JPS61185542A - Photo-sensitive composition - Google Patents
Photo-sensitive compositionInfo
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- JPS61185542A JPS61185542A JP2572785A JP2572785A JPS61185542A JP S61185542 A JPS61185542 A JP S61185542A JP 2572785 A JP2572785 A JP 2572785A JP 2572785 A JP2572785 A JP 2572785A JP S61185542 A JPS61185542 A JP S61185542A
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- Japan
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- butadiene
- photo
- molecule
- group
- vinyl
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- Pending
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は感光性組成物に関するもので、インキ、コーテ
ィング剤、レジスト、塗料及び接着剤などの利用分野に
適する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a photosensitive composition, which is suitable for application fields such as inks, coating agents, resists, paints, and adhesives.
(従来の技術)
近年、感光性材料は、そのエネルギー線による化学反応
の利用に裏づけられ、複写用感光材、ディスプレー用素
材、インキ、塗料、10分野などでのノやターン形成、
透明体の接着などにおいて盛んに用いられている。特に
民生用機器のプリント配線板、液晶封止分野や光学部品
の接着、IC分野におけるパターン形成材料として注目
をあびている。このため、感光性組成物の種類も数多く
見出され、まだその用途に応じた特異な性能を有する感
光性組成物の種類も多く提案されている。(Prior art) In recent years, photosensitive materials have been supported by the use of chemical reactions caused by energy rays, and have been used in photosensitive materials for copying, materials for displays, inks, paints, hole and turn formation in ten fields, etc.
It is widely used for bonding transparent materials. In particular, it is attracting attention as a pattern forming material in printed wiring boards for consumer devices, liquid crystal sealing, optical component adhesion, and IC fields. For this reason, many types of photosensitive compositions have been discovered, and many types of photosensitive compositions having unique performances depending on their uses have been proposed.
一般に感光性組成物の硬化には、紫外線、可睨光、赤外
光、電子線、X線などのエネルギー線が用いられている
が、最も一般的に利用されているものは紫外線である。Energy rays such as ultraviolet rays, visible light, infrared light, electron beams, and X-rays are generally used to cure photosensitive compositions, and the most commonly used is ultraviolet rays.
紫外線の波長としては200〜400 nmのものが使
用され、光源としては、高圧水銀ランプ、キセノンラン
プ、ケミカルライド、メタルハライドランプなどが使用
されている。The wavelength of ultraviolet light used is 200 to 400 nm, and the light source used is a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a chemical ride lamp, a metal halide lamp, or the like.
感光性組成物の構成としては一般に重合性のビニルモノ
マーと光増感剤よりなり、この光増感剤が光エネルギー
を吸収することにより重合が開始し、硬化反応が進行す
るものであるが、ビニルモノマーの種類や、光増感剤の
種類により、作業性に係る感光性組成物の臭気、毒性、
粘度、硬化時間に悪影響を及ぼしたり、また、硬化物の
特性すなわち、被着物への密着性、透明性、使用環境下
での耐久性などにも影響を及ぼす。例えば特公昭52−
49033号公報には、1.2−、fリプタジエンオリ
ゴマー、光反されているが、そこに示される組成では、
硬化時間は速いが、実施例て示しであるビニルモノマー
系では臭気あるいは被着物への密着性に問題がある。ま
た特公昭52−8856号公報には、分子内にブタジェ
ン結合をもつ液状高分子物質と、光エネルギーによって
活性化しやすい分子内に 11 基を有するメタア
クリル酸ニーC−0−
ステルモノマー又ハアクリル酸エステルモノマーを主成
分とする感光性接着剤が記載されでいるが、そこに示さ
れる感光性接着剤では、被着物に対する密着性は良好で
あるが、その硬化時不飽和基を有する樹脂のビニル単量
体溶液に光増感剤としてテトラメチルチウラムモノサル
ファイドを配合した光硬化性被覆組成物が記載されてい
るが、そこに示される組成物では光増感剤が硫黄を多量
に含有しており、そのために電子部品などの金属腐蝕を
嫌う用途には、使用が制限される。The composition of a photosensitive composition generally consists of a polymerizable vinyl monomer and a photosensitizer, and when this photosensitizer absorbs light energy, polymerization starts and a curing reaction progresses. Depending on the type of vinyl monomer and the type of photosensitizer, the odor, toxicity, and
It adversely affects the viscosity and curing time, and also affects the properties of the cured product, such as adhesion to adherends, transparency, and durability under the usage environment. For example, the special public official court in 1977-
No. 49033 discloses a 1.2-, f-liptadiene oligomer, but the composition shown therein is
Although the curing time is fast, the vinyl monomer type shown in the examples has problems with odor and adhesion to adherends. In addition, Japanese Patent Publication No. 52-8856 discloses a liquid polymer substance having a butadiene bond in its molecule, and a methacrylic acid di-C-0-ster monomer or acrylic acid monomer having 11 groups in its molecule that is easily activated by light energy. A photosensitive adhesive containing an ester monomer as a main component is described, but the photosensitive adhesive shown therein has good adhesion to the adherend, but when cured, the vinyl of the resin having an unsaturated group A photocurable coating composition containing tetramethylthiuram monosulfide as a photosensitizer in a monomer solution is described, but in the composition shown therein, the photosensitizer contains a large amount of sulfur. Therefore, its use is restricted in applications where metal corrosion is averse, such as electronic parts.
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は極く短時間に硬化し、被着物への密着強度を改
良し前記公知技術をことごとく解決したヶ感光性組成物
を提供することを目的とするものである。(Problems to be Solved by the Invention) An object of the present invention is to provide a photosensitive composition that cures in an extremely short period of time, improves adhesion strength to adherends, and solves all of the problems of the above-mentioned known techniques. It is something.
(間頃点を解決するための手段)
本発明は、(1)ブタジエン重合体および/またはブタ
ノエ/と池の重合性モノマーとの共重合体、(2)分子
内に水酸基を有する不飽和カルボン酸エステル及び(3
)次の一般式で表わされる光増感剤
R
(ここでRは炭素数1〜3のアルキル基であり、R′は
フェニル基又は炭素数1〜3のアルキル基、塩素又はア
ミン基で置撲されたフェニル基である)
よりなる感光性組成物である。ここで、ブタジェン重合
体および/またはブタジェンと他の重合性モノマーとの
共重合体としては、具体的には、ブタジェン重合体とし
ては1,4−ポリブタジエン、1,2−ポリブタジェン
が代表的であり、またこれらの重合体の変性物として、
末端基がOH基、C0OH基または末端ビニル変性物な
どがあげられる。ブタジエンと他の重合性モノマーとの
共重合体としては、ブタジェン−7り+)ロニトリル共
重合体、ブタジェン−アクリロニトリル−スチレン共重
合体が代表的であり、またこれらの重合体の変性物とし
て、末端基がOH基、C0OH基、または末端ビニル変
性物などがあげられるがこれらに限定されるものではな
い。またこれら重合体は、感光性組成物として他の共存
するものとの相溶性、粘度調節などの観点から分子量1
000ないし20万のものが適している。(Means for solving the problem) The present invention provides (1) a butadiene polymer and/or a copolymer with a butanoe/toike polymerizable monomer, (2) an unsaturated carbon having a hydroxyl group in the molecule. Acid ester and (3
) Photosensitizer R represented by the following general formula (where R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R' is a phenyl group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, chlorine or an amine group) This is a photosensitive composition consisting of a phenyl group. Here, as the butadiene polymer and/or the copolymer of butadiene and other polymerizable monomers, specifically, 1,4-polybutadiene and 1,2-polybutadiene are representative examples of the butadiene polymer. , and as modified products of these polymers,
The terminal group may be an OH group, a C0OH group, or a vinyl-terminated product. Typical copolymers of butadiene and other polymerizable monomers include butadiene-7+lonitrile copolymers and butadiene-acrylonitrile-styrene copolymers, and modified products of these polymers include Examples include, but are not limited to, terminal groups such as OH groups, COOH groups, and vinyl-terminated products. In addition, these polymers have a molecular weight of 1.
000 to 200,000 is suitable.
次に分子内に水酸基を有する不飽和カルボン酸エステル
トシては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチ
レングリコールモノ−(メタ)アクリレート、ノエチレ
ングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセリンモ
ノ(メタ)アクリレート、トリメチロールグロ・ぐンモ
ノ(メタ)アクリレート、トリメチロールグロパンジ(
メタ)アクリレート、ビスフエノールAモノ(メタ)ア
クリレートなどがあげられるがこれに限定されるもので
はない。Next, unsaturated carboxylic acid esters having a hydroxyl group in the molecule include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, ethylene glycol mono(meth)acrylate, and noethylene glycol mono(meth)acrylate. ) acrylate, glycerin mono(meth)acrylate, trimethylolgulogunmono(meth)acrylate, trimethylolglopandi(
Examples include, but are not limited to, meth)acrylate and bisphenol A mono(meth)acrylate.
R
素数1〜3のアルキル基であり、R′はフェニル基又は
炭素数1〜3のアルキル基、塩素又はアミン基で直換さ
れたフェニル基である)で表わされる光増感剤としては
、2,2−ジメトキシアセトフエノン、2,2−ジメト
キシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ノエトキ
シアセトフエノン、2,2−ノブロポキシアセトフエノ
ン、2.2−ジメトキシ−2−クロルフェニルアセトフ
ェノン、2,2−ジメトキシ−2−アミノフェニルアセ
トフェノンなどカする。R is an alkyl group having a prime number of 1 to 3, and R' is a phenyl group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group directly substituted with chlorine or an amine group), 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-noethoxyacetophenone, 2,2-nobropoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-chlor Examples include phenylacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-aminophenylacetophenone, and the like.
まだこれら要件の構成比率としては、用途により異なる
が、(1)は5〜50重量部、(2)は1〜30重量部
、(3)は0.01〜5重量部が好ましく、特に(1)
と(2)の配合比率(重量比)は99:1〜55:45
がその相溶性から特に好ましい。The composition ratio of these requirements varies depending on the application, but preferably 5 to 50 parts by weight for (1), 1 to 30 parts by weight for (2), and 0.01 to 5 parts by weight for (3), especially ( 1)
The blending ratio (weight ratio) of and (2) is 99:1 to 55:45
is particularly preferred from the viewpoint of compatibility.
またこれらの他に他の相溶する有機化合物を添加するこ
ともできる。例えば、水酸基を含有しないビニルモノマ
ー、可塑剤、界面活性剤、シランカップリング剤などで
ある。特にシランカップリング剤の(1)と(2)の共
存下での添加は被着物の密着性を向上させ、なかんずく
、長期の耐湿耐水性を向上させる結果が本組成物で明ら
かとなった。In addition to these, other compatible organic compounds may also be added. Examples include vinyl monomers that do not contain hydroxyl groups, plasticizers, surfactants, silane coupling agents, and the like. In particular, it has been found that the addition of silane coupling agents (1) and (2) in the presence of the present composition improves the adhesion of the adherend, and above all, improves the long-term moisture and water resistance.
またこの他、必要に応じて紫外線の透過性の良い無機系
の充填材を加えることも有効である。In addition to this, it is also effective to add an inorganic filler that is highly transparent to ultraviolet rays, if necessary.
以上のように本発明は特定の化会物を組み合せることに
よシ、従来にない驚異的な性能を有する感光性組成物を
提供することができ、目的を達成できたものである。As described above, the present invention can provide a photosensitive composition having unprecedented performance by combining specific chemical compounds, thereby achieving the object.
(実施例) 以下本発明の実施例について説明する。(Example) Examples of the present invention will be described below.
朶施例1゜
末端ビニル型ポリブタジェンオリがマー〔平均分子量2
000(TE−2000日本曹達社)〕200gと2−
ヒドロキシエチルメタクリレート100.!9およびハ
イドロキノン0.25gを500rrLlの三ツロフラ
スコに入れ、フラスコを80℃に加温しながら窒素気流
中で2時間攪拌した。その後ビニル−トリス(2−メト
キシ)7ラン(A−172日本ユニカー社)3gと2゜
2−ジメトキシ−2フエニルアセトフエノ73gを加え
、室温にもどし、冷暗所で1時間攪拌し試料(1)を調
製した。Example 1゜Vinyl-terminated polybutadiene oligomer [average molecular weight 2
000 (TE-2000 Nippon Sodasha)] 200g and 2-
Hydroxyethyl methacrylate 100. ! 9 and 0.25 g of hydroquinone were placed in a 500 rrLl Mitsuro flask and stirred for 2 hours in a nitrogen stream while heating the flask to 80°C. Thereafter, 3 g of vinyl-tris(2-methoxy) 7ran (A-172 Nippon Unicar Co., Ltd.) and 73 g of 2゜2-dimethoxy-2-phenylacetophenone were added, the temperature was returned to room temperature, and the mixture was stirred for 1 hour in a cool, dark place. ) was prepared.
実施例2゜
実施例1の末端ビニル型ポリブタジエンオリゴマー0代
りに末端水酸素基型ポリブタジェンオリゴマー〔分子量
2000 (G−2000日本曹達社)〕を使用した以
外は同様の操作で試料(2)を調製した。Example 2 Sample (2) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a terminal hydroxyl group-type polybutadiene oligomer [molecular weight 2000 (G-2000 Nippon Soda Co., Ltd.)] was used instead of the vinyl-terminated polybutadiene oligomer 0 in Example 1. was prepared.
実施例3゜
実施例1の2−ヒドロキシエチルメタクリレートの代す
に2−ヒドロキシプロピルメタクリレートを用い、ビニ
ル−トリス−(2−メトキシ)シランを添加しない以外
は同様の操作で試料(3)をA製した。Example 3 Sample (3) was prepared in the same manner as Example 1 except that 2-hydroxypropyl methacrylate was used instead of 2-hydroxyethyl methacrylate and vinyl-tris-(2-methoxy)silane was not added. Manufactured.
実施例4゜
末端アリル型ポリブタジェンオリゴマー〔平均分子量3
000 (B−3000日本石油化学社)〕2200g
2−ヒドロキシエチルメタクリレート50g、エチレン
グリコールジメタクリレート50g、ハイドロキノンモ
ノメチルエーテル0.2gを三ツロフラスコに入れ80
℃に加温しながら窒素気流中で2時間攪拌した。冷却後
、冷暗所にてガンマメタクロキシプロピルトリメトキシ
シラン(A−174日本ユニカー社>39.2,2−ジ
メトキシ−2−フェニルアセトフェノン3gを加え1時
間攪拌し試料(4)を調製した。Example 4 Terminal allyl type polybutadiene oligomer [average molecular weight 3
000 (B-3000 Nippon Petrochemicals)] 2200g
Put 50 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 50 g of ethylene glycol dimethacrylate, and 0.2 g of hydroquinone monomethyl ether into a Mitsuro flask and mix at 80 g.
The mixture was stirred for 2 hours in a nitrogen stream while warming to ℃. After cooling, 3 g of gamma methacryoxypropyltrimethoxysilane (A-174 Nippon Unicar Co., Ltd. > 39.2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone) was added in a cool, dark place and stirred for 1 hour to prepare sample (4).
実施例5゜
末端ビニル型ポリブタジェンオリゴマー〔平均分子量2
000 (TB−2000日本曹達社)〕100.9,
2−ヒドロキシエチルメタクリレート100.li’、
ハイドロキノンモノメチルエーテル0.2g、ビニル−
トリス−(2−メトキシ)シラン2g、2.2−ゾメト
キシー2−フエニルアセトフエノン2gの組成で実施例
1と同様の操作で試料(5)を調製した。Example 5゜Vinyl-terminated polybutadiene oligomer [average molecular weight 2
000 (TB-2000 Nippon Sodasha)] 100.9,
2-Hydroxyethyl methacrylate 100. li',
Hydroquinone monomethyl ether 0.2g, vinyl-
Sample (5) was prepared in the same manner as in Example 1 with a composition of 2 g of tris-(2-methoxy)silane and 2 g of 2,2-zomethoxy-2-phenylacetophenone.
比較例1゜
1.2−ポリブタジェンオリゴマー〔平均分子量400
0 (B−4000日本石油)〕7゜l、2−ヒドロキ
シメタクリレート30g、ヘキサクロロシクロペンタノ
エン1g、ハイドロキノン0.003gを遮光したフラ
スコで真空中20℃に保って30分攪拌し試料(比1)
を調製した。Comparative example 1゜1.2-polybutadiene oligomer [average molecular weight 400
0 (B-4000 Nippon Oil)] 7゜l, 2-hydroxy methacrylate 30g, hexachlorocyclopentanoene 1g, and hydroquinone 0.003g were stirred in vacuum for 30 minutes at 20℃ in a light-shielded flask, and the sample (ratio 1 )
was prepared.
比較例2゜
1.2−ポリブタジェンオリゴマー〔平均分子量300
0 (B−3000日本曹達)〕5゜yとジアリルマレ
エート8,9.N−ビニルピロリドン4.0 g、ハイ
ドロキノンモノメチルエーテル0.02g、ベンゾイン
エチルエーテルα、6yを遮光したフラスコで窒素気流
中20’Cで30分間攪拌して試料(比2)を調製した
。Comparative Example 2゜1.2-polybutadiene oligomer [average molecular weight 300
0 (B-3000 Nippon Soda)] 5゜y and diallyl maleate 8,9. A sample (ratio 2) was prepared by stirring 4.0 g of N-vinylpyrrolidone, 0.02 g of hydroquinone monomethyl ether, and benzoin ethyl ether α,6y in a light-shielded flask at 20'C in a nitrogen stream for 30 minutes.
比較例3゜
末端ビニル型ポリブタジエンオリゴマーヲ使用しない以
外は実施例1の組成で試料(比3)を調製した。Comparative Example 3 A sample (ratio 3) was prepared with the composition of Example 1 except that the vinyl-terminated polybutadiene oligomer was not used.
比較例4゜
2−ヒドロキシエチルメタクリレートを使用しない以外
は実施例4の組成で試料(比4)を調製した。Comparative Example 4 A sample (ratio 4) was prepared with the composition of Example 4 except that 2-hydroxyethyl methacrylate was not used.
以上の実施例及び比較例の試料について各種物性測定結
果を第1表及び第2表に示す。Tables 1 and 2 show the results of various physical property measurements for the samples of the above Examples and Comparative Examples.
Claims (3)
の重合性モノマーとの共重合体、(1) Butadiene polymer and/or copolymer of butadiene and other polymerizable monomers,
ル及び(2) Unsaturated carboxylic acid ester having a hydroxyl group in the molecule and
フェニル基又は炭素数1〜3の アルキル基、塩素又はアミノ基で置換され たフェニル基である) よりなる感光性組成物。(3) Photosensitizer represented by the following general formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (Here, R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R' is a phenyl group or a carbon number 1 to 3. 3) which is a phenyl group substituted with an alkyl group, chlorine or amino group.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2572785A JPS61185542A (en) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | Photo-sensitive composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2572785A JPS61185542A (en) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | Photo-sensitive composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61185542A true JPS61185542A (en) | 1986-08-19 |
Family
ID=12173832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2572785A Pending JPS61185542A (en) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | Photo-sensitive composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61185542A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0557793U (en) * | 1991-12-04 | 1993-07-30 | 株式会社岡部マイカ工業所 | Method of manufacturing planar heater and heat generating unit thereof |
JPH05249672A (en) * | 1990-11-05 | 1993-09-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photopolymerizable composition and production of printing plate using the same |
WO2018225748A1 (en) * | 2017-06-08 | 2018-12-13 | Jsr株式会社 | Composition, method for producing cured film, and electronic component |
-
1985
- 1985-02-13 JP JP2572785A patent/JPS61185542A/en active Pending
Cited By (3)
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WO2018225748A1 (en) * | 2017-06-08 | 2018-12-13 | Jsr株式会社 | Composition, method for producing cured film, and electronic component |
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