JPS61250619A - Optical element - Google Patents
Optical elementInfo
- Publication number
- JPS61250619A JPS61250619A JP9102185A JP9102185A JPS61250619A JP S61250619 A JPS61250619 A JP S61250619A JP 9102185 A JP9102185 A JP 9102185A JP 9102185 A JP9102185 A JP 9102185A JP S61250619 A JPS61250619 A JP S61250619A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gel layer
- heated
- layer
- region
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、新規な光学素子に関し、特にゲルの光散乱性
を利用した光学素子に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a novel optical element, and particularly to an optical element that utilizes the light scattering properties of gel.
[従来の技術]
及び[発明が解決しようとする問題点]近年、オフィス
・オートメーション(OA)化の発展に伴い、表示装置
(ディスプレイ)の用途が事務機器の分野にも広く進出
している。このような表示装置においては、長時間の使
用にも目の疲労を感じさせないものが望ましい。従来、
斯かる表示素子としては、電界発色表示素子(ECD)
、液晶表示素子(LCD )等の非発光型のものが知ら
れている。しかしながら、EGDは表示コントラストが
低く、LCDはさらに視野角が狭いという欠点があった
。また、これらを光シャッタ等の光変調素子として利用
する場合にも同様の欠点があった。[Prior Art] and [Problems to be Solved by the Invention] In recent years, with the development of office automation (OA), display devices (displays) have been widely used in the field of office equipment. It is desirable for such a display device to be one that does not cause eye fatigue even when used for a long time. Conventionally,
As such a display element, an electrochromic display element (ECD) is used.
Non-emissive types such as liquid crystal display devices (LCDs) are known. However, EGD has the drawbacks of low display contrast, and LCD has even narrower viewing angles. Further, similar drawbacks occur when these are used as light modulating elements such as optical shutters.
本発明は、従来の素子におけるこのような欠点に鑑みな
されたもので1表示素子として視野角が広く、明瞭性に
優れ、長時間の使用にも目の疲労を感じさせない高品位
の素子、また、光変調素子としてコントラストが高く、
先入射角依存の小さい素子を提供することを目的とする
ものである。The present invention was devised in view of the above drawbacks of conventional devices, and provides a single display device with a wide viewing angle, excellent clarity, and a high-quality device that does not cause eye fatigue even when used for long periods of time. , high contrast as a light modulation element,
The object of this invention is to provide an element that is less dependent on the angle of prior incidence.
[問題点を解決するための手段]
以下、本発明の基本構成を、実施例に対応する第1図を
用いて説明する。[Means for Solving the Problems] Hereinafter, the basic configuration of the present invention will be explained using FIG. 1 corresponding to an embodiment.
図において、1は基板、2はゲル層、3は透明保護板、
8は発熱要素に該当する赤外線吸収層である、基板1は
、光学素子を透過型とした場合にはガラス類、プラスチ
ック類等の光を透すものが用いられ、反射型とした場合
には、シリコンのような半導体類、セラミックス類、ア
ルミのような金属類、不透明プラスチック類等の光を透
さないもの、あるいは前記した透過性材料の表面に金属
被膜を蒸着させたもの等が用いられる。ゲル層2は、液
体を含む網目重合体(ゲル)からなる層であり、このゲ
ルを構成する網目重合体としては、N−イソプロピルア
クリルアミド等の親木性上ツマ−を主成分とし、N、N
−メチレンビスアクリルアミド、エチレングリコールジ
メタクリレート等の多官能上ツマ−を架橋成分として添
加して溶液重合して得られる共重合体、ポリエチレンオ
キシド、ポリプロピレンオキシド、ポリビニルアルコー
ル等の親水性ポリマーを主成分とし、トリクロロ−9−
)リアジン、コハク酸塩化物グルタルアルデヒド、ジメ
チロール尿素等の架橋剤を添加して高分子反応して得ら
れる重合体等が好適である。一方、ゲルを構成する液体
としては、水またはメタノール、エタノール、エチレン
グリコール、グリセリン等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類等が好適である。In the figure, 1 is a substrate, 2 is a gel layer, 3 is a transparent protective plate,
Reference numeral 8 denotes an infrared absorption layer corresponding to a heat generating element. For the substrate 1, a material that transmits light such as glass or plastic is used when the optical element is a transmissive type, and when the optical element is a reflective type, a material that transmits light is used. , materials that do not transmit light such as semiconductors such as silicon, ceramics, metals such as aluminum, and opaque plastics, or materials in which a metal film is vapor-deposited on the surface of the above-mentioned transparent materials are used. . The gel layer 2 is a layer made of a network polymer (gel) containing a liquid, and the network polymer constituting this gel is mainly composed of a wood-loving material such as N-isopropylacrylamide, N, N
- A copolymer obtained by solution polymerization with the addition of a polyfunctional polymer such as methylene bisacrylamide or ethylene glycol dimethacrylate as a crosslinking component, or a hydrophilic polymer such as polyethylene oxide, polypropylene oxide, or polyvinyl alcohol as the main component. , trichloro-9-
) Polymers obtained by adding a crosslinking agent such as riazine, succinate chloride, glutaraldehyde, dimethylol urea, etc. and performing a polymer reaction are suitable. On the other hand, the liquids that make up the gel include water, alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol, and glycerin, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone are preferred.
このゲル層2の厚さとしては、tg腸〜1000 p、
tsが適当であり、好ましくは1IL1〜100gm
が最適な範囲である。The thickness of this gel layer 2 is tg-1000p,
ts is suitable, preferably 1IL1-100gm
is the optimal range.
発熱要素としては、例えば加熱手段として赤外線の吸収
加熱を利用した場合には、赤外線吸収層が用いられる。As the heating element, for example, when infrared absorption heating is used as the heating means, an infrared absorption layer is used.
この赤外線吸収層材料は、それ自身は熱溶融し難い各種
の公知の無機、あるいは有機材料を製膜して得られるも
のであり、かかる材料としては1例えばSi、 SiO
、5iQ2、ZnS、As2S3. AI!2oz 、
NaF 、 Zn5e、 Gd4b4e、カーボンブ
ラック、金属フタロシアニン等が好適に用いられる。こ
の赤外線吸収層9の膜厚としては、500 A〜100
00 Aが好適な範囲である。This infrared absorbing layer material is obtained by forming a film from various known inorganic or organic materials that are difficult to melt by themselves, such as Si, SiO, etc.
, 5iQ2, ZnS, As2S3. AI! 2oz,
NaF, Zn5e, Gd4b4e, carbon black, metal phthalocyanine, etc. are preferably used. The thickness of this infrared absorbing layer 9 is 500A to 100A.
00 A is a preferred range.
また透明保護板3としては、ガラス類、プラスチック類
、誘電体等の透明体が用いられる。なお、コントラスト
の向上を図るため、基板lの表面に可視光反射層又は、
可視光吸収層(図示せず)を設けてもよい。Further, as the transparent protection plate 3, a transparent body such as glass, plastic, dielectric, etc. is used. In addition, in order to improve the contrast, a visible light reflecting layer or a
A visible light absorbing layer (not shown) may also be provided.
[作 用]
次に、光学素子の動作(作像、光変調)原理を、同じく
第1図を用いて説明する。なお、第1図は透過型の例を
示す。[Operation] Next, the principle of operation (imaging, light modulation) of the optical element will be explained using FIG. 1 as well. Note that FIG. 1 shows an example of a transmission type.
先ず、ゲル層2が加温されていない状8(すなわち低温
状態)では、重合体分子鎖の分布は平均的に一様なため
、ゲル層2の低温領域4に入射する光線6−1は、はぼ
そのままゲル層2を通過して基板lから射出する。一方
、情報信号に従って赤外線吸収層8の所定位置が、例え
ば赤外線ビーム5の照射等によって外部から加熱された
場合、この加熱部分に接触ないし近接する領域のゲル層
も加温され、重合体分子鎖の分布は線領域と密領域に別
れ、光散乱性を示すようになる。このため、加温領域4
aに入射する光線6−2は散乱する。この加温領域4a
は、温度が下がるとまた元の透光性に戻る。First, in a state 8 where the gel layer 2 is not heated (that is, in a low temperature state), the distribution of polymer molecular chains is uniform on average, so the light ray 6-1 incident on the low temperature region 4 of the gel layer 2 is , passes through the gel layer 2 as is and is ejected from the substrate l. On the other hand, when a predetermined position of the infrared absorbing layer 8 is heated from the outside by, for example, irradiation with an infrared beam 5 in accordance with the information signal, the gel layer in the area in contact with or in the vicinity of this heated part is also heated, and the polymer molecular chains are heated. The distribution is divided into a linear region and a dense region, and shows light scattering properties. For this reason, heating area 4
The light ray 6-2 incident on a is scattered. This heating area 4a
returns to its original translucency when the temperature drops.
以上の説明で朗らかなように、本発明はゲル層の散乱(
不透光)、非散乱(透光)を熱的に制御することにより
、光変調や表示を行うものである。As the above explanation makes clear, the present invention is based on scattering of the gel layer (
Light modulation and display are performed by thermally controlling the non-transparent (non-transparent) and non-scattering (transparent) properties.
[実施例]
実施例1
第1図は本発明の第1の実施例を示す概略構成図である
。第1図において、基板lおよび透明保護板3として、
厚さ0.3t+s 、大きさ50mmX 10謬履の充
分に清浄なガラス板を使用し、基板1のガラス板表面上
にスパッタリング法により膜厚1500AのGd4b4
e(ガドリニウム・テルビウム・鉄)層を付着して赤外
線吸収層8を形成した。この基板lの赤外線吸収層8の
面と、透明保護板3とをマイラーフィルムをスペーサー
に用いて10gmの間隔で向い合せて接着して成形した
。次に、N−イソプロピルアクリルアミド4.8g及び
N、N−メチレンビスアクリルアミド80mgを、冷水
601Pに溶解し、さらに過硫酸アンモニウム501g
を溶解し、テトラメチルエチレンジアミン150 gR
を添加して減圧にて脱気し、七ツマー溶液とした。この
七ツマー溶液を直ちに基板1と透明保護板3との隙間に
充填封入し、30分間放置してゲル層2を形成すること
によって光学素子を作製した。[Example] Example 1 FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a first example of the present invention. In FIG. 1, as a substrate l and a transparent protection plate 3,
Using a sufficiently clean glass plate with a thickness of 0.3t+s and a size of 50mm x 10cm, a film of Gd4b4 with a thickness of 1500A was deposited on the surface of the glass plate of the substrate 1 by sputtering.
An infrared absorbing layer 8 was formed by depositing an e (gadolinium-terbium-iron) layer. The surface of the infrared absorbing layer 8 of this substrate 1 and the transparent protection plate 3 were bonded and bonded to face each other at an interval of 10 gm using a Mylar film as a spacer. Next, 4.8g of N-isopropylacrylamide and 80mg of N,N-methylenebisacrylamide were dissolved in 601P of cold water, and further 501g of ammonium persulfate was dissolved in 601P of cold water.
Dissolve 150 gR of tetramethylethylenediamine
was added and degassed under reduced pressure to obtain a 7-mer solution. This 7-mer solution was immediately filled and sealed in the gap between the substrate 1 and the transparent protection plate 3, and left to stand for 30 minutes to form a gel layer 2, thereby producing an optical element.
このようにして得られた光学素子に、出力20mW、波
長830nmの半導体レーザービームを、情報信号に従
って素子裏面から赤外線吸収層8に焦点を合せてスキャ
ニング照射したところ、ゲル層2の所定領域が不透光性
に変化することが確認された。これは、ゲル層2の被照
射領域において、半導体レーザービームを吸収して熱に
変換して、相接触するゲル層を加熱するためであると考
えられる。なお、半導体レーザービームによる加熱時間
は一瞬であり、ゲル層2はすぐに元の透光性を示した。When the thus obtained optical element was scanned and irradiated with a semiconductor laser beam with an output of 20 mW and a wavelength of 830 nm, focusing on the infrared absorbing layer 8 from the back surface of the element according to the information signal, a predetermined region of the gel layer 2 was detected. It was confirmed that the material changed to translucency. This is considered to be because the semiconductor laser beam is absorbed in the irradiated area of the gel layer 2 and converted into heat, thereby heating the gel layer that is in contact with each other. Note that the heating time by the semiconductor laser beam was instantaneous, and the gel layer 2 immediately showed its original translucency.
L記し−ザービームによる照射実験を繰り返し行った結
果、再現性及び信号応答性のいずれにおいても、実用上
十分であることが判明した。As a result of repeated irradiation experiments using laser beams, it was found that both reproducibility and signal response were practically sufficient.
実施例2
N−イソプロピルアクリルアミド4g、エチレングリコ
ールジメタクリレート70mg、ヒドロキシエチルメタ
クリレート0.5gを冷水60■βに溶解し、さらに過
硫酸アンモニウム50mgを溶解し、テトラメチルエチ
レンジアミン150 JLRを添加して、減圧にて脱気
した。この溶液をモノマー溶液として用いる以外は、前
記実施例1と全く同様にして光学素子を作製した。Example 2 4 g of N-isopropylacrylamide, 70 mg of ethylene glycol dimethacrylate, and 0.5 g of hydroxyethyl methacrylate were dissolved in 60 μg of cold water, 50 mg of ammonium persulfate was further dissolved, 150 JLR of tetramethylethylenediamine was added, and the mixture was heated under reduced pressure. I degassed it. An optical element was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that this solution was used as the monomer solution.
このようにして得られた光学素子に、前記実施例1と同
様な作像、光変調の実験を行ったところ、実施例1と同
様に良好な結果を得ることができた。When the optical element thus obtained was subjected to imaging and light modulation experiments similar to those in Example 1, good results similar to those in Example 1 were obtained.
実施例3
第2図は本発明の第3の実施例を示す概略構成図である
。この実施例は、前記実施例1および2で用いた赤外線
吸収層8の代わりに、発熱要素として抵抗発熱体層7を
基板1の表面上に配置し、電源10からの電流によって
前記抵抗発熱体層7の加熱を制御するように構成したも
のであり、反射型の例を示すものである。抵抗発熱体層
7の素材としては、硼化ハフニウム、窒化タンタル等の
金属化合物、ニクロム等の合金、またはITO(Ind
ium Tin 0xide)等の透明酸化物等が用い
られ、膜厚としては500〜5000Aの範囲が最適で
ある。また、この抵抗発熱体層7の表面には、図に示す
ように、ゲル層2との間に絶縁層(保護膜)9が形成さ
れる。Embodiment 3 FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a third embodiment of the present invention. In this example, instead of the infrared absorbing layer 8 used in Examples 1 and 2, a resistive heating element layer 7 is arranged as a heating element on the surface of the substrate 1, and the resistive heating element is It is configured to control the heating of the layer 7, and is an example of a reflective type. The material for the resistance heating element layer 7 may be a metal compound such as hafnium boride or tantalum nitride, an alloy such as nichrome, or ITO (Ind.
Transparent oxides such as . Furthermore, as shown in the figure, an insulating layer (protective film) 9 is formed on the surface of this resistance heating element layer 7 between it and the gel layer 2.
第2図において、抵抗発熱体層7につながるスイッチ2
0は開状態となっているため、抵抗発熱体層7には電流
は流れない。したがって、入射する光線8−1は、はぼ
そのままゲル層2を通過し、抵抗発熱体層7の表面で正
反射して再びゲル層2を通過して透明保護板3から射出
する。一方、抵抗発熱体層7aにつながるスイッチ20
aは閉状態となっているため、抵抗発熱体層7aは電源
lOからの電流によって加熱される。このため、入射す
る光線8−2は、前述した様に散乱する。In FIG. 2, a switch 2 connected to a resistance heating layer 7
0 is in the open state, so no current flows through the resistance heating element layer 7. Therefore, the incident light ray 8-1 passes through the gel layer 2 as is, is regularly reflected on the surface of the resistance heating element layer 7, passes through the gel layer 2 again, and is emitted from the transparent protection plate 3. On the other hand, a switch 20 connected to the resistance heating layer 7a
Since a is in the closed state, the resistance heating element layer 7a is heated by the current from the power source IO. Therefore, the incident light ray 8-2 is scattered as described above.
このように、赤外線吸収層8の代わりに抵抗発熱体層7
を発熱要素としてもその効果は同様であり、光学素子と
して作像、光変調を行なうことが可能である。In this way, the resistance heating layer 7 is used instead of the infrared absorbing layer 8.
Even if it is used as a heat generating element, the effect is similar, and it is possible to perform image formation and light modulation as an optical element.
以下、本実施例を更に詳細に説明する。This example will be explained in more detail below.
第3図は本発明の第3の実施例を示す基板の斜視図であ
る。本実施例において、基板lおよび透明保護板3は、
前記実施例1と同様なものを使用した。先ず、第3図に
示される基板lの表面上に、厚さ100OAの窒化タン
タル膜をスパッタリング法により形成し、続いてこの製
膜面にホトレジストを塗布し、基板1の短辺(lhm)
に平行になるように20木/履■のストライプ状パター
ンを焼付は後、エツチング処理により余分の窒化タンタ
ル膜を選択的に除去して、残りを抵抗発熱層11とした
。次に、その上に厚さ2000AのITO膜をスパッタ
リング法により積層し、同様の処理工程を経て、所定の
パターニングを行ない、第3図に示すストライプ状の電
極層12を得た。この時、さらに発熱部分(40p、
ta X 28 p−m )を得るために抵抗発熱層上
のITOを一部除去した。FIG. 3 is a perspective view of a substrate showing a third embodiment of the present invention. In this embodiment, the substrate l and the transparent protection plate 3 are
The same material as in Example 1 was used. First, a tantalum nitride film with a thickness of 100 OA is formed by sputtering on the surface of the substrate l shown in FIG.
After baking a striped pattern of 20 pieces per shoe so as to be parallel to , the excess tantalum nitride film was selectively removed by etching treatment, and the remainder was used as the resistance heating layer 11. Next, an ITO film having a thickness of 2000 Å was laminated thereon by sputtering, followed by similar processing steps and predetermined patterning to obtain the striped electrode layer 12 shown in FIG. 3. At this time, the heating part (40p,
A portion of the ITO on the resistance heating layer was removed to obtain ta
次に、その上に絶縁層13として厚さ2graの5i0
2膜をスパッタリング法により積層した。ただし、抵抗
発熱層11の両端部は、後でリード線をつけるために、
5i02膜がつかないように遮蔽して行った。この抵抗
発熱層11を設けた基板1と、透明保護板3とをマイラ
ーフィルムをスペーサーとして用いてlog、mの間隙
で向い合わせて接着した。次に、N−イソプロピルアク
リルアミド4.8g、N、N−メチレンビスアクリルア
ミド80mg、過硫酸アンモニウム30mgを冷水60
■pに溶解し、テトラメチルエチレンジアミン150ル
βを添加して減圧にて脱気し、モノマー溶液とした。こ
の七ツマー溶液を直ちに基板lと透明保護板3との隙間
に充填封入ル、30分間室温にて放置して、ゲル層2を
形成することにより光学素子を作製した。Next, a 5i0 layer with a thickness of 2 gra is applied as an insulating layer 13 on top of the insulating layer 13.
The two films were laminated by sputtering. However, in order to attach lead wires to both ends of the resistance heating layer 11 later,
The test was carried out while shielding to prevent the 5i02 film from adhering. The substrate 1 provided with the resistance heating layer 11 and the transparent protection plate 3 were bonded to each other with a gap of log m using a Mylar film as a spacer. Next, 4.8 g of N-isopropylacrylamide, 80 mg of N,N-methylenebisacrylamide, and 30 mg of ammonium persulfate were added to 60 g of cold water.
(1) 150 µl of tetramethylethylenediamine was added to the mixture, and the mixture was degassed under reduced pressure to obtain a monomer solution. This 7-mer solution was immediately filled and sealed in the gap between the substrate 1 and the transparent protection plate 3, and left at room temperature for 30 minutes to form a gel layer 2, thereby producing an optical element.
このようにして得られた光学素子の任意の組合せの抵抗
発熱層11に、周波数1 kHzの電気ノくルス信号(
パルス高20v、パルス長5 m5ec)を情報信号に
応じて入力したところ、情報信号に対応する所定の位置
が、不透光性を示して応答し、情報信号に応じた書き込
みが可能であることが確認された。An electrical pulse signal (with a frequency of 1 kHz) (
When a pulse height of 20 V and pulse length of 5 m5 ec) is input in accordance with the information signal, a predetermined position corresponding to the information signal responds by showing opacity, and writing is possible in accordance with the information signal. was confirmed.
上記各実施例において明らかなように、本発明の光学素
子は透過型、反射型のいずれの場合にも、良好な特性を
得ることができる。As is clear from the above examples, the optical element of the present invention can obtain good characteristics in both the transmission type and the reflection type.
[発明の効果]
以上説明したように、本発明による光学素子は散乱特性
に優れているため、コントラストの高い明瞭かつ高解像
の画像を得ることができ、視野角の制限もなくすことが
できる。したがって、表示装置として長時間使用した場
合でも目の疲れを感じさせることがない、また、ゲル層
がわずかな加熱で変調するので、表示装置の消費電力を
節減させることができる。さらには高周波変調も可能で
ある。[Effects of the Invention] As explained above, since the optical element according to the present invention has excellent scattering properties, it is possible to obtain clear and high-resolution images with high contrast, and it is also possible to eliminate limitations on the viewing angle. . Therefore, even when used as a display device for a long time, the eyes will not feel tired, and since the gel layer is modulated by slight heating, the power consumption of the display device can be reduced. Furthermore, high frequency modulation is also possible.
第1図は本発明の第1の実施例を示す概略構成図、第2
図は本発明の第3の実施例を示す概略構成図、第3図は
本発明の第3の実施例を示す基板の斜視図である。
■・・・基板、2・・・ゲル層、3・・・透明保護板。
7.7a・・・抵抗発熱体層、8・・・赤外線吸収層、
11・・・抵抗発熱層、12・・・電極層。
第1図
第2図FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing the first embodiment of the present invention;
The figure is a schematic configuration diagram showing a third embodiment of the invention, and FIG. 3 is a perspective view of a substrate showing the third embodiment of the invention. ■... Substrate, 2... Gel layer, 3... Transparent protective plate. 7.7a... Resistance heating element layer, 8... Infrared absorption layer,
11... Resistance heating layer, 12... Electrode layer. Figure 1 Figure 2
Claims (1)
を示すゲル層を、少なくとも一方の基板の表面に発熱要
素を形成した一対の基板間に挟持してなる光学素子。(1) An optical element in which a gel layer that exhibits light scattering properties when heated and exhibits translucency when cooled is sandwiched between a pair of substrates in which a heat generating element is formed on the surface of at least one of the substrates.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9102185A JPS61250619A (en) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | Optical element |
US06/841,770 US4952035A (en) | 1985-03-22 | 1986-03-20 | Optical element and device using same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9102185A JPS61250619A (en) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | Optical element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61250619A true JPS61250619A (en) | 1986-11-07 |
Family
ID=14014892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9102185A Pending JPS61250619A (en) | 1985-03-22 | 1985-04-30 | Optical element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61250619A (en) |
-
1985
- 1985-04-30 JP JP9102185A patent/JPS61250619A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0736068B2 (en) | Liquid crystal device and manufacturing method thereof | |
JPS61250619A (en) | Optical element | |
US4881798A (en) | Thermal optical modulation method and device using alternating current | |
JPS62925A (en) | Optical element | |
JPS61250623A (en) | Optical element | |
JPH06222342A (en) | Liquid crystal light control element | |
JPS5823614B2 (en) | LCD display method | |
JPS61250620A (en) | Optical element | |
JPS61250621A (en) | Optical element | |
JPS61236533A (en) | Optical element | |
JP4184706B2 (en) | Method for manufacturing antireflection film | |
JPS6344638A (en) | Optical element | |
JPS6238430A (en) | Optical modulation method | |
JPH0135327B2 (en) | ||
JPS61236532A (en) | Optical element | |
JPS61217022A (en) | Optical element | |
JPH05181401A (en) | Production of volumetric hologram optical film, liquid crystal optical element | |
JP2853276B2 (en) | Liquid crystal optical element and manufacturing method thereof | |
JPS62926A (en) | Optical element | |
JP3042081B2 (en) | Image display method, image display medium, and image display device | |
JP2581071Y2 (en) | Liquid crystal optical display device | |
JPH01155322A (en) | Optical element | |
JPS61250622A (en) | Optical element | |
JPS6396624A (en) | Optical modulating method | |
JP3147882B2 (en) | Display element |