JPS61192010A - Production of magnetic head - Google Patents
Production of magnetic headInfo
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- JPS61192010A JPS61192010A JP3223685A JP3223685A JPS61192010A JP S61192010 A JPS61192010 A JP S61192010A JP 3223685 A JP3223685 A JP 3223685A JP 3223685 A JP3223685 A JP 3223685A JP S61192010 A JPS61192010 A JP S61192010A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装
置に利用される磁気ヘッドの製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head used in a magnetic recording/reproducing device such as a video tape recorder.
一般に、この種磁気ヘッドの製造方法は、たとえば特開
昭59−168918号公報に示されているが、第3図
ないし第11図を用いて説明すると、まず、第3図に示
すように、1対のフェライトウェハ(1)。In general, a method for manufacturing this type of magnetic head is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 168918/1982. A pair of ferrite wafers (1).
+21のそれぞれのギャップ突合せ面(Ia)、(2B
)に直交するように基準面(lb)、(2b)を鏡面研
摩加工して形成し、その後ギャップ突合せ面(Ia)、
(2B)を鏡面研摩加工する。さらに、第4図に示すよ
うに、両ウェハ(1) 、 (2)のそれぞれの突合せ
面(In)、(2a>に二酸化ケイ素等の非磁性膜から
なるギャップ形成膜(3)。+21 respective gap abutting surfaces (Ia), (2B
) are formed by mirror polishing the reference surfaces (lb) and (2b), and then the gap abutment surfaces (Ia),
(2B) is mirror polished. Furthermore, as shown in FIG. 4, a gap forming film (3) made of a non-magnetic film such as silicon dioxide is formed on the abutting surfaces (In) and (2a) of both wafers (1) and (2), respectively.
(4)を、蒸着、スパッタ等により、両ウェハ(1)
、 (21の突合せ時に所望のギャップ長となるように
それぞれ付着、形成する。(4) is applied to both wafers (1) by vapor deposition, sputtering, etc.
, (21) are attached and formed so as to have a desired gap length when butted.
つぎに、第5図に示すように、一方のウェハ(1)の突
合せ面(ta)に、その基準面(1b)に直交する方向
に、巻線用溝(5)およびガラス充填溝(6)を研削形
成し、さらに、第6図に示すように、両ウニ/%(1)
1(2)のそれぞれの突合せ面(Ia)、(2a)に、
前記巻線用溝(5)、ガラス充填溝(6)に直交する方
向、すなわちそれぞれの基準面(Ib)、(2b)に平
行な方向に複数のトラック幅規定用トラック溝(7)
、 (8)を形成する。このトラック溝(7) 、 (
8)の加工は、両基準面(Ib)、(2b>を同一平面
上に合わせて、基準面(Ib)、(2b)から一定距離
l離れた位置から一定ピツチpで順次行なわれ、隣合う
トラック溝(7) 、 (8)間に所望のトラック幅も
が形成される。Next, as shown in FIG. 5, a winding groove (5) and a glass filling groove (6 ) is ground and formed, and further, as shown in Figure 6, both sea urchins/% (1)
1 (2) on each butting surface (Ia) and (2a),
A plurality of track width defining track grooves (7) in a direction perpendicular to the winding groove (5) and the glass filling groove (6), that is, in a direction parallel to the respective reference planes (Ib) and (2b).
, (8) is formed. This track groove (7), (
Processing in 8) is performed sequentially at a constant pitch p from a position a certain distance l away from the reference planes (Ib) and (2b), with both reference planes (Ib) and (2b>) aligned on the same plane. A desired track width is also formed between the matching track grooves (7) and (8).
そして、第7図に示すように、両ウェハ(1)−、(2
)のそれぞれの突合せ面(Ia)、(2a)をそれぞれ
の基準面(It)’)、(2b)を同一平面上に合せた
状態で接合し、さらに、各ガラス充填溝(6)にそれぞ
れ棒状の溶着用ガラス材(9)を挿入し、加圧しながら
、すなわち両ウェハ(1) 、 (2)間を圧接しなが
ら加熱し、ガラス材(9)を溶融させて両ウェハ(1)
、 (2+を溶着し、ブロック体Gαを構成する。こ
のとき、溶融されたガラス材(9)はガラス充填溝(6
)のみならず互いに対向する各トラック溝(7) 、
(8)内にも流入し充填される。また、両ウェハ(1)
、 (2)の突合せ面(Ia)、(2a)間に両ギャ
ップ形成膜(3/、(4)による所定幅のギャップが形
成される。Then, as shown in FIG. 7, both wafers (1)-, (2)
) are joined with the respective butt surfaces (Ia) and (2a) of the respective reference surfaces (It)') and (2b) aligned on the same plane, and then each of the glass filling grooves (6) is A rod-shaped welding glass material (9) is inserted and heated while applying pressure, that is, while pressing the two wafers (1) and (2) together, melting the glass material (9) and forming both wafers (1).
, (2+) to form the block body Gα. At this time, the melted glass material (9) is inserted into the glass filling groove (6
) as well as track grooves (7) facing each other,
(8) also flows into and is filled. Also, both wafers (1)
, (2), a gap of a predetermined width is formed between the abutting surfaces (Ia) and (2a) by both gap forming films (3/, (4)).
そして、前述のようにして得られたグロック体叫を、同
図に1点鎖線で示す切断面αηでそれぞれ切断してチッ
プブロック(2)を形成し、第8図に示すように、チッ
プブロック(2)のテープ対接面にR付は加工を施こし
て所定のデプス長を形成する。Then, the Glock bodies obtained as described above are cut at the cutting plane αη shown by the dashed line in the figure to form a chip block (2), and as shown in FIG. (2) The tape contacting surface is rounded to form a predetermined depth length.
さらに、第9図に示すように、R付けしたチップブロッ
クα4のテープ対接面に、ギャップ突合せ面(11)、
(2a)に対し所定のアジマス角をもって、所望のテー
プ対接幅mになるようテープ対接規定溝(至)を順次形
成し、この溝α1に沿ってチップブロック@をスライス
し、第10図および第11図に示すような磁気ヘッドチ
ップα脣を形成する。Furthermore, as shown in FIG. 9, a gap abutment surface (11),
With respect to (2a), tape contact defining grooves (to) are sequentially formed at a predetermined azimuth angle so as to have a desired tape contact width m, and the chip block @ is sliced along this groove α1. Then, a magnetic head chip α as shown in FIG. 11 is formed.
ところで、この種磁気ヘッドでは、そのトラック幅もの
精度が直接記録密度に関係し、狭トラツク幅化されるに
従い2μm位の精度が要求されてきている。Incidentally, in this type of magnetic head, the accuracy of the track width is directly related to the recording density, and as the track width becomes narrower, an accuracy of about 2 .mu.m is required.
このトラック幅もは、前述したように、両フエライトウ
x ハ(1) 、 f21のギャップ突合せ面(Ha)
、(2a)に形成されるトラック溝(7) 、 (8)
により規定されるが、従来よシ、高精度なトラック幅加
工を行なうために、ダイシング等の機械を用いてトラッ
ク溝(7) 、 (8)の加工が行なわれている。As mentioned above, this track width is also determined by the gap abutting surface (Ha) of both ferrite tows (1) and f21.
, (2a) track grooves (7), (8) formed in
Conventionally, track grooves (7) and (8) have been processed using a machine such as dicing in order to perform highly accurate track width processing.
すなわち、従来の製造方法におけるトラック溝加工は、
第12図に示すように、フエライ、トウエバ(1) 、
(2+のギャップ突合せ面(Ia)、(2a)を、ダ
イシングのブレードと呼ばれる切削刃α四により、基準
面(+13)、(21))に平行な第1溝(AI )、
(A2)、(A3)、・・・を一定ピツチpで順次切削
し、その後、第1溝(A2)、(AI) 。In other words, the track groove machining in the conventional manufacturing method is
As shown in Fig. 12, Huerai Toeba (1),
(2+ gap abutment surfaces (Ia), (2a) are cut into a first groove (AI) parallel to the reference plane (+13), (21)) by a cutting blade α4 called a dicing blade;
(A2), (A3), . . . are sequentially cut at a constant pitch p, and then the first grooves (A2), (AI) are cut.
・・・との間が所定のトラック幅もになるよう、同一の
切削刃α目で第2溝(Bl)、(B2)、・・・を一定
ピツチpで順次切削して行なっている。. . . The second grooves (Bl), (B2), .
しかし、前記従来の製造方法によシトラック溝加工を行
なうと、これにより得られたトラック幅しに大きなばら
つきが生じる。これは、第1溝(AI)。However, when the track grooves are formed by the conventional manufacturing method, there is a large variation in the track widths obtained. This is the first groove (AI).
(A2)、(A3)、・7Ml削時に、切削刃a1の両
刃面(X)。(A2), (A3), Double-edged surface (X) of cutting blade a1 during 7Ml cutting.
(y)が等しく切削を行ない、切削面(Ax ) 、(
Ay )を得ているが、第2溝(’Bl)、(B2)、
・・・の切削時、切削刃α$の一方の刃面(X)が先端
のみの切削により切削面(Bx)を得ているのに対し、
他方の刃面ケ)はその全面に渡って切削を行ない切削面
(By)を得ているため、切削刃α1の他方の刃面0)
の使用頻度が高く、該刃面(y)における摩耗が一方の
刃面(X)に対し進行し、しかもこれが一定でなく、こ
のことが直接トラック幅のばらつきを生じることになる
と推定される。(y) performs cutting equally, cutting surface (Ax), (
Ay), but the second groove ('Bl), (B2),
When cutting ..., one blade surface (X) of the cutting edge α$ obtains the cutting surface (Bx) by cutting only the tip,
The other blade surface ke) is cut over its entire surface to obtain the cutting surface (By), so the other blade surface 0) of the cutting blade α1 is
It is presumed that the frequency of use of the blade surface (y) is high, the wear on the blade surface (y) progresses with respect to one of the blade surfaces (X), and that this is not constant, which directly causes variations in the track width.
そこで、切削刃α$の両刃(X) 、 CY)における
摩耗の差をなくすべく、第13図に2点鎖線に示すよう
に、ウェハ(1) 、 (2)の突合せ面(la)、(
2a)に予め一定ピツチpで予備溝αGを形成し、その
後、第1溝(AI )’ 。Therefore, in order to eliminate the difference in wear between the two edges (X), CY) of the cutting blade α$, the abutting surfaces (la), (
2a), a preliminary groove αG is formed in advance at a constant pitch p, and then a first groove (AI)' is formed.
(A2)’、・・・および第2溝(B+ )’ 、(B
2)’ 、・・・を順次切削することが考えられる。(A2)', ... and the second groove (B+)', (B
2)', . . . may be sequentially cut.
しかし、このように切削刃Q5の両刃面(X) 、 (
y)における摩耗の差をなくすようにしても、トラック
幅のばらつきは前述のものと差程変わっておらず、トラ
ック幅のばらつきの最大の原因が切削刃a9の刃面(X
) 、 (y)における偏摩耗でないことになる。However, in this way, the double-edged surface (X) of the cutting blade Q5, (
Even if the difference in wear at
), there is no uneven wear in (y).
なお、トラック溝加工に用いられる切削刃αQにおいて
は、その刃先角度が、トラック幅制御の問題や製造され
た磁気ヘッドの特性等を考慮して、およそ45度に設定
されているが、トラック溝の加工時に、まず、切削加工
のしやすい(切削抵抗の小さい)切削刃、すなわち刃先
角度の小さい切削刃を用いて切削を行ない、その後本加
工用の切削刃を用いてトラック溝を完成することが考え
られる。しかし、この場合、2種の切削刃を使用するた
め、その交換が大変であシ、しかも切削刃の位置決めに
労を要す難点があり、不都合である。Note that the cutting edge angle of the cutting blade αQ used for track groove machining is set to approximately 45 degrees in consideration of the problem of track width control and the characteristics of the manufactured magnetic head. When machining, first perform cutting using a cutting blade that is easy to perform cutting (low cutting resistance), that is, a cutting blade with a small cutting edge angle, and then complete the track groove using a cutting blade for main processing. is possible. However, in this case, since two types of cutting blades are used, it is difficult to replace them, and moreover, it is difficult to position the cutting blades, which is disadvantageous.
本発明者は、前記の点に鑑み、トラック幅のばらつきの
原因を種々分析してみた結果、トラック溝形成用切削刃
のウェハに対する切削抵抗がこのばらつきに大きく影響
することをつきとめ、さらに、トラック溝の本加工前に
予備溝を形成した際、この予備溝の深さが本加工時の切
削抵抗およびそれに伴なうトラック幅のばらつきに大き
く影響することを確認し、この発明に到達したものであ
り、この発明は、磁気ヘッドの製造方法におけるトラッ
ク溝の形成工程に、ウェハのトラック溝形成位置の中央
に該トラック溝の深さの215〜3/5の深さで予備溝
を形成する工程を含むことを特徴とするものである。In view of the above, the inventors of the present invention analyzed various causes of variations in track width and found that the cutting resistance of the cutting blade for forming track grooves against the wafer has a large influence on this variation. This invention was achieved by confirming that when a preliminary groove is formed before the main processing of the groove, the depth of this preliminary groove greatly affects the cutting force during the main processing and the resulting variation in track width. According to the present invention, in the step of forming track grooves in the method of manufacturing a magnetic head, a preliminary groove is formed at the center of the track groove forming position of the wafer to a depth of 215 to 3/5 of the depth of the track groove. It is characterized by including a process.
したがって、前述した磁気ヘッドの製造方法によると、
トラック溝を形成する工程において、まず、1対のウェ
ハのそれぞれのギャップ突合せ面におけるトラック溝形
成位置の中央に、該トラック溝の深埒のV5〜3/5の
深さで予備溝を形成し、その後、予備溝の両側において
本加工を行なうことにより、本加工時の切削抵抗が小さ
くなり、それに伴なってトラック幅のばらつきを最小限
に抑えることが可能になる。Therefore, according to the magnetic head manufacturing method described above,
In the step of forming track grooves, first, a preliminary groove is formed at the center of the track groove formation position on each gap abutting surface of a pair of wafers, with a depth of V5 to 3/5 of the depth of the track groove. Then, by performing the main processing on both sides of the preliminary groove, the cutting resistance during the main processing becomes smaller, and accordingly, it becomes possible to minimize variations in track width.
つぎに、この発明を、その1実施例を示した第1図およ
び第2図とともに詳細に説明する。Next, the present invention will be explained in detail with reference to FIGS. 1 and 2 showing one embodiment thereof.
まず、第2図は、深さ200μmのトラック溝(7)。First, FIG. 2 shows a track groove (7) with a depth of 200 μm.
(8)の形成工程において、本加工前に予備溝を形成す
るとともに、この予備溝の深さを種々変えてトラック溝
の本加工を行なった場合のトラック幅精度の測定結果を
示したものである。同図から明らかなように、形成しよ
うとするトラック溝の深さの215〜3/5間の深さを
有する予備溝を予め形成しておけば、本加工によりトラ
ック溝(7) 、 (8)を形成した際、トラック幅t
の精度が±2μm以内に入ることがわかる。In the forming process (8), a preliminary groove is formed before the main processing, and the depth of the preliminary groove is varied to perform the main processing of the track groove. be. As is clear from the figure, if a preliminary groove having a depth of 215 to 3/5 of the depth of the track groove to be formed is formed in advance, the track grooves (7) and (8) can be formed by the main processing. ), the track width t
It can be seen that the accuracy is within ±2 μm.
ここで、予備溝の加工深さが浅すぎると、本加工時の切
削抵抗が大きくなり、トラック幅精度が低下し、また、
予備溝の加工深さが深すぎると、この予備加工時に生じ
た切削変動が本加工時に直接影響し、安定した本加工が
行なわれず、結果としてトラック幅精度が低下すること
になる。Here, if the machining depth of the preliminary groove is too shallow, the cutting resistance during main machining will increase, the track width accuracy will decrease, and
If the machining depth of the preliminary groove is too deep, cutting fluctuations that occur during the preliminary machining will directly affect the main machining, and stable main machining will not be performed, resulting in a decrease in track width accuracy.
つぎに、実施例の製造方法について説明する。Next, the manufacturing method of the example will be explained.
前記従来技術第3図〜第5図で説明したように、1対の
フェライトウェハ(1) 、 (2)において、それぞ
れの鏡面研磨加工されたギャップ突合せ面(la) 。As explained in FIGS. 3 to 5 of the prior art, the mirror-polished gap abutment surfaces (la) of the pair of ferrite wafers (1) and (2).
(2a)にギャップ形成膜+3/ 、 (4)を形成す
るとともに、一方のウェハ(1)の突合せ面(la)に
その基準面(+b)に対し直交する方向に巻線用溝(5
)およびガラス充填溝(6)を形成する。A gap forming film +3/ (4) is formed on (2a), and a winding groove (5
) and a glass-filled groove (6) are formed.
つぎに、両ウェハ(1) 、 (21のそれぞれの基準
面(tb)。Next, the respective reference planes (tb) of both wafers (1) and (21).
(2b)を同一平面上に合□わせて、第6図に示すよう
な基準面(lb)、(2b)に平行な複数行のトラック
溝(7)。(2b) are aligned on the same plane, and a plurality of rows of track grooves (7) parallel to the reference plane (lb) and (2b) as shown in FIG.
(8)を形成するのである示、この形成工程において、
まず、第1図に2点鎖線で示すように、トラック溝形成
位置の中央に、トラック溝(7) 、 (8)の深さ。(8) In this forming step,
First, as shown by the two-dot chain line in FIG. 1, the depths of the track grooves (7) and (8) are set at the center of the track groove forming position.
たとえば200μmに対し215〜3/5 (80tt
m−120μm)の深さの予備溝0ηを切削刃α四によ
り一定ピッチpで形成する。その後、同図に1点鎖線で
示すように、予備溝θ′7)の−側寄り、すなわち基準
面(lb)、(2b)寄シに所定深さく200μm)の
第1溝(A)を一定ピツチpで順次形成し、さらに、予
備溝α力の他側寄りに第1溝(A)との間に所望のトラ
ック幅tを残して所定深さく200μm)の第2溝(B
)を順次形成し、第6図と同様、トラック溝(7) 、
(8)を得る。For example, 215~3/5 (80tt) for 200μm
Preliminary grooves 0η with a depth of (m−120 μm) are formed at a constant pitch p using cutting blades α4. Thereafter, as shown by the dashed line in the figure, a first groove (A) with a predetermined depth of 200 μm is formed on the negative side of the preliminary groove θ'7), that is, on the reference surface (lb) and (2b). A second groove (B) with a predetermined depth of 200 μm is formed on the other side of the preliminary groove α with a desired track width t left between it and the first groove (A).
) are sequentially formed, and as in FIG. 6, track grooves (7),
(8) is obtained.
ここで、予備溝α力がトラック溝形成位置の中央からず
れると、その後の本加工時に切削刃αGの安定度が悪く
なり、所望のトラック幅もが得られなくなる。Here, if the preliminary groove α force deviates from the center of the track groove forming position, the stability of the cutting blade αG deteriorates during subsequent main processing, and the desired track width cannot be obtained.
その後、従来技術第7図〜第9図で説明した工程を経て
第10図および第11図に示すような磁気ヘッドチップ
Q4)を完成する。Thereafter, the magnetic head chip Q4) as shown in FIGS. 10 and 11 is completed through the steps explained in FIGS. 7 to 9 of the prior art.
以上のように、この発明の磁気ヘッドの製造方法による
と、トラック溝形成工程に、トラック溝形成位置の中央
に該トラック溝の深さのV5〜3/5の深さで予備溝を
形成する工程を含むため、トラック溝の本加工時におけ
る切削抵抗が低減し、トラック溝加工が精度良く行なわ
れ、隣合うトラック溝により規定されたトラック幅を高
精度に得ることができる。ものである。As described above, according to the magnetic head manufacturing method of the present invention, in the track groove forming step, a preliminary groove is formed at the center of the track groove forming position with a depth of V5 to 3/5 of the track groove depth. Since the process includes the steps, the cutting resistance during the main machining of the track grooves is reduced, the track grooves can be machined with high precision, and the track width defined by the adjacent track grooves can be obtained with high precision. It is something.
第1図および第2図はこの発明の磁気ヘッドの膨曲方法
の1実施例を示し、第1図はトラック溝形成工程を示す
要部の正面図、第2図は予備溝の深さに対するトラック
溝形成後のトラック幅精度の特性図、第3図ないし第1
1図はそれぞれ一般の磁気ヘッドの製造方法における製
造過程を示し、第3図ないし第10図はそれぞれ斜視図
、第11図は磁気ヘッドチップの平面図、第12図およ
び第13図はそれぞれ従来の磁気ヘッドの製造方法にお
けるトラック溝形成工程を示す一部の正面図である。
(1) 、 (21−・・フェライトウェハ、(ta)
、(2a)−・・ギャップ突合せ面、+3) 、 (4
)・・・ギャップ形成膜、(5)・・・巻線用溝、(6
)・・・ガラス充填溝、(7) 、 (8)・・・トラ
ック溝、(9)・・・ガラス材、(2)・・・チップブ
ロック、α瘤・・・磁気ヘッドチップ、n・・・予備溝
。1 and 2 show one embodiment of the magnetic head expansion method of the present invention, FIG. 1 is a front view of the main part showing the track groove forming process, and FIG. 2 is a diagram showing the depth of the preliminary groove. Characteristic diagrams of track width accuracy after track groove formation, Figures 3 to 1
Figure 1 shows the manufacturing process in a general magnetic head manufacturing method, Figures 3 to 10 are perspective views, Figure 11 is a plan view of a magnetic head chip, and Figures 12 and 13 are conventional methods. FIG. 3 is a partial front view showing a track groove forming step in the method of manufacturing the magnetic head of FIG. (1), (21-...ferrite wafer, (ta)
, (2a) - Gap butting surface, +3) , (4
)... Gap forming film, (5)... Winding groove, (6
)...Glass filling groove, (7), (8)...Track groove, (9)...Glass material, (2)...Chip block, α knob...Magnetic head chip, n.・Preliminary groove.
Claims (1)
磁性材からなるウェハの一方の前記ギャップ突合せ面に
巻線用溝およびガラス充填溝を形成する工程と、前記両
ウェハのそれぞれのギャップ突合せ面に前記各溝に交差
する方向にトラック幅規定用の複数のトラック溝を形成
する工程と、前記両ギャップ突合せ面をギャップ形成膜
を介して接合するとともに前記ガラス充填溝に挿入され
たガラス材を溶融して前記両ウェハを溶着しチップブロ
ックを構成する工程と、チップブロックをスライスし磁
気ヘッドチップを形成する工程とを有し、かつ、前記ト
ラック溝の形成工程に、前記ウェハのトラック溝形成位
置の中央に該トラック溝の深さの2/5〜3/5の深さ
で予備溝を形成する工程を含むことを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。(1) A step of forming a winding groove and a glass filling groove on one of the gap abutting surfaces of a pair of wafers made of a magnetic material having mirror-polished gap abutting surfaces, and gap abutting of each of the two wafers. a step of forming a plurality of track grooves for defining track width in a direction intersecting each of the grooves on the surface, joining both the gap abutting surfaces via a gap forming film, and inserting a glass material into the glass filling groove; and a step of slicing the chip block to form a magnetic head chip; and a step of slicing the chip block to form a magnetic head chip. A method for manufacturing a magnetic head, comprising the step of forming a preliminary groove at a depth of 2/5 to 3/5 of the depth of the track groove at the center of the formation position.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3223685A JPS61192010A (en) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | Production of magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3223685A JPS61192010A (en) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | Production of magnetic head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61192010A true JPS61192010A (en) | 1986-08-26 |
Family
ID=12353345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3223685A Pending JPS61192010A (en) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | Production of magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61192010A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5245488A (en) * | 1986-08-13 | 1993-09-14 | Seiko Epson Corporation | Low-noise composite magnetic head for recording and producing |
-
1985
- 1985-02-20 JP JP3223685A patent/JPS61192010A/en active Pending
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US5245488A (en) * | 1986-08-13 | 1993-09-14 | Seiko Epson Corporation | Low-noise composite magnetic head for recording and producing |
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