そして次
の螢光写真露光に対する管電圧としてそのアドレスに対
応する新しい電圧値V■P2およびスイッチオン管電流
として対応するE曲線決定値IEXP4”m′×■を選
択する。特にIEXP3がIEXP2と非常にことなっ
ているかおよび/またはVEXP2がVEXPIから著
しくことなっている場合に、電圧VFLと露光に対し用
いられるべき電圧との間で大きな差のあるケースでは、
上の処理は管電圧VEXP2を用いる螢光透視の間に一
層の露光測定を行うことから初めて繰返すことができる
。
管電圧とスイッチオン管電流の最終値に到達するや否や
、制御アセンブリ14はこれ等を蓄積し、そして制御可
能電源2が連続螢光透視に対する管電圧の元の値VFL
に戻る様に指令する。
、制御アセンブリ14はこれ等を蓄積し、そして制御可
能電源2が連続螢光透視に対する管電圧の元の値VFL
に戻る様に指令する。
制御アセンブリ14は、露光測定が螢光透視検査の開始
のすぐ後で、すなわち適当な螢光透視制御がオペレータ
によって起動された後の所定の短い期間でこの露光測定
が自動的に遂行される様にプログラムされ、そしてX線
露光パラメータの次の計算は螢光写真露光がそのあと何
時でも行なえる様に直ちに実行される。制御アセンブリ
14は制御された管電流IFL、を連続的あるいは頻繁
的にモニタすることにより螢光透視の間に露光条件にお
けるどんな変化もモニタできる。と言うのは測定された
光強度LIは自動螢光透視線量制御ループによって、お
よび、もし露光測定がもはや有効でないことを示す指定
の量だけ電流が変化するなら感知(センシング)によっ
て比較的一定に維持されているからである。この変化が
感知これると、露光に対する管電圧とスイッチオン管電
流の蓄積された値がオペレータからの何の注意を必要と
せず連続的にアップデートされる様に制御アセンブリ1
4が新しい露光測定シーケンスを開始させる。
のすぐ後で、すなわち適当な螢光透視制御がオペレータ
によって起動された後の所定の短い期間でこの露光測定
が自動的に遂行される様にプログラムされ、そしてX線
露光パラメータの次の計算は螢光写真露光がそのあと何
時でも行なえる様に直ちに実行される。制御アセンブリ
14は制御された管電流IFL、を連続的あるいは頻繁
的にモニタすることにより螢光透視の間に露光条件にお
けるどんな変化もモニタできる。と言うのは測定された
光強度LIは自動螢光透視線量制御ループによって、お
よび、もし露光測定がもはや有効でないことを示す指定
の量だけ電流が変化するなら感知(センシング)によっ
て比較的一定に維持されているからである。この変化が
感知これると、露光に対する管電圧とスイッチオン管電
流の蓄積された値がオペレータからの何の注意を必要と
せず連続的にアップデートされる様に制御アセンブリ1
4が新しい露光測定シーケンスを開始させる。
電源2をX線管と接続する高圧ケーブルが、電源2から
の高電圧がスイッチオフされた後で螢光写真露光の終り
でX線管に著しい追加の放電電流を供給するのに十分な
電気容量を有することを思出す必要がある。このことは によって与えられた計算された露光電流II!XPから
オフセット電流I。を引くことによって許容され、ここ
でLは高圧ケーブルの長さであり、露光時間TRXPは
ミリ秒で与えられている。
の高電圧がスイッチオフされた後で螢光写真露光の終り
でX線管に著しい追加の放電電流を供給するのに十分な
電気容量を有することを思出す必要がある。このことは によって与えられた計算された露光電流II!XPから
オフセット電流I。を引くことによって許容され、ここ
でLは高圧ケーブルの長さであり、露光時間TRXPは
ミリ秒で与えられている。
対応する補正は校正式(2)に対し、この場合にはオフ
セットを加算することによってまた行われなくてはなら
ない。従って式は となる。
セットを加算することによってまた行われなくてはなら
ない。従って式は となる。
この発明による方法はX線装置がパルス化螢光透視条件
の下で使用されている状態に容易に適用できる。パルス
化螢光透視は移動体あるいは心臓の様な脈動器官の運動
を[凍結(freeze) Jするために用いられ、そ
して短い期間T、に対して、連続螢光透視についての電
流よりむしろ大きい管電流IFL、Pの適用を含んでい
る。このパルスは繰返し印加され、そして心臓脈動サイ
クルの所定の作動時間点(timing point)
と同期でき、これはオペレータによって調節できる。こ
の状況の下で、量LQを与えるために螢光透視パスの期
間Tpに増幅器13中のフォトセル12の出力信号を積
分することで量LIが導かれ、光強度LI はによって与えられる。ここでnはその間にこの量が積
分されるところのパルスの数である。n=1であること
が好ましく、従って露光データは急速に利用可能になる
。ケーブル容量の効果は、接続30を経るゲーティング
・パルス印加でフォトセル12から積分信号をゲートす
ることでこの測定からのぞかれるから、信号はパルス期
間Tpについてのみ積分される。露光値は式(9)から
この様に導かれた値LTを用いて前ど同様に計算されて
いる。
の下で使用されている状態に容易に適用できる。パルス
化螢光透視は移動体あるいは心臓の様な脈動器官の運動
を[凍結(freeze) Jするために用いられ、そ
して短い期間T、に対して、連続螢光透視についての電
流よりむしろ大きい管電流IFL、Pの適用を含んでい
る。このパルスは繰返し印加され、そして心臓脈動サイ
クルの所定の作動時間点(timing point)
と同期でき、これはオペレータによって調節できる。こ
の状況の下で、量LQを与えるために螢光透視パスの期
間Tpに増幅器13中のフォトセル12の出力信号を積
分することで量LIが導かれ、光強度LI はによって与えられる。ここでnはその間にこの量が積
分されるところのパルスの数である。n=1であること
が好ましく、従って露光データは急速に利用可能になる
。ケーブル容量の効果は、接続30を経るゲーティング
・パルス印加でフォトセル12から積分信号をゲートす
ることでこの測定からのぞかれるから、信号はパルス期
間Tpについてのみ積分される。露光値は式(9)から
この様に導かれた値LTを用いて前ど同様に計算されて
いる。
ここで説明された実施例はフォトセル12によって出力
スクリーンの発光強度を測定しているが、この測定はビ
デオ撮像管6によって発生されたビデオ信号の振幅の測
定によって同様にうまく行うことができる。このことは
単一のゲーティング・比較・測定回路32で行われてい
る。この様にして導かれた測定信号は光強度LIの表現
であり、そして螢光透視の間にX線管線量比の自動制御
についてまた使用することができる。
スクリーンの発光強度を測定しているが、この測定はビ
デオ撮像管6によって発生されたビデオ信号の振幅の測
定によって同様にうまく行うことができる。このことは
単一のゲーティング・比較・測定回路32で行われてい
る。この様にして導かれた測定信号は光強度LIの表現
であり、そして螢光透視の間にX線管線量比の自動制御
についてまた使用することができる。
測定回路32は先ずビデオ信号をゲートするので、フラ
イバックの間の信号期間は除かれる。白対黒尖頭信号振
幅が測定され、黒レベルがクランプされる。尖頭振幅に
おける、および尖頭振幅の丁度下における所与の窓領域
(window range)内の信号振幅(白)の存
在は適当な比較回路を使用して感知され、そしてビデオ
信号がこの窓領域に存在する時間の割合が測定され、そ
して螢光写真線量制御に使用される。この割合は選択で
き、例えば線量制御信号は管電流TpLを設定するため
に導くことができるので、ビデオ信号は円形モニタリン
グ面積を表わす走査フレーム内の所与の期間の約8.7
%だけ尖頭比較器窓内に存在している。このことは一般
に尖頭強度制御(peak 1ntensity co
ntrol)あるいはしばしばT(lPlとよばれてい
る。代案として、失意窓内のビデオ信号の生起に対する
標的期間(target duration)は上記の
所与の期間の約19.2%であり、これは一般に平均強
度制御(averageintensity cont
rol)あるいはTOP2として引用されている。
イバックの間の信号期間は除かれる。白対黒尖頭信号振
幅が測定され、黒レベルがクランプされる。尖頭振幅に
おける、および尖頭振幅の丁度下における所与の窓領域
(window range)内の信号振幅(白)の存
在は適当な比較回路を使用して感知され、そしてビデオ
信号がこの窓領域に存在する時間の割合が測定され、そ
して螢光写真線量制御に使用される。この割合は選択で
き、例えば線量制御信号は管電流TpLを設定するため
に導くことができるので、ビデオ信号は円形モニタリン
グ面積を表わす走査フレーム内の所与の期間の約8.7
%だけ尖頭比較器窓内に存在している。このことは一般
に尖頭強度制御(peak 1ntensity co
ntrol)あるいはしばしばT(lPlとよばれてい
る。代案として、失意窓内のビデオ信号の生起に対する
標的期間(target duration)は上記の
所与の期間の約19.2%であり、これは一般に平均強
度制御(averageintensity cont
rol)あるいはTOP2として引用されている。
光強度値LIの測定に対し、映像フィールドにわたるビ
デオ信号の平均値あるいは円形である映像フィールドの
選択可能領域は、画像フレームにわたってビデオ信号の
ゲートされた部分を適当にゲートしかつ積分することに
よって測定される。
デオ信号の平均値あるいは円形である映像フィールドの
選択可能領域は、画像フレームにわたってビデオ信号の
ゲートされた部分を適当にゲートしかつ積分することに
よって測定される。
さらにフォトセル12とビデオ信号測定装置の組合せを
用いることができ、例えばビデオ信号測定回路32は螢
光透視線量を制御するために使用でき、そしてフォトセ
ル12は露光光強度LIの測定に使用できるかその逆も
そうである。もしビデオカメラレンズ33が制御された
アイリス・ダイアフラム34を備えるなら、対応する制
御35はてイリス34の設定に無関係な出力を維持する
ために測定回路32に印加されなくてはならないことに
注意しなくてはならない。
用いることができ、例えばビデオ信号測定回路32は螢
光透視線量を制御するために使用でき、そしてフォトセ
ル12は露光光強度LIの測定に使用できるかその逆も
そうである。もしビデオカメラレンズ33が制御された
アイリス・ダイアフラム34を備えるなら、対応する制
御35はてイリス34の設定に無関係な出力を維持する
ために測定回路32に印加されなくてはならないことに
注意しなくてはならない。
第1図は本発明を具体化したX線検査装置を示す略図、
第2図はこの装置で用いられたE値曲線を示す図である
。 1・・・X線管 2・・・電源3・・・物体
4・・・X線映像倍増管5・・・光分重
鐘 6・・・ビデオカメラ管7・・・筺体
訃・・フィルムカメラ10・・・表示スクリ
ーン 12・・・光電セル(あるいはフォトセル)13・・・
増倍器 14・・・制御アセンブリ15・・
・マイクロプロセッサ 16・・・揮発性RAM 17・・・不揮発性
RAM18・・・ROM 19.20・
・・入出力装置21・・・キーボード 22・・
・表示30・・・接続 32・・・比較・
測定回路33・・・ジズオカメラレンズ 34・・・アイリス・ダイアフラム 35・・・制御
。 1・・・X線管 2・・・電源3・・・物体
4・・・X線映像倍増管5・・・光分重
鐘 6・・・ビデオカメラ管7・・・筺体
訃・・フィルムカメラ10・・・表示スクリ
ーン 12・・・光電セル(あるいはフォトセル)13・・・
増倍器 14・・・制御アセンブリ15・・
・マイクロプロセッサ 16・・・揮発性RAM 17・・・不揮発性
RAM18・・・ROM 19.20・
・・入出力装置21・・・キーボード 22・・
・表示30・・・接続 32・・・比較・
測定回路33・・・ジズオカメラレンズ 34・・・アイリス・ダイアフラム 35・・・制御
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、X線管を具えるX線検査装置において、スイッチオ
ン管電流の大きさを制御し、予め定められた持続時間T
_E_X_Pを有する露出の結果として与えられる放射
線露出密度Eを提案し、X線管に夫々予め定められた管
電圧Vと管電流Iとを与えることにより露出測定を行う
ステップと、X線露出制御装置に結合され、これからス
イッチオン管電流に対する露出値 I_E_X_Pを導くように配設されているセンサ手段
によりX線管からのX線の通路内に位置する被検体を通
り抜けたX線の強さを測定するステップとを含み、スイ
ッチオン管電流と予め定められた管電圧Vとが予め定め
られた持続時間T_E_X_Pを有する露出により提案
される放射線露出密度Eを与えるX線検査方法であって
、装置がX線映像増倍管と、このX線映像増倍管の出力
像の少なくとも一部の輝度を求めるように配設された感
光手段とを有するX線検査方法において、フルオロスコ
ピー検査のために与えられる管電圧V_F_L及び管電
流I_F_Lを用いるフルオロスコピー時に露出測定を
行い、フルオロスコピー検査時にX線映像増倍管の出力
像の少なくとも一部の輝度LIを測定し、管電圧V_F
_Lに関連するスイッチオン管電流の露出値I_E_X
_Pを管電流I_F_L輝度LI及び予め定められた露
出持続時間T_E_X_Pから計算することを特徴とす
るX線検査方法。 2、管電圧V_F_Lに関連するスイッチオン管電流の
露出値I_E_X_Pを、LAを予め定められた校正 定数とし、関係 I_E_X_P_1=I_F_L×LA/LI×T_E
_X_Pを用いて計算することにより導出することを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載のX線検査方法。 3、感光手段が撮像管を具え、この撮像管により発生さ
せられたビデオ信号の振幅から輝度LIを求めるステッ
プを含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第
2項記載のX線検査方法。 4、提案される露出の時使用するために選択される管電
圧V_E_X_Pがフルオロスコピー時に使用される電
圧V_F_Lと異なる場合の特許請求の範囲第1項、第
2項又は第3項のいずれか一項に記載のX線検査方法に
おいて、フルオロスコピー時に使用される管電圧V_F
_Lに対応する露出値I_E_X_P_1から、pを管
電圧の関数で且つ被検体の性質及びX線装置に関連する
高電圧依存ファクタにも依存するものとした時、関係 I_E_X_P_2≒I_E_X_P_1×|V_F_
L/V_E_X_P|^pに従って、スイッチオン管電
流の対応する新しい露出値I_E_X_P_2を導き出
すステップを含むことを特徴とするX線検査方法。 5、管電圧V_E_X_Pを露出密度が一定の場合の管
ターンオン電流及び管電圧の関数と、X線管の動作範囲
を限界づける境界関数との計算された下側電圧の交点に
より定める特許請求の範囲第4項記載のX線検査方法に
おいて、この計算された管電圧V_E_X_Pと管電流
I_F_L_1とを用いて別の露出測定を行い、管電圧
V_F_Lと管電流I_F_Lとを用いる前のフルオロ
スコピー検査時とほぼ同じX線の強さ(ドーズ速度)を
与えことを特徴とすX線検査方法。 6、X線管及び制御自在の電源を具備するX線発生器と
、X線管からのX線通路内に位置する被検体を通り抜け
たX線を検出するセンサ手段と、このセンサ手段に結合
され、X線管に夫々予め定められた管電圧V及び管電流
Iを加えた時、センサ手段で検出される放射線を測定す
る露出測定と、スイッチオン管電流の露出値I_E_X
_Pを導きだすのに使用される測定とを行うように構成
され、このスイッチオン管電流と、予め定められた管電
流とが一緒になって予め定められた持続時間T_E_X
_Pを有する露出により予め定められた露出密度Eを与
えるX線露出制御装置とを具えるX線検査装置であって
、装置がX線映像増倍器と、このX線映像増倍器の出力
像の少なくとも一部の輝度を求めるように配置されてい
る感光手段とを具えるX線検査装置において、感光手段
がX線映像増倍管の出力像の少なくとも一部の輝度を表
わす出力信号LIを与えるように配置された手段を具え
、この出力信号をX線露出制御手段に与え、このX線露
出制御手段がフルオロスコピー時に管電圧V_F_Lと
管電流I_F_Lとを用いて露出測定を行い、管電流I
_F_L、輝度LI及び予め定められた露出持続時間 T_E_X_Pから管電圧V_F_Lに関連するスイッ
チオン管電流の露出値I_E_X_P_1を計算するこ
とを特徴とするX線検査装置。 7、X線露出制御装置が、LAを予め定められた校正定
数とし、関係 I_E_X_P_1≒I_F_L×LA/LI×T_E
_X_Pを用いて、管電圧V_F_Lに関連するスイッ
チオン管電流の露出値I_E_X_Pを計算するように
構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第6項
記載のX線検査装置。 8、電圧V_F_Lを短いパルスの系列としてX線管に
与え各パルスの持続時間をT_pとし、その各々におい
て管電流I_F_Lを流さしめる特許請求の範囲第6項
又は第7項に記載のX線検査装置において、n個の短い
パルスの各々の持続時間T_p間感光手段の出力をゲー
トすることにより露出測定を行い、このゲートされた出
力を積分して量LQを求め、nを1を含 む自然数とし、出力信号LIを LI=LQ/n×T_p から形成することを特徴とするX線検査装置。 9、前記感光手段が光電子増倍管であることを特徴とす
る特許請求の範囲第6項、第7項又は第8項のいずれか
一項に記載のX線検査装置。 10、前記感光手段が撮像管であり、この撮像管のビデ
オ出力信号の振幅から輝度LIを表わす信号を導き出す
回路手段を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第6
項、第7項又は第8項のいずれか一項に記載のX線検査
装置。 11、前記X線露出制御装置が、フルオロスコピー時に
用いられた管電圧V_F_Lとは異なる露出を行うため
の管電圧V_E_X_Pを選択したことに応答して、p
を就中管電圧の関数として関係I_E_X_P_2≒I
_E_X_P_1×|V_F_L/V_E_X_P|^
pにより管電流の新しい露出値I_E_X_P_2を導
き出すことを特徴とする特許請求の範囲第6項ないし第
10項のいずれか一項に記載のX線検査装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB08510863A GB2174492A (en) | 1985-04-29 | 1985-04-29 | X-ray examination system and method of controlling an exposure therein |
GB8510863 | 1985-04-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61250999A true JPS61250999A (ja) | 1986-11-08 |
Family
ID=10578381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61099271A Pending JPS61250999A (ja) | 1985-04-29 | 1986-04-28 | X線検査方法及び装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4747118A (ja) |
EP (1) | EP0200272A3 (ja) |
JP (1) | JPS61250999A (ja) |
CA (1) | CA1262191A (ja) |
GB (1) | GB2174492A (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI79241C (fi) * | 1985-08-29 | 1989-12-11 | Orion Yhtymae Oy | Foerfarande och anordning foer reglering av roentgenstraolningen vid en roentgenanordning, speciellt en mammografianordning. |
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US4703496A (en) * | 1985-12-30 | 1987-10-27 | General Electric Company | Automatic x-ray image brightness control |
JP2597588B2 (ja) * | 1987-07-16 | 1997-04-09 | 株式会社東芝 | X線透視装置 |
US4905150A (en) * | 1988-01-18 | 1990-02-27 | Siemens Aktiengesellschaft | X-ray diagnostics installation with mean parenchyma dose calculator |
US5003572A (en) * | 1990-04-06 | 1991-03-26 | General Electric Company | Automatic brightness compensation for x-ray imaging systems |
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DE102004060798A1 (de) | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Bayer Materialscience Ag | Wässrige Beschichtungen für Nahrungsmittelbehälter |
JP5824860B2 (ja) * | 2011-05-10 | 2015-12-02 | 株式会社島津製作所 | X線制御装置 |
US9107641B2 (en) * | 2013-11-15 | 2015-08-18 | General Electric Company | Heartbeat synchronized cardiac imaging |
CN110120045B (zh) * | 2019-06-14 | 2023-05-12 | 晓智未来(成都)科技有限公司 | 一种基于回归模型的x光成像曝光参数确定方法 |
CN110987980B (zh) * | 2019-10-30 | 2022-08-12 | 四川航天川南火工技术有限公司 | 一种复杂结构火工装置的高清晰度高宽容度透照方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US3917949A (en) * | 1973-06-19 | 1975-11-04 | Siemens Ag | X-ray diagnosis apparatus for feeding an x-ray tube having a rotary anode |
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NL168392C (nl) * | 1973-10-12 | 1982-03-16 | Philips Nv | Inrichting voor het instellen van een roentgenstraalbuis. |
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DE2703420C2 (de) * | 1977-01-28 | 1985-11-21 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zum Einstellen des durch eine Röntgenröhre fließenden Röhrenstromes und Schaltungsanordnung zur Durchführung des Verfahrens |
CA1122330A (en) * | 1978-04-19 | 1982-04-20 | Kenneth F. Lickel | X-ray tube filament current predicting circuit |
US4335307A (en) * | 1980-04-21 | 1982-06-15 | Technicare Corporation | Radiographic apparatus and method with automatic exposure control |
DD158307A1 (de) * | 1981-04-23 | 1983-01-05 | Guenther Orth | Verfahren zur herstellung von roentgenaufnahmen |
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-
1985
- 1985-04-29 GB GB08510863A patent/GB2174492A/en not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-04-24 CA CA000507477A patent/CA1262191A/en not_active Expired
- 1986-04-25 US US06/856,611 patent/US4747118A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-04-25 EP EP86200713A patent/EP0200272A3/en not_active Withdrawn
- 1986-04-28 JP JP61099271A patent/JPS61250999A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0200272A3 (en) | 1989-05-03 |
GB2174492A (en) | 1986-11-05 |
CA1262191A (en) | 1989-10-03 |
EP0200272A2 (en) | 1986-11-05 |
US4747118A (en) | 1988-05-24 |
GB8510863D0 (en) | 1985-06-05 |
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