JPS61224382A - Pulse laser oscillator - Google Patents
Pulse laser oscillatorInfo
- Publication number
- JPS61224382A JPS61224382A JP6751585A JP6751585A JPS61224382A JP S61224382 A JPS61224382 A JP S61224382A JP 6751585 A JP6751585 A JP 6751585A JP 6751585 A JP6751585 A JP 6751585A JP S61224382 A JPS61224382 A JP S61224382A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- heater
- cathode
- thyratron
- laser oscillator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 25
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 13
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract description 14
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011293 Brassica napus Nutrition 0.000 description 2
- 240000008100 Brassica rapa Species 0.000 description 2
- 235000000540 Brassica rapa subsp rapa Nutrition 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N Heavy water Chemical compound [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 241001062872 Cleyera japonica Species 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000009924 canning Methods 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 235000009508 confectionery Nutrition 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はパルスレーザ発振器、とく−ζそのスイッチ
ング素子である氷菓サイラトロンの動作の安定1じに関
するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a pulsed laser oscillator, particularly to stabilizing the operation of a frozen thyratron, which is a switching element thereof.
第2図は従来この種のものとして代表的な横方向励起型
パルスレーザ発振器の回路を模式的にボす回路構成図で
あり、待にエキシマレーザ(例えばArF * XeF
、 XeC1)、窒素レーザ発振器等で良く使われる
回路の一例を示したものである。図において(1)はメ
インコンデンサ、(2)はメインコンデンサ(1)ヲ充
電する直流高圧電源、(3)はメインコンデンサ(1)
の充電路を形成する充電用インダクタンス、(4)はパ
ルスレーザをスイッチングする水素サイラトロン、(6
)は水素サイラトロン(りをスイッチングするトリガー
、(6)は水素サイラトロン(4)に流れる電流を制限
するインダクタンス、(7) (83はレーザガス中に
相対向して配設された一対のstmで(7)は陰極、(
8)は陽極である。(9)は主放電によってレーザが励
起される放電励起部、QQは放電励起部(9)を主放電
に先立って予備電離する紫外光、(ロ)は紫外光韓を発
生するための予備wt離ギャップ、韓は主放電を起ζす
ためのピーキングコンデンサ、(6)はレーザガス、C
14はレーザガスを封じ切るレーザ筐体、四はサイトロ
ン7ノード、QQはサイトロンカソード、Qηは第一グ
リッド、(至)は第ニゲリッド、斡はサイラトロンカソ
ード(至)を1加熱するカソードヒータ、(ホ)は水系
を含有する金属カブ七〜、(2)は金属カブ七/I/G
l#を加熱して水素サイアトロン(4)円の水素ガス圧
力を調整するり井パーヒータ、勾はヒータ部α場、@に
おいて発生するサージを吸収するコンデンサ、四はパル
スブロッキングトランス、榊はカソードヒータ用絶縁ト
ランス、四はリザーバーヒータ用絶縁トランス、(至)
は商用周波交流電源である。Figure 2 is a circuit configuration diagram schematically showing the circuit of a typical horizontally pumped pulsed laser oscillator of this type.
, XeC1), and nitrogen laser oscillators. In the figure, (1) is the main capacitor, (2) is the DC high voltage power supply that charges the main capacitor (1), and (3) is the main capacitor (1).
(4) is a charging inductance that forms a charging path, (4) is a hydrogen thyratron that switches the pulsed laser, and (6) is a hydrogen thyratron that switches the pulse laser.
) is a trigger for switching the hydrogen thyratron (ri), (6) is an inductance that limits the current flowing through the hydrogen thyratron (4), (7) (83 is a pair of stms disposed opposite to each other in the laser gas ( 7) is the cathode, (
8) is an anode. (9) is the discharge excitation part where the laser is excited by the main discharge, QQ is the ultraviolet light that pre-ionizes the discharge excitation part (9) prior to the main discharge, and (b) is the preliminary wt for generating ultraviolet light. Separation gap, K is the peaking capacitor for generating the main discharge, (6) is the laser gas, C
14 is a laser housing that seals off the laser gas, 4 is a Cytron 7 node, QQ is a Cytron cathode, Qη is the first grid, (to) is the first nigerid, 斡 is a cathode heater that heats the thyratron cathode (to), (e) is metal turnip 7~ containing water system, (2) is metal turnip 7/I/G
Rii per heater which heats l# and adjusts the hydrogen gas pressure in the hydrogen siatron (4), G is the heater section α field, a capacitor that absorbs the surge generated at @, 4 is the pulse blocking transformer, Sakaki is the cathode heater 4 is insulation transformer for reservoir heater, (to)
is a commercial frequency AC power supply.
次に動作について説明する。レーザ筐体(至)に封入さ
れたレーザガス(Ll(例えばKr*FgeHeから成
る混合ガス)が、陰極(7)と@ 極(8)の闇に矢印
の方向から流し込まれ、直流高圧域源(2)により、メ
インコンデンサ(1)が所定の電圧で充電され、そして
、トリガー(6)から第一グリッド(ロ)及び第ニゲリ
ッド(至)にパルスが与えられると、水素サイラトロン
(4)カ導通状態となる。この時、メインコンデンサ(
1)に蓄えられた電荷は、インダクタンス(6)を通し
て、ピーキングコンデンサ四に移行される。その際、予
備電離ギャップQυはアーク数域で接続され、そξから
発生する紫外光(ト)により、陰極(7)の近傍、及び
放電励起部(9)の全域に渡り、レーザガス(2)が弱
電離状態(−子密度n6 ” 10’〜108コ1d)
となる。ピーキングコンデンサ(2)の充電により、陰
極(7)と陽電(8)の間の電圧が放電開始電圧に速す
ると、ピーキングコンデンサ四に蓄えられた電荷は、−
気に陰憾(7)と陽極(8)のIdHζ流れ、放電励起
部(9)にパルス放電が形成される。これは、あらかじ
め放電励起部(9)が紫外光軸によって均一な予備罐離
状態にされているため、均一な放電となる。ξの放電に
より形成された放電励起部(9)では、レーザ媒質が励
起され(例えば、KrF )、レーザ発振が生じる。Next, the operation will be explained. Laser gas (Ll (for example, a mixed gas consisting of Kr*FgeHe) sealed in the laser housing (to) is flowed from the direction of the arrow into the darkness of the cathode (7) and @ pole (8), and the DC high pressure region source ( 2), the main capacitor (1) is charged to a predetermined voltage, and when a pulse is applied from the trigger (6) to the first grid (B) and the second grid (To), the hydrogen thyratron (4) becomes conductive. state.At this time, the main capacitor (
The charge stored in 1) is transferred to peaking capacitor 4 through inductance (6). At this time, the pre-ionization gap Qυ is connected in the arc number region, and the ultraviolet light (g) generated from it ξ spreads the laser gas (2) near the cathode (7) and throughout the discharge excitation part (9). is in a weakly ionized state (-density n6''10'~108 1d)
becomes. When the voltage between the cathode (7) and the positive electrode (8) reaches the discharge starting voltage due to charging of the peaking capacitor (2), the charge stored in the peaking capacitor (4) becomes -
IdHζ flows through the air (7) and the anode (8), and a pulse discharge is formed in the discharge excitation part (9). This is because the discharge excitation part (9) is brought into a uniform pre-canning state in advance by the ultraviolet optical axis, resulting in a uniform discharge. In the discharge excitation part (9) formed by the discharge of ξ, a laser medium (for example, KrF 2 ) is excited, and laser oscillation occurs.
このようなパルスレーザ発振器では、1秒間に数十〜数
千回動作させるξとにより、平均出力が得られている。In such a pulsed laser oscillator, an average output is obtained by operating the laser several tens to several thousand times per second.
このような高繰返し動作を行なうためには、以下の仕様
を満たすスイッチング素子が必要とされる。In order to perform such a high repetition operation, a switching element that satisfies the following specifications is required.
■ 程持域圧(サイラトロンに印加できる電圧)が高い
こと。(最大80〜50KV程度)■ ピーグミ流が高
いこと。(最大6〜20 KA程[)
(最大50〜200 KA/μS程度)■ 導通状態か
ら非導通状態になるまでの復帰時間が早いこと。(1〜
6μ8以下)
■ 高繰返し動作が可能なこと。(数百〜数千pps
>
■ 舟命が長いこと。(10ンヨット以上)これらの仕
様を満たすスイッチング素子として、現在のところは水
素サイラトロン(4)が一般的に使われている。水素サ
イラトロン(4)は基本的には8極〜5極の真空管で、
内部に若干の水嵩ガス(もしくは重水緊ガス)が封入さ
れている。水素ガスは、真空管に一般に封入されている
希ガス、もしくは水銀等に比べて、イオン衝撃によるカ
ソードダメージを起仁しに<<、なおかつ再結合が早い
(すなわち復帰時間が早くなる)という特徴を併せ持ち
、高繰返しのスイッチング素子を可能としている。■ The range pressure (voltage that can be applied to the thyratron) is high. (Maximum 80 to 50KV) ■ High Pigumi flow. (Maximum of about 6 to 20 KA [) (Maximum of about 50 to 200 KA/μS) ■ The return time from a conductive state to a non-conductive state is quick. (1~
(6μ8 or less) ■ Highly repetitive operation is possible. (several hundred to several thousand pps
> ■ The life of the boat is long. (10 mm or more) At present, a hydrogen thyratron (4) is generally used as a switching element that satisfies these specifications. Hydrogen thyratron (4) is basically an 8-pole to 5-pole vacuum tube,
A small amount of water bulk gas (or heavy water gas) is sealed inside. Compared to rare gases or mercury, etc., which are generally sealed in vacuum tubes, hydrogen gas has the characteristics of less damage to the cathode caused by ion bombardment and faster recombination (that is, faster recovery time). Together, they enable high-repetition switching elements.
ここで水素サイラトロン(4)の動作を説明する。Here, the operation of the hydrogen thyratron (4) will be explained.
サイラトロンアノード(至)に正の高電圧が印加された
状態で、トリガー(6)から第一グリッド(ロ)にパル
ス電圧が印加されると、アノード(至)、カソード(至
)間が弱電離状態となる。一定の遅延時間をおいて、ト
リガー(5)から第ニゲリッド(至)にパルス電圧が印
加されると、少ないジッターで、アノード(2)、カソ
ードαQ@に放電が形成され、水系サイラトロン(4)
は導通状態となる。この導通状態は、外部回路により電
流が流されている限り、もしくはアノードに)、カソー
ド(至)間の電圧が反転しない限り続き、それらが実現
した後、水系サイラトロン(4)内部のガスの再結合時
間を経て、非導通状態に復帰する。When a pulse voltage is applied from the trigger (6) to the first grid (B) while a high positive voltage is applied to the thyratron anode (to), weak ionization occurs between the anode (to) and the cathode (to). state. When a pulse voltage is applied from the trigger (5) to the second nigerid (to) after a certain delay time, a discharge is formed at the anode (2) and cathode αQ@ with little jitter, and the aqueous thyratron (4)
becomes conductive. This state of conduction lasts as long as current is applied by the external circuit or the voltage between the anode and the cathode is reversed, after which the gas inside the water-based thyratron (4) regenerates. After a bonding time, it returns to a non-conducting state.
にで水素サイラトロン(4)の動作特性を決めるう′丸
で重要なヒーター電圧の設定について述べる。In the next section, we will discuss the important setting of the heater voltage, which determines the operating characteristics of the hydrogen thyratron (4).
リザーバーヒータ(2)の電圧は、水嵩サイラトロンの
動作に以下の影響を与える。The voltage of the reservoir heater (2) has the following effects on the operation of the water bulk thyratron.
リザーバーヒータ(2)の電圧の減少は、保持電圧を増
加し、復帰時間を減少させる反ml、最大の電流の立ち
上がり(dl ) を減少させ、サイラドdt
max
ロンの寿命は著しく低減される。このため、リザーバー
ヒータ電圧は、最低限必要な保持電圧、復帰時間を確保
できる限界の電圧まで増加させ、i
(]r)。3□の特性が最大となるように設定するのが
望ましい。A decrease in the voltage of the reservoir heater (2) increases the holding voltage, decreases the return time, decreases the maximum current rise (dl), and reduces the cyrad dt
max Ron's lifespan is significantly reduced. Therefore, the reservoir heater voltage is increased to the limit voltage that can secure the minimum necessary holding voltage and recovery time, i (]r). It is desirable to set so that the characteristic of 3□ is maximized.
一方、カソードヒータ(至)の4圧は、カソードからの
適切な熱電子の放出、およびカソード材料、ヒータの寿
命という観点から最適な電圧が設定される。On the other hand, the four voltages of the cathode heater (to) are set to the optimum voltage from the viewpoint of appropriate emission of thermionic electrons from the cathode and the life of the cathode material and heater.
従来この種のヒータ電源は、商用周波電源−を絶縁トラ
ンス(財)、(2)により設定電圧まで降圧して用いて
いた。Conventionally, this type of heater power source has used a commercial frequency power source which has been stepped down to a set voltage using an isolation transformer (2).
従来のパルスレーザ装置における、水素サイラトロンの
ヒーター電源は、以上のように構成されていたので、1
日の時間帯によって負荷が極端に変わり、例えば工場内
での商用周波電源を用いた場合、時間帯による鑞圧変1
tlJの影響を受け、次のような問題点があった。The heater power supply for the hydrogen thyratron in the conventional pulse laser device was configured as described above.
The load changes drastically depending on the time of the day. For example, when using a commercial frequency power supply in a factory, the load changes depending on the time of day.
Due to the influence of tlJ, there were the following problems.
■ 工場内での他の負荷が急激に減少した場合、。■ If other loads in the factory suddenly decrease.
商用周波電源の電圧が増加し、それに伴なつ 1て
リザーバーヒータの電圧が増加する。この時、サイラト
ロン(4)の保持電圧が低下するため、メインコンデン
サ(1)の充電途中でサイラトロン(4)が導通状態と
なり、直流電圧電源(2)が短絡し°C,レーザ発振が
停止するとともに、サイラトロンに大電流が流れ、その
電極壷ζ大きなダメージを与える。As the voltage of the commercial frequency power supply increases, the voltage of the reservoir heater also increases. At this time, the holding voltage of the thyratron (4) decreases, so the thyratron (4) becomes conductive while the main capacitor (1) is being charged, the DC voltage power supply (2) is short-circuited, and the laser oscillation stops. At the same time, a large current flows through the thyratron, causing great damage to its electrode jar.
■ 工場内での他の負荷が急激に増加した場合、商用周
波電源の電圧が減少し、リザーバーヒ−タ電圧が減少す
る。これにより、(−iT)maxの特注を著しく悪化
させ、サイラトロンの寿命を短かくする。■ If other loads in the factory suddenly increase, the voltage of the commercial frequency power supply will decrease, and the reservoir heater voltage will decrease. This significantly worsens the customization of (-iT)max and shortens the life of the thyratron.
■ カソードヒータ電圧Cζついても、工場内の商用周
波電源の変動により、その適正電圧の設定からずれ、サ
イラトロンカソード(至)、カソードヒータ(2)が損
傷し、サイラトロン(4)の寿命が短かくなる。■ Even if the cathode heater voltage Cζ is set, due to fluctuations in the commercial frequency power supply in the factory, it may deviate from the appropriate voltage setting, damaging the thyratron cathode (to) and cathode heater (2), and shortening the life of the thyratron (4). Become.
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、安定したレーザ発振を得るとともに、サイト
ロンの長寿命1tJを企り、信頼性のあるパルスレーザ
発振器を得ることを目的としている。This invention was made to solve the above-mentioned problems, and aims to obtain stable laser oscillation, a long life of 1 tJ, and a reliable pulsed laser oscillator. There is.
この発明に係るパルスレーザ発振器は、そのスイッチン
グ系子である水素サイラトロンにおいて、カソードヒー
タ、及びリザーバーヒータvi Wet源として、定電
圧電源を採用したものである。The pulse laser oscillator according to the present invention employs a constant voltage power source as the cathode heater and reservoir heater vi Wet source in the hydrogen thyratron, which is a switching element thereof.
この発明におけるパルスレーザ発振器は、そのスイッチ
ング系子である水素サイラトロンのカソードヒータ、及
びリザーバーヒータが、定、を圧電源により常に設定電
圧で駆動されているため、水素サイラトロンは必要な保
持電圧、復帰時間を確保しつつ、最大のdi/dt特性
を確保し、i@注あるパルスレーザ発振器を実現する。In the pulsed laser oscillator according to the present invention, the cathode heater and reservoir heater of the hydrogen thyratron, which is the switching element, are always driven at a set voltage by a constant piezoelectric power source. To realize an i@note pulsed laser oscillator by ensuring maximum di/dt characteristics while securing time.
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図において、匈はカソードヒータ用定電圧電源、に)は
りザーバーヒータ用定電圧を源である。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1st
In the figure, 匈 is a constant voltage power source for the cathode heater, and ii) is a constant voltage source for the reservoir heater.
第1図においてパルスレーザの基本的動作は、従来例で
示したものと同一である。しかしながら、水素サイラト
ロン(4)のカソードヒー゛夕斡、及びリザーバーヒー
タ(2)は各々独立の定電圧1!IE源縛、及び四によ
り、設定した印加電圧で動作しており、この際商用周波
電源四の電圧変動には依存しない。In FIG. 1, the basic operation of the pulse laser is the same as that shown in the conventional example. However, the cathode heater and reservoir heater (2) of the hydrogen thyratron (4) each have an independent constant voltage of 1! Due to the IE power source and 4, it operates with the set applied voltage, and at this time it does not depend on voltage fluctuations of the commercial frequency power source 4.
このため、工場内等で使用された場合、その負荷の稼動
率にかかわらず、水素サイラトロン(4)は常に必要な
保持電圧、復帰時間を保ちつつ、−最大の(dl >特
性を示す。そのため、水累サイラトロt
ン(4)は常に安定した動作を示し、なおかつその寿命
は著しく同上する。したがって、このスイッチング菓子
を備えたパルスレーザ発振器は、信頼性の高い装置とな
る。Therefore, when used in a factory etc., regardless of the operating rate of the load, the hydrogen thyratron (4) always maintains the required holding voltage and recovery time while exhibiting the -maximum (dl > characteristic. , the water-accumulated thyratron (4) always exhibits stable operation, and its lifespan is significantly the same as above.Therefore, the pulsed laser oscillator with this switching device becomes a highly reliable device.
一般に水素サイラトロン(4)の動作特性(保持電サー
バーヒータ(2)の印加電圧が、設定値の電圧に対して
0.1v変化すると特性が変1乙する。したがってヒー
タ用足電圧電源■、@の仕様として、設定賦圧に対して
±0.05 V以下の電圧変動であることが望ましい。In general, the operating characteristics of the hydrogen thyratron (4) (when the applied voltage of the holding power server heater (2) changes by 0.1 V with respect to the set value voltage, the characteristics will change. Therefore, the heater voltage power supply ■, @ As for the specifications, it is desirable that the voltage fluctuation be ±0.05 V or less with respect to the set voltage.
なお、上記実施例では、カソードヒータ斡、リザーバー
ヒータ(ロ)が各々独立した定(圧lIt源弼。In the above embodiment, the cathode heater (2) and the reservoir heater (2) each have an independent constant pressure (pressure source).
(2)により制御される例を示したが、水素サイラトロ
ン(4月ζよっては、カソードヒータQ9と、リザーバ
ーヒータ(2)が直列、または並列に接続され、単一の
電源により動作されるものであり、この場合にこの発明
を適用しても、同様の効果を奏するのはいうまでもない
。(2), but the hydrogen thyratron (accordingly, the cathode heater Q9 and the reservoir heater (2) are connected in series or in parallel and is operated by a single power source) It goes without saying that even if the present invention is applied to this case, the same effect will be achieved.
また、上記実施例では、レーザ発振器を構成する一対の
4都にパフレス釣に電圧を印加し放電を起こす放電回路
として、いわゆる、自動予備wLIII方式容量多行型
回路を適用した例についてボしているが、これは何らこ
の発明を限定するものではなく、パルス的に電圧を印加
するあらゆる放電回路に適用できる。In addition, in the above embodiment, an example is described in which a so-called automatic standby wLIII type capacitive multi-line circuit is applied as a discharge circuit that applies a voltage to a pair of four terminals constituting a laser oscillator and causes a discharge. However, this does not limit the invention in any way, and it can be applied to any discharge circuit that applies voltage in a pulsed manner.
以上のように、この発明によれば、スイッチング菓子と
して用いられている水素サイラトロンのカソードヒータ
、およびリザーバーヒータに、定電圧11t源を接続し
たので、信頼性の高いパルスレーザ発振器が得られる効
果がある。As described above, according to the present invention, a constant voltage 11t source is connected to the cathode heater and reservoir heater of a hydrogen thyratron used as a switching confectionery, so that a highly reliable pulsed laser oscillator can be obtained. be.
第1図はこの発明の一実施例によるパルスレーザ発振器
の回路を模式的に示す回路構成図、第2図は従来のパル
スレーザ発振器の回路を模式的に示す回路構成図である
。
図において、(1)はメインコンデンサ、(2)は直流
高圧電源、(4)は水素サイラトロン、(7)は陰極、
(8)は陽極、輪はピーキングコンデンサ、」jレーザ
ガス、o9はカソードヒータ、(2)はりザーパーヒー
タ、(2)はカソードヒータ用定電圧電源、に)はりザ
ーバーヒータ用定電圧電源である。
なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
代坤人 大岩増雄
手続補正書(自発)
1.事件の表示 特願昭60−67515号2、発
明の名称
d執耘項−レーザ発振器
3、補正をする者
代表者片山仁へ部
5、補正の対象
(1)明細書の発明の名称および特許請求の範囲および
発明の詳細な説明の欄。
(2)図面(第1図)
6、補正の内容
(1)明細書の発明の名称の欄に[パルスレーザ発振器
」とあるのを「レーザ発振器」と訂正する。
(2)明細書の特許請求の欄を別紙のとおり訂正する。
(3)明細書第2頁第41行の「Xe(:l)、」の次
に「TEAcO,レーザ、」を挿入する。
(4)同第4頁第4行の「水素サイアトロン」を「水素
サイラトロン」に訂正する。
(5)同第≠頁第4行〜第6行の「106〜108コ1
−・」を「106〜108コ/−」に訂正する。
(6)同第4頁第7行の「速すると、」を「達すると、
」に訂正する。
(7)同第4頁第18行の「仕様を」を「仕様を」に訂
正する。
(8)同第4頁第20行の「捏持電圧」を「保持電圧」
に訂正する。
(9)同第8頁第4行の「ヒーター」を「ヒータ」に訂
正する。
aQ同第11頁第17行の「ものであり」を「ものもあ
り」に訂正する。
α力図面の第1図を別紙のとおり訂正する。
7、 添付書類の目録
(1)補正後の特許請求の範囲を記載した書面1通
(2)図面(第1図) 1通以上
特許請求の範囲
(1)レーザガス中に相対向して配設された一対の電極
、この一対の電極にパルス的に電圧を印加する放電回路
、及び上記放電回路をスイッチングする水素サイラトロ
ンを有するものにおいて、上記水素サイラトロンに備わ
るカソードヒータ及びリザーバーヒータに定電圧電源を
接続したことを笠と るレーザ 器。
(2)定電圧電源の電圧変動の幅は、設定電圧に対して
±0.05V以下である特許請求の範囲第1項Ju19
±:」」1口しFIG. 1 is a circuit diagram schematically showing a circuit of a pulsed laser oscillator according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram schematically showing a circuit of a conventional pulsed laser oscillator. In the figure, (1) is the main capacitor, (2) is the DC high voltage power supply, (4) is the hydrogen thyratron, (7) is the cathode,
(8) is an anode, a ring is a peaking capacitor, a laser gas, o9 is a cathode heater, (2) a beam server heater, (2) is a constant voltage power source for the cathode heater, and (2) a constant voltage power source for the beam server heater. In addition, in the figures, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts. Daikonjin Masuo Oiwa Procedural Amendment (Voluntary) 1. Indication of the case: Japanese Patent Application No. 60-67515 2, Title of the invention (d) - Laser oscillator 3, Representative Hitoshi Katayama of the person making the amendment (5) Subject of amendment (1) Name of the invention in the specification and patent Claims and Detailed Description of the Invention. (2) Drawings (Figure 1) 6. Contents of the amendment (1) In the title of invention column of the specification, the phrase "pulsed laser oscillator" is corrected to "laser oscillator." (2) The patent claim column of the specification is corrected as shown in the attached sheet. (3) Insert "TEAcO, laser," after "Xe(:l)," on page 2, line 41 of the specification. (4) "Hydrogen Thyratron" on page 4, line 4 is corrected to "Hydrogen Thyratron." (5) ``106-108 Co1'' in lines 4-6 of the same page≠
-・" is corrected to "106-108/-". (6) On page 4, line 7 of the same page, change ``to speed up'' to ``to reach,''
” is corrected. (7) "Specifications" on page 4, line 18 is corrected to "specifications". (8) “Kneading voltage” on page 4, line 20 of the same page is “holding voltage”
Correct. (9) Correct "heater" in line 4 of page 8 to "heater". aQ, page 11, line 17, ``mononoderi'' is corrected to ``monomoari''. Figure 1 of the alpha force drawing is corrected as shown in the attached sheet. 7. List of attached documents (1) One document stating the amended scope of claims (2) Drawing (Figure 1) One or more copies of claims (1) Disposed facing each other in laser gas a pair of electrodes, a discharge circuit that applies a voltage to the pair of electrodes in a pulsed manner, and a hydrogen thyratron that switches the discharge circuit, wherein a constant voltage power supply is applied to a cathode heater and a reservoir heater provided in the hydrogen thyratron. A laser device that detects when it is connected. (2) The width of voltage fluctuation of the constant voltage power supply is ±0.05V or less with respect to the set voltage.Claim 1Ju19
±:”” 1 sip
Claims (2)
、この一対の電極にパルス的に電圧を印加する放電回路
、及び上記放電回路をスイッチングする水素サイラトロ
ンを有するものにおいて、上記水素サイラトロンに備わ
るカソードヒータ及びリザーバーヒータに定電圧電源を
接続したことを特徴とするパルスレーザ発振器。(1) A device comprising a pair of electrodes disposed opposite to each other in a laser gas, a discharge circuit that applies a voltage in pulses to the pair of electrodes, and a hydrogen thyratron that switches the discharge circuit, the hydrogen thyratron A pulse laser oscillator characterized in that a constant voltage power supply is connected to a cathode heater and a reservoir heater provided in the pulse laser oscillator.
±0.05V以下である特許請求の範囲第1項記載のパ
ルスレーザ発振器。(2) The pulse laser oscillator according to claim 1, wherein the width of voltage fluctuation of the constant voltage power supply is ±0.05 V or less with respect to the set voltage.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6751585A JPH0716054B2 (en) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | Laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6751585A JPH0716054B2 (en) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | Laser oscillator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61224382A true JPS61224382A (en) | 1986-10-06 |
JPH0716054B2 JPH0716054B2 (en) | 1995-02-22 |
Family
ID=13347194
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6751585A Expired - Lifetime JPH0716054B2 (en) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | Laser oscillator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0716054B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1989001713A1 (en) * | 1987-08-13 | 1989-02-23 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Metal vapor laser |
-
1985
- 1985-03-28 JP JP6751585A patent/JPH0716054B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1989001713A1 (en) * | 1987-08-13 | 1989-02-23 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Metal vapor laser |
GB2217513A (en) * | 1987-08-13 | 1989-10-25 | Mitsubishi Electric Corp | Metal vapor laser apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0716054B2 (en) | 1995-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0212035B2 (en) | ||
JPS61224382A (en) | Pulse laser oscillator | |
US3842365A (en) | Pulse glow generation for laser systems | |
Bhadani et al. | Efficient switchless multi‐Joule TE‐CO2 laser | |
US4677631A (en) | Gas laser power supply apparatus | |
US3757251A (en) | Laser direct current auxiliary ionization of an axially excited flowing gas | |
JP3757025B2 (en) | Coaxial gas laser device | |
JP3771690B2 (en) | Pulse laser discharge circuit | |
JP3432854B2 (en) | Pulse gas laser oscillator | |
JPS63299287A (en) | Gas laser oscillation device | |
JPH07105548B2 (en) | Discharge excitation excimer laser oscillator | |
JPH0333086Y2 (en) | ||
JPS61212080A (en) | Pulse gas laser exciting circuit | |
JP2718605B2 (en) | Discharge excitation type gas laser device | |
JPS6095984A (en) | Laser oscillation tube | |
JPS62152189A (en) | Gas laser oscillator | |
JP2877573B2 (en) | Electric circuit of metal vapor laser device | |
JPS6231186A (en) | Pulse laser oscillator | |
JPS63133583A (en) | Pulsed gas laser device pre-ionized by ultraviolet radiation | |
JPH05327088A (en) | Gas laser oscillator | |
JPH04196375A (en) | Flash lamp drive power supply | |
JPS60187076A (en) | Gas laser device | |
JPH02130977A (en) | Pulse laser oscillator | |
JPS63217685A (en) | Pulse laser device | |
Pavlovskiĭ et al. | Electric-discharge CO2 laser with an active region of 0.28 m3 volume |