JPS6122241A - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPS6122241A JPS6122241A JP14245984A JP14245984A JPS6122241A JP S6122241 A JPS6122241 A JP S6122241A JP 14245984 A JP14245984 A JP 14245984A JP 14245984 A JP14245984 A JP 14245984A JP S6122241 A JPS6122241 A JP S6122241A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- specimen
- diffraction
- rays
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/2206—Combination of two or more measurements, at least one measurement being that of secondary emission, e.g. combination of secondary electron [SE] measurement and back-scattered electron [BSE] measurement
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は同一試料につ−で螢光Ｘ線分析および回折Ｘ線
分析を順次行−得る装置に関する。すなわち従来は螢光
Ｘ線分析装置と１１１回折装置とが全く別個ｌＩｃ１１
Ｉ成されて−たかも、螢光と回折の画分析を行うために
１２ｇ台の装置を必要とした◎特に回折装置で未知試料
の同定分析を行う場合に１その物質を構成している元素
の種類が判明すると検索精度を非常に高くすることがて
きるが、従来は別の螢光Ｘ線分析装置あるφは化学分析
装置等を必要とした０本発明はこのような場合に試料の
回折Ｘ線分析を行う装置を用−て更にその同一試料につ
１１螢光Ｘ線分析を行−得るようにしたものである。
分析を順次行−得る装置に関する。すなわち従来は螢光
Ｘ線分析装置と１１１回折装置とが全く別個ｌＩｃ１１
Ｉ成されて−たかも、螢光と回折の画分析を行うために
１２ｇ台の装置を必要とした◎特に回折装置で未知試料
の同定分析を行う場合に１その物質を構成している元素
の種類が判明すると検索精度を非常に高くすることがて
きるが、従来は別の螢光Ｘ線分析装置あるφは化学分析
装置等を必要とした０本発明はこのような場合に試料の
回折Ｘ線分析を行う装置を用−て更にその同一試料につ
１１螢光Ｘ線分析を行−得るようにしたものである。
すなわち本発明の装置は１試料面に分光結晶を対設する
と共にその結晶面に微小の間隙を介してＸ線遮蔽板を設
置した状態で上記試料面をＸ線で励起して螢光Ｘ線を発
生させ一上記間隙を中心点とするように配置した円弧状
の入射位置感応型Ｘ線検出器で上記螢光Ｘ線の分析を行
φ１つぎに上記分光結晶および遮蔽板を取除くと共にＸ
線検出器を移動させてその円弧の中心を試料面上の一点
に一致させ、その点にＸ線を入射させて回折Ｘ線を検出
するように構成したものである◎従って同一の装置を用
−てＸＩ！ｉ！螢光分析と回折測定とを行い得るもので
−このため回折測定による物質の同定等に際して検索の
速度並びに精度が向上するＯかつ装置の構成が極め【簡
単であり１また位置感応型のＸ線検出器を用埴るから迅
速に分析を行うことができると共に試料面の広い範囲の
螢光分析を行い得る等の作用効果があるΩ 第１図は螢光Ｘ線分析を行う状態における本発明実施例
の横断面図Ｎ第２図Ｆ１第１図の装置を回折測定に切換
えた状態にお行る同一横断面図である。密閉筐体１は特
に長波長の螢光ｘｒＨの減衰を防止するために内部を必
要に応じて真空にするようにしたもので、図示してな≠
が排気口を設けである口この筐体ｌの側部にＸ ＠ ＋
！Ｆ２を設置し１遮蔽筒３を通してそのｘｉを紙面に直
角な板状の試料４に入射させるようにしであるＯこの試
料番は表面の中心点ｐが一定の位置に配置されるように
取付台５に取付けらｎるが１上記点を中心として取付台
５を紙面内で回動し得るように円弧状のＩｔ道６を設け
である０更に上記試料１と対向するように弗化リチウム
あるいはｍｌＩＤ？のような適宜の板状分光結晶マを配
置し、かつこの分光結晶に微小の間隙ｑを介して先端が
対向するように設置されたくさび状の遮蔽板８を設けで
あるが−これらけ支持台９に着脱自在に取付けられてい
る口また分光結晶７または試料４と対向するように円弧
状の入射位置感応型Ｘ線検出器１０を設けであるが１こ
の検出器ｌＯは摺動台１１に取付けられたもので〜その
中心を試料面の中心点ｐまたは上記間隙ｑに一致させる
ことができる口なお支持台９には必要に応じて検出器１
０の不要部分を覆うためのＸ線遮蔽板１２を着脱自在に
取付けるようにしであると共に遮蔽筒３はこれを第２図
のようにコリメータ１３に取替えて試料４の中心点ｐに
細−ｘｍビーム−を入射させることができる。更に検出
器１０には微弱なスペクトルを検出する場合に他の強い
スペクトルを遮断するための遮蔽板１４ある≠は回折測
定に際してＫｐ線を遮断するフィルタ１５等を着脱自在
に取付けるようにしである口 すなわち螢光ｘ紗分析を行う場合は一第１図のように試
料４の側部に分光結晶フを配置し１かつその表面に微小
の間隙ｑを介して遮蔽板８の先端のくさび状部分を対向
させると共に遮蔽板１２および必要に応じては更に１４
等を設ける０また円弧状の入射位置感応型Ｘ線検出器１
０を、その円弧の中心が上記間隙ｑと一致するように設
定して−Ｘ線管３の太いＸ線ビームｒで試料番の全面を
励起する◎従って試料番の全面から構成元素の螢光Ｘ線
１が発生し、そのＸ線は試料面の各点から各方向へ向け
て投射される口このため第３図に示したように間６１１
９０部分における分光結晶マの表面には試料に含まれる
各物質の特性Ｘ線１すなわち波長が’１１’！””’の
各線が種々の角度で入射して−そのうちブラッグの回折
条件を満足するような角度で入射したものだけに回折を
生ずる◎回折ｘＭ’ｌ＋Ｊ、、、、、、 社間隙ｆから
一定の方向へ投射されて検出器１０に入射し、かつ検出
器１０の彎曲中心は点りにあるから、この検出器の出力
によって特性ｘ Ｃａの波長ＡＩ・Ｊ、・・・・・とそ
の強度とを知ることができる。またこの螢光Ｘ線分析に
際し前記遮蔽板１４を設けて強１スペクトル線を遮断す
るときは検出器の全計数値が低下するから一励起Ｘ線ｒ
を強くして微弱なスペクトルを短時間で精度よく測定す
ることができる口 つぎに同一試料４について回折Ｘ １１の測定を行う場
合は第２図のようにコリメータ１３を取付けて細いＸ線
ビームｌを上記試料の中央部の点ｐに入射させる。かつ
その取付台５を軌道６に沿って移動させることにより第
４図のように入射角ａを２０〜５０度に設定すると共に
摺動台１１を移動させて検出器１０の彎曲中心を試料４
におけるｘＩ！ビームの入射点ｐと一致させる・また遮
蔽板１２ ｒ １４ 、分光結晶〒およびくさび状の遮
蔽板８を取除φて〜検出器１０の入射窓にＫｐ線遮断フ
ィルタ１５を取付ける。
と共にその結晶面に微小の間隙を介してＸ線遮蔽板を設
置した状態で上記試料面をＸ線で励起して螢光Ｘ線を発
生させ一上記間隙を中心点とするように配置した円弧状
の入射位置感応型Ｘ線検出器で上記螢光Ｘ線の分析を行
φ１つぎに上記分光結晶および遮蔽板を取除くと共にＸ
線検出器を移動させてその円弧の中心を試料面上の一点
に一致させ、その点にＸ線を入射させて回折Ｘ線を検出
するように構成したものである◎従って同一の装置を用
−てＸＩ！ｉ！螢光分析と回折測定とを行い得るもので
−このため回折測定による物質の同定等に際して検索の
速度並びに精度が向上するＯかつ装置の構成が極め【簡
単であり１また位置感応型のＸ線検出器を用埴るから迅
速に分析を行うことができると共に試料面の広い範囲の
螢光分析を行い得る等の作用効果があるΩ 第１図は螢光Ｘ線分析を行う状態における本発明実施例
の横断面図Ｎ第２図Ｆ１第１図の装置を回折測定に切換
えた状態にお行る同一横断面図である。密閉筐体１は特
に長波長の螢光ｘｒＨの減衰を防止するために内部を必
要に応じて真空にするようにしたもので、図示してな≠
が排気口を設けである口この筐体ｌの側部にＸ ＠ ＋
！Ｆ２を設置し１遮蔽筒３を通してそのｘｉを紙面に直
角な板状の試料４に入射させるようにしであるＯこの試
料番は表面の中心点ｐが一定の位置に配置されるように
取付台５に取付けらｎるが１上記点を中心として取付台
５を紙面内で回動し得るように円弧状のＩｔ道６を設け
である０更に上記試料１と対向するように弗化リチウム
あるいはｍｌＩＤ？のような適宜の板状分光結晶マを配
置し、かつこの分光結晶に微小の間隙ｑを介して先端が
対向するように設置されたくさび状の遮蔽板８を設けで
あるが−これらけ支持台９に着脱自在に取付けられてい
る口また分光結晶７または試料４と対向するように円弧
状の入射位置感応型Ｘ線検出器１０を設けであるが１こ
の検出器ｌＯは摺動台１１に取付けられたもので〜その
中心を試料面の中心点ｐまたは上記間隙ｑに一致させる
ことができる口なお支持台９には必要に応じて検出器１
０の不要部分を覆うためのＸ線遮蔽板１２を着脱自在に
取付けるようにしであると共に遮蔽筒３はこれを第２図
のようにコリメータ１３に取替えて試料４の中心点ｐに
細−ｘｍビーム−を入射させることができる。更に検出
器１０には微弱なスペクトルを検出する場合に他の強い
スペクトルを遮断するための遮蔽板１４ある≠は回折測
定に際してＫｐ線を遮断するフィルタ１５等を着脱自在
に取付けるようにしである口 すなわち螢光ｘ紗分析を行う場合は一第１図のように試
料４の側部に分光結晶フを配置し１かつその表面に微小
の間隙ｑを介して遮蔽板８の先端のくさび状部分を対向
させると共に遮蔽板１２および必要に応じては更に１４
等を設ける０また円弧状の入射位置感応型Ｘ線検出器１
０を、その円弧の中心が上記間隙ｑと一致するように設
定して−Ｘ線管３の太いＸ線ビームｒで試料番の全面を
励起する◎従って試料番の全面から構成元素の螢光Ｘ線
１が発生し、そのＸ線は試料面の各点から各方向へ向け
て投射される口このため第３図に示したように間６１１
９０部分における分光結晶マの表面には試料に含まれる
各物質の特性Ｘ線１すなわち波長が’１１’！””’の
各線が種々の角度で入射して−そのうちブラッグの回折
条件を満足するような角度で入射したものだけに回折を
生ずる◎回折ｘＭ’ｌ＋Ｊ、、、、、、 社間隙ｆから
一定の方向へ投射されて検出器１０に入射し、かつ検出
器１０の彎曲中心は点りにあるから、この検出器の出力
によって特性ｘ Ｃａの波長ＡＩ・Ｊ、・・・・・とそ
の強度とを知ることができる。またこの螢光Ｘ線分析に
際し前記遮蔽板１４を設けて強１スペクトル線を遮断す
るときは検出器の全計数値が低下するから一励起Ｘ線ｒ
を強くして微弱なスペクトルを短時間で精度よく測定す
ることができる口 つぎに同一試料４について回折Ｘ １１の測定を行う場
合は第２図のようにコリメータ１３を取付けて細いＸ線
ビームｌを上記試料の中央部の点ｐに入射させる。かつ
その取付台５を軌道６に沿って移動させることにより第
４図のように入射角ａを２０〜５０度に設定すると共に
摺動台１１を移動させて検出器１０の彎曲中心を試料４
におけるｘＩ！ビームの入射点ｐと一致させる・また遮
蔽板１２ ｒ １４ 、分光結晶〒およびくさび状の遮
蔽板８を取除φて〜検出器１０の入射窓にＫｐ線遮断フ
ィルタ１５を取付ける。
このように設定すると、試料面上の点ｐから上記第４図
に示したように試料４の結晶構造に応じて２＃、Ｊ＃、
、、、・、のようなそｎぞれ一定の方向へ回折Ｘ線が投
射されて検出器１０で検出される口かつその検出器の彎
曲中心は点ｐに一致して−るかも、検出器１ｏの出力に
よって上記回折角２＃、、２−・・・・およびそｎらの
強度を求めることができる口なおこの場合１矢印ｔで示
したように試料４を回転するときけ結晶の配向性の影響
が除かれるＱすなわち前記螢光Ｘ線分析によって得られ
た物質成分を参考にして回折測定の結果につき検索を行
うことによって試料の結晶構造を迅速で正確に確定する
ことができる〇 このように本発明は同一の装置を用いて、試料の螢光Ｘ
５ｉ分析と回折ｘｇ分析とを行うことができる。従って
正確で迅速に分析の操作を行い得ると共に装ばの設定操
作等も容易であり、かつ同一の装置で２楓の測定を行い
得るから極めて経済的である。
に示したように試料４の結晶構造に応じて２＃、Ｊ＃、
、、、・、のようなそｎぞれ一定の方向へ回折Ｘ線が投
射されて検出器１０で検出される口かつその検出器の彎
曲中心は点ｐに一致して−るかも、検出器１ｏの出力に
よって上記回折角２＃、、２−・・・・およびそｎらの
強度を求めることができる口なおこの場合１矢印ｔで示
したように試料４を回転するときけ結晶の配向性の影響
が除かれるＱすなわち前記螢光Ｘ線分析によって得られ
た物質成分を参考にして回折測定の結果につき検索を行
うことによって試料の結晶構造を迅速で正確に確定する
ことができる〇 このように本発明は同一の装置を用いて、試料の螢光Ｘ
５ｉ分析と回折ｘｇ分析とを行うことができる。従って
正確で迅速に分析の操作を行い得ると共に装ばの設定操
作等も容易であり、かつ同一の装置で２楓の測定を行い
得るから極めて経済的である。
Claims (1)
- 試料面の広い範囲並びに所望の微小部分にＸ線ビームを
入射させる手段と、試料面の広い範囲にＸ線ビームを入
射させた状態で該試料面から発生する螢光Ｘ線が入射す
るように設置される着脱自在な分光結晶と、先端が上記
分光結晶の表面に微小の間隙を介して対向するように設
置される着脱自在なＸ線遮蔽板と、上記間隙並びに試料
面における前記微小部分をそれぞれ中心とするように移
動可能に設置された円弧状の入射位置感応型Ｘ線検出器
とよりなることを特徴とするＸ線分析装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14245984A JPS6122241A (ja) | 1984-07-11 | 1984-07-11 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14245984A JPS6122241A (ja) | 1984-07-11 | 1984-07-11 | Ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6122241A true JPS6122241A (ja) | 1986-01-30 |
Family
ID=15315807
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14245984A Pending JPS6122241A (ja) | 1984-07-11 | 1984-07-11 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6122241A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0348574A2 (en) * | 1988-06-28 | 1990-01-03 | Kawasaki Steel Corporation | Method of simultaneously measuring thickness and composition of film and apparatus therefor |
| JPH02310499A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-26 | Shimadzu Corp | Ｘ線回折装置 |
| JP2012255769A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-27 | Rigaku Corp | 複合ｘ線分析装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5265490A (en) * | 1975-11-25 | 1977-05-30 | Philips Nv | Fluorescence xxray spectrometer |
-
1984
- 1984-07-11 JP JP14245984A patent/JPS6122241A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5265490A (en) * | 1975-11-25 | 1977-05-30 | Philips Nv | Fluorescence xxray spectrometer |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0348574A2 (en) * | 1988-06-28 | 1990-01-03 | Kawasaki Steel Corporation | Method of simultaneously measuring thickness and composition of film and apparatus therefor |
| JPH02310499A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-26 | Shimadzu Corp | Ｘ線回折装置 |
| JP2012255769A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-27 | Rigaku Corp | 複合ｘ線分析装置 |
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